JPS62199082A - 赤外レ−ザ加工装置 - Google Patents
赤外レ−ザ加工装置Info
- Publication number
- JPS62199082A JPS62199082A JP61040193A JP4019386A JPS62199082A JP S62199082 A JPS62199082 A JP S62199082A JP 61040193 A JP61040193 A JP 61040193A JP 4019386 A JP4019386 A JP 4019386A JP S62199082 A JPS62199082 A JP S62199082A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- lens
- wavelength
- laser
- mirror
- laser beam
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K26/00—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
- B23K26/02—Positioning or observing the workpiece, e.g. with respect to the point of impact; Aligning, aiming or focusing the laser beam
- B23K26/06—Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Lasers (AREA)
- Laser Beam Processing (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
【産業上の利用分野〕
本発明は、寿命が長く信頼度の高い加工レンズを備えた
CO,レーザ加工装置などの赤外レーザ加工装ff1K
関する [従来の技術] 第5図は、例えば特開昭53−128097号公報に示
された従来のCO,レーザ加工装置の一例Y示す模式図
である。(1)はCO,レーザ発振器、(2)はレーザ
ビーム、(3)は全反射ミラー、(4)は加工レンズ、
(5)けレーザ溶接において被溶部材となる被加工物で
ある。
CO,レーザ加工装置などの赤外レーザ加工装ff1K
関する [従来の技術] 第5図は、例えば特開昭53−128097号公報に示
された従来のCO,レーザ加工装置の一例Y示す模式図
である。(1)はCO,レーザ発振器、(2)はレーザ
ビーム、(3)は全反射ミラー、(4)は加工レンズ、
(5)けレーザ溶接において被溶部材となる被加工物で
ある。
上記のように構成した従来のCO,レーザ加工装置によ
れば、レーザ発振器(1)から出射したレーザビーム(
2)は全反射ミラー(3)で反射され、加工レンズ(4
)に導入され、さらに加工レンズ(4)で集光される。
れば、レーザ発振器(1)から出射したレーザビーム(
2)は全反射ミラー(3)で反射され、加工レンズ(4
)に導入され、さらに加工レンズ(4)で集光される。
このため加工レンズ(4)の焦点近くに設置された被加
工物(5)を溶接線に沿って移動させるとレーザ溶接が
おこなわれる。ところで、CO,レーザ加工の場合、レ
ーザ光のa長は10.6μmの赤外場にあり、また加工
レンズ(4)の基板材料として、Zn5e+ GaAs
* KC/、などの赤外線透過材料が使われている。ま
た加工レンズ(4)の表面および裏面には、レーザビー
ム(2)の反射損失を除外するために無反射コーティン
グがほどこされている。コーティング材料として11f
;、、Zn5e+ ZnS、 PbF、 、 ThF、
、 As、 S、などの赤外透過材料が使用されてい
る。このため赤外し−ザ加工装置で、レーザ溶接加工を
行なうとレーザビーム(2)の集光照射部から多量の紫
外線が発生し、加工レンズ(4)!直接罠照射すること
になる。
工物(5)を溶接線に沿って移動させるとレーザ溶接が
おこなわれる。ところで、CO,レーザ加工の場合、レ
ーザ光のa長は10.6μmの赤外場にあり、また加工
レンズ(4)の基板材料として、Zn5e+ GaAs
* KC/、などの赤外線透過材料が使われている。ま
た加工レンズ(4)の表面および裏面には、レーザビー
ム(2)の反射損失を除外するために無反射コーティン
グがほどこされている。コーティング材料として11f
;、、Zn5e+ ZnS、 PbF、 、 ThF、
、 As、 S、などの赤外透過材料が使用されてい
る。このため赤外し−ザ加工装置で、レーザ溶接加工を
行なうとレーザビーム(2)の集光照射部から多量の紫
外線が発生し、加工レンズ(4)!直接罠照射すること
になる。
上記のように構成した従来のCO,レーザ加工装置によ
れば、加工レンズ(4)力tレーザビーム(2)の集光
照射部からの紫外線に直接さらされてしまう。
れば、加工レンズ(4)力tレーザビーム(2)の集光
照射部からの紫外線に直接さらされてしまう。
すなわち加工レンズ(4)の載板材料やコーティング材
料は0.5μmn以下の波長の光に対し、吸収量長波長
端はそれぞれ物質固有の値を持つが、必ず吸収体となる
。被加工物(5)の被醪接部から反射した紫外線を加工
レンズ(4)が吸収することKより、程度の差はあれ基
板材料(もしくはコーティング材料)が変質t5ける。
料は0.5μmn以下の波長の光に対し、吸収量長波長
端はそれぞれ物質固有の値を持つが、必ず吸収体となる
。被加工物(5)の被醪接部から反射した紫外線を加工
レンズ(4)が吸収することKより、程度の差はあれ基
板材料(もしくはコーティング材料)が変質t5ける。
すなわち0.5μm以下の元に長時間さらされると基盤
材料等の変質が進行し、CO,レーザの波長10.6μ
mの赤外線に対する吸収率が増大するし、その結果、加
工レンズ(4)のレーザビーム(2)による光学歪み(
熱し/ズ作用という〕が大きくなる。このためレーザビ
ーム(2)の集光性能が極度に低下し加工性能が低下す
る。吸収率がさらに増大すると、加工レンズ(4)はつ
いに破損する。
材料等の変質が進行し、CO,レーザの波長10.6μ
mの赤外線に対する吸収率が増大するし、その結果、加
工レンズ(4)のレーザビーム(2)による光学歪み(
熱し/ズ作用という〕が大きくなる。このためレーザビ
ーム(2)の集光性能が極度に低下し加工性能が低下す
る。吸収率がさらに増大すると、加工レンズ(4)はつ
いに破損する。
以上の説明から明らかなように、従来のCO,レーザ加
工装置の加工レンズ(4)は被加工物(5)の被溶接部
から反射した紫外線にさらされるので、加工レンズ(4
]の寿命が短かくこのため安定性・信顎性が低いという
問題があった。
工装置の加工レンズ(4)は被加工物(5)の被溶接部
から反射した紫外線にさらされるので、加工レンズ(4
]の寿命が短かくこのため安定性・信顎性が低いという
問題があった。
+4=IS11=b″ →→本発明
は上記のような問題点を解決するため罠なされたもので
、加工レンズの寿命が長く安定性・信頼性の高い赤外レ
ーザ加工装置を得ろことt目的とする。
は上記のような問題点を解決するため罠なされたもので
、加工レンズの寿命が長く安定性・信頼性の高い赤外レ
ーザ加工装置を得ろことt目的とする。
本発明は上記の問題点を解決するためになされたもので
、加工レンズと被加工物との間に1枚思上の波長選択性
ミラーを配置した赤外レーザ加工装置を提供するもので
ある。
、加工レンズと被加工物との間に1枚思上の波長選択性
ミラーを配置した赤外レーザ加工装置を提供するもので
ある。
波長選択性ミラーは赤外レーザ光に対しては高反射率を
有するので、レーザビーム’t 4 効率で被加工部ま
で伝送できる。一方、波長遭択性ミラーは被溶接部から
の紫外線に対しては吸収率が高いので0.5μm以下の
光はほとんど加工レンズに到達しない。
有するので、レーザビーム’t 4 効率で被加工部ま
で伝送できる。一方、波長遭択性ミラーは被溶接部から
の紫外線に対しては吸収率が高いので0.5μm以下の
光はほとんど加工レンズに到達しない。
第1図は本発明の実施例を示す模式図である。
なお第5図と同じ機能の部分には同じ記号を付し説明を
省略する。(3a)、(3b)は対向して配置された全
反射ミラーで、(6)は10.6μmの光に対しほぼ1
00%の反射率を有し、かつ0.5μm以下の波長の光
に対する反射率が低い波長選択性ミラーである。第2図
は波長選択性ミラー(6)の説明図で、な)は銅、金、
銀、アルミニウムなどよりなる金属基板、翰はたとえは
ゲルマニタムなどの赤外場で透明体かつ0.5μm以下
の波長域で吸収体となる金属基板Q心表面に設けられた
材料、翰は赤外域で透明でありかつ0.5μm以下の光
’にほぼすべて吸収体(2)17c浸透させる材料勾の
表面に設けられた無反射コーティングである。無反射コ
ーティング(イ)の材料としてはたとえばZnS、Si
Oなどが適している。
省略する。(3a)、(3b)は対向して配置された全
反射ミラーで、(6)は10.6μmの光に対しほぼ1
00%の反射率を有し、かつ0.5μm以下の波長の光
に対する反射率が低い波長選択性ミラーである。第2図
は波長選択性ミラー(6)の説明図で、な)は銅、金、
銀、アルミニウムなどよりなる金属基板、翰はたとえは
ゲルマニタムなどの赤外場で透明体かつ0.5μm以下
の波長域で吸収体となる金属基板Q心表面に設けられた
材料、翰は赤外域で透明でありかつ0.5μm以下の光
’にほぼすべて吸収体(2)17c浸透させる材料勾の
表面に設けられた無反射コーティングである。無反射コ
ーティング(イ)の材料としてはたとえばZnS、Si
Oなどが適している。
上記のように構成した本発明の詳細な説明すれば次の通
りである。レーザ発振器(1)から発振したレーザビー
ム(2)は全反射ミラーDa)、(3b)で反射したの
ち加工レンズ(4)を通過し、さらに波長迩択性ミラー
(6)を介して被加工物(5)上に集光される。
りである。レーザ発振器(1)から発振したレーザビー
ム(2)は全反射ミラーDa)、(3b)で反射したの
ち加工レンズ(4)を通過し、さらに波長迩択性ミラー
(6)を介して被加工物(5)上に集光される。
ところで波長10.6μmのレーザビーム(2)に対し
波長選択性ミラー(6)は高反射率を有するので、波長
選択性ミラー(6)を付加してもレーザビーム(2)の
特性劣化はほとんどない。一方被加工物(5)の被溶接
部からの紫外線は波長選択性ミラー(6)Kより吸収さ
れるので、加工レンズ(4)に達する紫外線の光量は大
幅に減少される。たとえば、波長選択性ミラー(6)が
810/Ge/銅で構成された場合の分光反射特性の一
例を第3@に示す。図から明らかなように0.5μm以
下の波長域における反射率はほぼ10%程度となってい
る。
波長選択性ミラー(6)は高反射率を有するので、波長
選択性ミラー(6)を付加してもレーザビーム(2)の
特性劣化はほとんどない。一方被加工物(5)の被溶接
部からの紫外線は波長選択性ミラー(6)Kより吸収さ
れるので、加工レンズ(4)に達する紫外線の光量は大
幅に減少される。たとえば、波長選択性ミラー(6)が
810/Ge/銅で構成された場合の分光反射特性の一
例を第3@に示す。図から明らかなように0.5μm以
下の波長域における反射率はほぼ10%程度となってい
る。
以上の説明から明らかなように、波長選択性ミラー(6
)を付加することkより、加工レンズ(4)に入射する
0、5μm321Tの光パワーが大幅に減少するので、
加工レンズ(4)の劣化が抑制される。
)を付加することkより、加工レンズ(4)に入射する
0、5μm321Tの光パワーが大幅に減少するので、
加工レンズ(4)の劣化が抑制される。
なお、上記の実施例では、波長選択性ミラー(61を1
枚使用した場合について示したが、本発明はこれに限定
するものではなく第4図に示したように2枚の波長カ!
択性ミラー(6a)、 (6b) ’!−直列に配置し
てもよ(、このようにすれば紫外光に対する減光効果が
さらに強められる・この場合・これら2枚の波長選択性
ミラー(6a)・(6b)の無反射コーティング(2)
の膜厚をそれぞれ変化させ、最低反射率を与える波長を
シフトさせれば、さらに高効率の減光効果が得られる。
枚使用した場合について示したが、本発明はこれに限定
するものではなく第4図に示したように2枚の波長カ!
択性ミラー(6a)、 (6b) ’!−直列に配置し
てもよ(、このようにすれば紫外光に対する減光効果が
さらに強められる・この場合・これら2枚の波長選択性
ミラー(6a)・(6b)の無反射コーティング(2)
の膜厚をそれぞれ変化させ、最低反射率を与える波長を
シフトさせれば、さらに高効率の減光効果が得られる。
また、上記の実施例ではレーザ溶接加工について述べた
が、加工部分から紫外線が発生するレーザ加ニ一般に対
して、効力を発揮するものである。
が、加工部分から紫外線が発生するレーザ加ニ一般に対
して、効力を発揮するものである。
さらに、上記の実施例ではCOtレーザを用いた加工装
置について述べたが、本発明はこれに限定せず他の赤外
レーザ例えばCO;レーザのようにCO,レーザと同様
のレンズ材料を使用する場合も上記の実施例と同様の効
果を奏する。
置について述べたが、本発明はこれに限定せず他の赤外
レーザ例えばCO;レーザのようにCO,レーザと同様
のレンズ材料を使用する場合も上記の実施例と同様の効
果を奏する。
以上の説明から明らかなように、本発明によれば、加工
レンズと被加工物との間、K波長選択性ミラーを少なく
とも1枚配置し、被加工物からの紫外光を顕著に減衰さ
せるので、加工レンズの劣化が抑止でき、安定性・MM
性の高い赤外レーザ加工装置が得られるという顕著な効
果がある。
レンズと被加工物との間、K波長選択性ミラーを少なく
とも1枚配置し、被加工物からの紫外光を顕著に減衰さ
せるので、加工レンズの劣化が抑止でき、安定性・MM
性の高い赤外レーザ加工装置が得られるという顕著な効
果がある。
第1図は本発明の実施例を示す模式図、第2図は第1図
の要部の説明図、第3図は波長と反射率との関係を示す
線図、第4図は本発明の他の実施例を示す模式図、第5
図は従来の赤外レーザ加工装置の一例を示す模式図であ
る。 (1)・・・レーザ発振器、(2)・・・レーザビーム
、(3)・・・全反射ミラー、(4)・・・加工レンズ
、(5)・・・被加工物、(6)・・・波長選択性ミラ
ー、9℃・・・波長選択性ミラーの基板、翰・・・0.
5μm以下の光を吸収するコーティング層、(至)・・
・0.5μm以下の光に対する無反射コーティング層。 なお各図中、同一符号は同−又は相当部分を示す。 代理人 弁理士 佐 藤 正 年 」 東畜奇 ド 第4図 第5図 °ヅ皮長選オ尺・1iミラー
の要部の説明図、第3図は波長と反射率との関係を示す
線図、第4図は本発明の他の実施例を示す模式図、第5
図は従来の赤外レーザ加工装置の一例を示す模式図であ
る。 (1)・・・レーザ発振器、(2)・・・レーザビーム
、(3)・・・全反射ミラー、(4)・・・加工レンズ
、(5)・・・被加工物、(6)・・・波長選択性ミラ
ー、9℃・・・波長選択性ミラーの基板、翰・・・0.
5μm以下の光を吸収するコーティング層、(至)・・
・0.5μm以下の光に対する無反射コーティング層。 なお各図中、同一符号は同−又は相当部分を示す。 代理人 弁理士 佐 藤 正 年 」 東畜奇 ド 第4図 第5図 °ヅ皮長選オ尺・1iミラー
Claims (2)
- (1)レーザビームを発生させるレーザ発振器、前記レ
ーザビームを導光する光伝送路、前記レーザビームを集
光する加工レンズにより構成される赤外レーザ加工装置
において、前記加工レンズと被加工物との間に1枚以上
の波長選択性ミラーを配置したことを特徴とする赤外レ
ーザ加工装置。 - (2)波長選択性ミラーが金属面上に2層以上のコーテ
ィング層を付着させたことを特徴とする特許請求の範囲
第(1)項記載の赤外レーザ加工装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61040193A JPS62199082A (ja) | 1986-02-27 | 1986-02-27 | 赤外レ−ザ加工装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61040193A JPS62199082A (ja) | 1986-02-27 | 1986-02-27 | 赤外レ−ザ加工装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62199082A true JPS62199082A (ja) | 1987-09-02 |
Family
ID=12573941
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61040193A Pending JPS62199082A (ja) | 1986-02-27 | 1986-02-27 | 赤外レ−ザ加工装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62199082A (ja) |
-
1986
- 1986-02-27 JP JP61040193A patent/JPS62199082A/ja active Pending
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