JPS6219038B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPS6219038B2 JPS6219038B2 JP56104710A JP10471081A JPS6219038B2 JP S6219038 B2 JPS6219038 B2 JP S6219038B2 JP 56104710 A JP56104710 A JP 56104710A JP 10471081 A JP10471081 A JP 10471081A JP S6219038 B2 JPS6219038 B2 JP S6219038B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- heating chamber
- heated
- frequency
- conductor
- objects
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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- Constitution Of High-Frequency Heating (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は高周波加熱装置に関するもので、特に
多量の被加熱物を一度に加熱調理する場合におい
て使い勝手がよくかつ高周波分布のよい加熱装置
を提供するにある。
多量の被加熱物を一度に加熱調理する場合におい
て使い勝手がよくかつ高周波分布のよい加熱装置
を提供するにある。
従来主に業務用として使用されるこの種の多量
の被加熱物を一度に加熱調理する高周波加熱装置
としては、第１図に示すごとく加熱室の平面を広
くしたものが商品化されていた。すなわち本体１
内に加熱室２があり、前記加熱室２の平面積を広
くして皿３に載せられた被加熱物４が複数個入れ
られるようにしていた。高周波出力を強くするた
めに複数個のマグネトロン５が加熱室２上壁につ
けられ、仕切板６で区切られた空間にモータ７で
回転駆動される電波撹拌バネ８が装着されてい
た。このような加熱装置においては当然ながら加
熱装置の平面積が大きくなり、厨房器に設置する
際に大きな設置面積が必要となる欠点を有してい
た。
の被加熱物を一度に加熱調理する高周波加熱装置
としては、第１図に示すごとく加熱室の平面を広
くしたものが商品化されていた。すなわち本体１
内に加熱室２があり、前記加熱室２の平面積を広
くして皿３に載せられた被加熱物４が複数個入れ
られるようにしていた。高周波出力を強くするた
めに複数個のマグネトロン５が加熱室２上壁につ
けられ、仕切板６で区切られた空間にモータ７で
回転駆動される電波撹拌バネ８が装着されてい
た。このような加熱装置においては当然ながら加
熱装置の平面積が大きくなり、厨房器に設置する
際に大きな設置面積が必要となる欠点を有してい
た。
本発明は上記欠点を解消するとともに高周波分
布のよい高周波加熱室を提供するもので以下図面
により本発明の一実施例につき説明する。
布のよい高周波加熱室を提供するもので以下図面
により本発明の一実施例につき説明する。
上体１内の加熱室２の上壁には、マグネトロン
５で発振した電波が導波管９に導かれて、給電口
１０の中心部でモータ７により回転駆動されてい
る回転アンテナ１１より加熱室２内に電波が放射
される。なお１２は回転アンテナ１１を保護する
仕切板、１３，１４は回転アンテナ１１を軸支す
る軸受である。加熱室下壁からも上壁と対称的に
電波が放射される。なお１５は皿３に入れられた
被加熱物を載置する受台である。
５で発振した電波が導波管９に導かれて、給電口
１０の中心部でモータ７により回転駆動されてい
る回転アンテナ１１より加熱室２内に電波が放射
される。なお１２は回転アンテナ１１を保護する
仕切板、１３，１４は回転アンテナ１１を軸支す
る軸受である。加熱室下壁からも上壁と対称的に
電波が放射される。なお１５は皿３に入れられた
被加熱物を載置する受台である。
ここで加熱室の寸法についてであるが、加熱室
の巾寸法をａ、奥行寸法をｂ、巾方向の奇数モー
ド数をｍ、奥行方向の奇数モード数をｎ、光速度
をc0、発振周波数をｆとして （ｍ／ａ）２＋（ｎ／ｂ）２＝（２ｆ／ｃ０
）２ の寸法関係を満足する加熱室とすれば、加熱室内
のモードは（mnO）となり、この電界分布の山
部に高周波発生装置からの給電部を設ければ、加
熱室内の高周波分布がよいことを特許公告昭和52
−24257号公報で既に明示した。
の巾寸法をａ、奥行寸法をｂ、巾方向の奇数モー
ド数をｍ、奥行方向の奇数モード数をｎ、光速度
をc0、発振周波数をｆとして （ｍ／ａ）２＋（ｎ／ｂ）２＝（２ｆ／ｃ０
）２ の寸法関係を満足する加熱室とすれば、加熱室内
のモードは（mnO）となり、この電界分布の山
部に高周波発生装置からの給電部を設ければ、加
熱室内の高周波分布がよいことを特許公告昭和52
−24257号公報で既に明示した。
上記のモードを第２図の加熱室に適用すると、
巾寸法を406mm、奥行寸法を342mm、発振周波数を
2450MHzとすれば、加熱室内に（３、５、０）
のモードが表れる。すなわち第３図に示すごとく
巾方向に３コ、奥行方向に５コの半波長に相当す
る波が発生する。なお、この波の山部で前後左右
の対称位置（第３図のイ部）に高周波発生装置か
らの給電部（第３図では回転アンテナ）が設けら
れているので加熱室内の電界分布が良い。
巾寸法を406mm、奥行寸法を342mm、発振周波数を
2450MHzとすれば、加熱室内に（３、５、０）
のモードが表れる。すなわち第３図に示すごとく
巾方向に３コ、奥行方向に５コの半波長に相当す
る波が発生する。なお、この波の山部で前後左右
の対称位置（第３図のイ部）に高周波発生装置か
らの給電部（第３図では回転アンテナ）が設けら
れているので加熱室内の電界分布が良い。
しかしながら上記加熱室において、第２図の如
く上下２段に被加熱物１６，１７を載置した場
合、上下の被加熱物間の電界強度が乱されるの
で、特に下部の被加熱物では上部、上部の被加熱
物では下部がうまくできなかつた。なお受台１８
は電波が透過するガラス、陶器等の誘電体であ
る。
く上下２段に被加熱物１６，１７を載置した場
合、上下の被加熱物間の電界強度が乱されるの
で、特に下部の被加熱物では上部、上部の被加熱
物では下部がうまくできなかつた。なお受台１８
は電波が透過するガラス、陶器等の誘電体であ
る。
本発明は上記電界強度の乱れをなくするもので
第４図に示すごとく、モードの山をつなぐ導電体
すなわち第３図の半波長に相当する波の山部をつ
なぐ電気の導体を上下の被加熱物間に置けば、上
下の被加熱物がきわめて良好に加熱できることが
発見できた。すなわち、受台１８を透電体で調理
した時には回転アンテナ部から被加熱物迄の距離
が影響し、下部の被加熱物の方が距離が短いので
温度上昇が早くなり、上下の温度差が生じるが、
被加熱物間に第４図に示す導体を置くと、上下の
被加熱物の温度上昇がほぼ均一に温度上昇するこ
とが分つた。また上下の被加熱物による互の干渉
すなわち上部の被加熱物１７の影響により、加熱
室内の電波が乱されて下部の被加熱物の温度上昇
が不均一になるとともに、逆に下部の被加熱物１
６の影響により上部の被加熱物１７の温度上昇が
下均一になることもなくなることが判つた。
第４図に示すごとく、モードの山をつなぐ導電体
すなわち第３図の半波長に相当する波の山部をつ
なぐ電気の導体を上下の被加熱物間に置けば、上
下の被加熱物がきわめて良好に加熱できることが
発見できた。すなわち、受台１８を透電体で調理
した時には回転アンテナ部から被加熱物迄の距離
が影響し、下部の被加熱物の方が距離が短いので
温度上昇が早くなり、上下の温度差が生じるが、
被加熱物間に第４図に示す導体を置くと、上下の
被加熱物の温度上昇がほぼ均一に温度上昇するこ
とが分つた。また上下の被加熱物による互の干渉
すなわち上部の被加熱物１７の影響により、加熱
室内の電波が乱されて下部の被加熱物の温度上昇
が不均一になるとともに、逆に下部の被加熱物１
６の影響により上部の被加熱物１７の温度上昇が
下均一になることもなくなることが判つた。
上記の加熱室内の電界分布を模形的に示したも
のが第５図であり、第３図の正面から見たもので
ある。第５図ａは第４図の導電体１９の入つた状
態を示しており、導電体１９が入ることによつて
被加熱物１６，１７の上下に３つの半波長の定在
波が立つており、被加熱物１６，１７には隣りど
うしの波がシヨートするように電界ができ均一に
調理できるものと考えられる。
のが第５図であり、第３図の正面から見たもので
ある。第５図ａは第４図の導電体１９の入つた状
態を示しており、導電体１９が入ることによつて
被加熱物１６，１７の上下に３つの半波長の定在
波が立つており、被加熱物１６，１７には隣りど
うしの波がシヨートするように電界ができ均一に
調理できるものと考えられる。
一方第５図ｂはガラス板上にのせた場合で、上
下の被加熱物１６，１７間の電界が乱されること
により被加熱物中の電界強度が不均一になり調理
分布性能が低下するとともに、アンテナからの距
離も影響してきたものと考えられる。
下の被加熱物１６，１７間の電界が乱されること
により被加熱物中の電界強度が不均一になり調理
分布性能が低下するとともに、アンテナからの距
離も影響してきたものと考えられる。
次に前記導電体１９を実用化する方法につき第
６図で説明する。図で前記導電体１９はガラス、
プラスチツク等の耐熱性誘電体２０に埋め込一体
成形して、上部被加熱物（第２図１７）の受皿と
している。
６図で説明する。図で前記導電体１９はガラス、
プラスチツク等の耐熱性誘電体２０に埋め込一体
成形して、上部被加熱物（第２図１７）の受皿と
している。
また加熱室壁面２１に形成された凸部２２に載
置できるようにして、導電体端部と加熱室壁を近
接させることにより高周波的に見て容量結合をす
ることにより効果的ならしめている。
置できるようにして、導電体端部と加熱室壁を近
接させることにより高周波的に見て容量結合をす
ることにより効果的ならしめている。
以上の説明により明らかなごとく、上下の２段
調理で上下の互の干渉をなくすることにより、調
理性能のよい高周波加熱装置を提供することがで
き、従来主として平面積の大きい、設置場所の多
く必要な高周波加熱装置と比較して、設置場所の
小さい高周波加熱装置を提供することができ、ホ
テル、レストラン等の厨房室を有効に使用可能と
なる。
調理で上下の互の干渉をなくすることにより、調
理性能のよい高周波加熱装置を提供することがで
き、従来主として平面積の大きい、設置場所の多
く必要な高周波加熱装置と比較して、設置場所の
小さい高周波加熱装置を提供することができ、ホ
テル、レストラン等の厨房室を有効に使用可能と
なる。
第１図は従来の高周波加熱調理器の正断面図、
第２図は本発明の一実施例における高周波加熱調
理器の正断面図、第３図は同電界モード３５０を
示す図、第４図は同電界モード３５０における導
電体を示す図、第５図ａは本発明の高周波加熱調
理器の加熱室内の電界分布を模式的に示す図、第
５図ｂは従来の加熱室内の電界分布を模式的に示
す図、第６図は本発明の導電体と受台を一体とし
た断面図である。 ２……加熱室、５……マグネトロン、９……導
波管、１０……給電口、１１……回転アンテナ、
１２……仕切板。
第２図は本発明の一実施例における高周波加熱調
理器の正断面図、第３図は同電界モード３５０を
示す図、第４図は同電界モード３５０における導
電体を示す図、第５図ａは本発明の高周波加熱調
理器の加熱室内の電界分布を模式的に示す図、第
５図ｂは従来の加熱室内の電界分布を模式的に示
す図、第６図は本発明の導電体と受台を一体とし
た断面図である。 ２……加熱室、５……マグネトロン、９……導
波管、１０……給電口、１１……回転アンテナ、
１２……仕切板。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 本体内に略直方体に形成した加熱室と、前記
加熱室の前面開口部に開閉自在に設けられたドア
と、前記加熱室内に高周波を放射する高周波発生
装置とを有し、前記加熱室の巾寸法をａ、奥行寸
法をｂ、巾方向の奇数モード数をｍ、奥行方向の
奇数モードをｎ、光速度をc0、発振周波数をｆと
し（ｍ／ａ）２＋（ｎ／ｂ）２＝（２ｆ／ｃ０）２の寸
法関係を満足 する加熱室として、前記加熱室の上壁底壁の電界
モードの山部に高周波発生装置からの給電部を設
けるとともに加熱室の上下に被加熱物を載置する
台を設け、かつ上下の被加熱物間に加熱室内のモ
ードの山をつなぐ導電体を挿入したことを特徴と
する高周波加熱装置。 ２ 前記導電体を被加熱物を載置する上部誘電体
で形成された受台中に挿入したことを特徴とする
特許請求の範囲第１項に記載の高周波加熱装置。 ３ 前記導電体の端部と加熱室壁間で容量結合さ
せたことを特徴とする特許請求の範囲第１項に記
載の高周波加熱装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56104710A JPS587795A (ja) | 1981-07-03 | 1981-07-03 | 高周波加熱装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56104710A JPS587795A (ja) | 1981-07-03 | 1981-07-03 | 高周波加熱装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS587795A JPS587795A (ja) | 1983-01-17 |
| JPS6219038B2 true JPS6219038B2 (ja) | 1987-04-25 |
Family
ID=14388030
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP56104710A Granted JPS587795A (ja) | 1981-07-03 | 1981-07-03 | 高周波加熱装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS587795A (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1172022B1 (en) * | 1999-04-19 | 2007-01-17 | Enersyst Development Center, L.L.C. | Multi-shelved convection microwave oven |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5437554U (ja) * | 1977-08-19 | 1979-03-12 |
-
1981
- 1981-07-03 JP JP56104710A patent/JPS587795A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS587795A (ja) | 1983-01-17 |
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