JPS6219725B2 - - Google Patents

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Publication number
JPS6219725B2
JPS6219725B2 JP14322779A JP14322779A JPS6219725B2 JP S6219725 B2 JPS6219725 B2 JP S6219725B2 JP 14322779 A JP14322779 A JP 14322779A JP 14322779 A JP14322779 A JP 14322779A JP S6219725 B2 JPS6219725 B2 JP S6219725B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
light beam
subject
reflecting mirror
scanning
inspection light
Prior art date
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Expired
Application number
JP14322779A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS5667815A (en
Inventor
Akito Iwamoto
Hidekazu Sekizawa
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Tokyo Shibaura Electric Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Tokyo Shibaura Electric Co Ltd filed Critical Tokyo Shibaura Electric Co Ltd
Priority to JP14322779A priority Critical patent/JPS5667815A/ja
Publication of JPS5667815A publication Critical patent/JPS5667815A/ja
Publication of JPS6219725B2 publication Critical patent/JPS6219725B2/ja
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  • Mechanical Optical Scanning Systems (AREA)
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Description

【発明の詳細な説明】 この発明は光ビームによつて被検体を走査する
ための光学走査装置に関する。
従来、光ビームによつて被検体を走査する装置
は種々知られている。この種の装置では、例えば
フアクシミリの原稿読取りに代表される如く、原
稿(被検体)を一定速度で移動させ(主走査)な
がら、光ビームを主走査方向と直角な方向に副走
査させる構成が一般的である。かかる走査方法は
広く応用可能であるが、対象とする被検体が大き
くなると、光ビームの副走査幅が大きくなり、副
走査機構が著しく複雑化してしまうとともに要求
される走査速度を達成できないという欠点があつ
た。また副走査幅の増大は、光ビームがこの走査
幅内のどの位置でも一定のスポツトサイズに設定
しなければならないという要求を満たすことを困
難にしている。
本発明は上記欠点を除いた改良された光学走査
装置を提供することを目的とする。
本発明によれば、従来の直線状の副走査機構に
代して、光ビームを円形に走査させる手段が用い
られる。
以下に示す本発明の実施例においては、被検体
の欠陥を検出する装置に利用されているが、任意
の特徴抽出装置その他光ビームの走査を利用する
各種装置に適用できることは言うまでもない。
第1図に本発明の一実施例としての欠陥検査装
置を示す。同図において1は比較的面積が大きい
被検体例えば織物である。
被検体1はローラ2,3によつて一定速度で矢
印Aの方向へ搬送される。被検体1の上面及び下
面に対向して回転円板4,5が配置されている。
回転円板4,5は図示しない保持機構により被検
体1との距離が一定に保持されるとともに、パル
スモータ6,7によつて同一速度で同一方向Bへ
回転している。ここでは回転円板4,5の回転軸
は一致している。回転円板4上の中心には反射鏡
8があり、また中心から一定距離隔れを位置に反
射鏡9及び穴10が設けられている。反射鏡8,
9は回転円板4に固定されている。一方、回転円
板5の穴10に対向する位置には反射鏡11が配
置され、また中心に反射鏡12及び穴13が設け
られている。反射鏡11,12は回転円板5に固
定されている。
14はレーザ光源であり、その出力ビームはコ
リメートレンズ系15を介して反射鏡8に入射さ
れる。このレーザビームは更に反射鏡9、穴10
を介して被検体1を照明する。被検体1の透過光
は反射鏡11,12及び13を介してレンズ16
に入射する。
ここで、レンズ16の前側焦点面に被検体1を
おく(すなわち、被検体1の透過光がレンズ16
に達するまでの光路長を焦点距離fとする)こと
により、レンズ16の後側焦点面に被検体1のフ
ーリエ変換パターン像が得られる。そこでこのレ
ンズ16の後側焦点面に適当な形状のフイルタ1
7を配置することにより、被検体1の特徴(ここ
では欠陥)のみが抽出された光となる。この光を
逆フーリエ変換レンズ18を用いてスクリーン1
9に結像することにより、スクリーン19上には
被検体1の特徴パターンが得られる。
上記レンズ16、フイルタ17、逆フーリエ変
換レンズ18、スクリーン19は被検体1の欠陥
検出系を構成している。このような欠陥検出系の
詳細は特願昭54―31020に提案した通りである。
あるいはフイルタ17としては、Proceedings of
I.E.E.E pp.447〜448,1972年4月号に記載され
ている。簡単に説明すれば、レーザビームのよう
なコヒーレント光を、織物のような規則的配列か
らなる被検体に照射することによつて、織りむら
等の欠陥を検出するものである。この欠陥部分の
みを抽出するためにフイルタ17が設けられてい
る。フイルタ17は規則的に配列されたパターン
情報光を遮断し、欠陥部からの情報光のみを通過
させるものである。
次に、第1図の反射鏡8は回転円板4とともに
回転するので回転鏡としての機能を有している。
すなわち、反射鏡8はレーザビームを回転ビーム
に変換している。この回転ビームは反射鏡9を介
して折り曲げられ、被検体1の表面を破線Cで示
すように円形軌跡を生ぜしめている。このように
本実施例では、レーザビームの円形走査と、被検
体1の一定方向への移動とにより、被検体1の全
面走査を実現している。被検体1の面積が定まつ
ていれば被検体1を静止させておき、回転円板
4,5等をシフトさせる構成であつてもよい。
第2図に本発明の他の実施例を示す。同図にお
いて第1図と同一部分には同一符号を付し、その
説明を省略する。第1図と異なる構成は、被検体
1に対してレーザビームを垂直に入射させずに、
回転プリズム20を用いてレーザビームを円形走
査していること及び欠陥検出系を為すレンズ16
及びフイルタ17が反射鏡11,12とともに回
転していることにある。これらレンズ16、フイ
ルタ17は共に第1図に示す回転円板5上に設け
ることができる。本実施例によれば回転ビームの
発生機構が第1図の装置に較べて簡単化される。
しかしながら、レーザビームが被検体に斜め入射
するのでフイルタ17の設計が若干複雑となる。
またフイルタ17自身が円運動を行なうので、上
記特願昭54―31020に記載される全方向空間フイ
ルタを用いることが望ましい。全方向空間フイル
タは光軸に対して特性が対称であるため、高速走
査系に適し、またその位置合せ精度を要求しない
利点がある。
なお、第1図及び第2図に示す実施例とも被検
体の欠陥をスクリーン上に表示させていたが、ス
クリーンに代えてITVカメラを用いて撮像し、モ
ニタTV上に映出してもよい。また欠陥の有無の
み検出するのであれば光電変換素子を用いること
ができる。
以上のように、本発明によれば比較的大面積の
被検体の走査を簡単な構成で高速に行なうことが
できるので、各種製造ラインにおける欠陥検査、
特徴抽出等に幅広く利用できる。
第3図は第1図に示す実施例で用いる集光系の
変形例を示す。ここでは中空箱体21において、
上面の一端に開口22、下面の他面に開口23を
設ける。また、開口22から入射する光ビームを
箱体21の他端へ導くための反射鏡24と、この
反射鏡24からの光ビームを開口23を介して箱
体21の外部へ供給するための反射鏡25とが設
けられている。そしてこの箱体21は開口23の
中心を回転軸Lとして円形走査される光ビームに
同期して回転される。このような集光系が第1図
に示した回転円板5、反射鏡11,12の代わり
に用いることができる。
【図面の簡単な説明】
第1図はこの発明の一実施例を示す図、第2図
はこの発明の他の実施例を示す図、第3図はこの
発明の変形例を示す図である。 1…被検体、2,3…ローラ、4,5…回転円
板、6,7…パルスモータ、8,9,11,12
…反射鏡、14…レーザ光源、15…コリメート
レンズ系、16…レンズ、17…フイルタ、18
…逆フーリエ変換レンズ、19…スクリーン。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 被検体と検査用光ビームとの相対運動によつ
    て前記被検体の所定領域を平面走査する装置にお
    いて、 前記検査用光ビームを発生する光源と、この光
    源からの検査用光ビームを前記被検体に対して照
    射する反射鏡と、 少なくともこの反射鏡を前記被検体に対して相
    対的に回転させ、前記検査用光ビームを前記被検
    体上でほぼ円形に走査させる走査手段とを備え、
    この走査手段による円形走査を複数回繰り返し、
    前記所定領域の平面走査を行うことを特徴とする
    光学走査装置。 2 走査手段は、回転板と第1及び第2の反射鏡
    とから成り、前記回転板の回転中心軸に沿つて光
    源から供給される検査用光ビームの光路を前記第
    1の反射鏡により前記回転板の面と略平行に変更
    させ、この第1の反射鏡からの検査用光ビームの
    光路を再び前記回転中心軸に平行させると共に、
    この第2の反射鏡からの検査用光ビームの光路に
    対応した前記回転円板中に、通過孔を設け、更
    に、前記回転板、第1及び第2の反射鏡とを一体
    に設けて成ることを特徴とする特許請求の範囲第
    1項記載の光学走査装置。
JP14322779A 1979-11-07 1979-11-07 Optical scanner Granted JPS5667815A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP14322779A JPS5667815A (en) 1979-11-07 1979-11-07 Optical scanner

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP14322779A JPS5667815A (en) 1979-11-07 1979-11-07 Optical scanner

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS5667815A JPS5667815A (en) 1981-06-08
JPS6219725B2 true JPS6219725B2 (ja) 1987-04-30

Family

ID=15333847

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP14322779A Granted JPS5667815A (en) 1979-11-07 1979-11-07 Optical scanner

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS5667815A (ja)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS58132213A (ja) * 1982-01-30 1983-08-06 Toshiba Corp 光走査検出装置
JPS63314515A (ja) * 1987-06-17 1988-12-22 Union Tool Kk 光学系の平行走査光線発生装置
JPH01320417A (ja) * 1988-06-22 1989-12-26 Matsushita Electric Ind Co Ltd 実装済プリント基板の検査装置
WO2014050319A1 (ja) * 2012-09-25 2014-04-03 株式会社日立ハイテクノロジーズ 成膜装置および成膜方法

Also Published As

Publication number Publication date
JPS5667815A (en) 1981-06-08

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