JPS62200703A - Manufacturing method of printed resistor - Google Patents
Manufacturing method of printed resistorInfo
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- JPS62200703A JPS62200703A JP61042003A JP4200386A JPS62200703A JP S62200703 A JPS62200703 A JP S62200703A JP 61042003 A JP61042003 A JP 61042003A JP 4200386 A JP4200386 A JP 4200386A JP S62200703 A JPS62200703 A JP S62200703A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。(57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の目的〕
(産業上の利用分野)
本発明は印刷抵抗の製造方法に関する。さらに詳しくは
5本発明は、プリント配線板の基板などの基材面に作製
された電極の間に電子線硬化型抵抗ペーストを所定の形
状に印刷した後、電子線を照射することにより上記印刷
された抵抗ペーストを硬化させる印刷抵抗の製造方法に
関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Object of the Invention] (Field of Industrial Application) The present invention relates to a method of manufacturing a printed resistor. More specifically, 5 the present invention prints an electron beam curing resistor paste in a predetermined shape between electrodes fabricated on a base material surface such as a substrate of a printed wiring board, and then irradiates the electron beam to The present invention relates to a method of manufacturing a printed resistor by curing a resistor paste.
(従来技術)
従来、プリント配線回路あるいはハイブリッド厚膜回路
などの製造工程において印刷により抵抗体を形成させる
方法としては、酸化ルテニウムなどの金属酸化物とガラ
スフリットを主成分とする抵抗ペースト、あるいはカー
ボンブランクなどの炭素系微粉末、熱硬化性樹脂バイン
ダー、および有機溶剤を主成分とする抵抗ペースト(以
下、炭素系抵抗ペーストと呼ぶ。)を、基板上にあらか
じめ作製した電極部分の間に所定の形状に印刷した後、
高温度にて加熱焼成して抵抗体とする方法が知られてい
た。これらのペーストの中で炭素系抵抗ペーストは、金
属酸化物とガラスフリットを主成分とする抵抗ペースト
に比べ、その焼成温度が低い(120〜200°C)。(Prior art) Conventionally, methods for forming resistors by printing in the manufacturing process of printed wiring circuits or hybrid thick film circuits have been made using resistor pastes mainly composed of metal oxides such as ruthenium oxide and glass frit, or carbon A resistance paste (hereinafter referred to as carbon-based resistance paste) mainly composed of carbon-based fine powder such as a blank, a thermosetting resin binder, and an organic solvent is placed between the electrode parts prepared in advance on the substrate. After printing on the shape,
A method of producing a resistor by heating and firing at a high temperature was known. Among these pastes, carbon-based resistance pastes have a lower firing temperature (120 to 200°C) than resistance pastes whose main components are metal oxides and glass frit.
安価である。などの理由により有機質の基板を対象とし
た印刷抵抗体として広く用いられるとともに。It's cheap. For these reasons, it is widely used as a printed resistor for organic substrates.
キーボードスイッチなどの膜状接点用の電極部分にも利
用されている。It is also used in electrode parts for membrane contacts such as keyboard switches.
しかしながら、これらの炭素系抵抗ペーストには。However, these carbon-based resistance pastes.
(1)120〜200°Cに数分加熱することが必要で
あるため、基板の耐熱性に制限があり、加熱硬化時のエ
ネルギー消費量が大きく、加熱硬化に長時間かかるため
生産効率が悪い、 (2)抵抗ペースト中に溶剤を含む
ため、抵抗ペーストが危険物の扱いを受け、取り扱いが
面倒である。(3) f4剤を蒸発させ、それを回収す
るための工程とそれに消費される多大なエネルギーを要
するなどの欠点があった。(1) Since it is necessary to heat the substrate to 120-200°C for several minutes, the heat resistance of the substrate is limited, energy consumption during heat curing is large, and production efficiency is poor because heat curing takes a long time. (2) Since the resistor paste contains a solvent, the resistor paste is treated as a dangerous substance and is difficult to handle. (3) There were drawbacks such as the process of evaporating the F4 agent and recovering it and the large amount of energy consumed therein.
これらの欠点を改良する方法として、炭素系微粉末と紫
外線硬化型樹脂バインダーとからなり、有機溶剤を含ま
ない抵抗ペーストを紫外線照射により硬化させる方法が
提案された。しかしながら、これらの方法では、 (1
)印刷された抵抗ペーストの表面のみが硬化し、内部ま
で十分硬化しない、 (2)無溶剤であるために、バイ
ンダーに対する炭素系微粉末の配合割合を大きくするこ
とができず、低抵抗値の抵抗ペーストが得られないなど
の欠点があった。As a method to improve these drawbacks, a method has been proposed in which a resistance paste consisting of carbon-based fine powder and an ultraviolet curable resin binder and containing no organic solvent is cured by ultraviolet irradiation. However, in these methods, (1
) Only the surface of the printed resistance paste is cured, and the inside is not sufficiently cured. (2) Since it is solvent-free, it is not possible to increase the blending ratio of carbon-based fine powder to the binder, resulting in low resistance values. There were drawbacks such as the inability to obtain a resistance paste.
これらの欠点を改良する方法として、炭素系微粉末と電
子線硬化型樹脂バインダーとからなり、有機溶剤を含ま
ない抵抗ペーストを、電子線照射により硬化させる方法
が提案された。これらの方法では内部まで硬化しないと
いう欠点は改良されるものの。As a method for improving these drawbacks, a method has been proposed in which a resistance paste made of carbon-based fine powder and an electron beam-curable resin binder and containing no organic solvent is cured by electron beam irradiation. Although these methods improve the drawback of not curing to the inside.
無溶剤であるために、バインダーに対する炭素系微粉末
を配合割合を大きくすることができず、低抵抗値の抵抗
ペーストが得られないという欠点は解決できなかった。Since it is solvent-free, it is not possible to increase the blending ratio of carbon-based fine powder to the binder, and the drawback that a resistance paste with a low resistance value cannot be obtained cannot be solved.
一方、炭素系抵抗ペーストあるいは紫外線・電子線硬化
型樹脂バインダーと炭素系微粉末からなる抵抗ペースト
を用いた印刷抵抗の抵抗値の調節は。On the other hand, it is possible to adjust the resistance value of a printed resistor using a carbon-based resistance paste or a resistance paste consisting of an ultraviolet/electron beam curable resin binder and carbon-based fine powder.
通常2次のような手段によって行なわれる。This is usually done by the following means.
(1)抵抗ペースト自体の比抵抗の調節(特に、炭素系
微粉末とバインダー樹脂の配合比の調節)(2)印刷膜
厚および印刷形状の調節
(3)硬化焼成条件の調節
(4)硬化焼成後のトリミング
印刷抵抗においては、数Ωから数MΩにわたるきわめて
広範囲の抵抗値のものが要求される。この目的のために
は上記(2)〜(4)の手段あるいはこれらの組合せた
だけでは不十分であり1種々の比抵抗を有する多数の一
連の抵抗ペーストを準備する必要があり、製造上また在
庫管理上きわめて面倒であったO
(発明が解決しようとする問題点)
本発明者らは、電子線硬化法による印刷抵抗の製造につ
いての研究中に、電子線の照射前、照射中。(1) Adjustment of the resistivity of the resistance paste itself (in particular, adjustment of the blending ratio of carbon-based fine powder and binder resin) (2) Adjustment of printed film thickness and printed shape (3) Adjustment of curing and firing conditions (4) Curing Trimmed printed resistors after firing are required to have resistance values in an extremely wide range from several Ω to several MΩ. For this purpose, the above measures (2) to (4) or a combination thereof are not sufficient; it is necessary to prepare a large number of series of resistance pastes having various specific resistances, and there are manufacturing and (Problems to be Solved by the Invention) The inventors of the present invention encountered problems during research on manufacturing printed resistors by electron beam curing before and during electron beam irradiation.
または照射後に加熱工程を加えることによって、硬化後
の印刷抵抗の抵抗値が顕著に低下し、その低下の程度は
加熱の温度と時間とにより、自由にコントロールが可能
であることを見いだし2本発明に至ったもので1本発明
は、上記の種々の欠点を改良し。Alternatively, by adding a heating process after irradiation, the resistance value of the printed resistor after curing is significantly reduced, and the degree of reduction can be freely controlled by controlling the heating temperature and time.2 The present invention The present invention improves the various drawbacks mentioned above.
低温短時間で硬化させることができ、同一配合の抵抗ペ
ーストであっても加熱の温度と時間とを調節することに
よって広範囲にわたる抵抗値の印刷抵抗を再現性よく得
ることができ、しかも無溶剤であってもきわめて低抵抗
値の印刷抵抗を得ることができる印刷抵抗の製造方法を
提供するものである。It can be cured at low temperatures and in a short time, and even if the resistance paste has the same composition, it is possible to obtain printed resistors with a wide range of resistance values with good reproducibility by adjusting the heating temperature and time.Moreover, it is solvent-free. The purpose of the present invention is to provide a method for manufacturing a printed resistor that can obtain a printed resistor with an extremely low resistance value.
(問題点を解決するための手段)
本発明は、基材に電子線硬化型抵抗ペーストを印刷し、
必要ならば溶剤を除去した後、電子線の照射により上記
印刷された抵抗ペーストを硬化させて印刷抵抗を製造す
る印刷抵抗の製造方法において、印刷し、必要ならば溶
剤を除去した後、電子線の照射前、照射中、または照射
後に上記印刷された抵抗ペーストを加熱することを特徴
とする印刷抵抗の製造方法である。(Means for solving the problem) The present invention prints an electron beam curing resistive paste on a base material,
After removing the solvent if necessary, the printed resistor paste is cured by irradiation with an electron beam to produce a printed resistor. A method for manufacturing a printed resistor, characterized in that the printed resistor paste is heated before, during, or after irradiation.
本発明において、基材としては1紙−フエノール樹脂、
ガラス基布−エポキシ樹脂1紙−ポリエステル樹脂など
から成る樹脂積層板、ポリイミド、ポリエステルなどの
フレキシブル基板、セラミック基板。In the present invention, the base material is 1 paper-phenol resin,
Resin laminates made of glass base cloth-epoxy resin paper-polyester resin, flexible substrates made of polyimide, polyester, etc., and ceramic substrates.
絶縁被覆した金属基板など電子工業界で通常用いられて
いる基板であれば何れのものでも使用できる。Any substrate commonly used in the electronics industry, such as an insulating coated metal substrate, can be used.
本発明において電子線硬化型抵抗ペーストとしては、炭
素系微粉末と電子線硬化型樹脂バインダーとを主成分と
するペーストが用いられる。In the present invention, as the electron beam curable resistance paste, a paste whose main components are carbon-based fine powder and an electron beam curable resin binder is used.
炭素系微粉末としては1例えば、アセチレンブランク、
ファーネスブラック、サーマルブラック、チャンネルブ
ラックなどのカーボンブラック微粉末。Examples of carbon-based fine powder include 1, for example, acetylene blank,
Fine carbon black powder such as furnace black, thermal black, and channel black.
ビニルモノマーをグラフト重合させたカーボンブラック
微粉末、酸化処理を施したカーボンブランク微粉末、お
よびグラファイトカーボン微粉末から選ばれる1種また
は2種以上の混合物が用いられる。One type or a mixture of two or more types selected from carbon black fine powder obtained by graft polymerization of a vinyl monomer, carbon blank fine powder subjected to oxidation treatment, and graphite carbon fine powder is used.
電子線硬化型樹脂バインダーとしては2例えば。Examples of the electron beam curing resin binder include 2.
不飽和ポリエステル類、ポリエステル(メタ)アクリレ
ート類、エポキシ(メタ)アクリレート類、ポリオール
(メタ)アクリレート類、ポリウレタン(メタ)アクリ
レート類、ポリエーテル(メタ)アクリレート類、アリ
ル化合物、ジビニル化合物などの電子線反応性化合物の
中から選ばれる1種または2種以上の混合物が用いられ
る。電子線硬化型抵抗ペースト中には、上記2成分の他
、金属粉末、金属酸化物粉末、無機物粉末、その他の不
揮発性添加剤。Electron beams for unsaturated polyesters, polyester (meth)acrylates, epoxy (meth)acrylates, polyol (meth)acrylates, polyurethane (meth)acrylates, polyether (meth)acrylates, allyl compounds, divinyl compounds, etc. One type or a mixture of two or more types selected from among the reactive compounds is used. In addition to the above two components, the electron beam curable resistance paste contains metal powder, metal oxide powder, inorganic powder, and other nonvolatile additives.
揮発性の溶剤などが含まれていてもよい。これらの成分
を混合した後9通常のペーストの製造に用いられる方法
1例えば3本ロール装置を通す方法などにより容易に本
発明にかかわる電子線硬化型抵抗ペーストを得ることが
できる。It may also contain volatile solvents. After mixing these components, the electron beam curable resistive paste according to the present invention can be easily obtained by the method 1 used in the production of ordinary pastes, such as passing through a three-roll device.
電子線硬化型抵抗ペーストは基材上に設けられた電極間
に所望の膜厚と形状に印刷される。電極は通常エツチン
グによって残された銅箔であるが、 I!粉などからな
る導電性ペーストいわゆる薄膜法あるいはアディティブ
法により形成された電極であってもよい。印刷は5通常
スクリーン印刷法によって行われるが1本発明における
印刷方法は必ずしもこれに限定されるものではない。The electron beam curing resistor paste is printed in a desired thickness and shape between electrodes provided on a base material. The electrodes are usually copper foil left by etching, but I! The electrode may be formed by a conductive paste made of powder or the like, a so-called thin film method, or an additive method. Printing is usually carried out by screen printing, but the printing method in the present invention is not necessarily limited to this.
印刷の後、電子線硬化型抵抗ペーストが揮発性の溶剤を
含む場合には溶剤が除去され9次に空気中または不活性
ガス雰囲気中で電子線を照射することによって、印刷さ
れた抵抗ペーストが硬化される。電子線照射の条件とし
ては、加速電圧150〜300KV、照射線量3〜30
Mrad、照射雰囲気中の酸素濃度500 ppm以
下であることが望ましい。After printing, if the electron beam curing resistor paste contains a volatile solvent, the solvent is removed and the printed resistor paste is then irradiated with an electron beam in air or an inert gas atmosphere. hardened. The conditions for electron beam irradiation are an acceleration voltage of 150 to 300 KV and an irradiation dose of 3 to 30 KV.
It is desirable that the oxygen concentration in the irradiation atmosphere be 500 ppm or less.
本発明においては、印刷し、必要ならば溶剤を除去した
後、電子線の照射前、照射中、または照射後に印刷され
た抵抗ペーストを加熱することによって。In the present invention, by heating the printed resistive paste before, during or after irradiation with the electron beam, after printing and if necessary removing the solvent.
得られる印刷抵抗の抵抗値を顕著に低下させることがで
き、さらにその低下の程度は加熱の温度と時間とによっ
て自由にコントロールすることができ、同一配合の抵抗
ペーストから、印刷硬化条件と硬化後のトリミング処理
の条件とが同じであっても1種々の抵抗値の印刷抵抗を
再現性よく得ることができ。The resistance value of the resulting printed resistor can be significantly reduced, and the degree of reduction can be freely controlled by heating temperature and time. Printed resistors with various resistance values can be obtained with good reproducibility even if the trimming processing conditions are the same.
しかもきわめて低い抵抗値の印刷抵抗を得ることも可能
である。Moreover, it is also possible to obtain a printed resistance with an extremely low resistance value.
このように、電子線の照射前、照射中、または照射後に
加熱を行なうことによって、得られる印刷抵抗の抵抗値
が著しく低下する理由としては、炭素系微粉末の変化、
バインダー樹脂の変化、炭素系微粉末とバインダー樹脂
との界面における変化などに起因する炭素系微粉末の凝
集配向状態の変化、あるいは抵抗ペーストと電極表面と
の間の接触状態の変化などが考えられるが、現段階では
詳らかでない。As described above, the reasons why the resistance value of the obtained printed resistor decreases significantly by heating before, during, or after electron beam irradiation are changes in the carbon-based fine powder,
Possible causes include changes in the binder resin, changes in the agglomerated orientation of the carbon-based fine powder due to changes in the interface between the carbon-based fine powder and the binder resin, or changes in the contact state between the resistance paste and the electrode surface. However, the details are not clear at this stage.
加熱は、電子線の照射前、照射中、または照射後のいず
れでもあっても、あるいはこれらを適宜組合せたもので
あってもよいが、電子線の照射前に加熱することが抵抗
値低下に対して最も有効である。Heating may be done before, during, or after electron beam irradiation, or by an appropriate combination of these, but heating before electron beam irradiation will reduce the resistance value. It is most effective against
加熱のための手段としては、熱風による加熱、赤外線に
よる加熱、誘電加熱などが考えられるが、加熱による基
板の寸法変化を可能な限り小さく抑えるという点よりす
れば赤外線による加熱がもっとも有効である。適正な加
熱のための条件は基材の大きさにも依存するが概路次の
通りである。Possible means for heating include heating with hot air, heating with infrared rays, dielectric heating, etc., but heating with infrared rays is the most effective from the point of view of minimizing dimensional changes in the substrate due to heating. Conditions for proper heating depend on the size of the substrate, but the general outline is as follows.
熱風による加熱の場合:80〜120℃、20分〜60
分
赤外線加熱の場合:30〜60秒
加熱処理および電子線照射処理を行なった抵抗ペースト
には、必要に応じ、その後の工程においてトリミング処
理あるいは絶縁膜による被覆処理を行なうことができる
。For heating with hot air: 80 to 120°C, 20 minutes to 60 minutes
In the case of infrared heating: The resistance paste that has been subjected to heat treatment for 30 to 60 seconds and electron beam irradiation treatment can be subjected to trimming treatment or coating treatment with an insulating film in a subsequent step, if necessary.
(実 施 例)
以下に実施例により本発明をさらに詳しく説明するが3
本発明はこれらの実施例によって何ら限定されるもので
はない。例中9部とは重量部を表わす。(Example) The present invention will be explained in more detail with reference to Examples below.
The present invention is not limited in any way by these Examples. In the examples, 9 parts represents parts by weight.
実施例1
つぎの組成のバインダーおよび炭素系微粉末を混合した
後、ステンレス製3本ロールを用いて混練し抵抗ペース
トとした。Example 1 A binder having the following composition and carbon-based fine powder were mixed and then kneaded using three stainless steel rolls to obtain a resistance paste.
トリメチロールプロパントリアクリレート 14.3部
ポリエステルジアクリレート(日本触媒化学工業陣製、
0E−A410) 35.7部エ
ポキシジアクリレート(共栄社油脂化学工業側製。Trimethylolpropane triacrylate 14.3 parts Polyester diacrylate (manufactured by Nippon Shokubai Chemical Industry Co., Ltd.,
0E-A410) 35.7 parts epoxy diacrylate (manufactured by Kyoeisha Yushi Kagaku Kogyo.
80MFA) 21.4部フ
ァーネスブラック(CABOT社製、UK−VULCA
N P、平均粒径20 nm) 2
.9部アセチレンブラック(電気化学工業■製、デンカ
ブラック、平均粒径40 nm)
2.9部グラファイト(住人アルミニウム製錬側製、
POG−10,平均粒径2.7μm)
22.9部得られた抵抗ペーストを200 meshの
ナイロンスクリーン版を用いて、あらかじめエツチング
処理および研磨処理によって銅箔電極部分を作製した片
面銅張紙フェノール積層板の上に印刷した。印刷された
抵抗ペーストの銅箔電極間の大きさは横4鶴たて4nで
あった。抵抗ペーストの硬化は、電子線照射装置(エナ
ージー・サイエンス社製、150B−15型)を用い、
ちっ素ガス雰囲気中で加速電圧160KV、照射線量1
0 Mradの条件下で印刷面側から電子線を照射する
ことによって行なった。印刷後。80MFA) 21.4 parts Furnace black (manufactured by CABOT, UK-VULCA
NP, average particle size 20 nm) 2
.. 9 parts acetylene black (manufactured by Denki Kagaku Kogyo ■, Denka Black, average particle size 40 nm)
2.9 parts graphite (made by resident aluminum smelting side,
POG-10, average particle size 2.7μm)
22.9 parts of the obtained resistance paste was printed using a 200 mesh nylon screen plate onto a single-sided copper-clad paper phenol laminate on which a copper foil electrode portion had been previously prepared by etching and polishing. The size between the copper foil electrodes of the printed resistance paste was 4 mm horizontally and 4 square meters high. The resistance paste was cured using an electron beam irradiation device (manufactured by Energy Sciences, Model 150B-15).
Acceleration voltage 160KV, irradiation dose 1 in nitrogen gas atmosphere
This was carried out by irradiating an electron beam from the printed surface side under the condition of 0 Mrad. After printing.
電子線照射前および電子線照射後の加熱としてはIKW
の赤外線ランプ(長さ30CIl)4本を備えた赤外線
照射装置(リサーチ社製、フユーザ−646型)を用い
、ランプ・試料間距離22備で印刷面側より45秒間の
照射を行なった。この時の積層板の表面温度は約130
°Cであった。IKW is used for heating before and after electron beam irradiation.
Using an infrared irradiation device (manufactured by Research, Fuuser-646 model) equipped with four infrared lamps (length: 30 CIl), irradiation was performed for 45 seconds from the printed surface side with a lamp-to-sample distance of 22. The surface temperature of the laminate at this time is approximately 130
It was °C.
次いで銅箔電極間の抵抗値を三相計器製作所製ワイドレ
ンジデジタルオームメーターDR−1000CUを用い
て測定し、単位Ω10で示した。電子線照射前に赤外線
加熱を行なった場合、電子線照射後に赤外線加熱を行な
った場合、および電子線照射の前および後に赤外線加熱
を行なった場合、それぞれについて得られた抵抗値を表
1に示す。Next, the resistance value between the copper foil electrodes was measured using a wide range digital ohmmeter DR-1000CU manufactured by Sansho Keiki Seisakusho, and was expressed in units of Ω10. Table 1 shows the resistance values obtained when infrared heating was performed before electron beam irradiation, when infrared heating was performed after electron beam irradiation, and when infrared heating was performed before and after electron beam irradiation. .
比較例1
赤外線加熱を行なわなかった以外は実施例1と同様にし
て得られた印刷抵抗の抵抗値をあわせて表1に示す。Comparative Example 1 Table 1 also shows the resistance values of a printed resistor obtained in the same manner as in Example 1 except that infrared heating was not performed.
表 1
実施例2
次の組成のバインダーおよび炭素系微粉末を混合した後
、ステンレス製3本ロールを用いて混練し抵抗ペースト
とした。Table 1 Example 2 A binder and carbon-based fine powder having the following composition were mixed and then kneaded using three stainless steel rolls to form a resistance paste.
トリメチロールプロパントリアクリレート 35部2−
ヒドロキシ−3−フェノキシプロビルアクリレ−ト
35部ファーネスブラック(CABO
T社製、UK−VULCAN P、平均粒径20 n
m) 20部グラファイト(住人アル
ミニウム製錬側製、POG−10,平均粒径2.7μm
) 10部この抵抗ペーストを、導
電性銀ペースト(徳力化学研究所製シルベス1−PS4
07)の印刷硬化(200Meshナイロンスクリーン
を使用、150°C930分間の加熱で硬化)により電
極を形成させた紙フエノール樹脂積層板上に実施例1と
同じ様に印刷した後、熱風循環乾燥器を用いて、80°
C,100℃または120℃の温度で、30分または6
0分の加熱処理を行なった。続いて実施例1と同じ条件
で電子線を照射、ペーストを硬化させた後、抵抗値を測
定した。得られた結果を表2に示す。Trimethylolpropane triacrylate 35 parts 2-
Hydroxy-3-phenoxyprobyl acrylate
Part 35 Furnace Black (CABO
Manufactured by T company, UK-VULCAN P, average particle size 20 n
m) 20 parts graphite (manufactured by Jusumi Aluminum Smelting and Refining, POG-10, average particle size 2.7 μm)
) 10 parts of this resistance paste was mixed with conductive silver paste (Silves 1-PS4 manufactured by Tokuriki Kagaku Kenkyusho).
07) was printed in the same manner as in Example 1 on a paper phenol resin laminate on which electrodes were formed by printing curing (using a 200 mesh nylon screen, curing by heating at 150°C for 930 minutes), and then drying in a hot air circulation dryer. using 80°
C, at a temperature of 100°C or 120°C for 30 minutes or 6
Heat treatment was performed for 0 minutes. Subsequently, the paste was cured by irradiation with an electron beam under the same conditions as in Example 1, and then the resistance value was measured. The results obtained are shown in Table 2.
比較例2
加熱処理を行わなかった以外は、実施例2と同様にして
測定した抵抗値をあわせて表2に示す。Comparative Example 2 Table 2 also shows the resistance values measured in the same manner as in Example 2, except that no heat treatment was performed.
〔発明の効果〕
本発明の印刷抵抗の製造方法により、 (1)同一配合
の抵抗ペーストから種々の抵抗値の印刷抵抗を自由に再
現性よく得ることができ、従来のように多くの種類の抵
抗ペーストを作る必要がなくなり、しかも(2)抵抗ペ
ーストが無溶剤であってもきわめて低い抵抗値の印刷抵
抗を得ることができ、 (3)低温短時間での硬化と、
赤外線ランプでの短時間加熱により、基材を損傷するこ
となく、印刷抵抗を製造することができるようになった
。[Effects of the Invention] By the method for manufacturing printed resistors of the present invention, (1) printed resistors with various resistance values can be obtained freely and with good reproducibility from resistor pastes of the same composition, and many types of resistors can be produced unlike conventional methods. There is no need to make a resistance paste, and (2) even if the resistance paste is solvent-free, printed resistance can be obtained with an extremely low resistance value, and (3) it can be cured at low temperatures and in a short time.
By short-term heating with an infrared lamp, printed resistors can now be manufactured without damaging the substrate.
Claims (1)
ば溶剤を除去した後、電子線の照射により上記印刷され
た抵抗ペーストを硬化させて印刷抵抗を製造する印刷抵
抗の製造方法において、印刷し、必要ならば溶剤を除去
した後、電子線の照射前、照射中、または照射後に上記
印刷された抵抗ペーストを加熱することを特徴とする印
刷抵抗の製造方法。In the method for manufacturing a printed resistor, the printed resistor is manufactured by printing an electron beam curable resistor paste on a base material, removing the solvent if necessary, and curing the printed resistor paste by irradiation with an electron beam. and, if necessary, after removing the solvent, the printed resistor paste is heated before, during, or after irradiation with an electron beam.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61042003A JPS62200703A (en) | 1986-02-28 | 1986-02-28 | Manufacturing method of printed resistor |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61042003A JPS62200703A (en) | 1986-02-28 | 1986-02-28 | Manufacturing method of printed resistor |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62200703A true JPS62200703A (en) | 1987-09-04 |
Family
ID=12624017
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61042003A Pending JPS62200703A (en) | 1986-02-28 | 1986-02-28 | Manufacturing method of printed resistor |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62200703A (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02240168A (en) * | 1989-03-14 | 1990-09-25 | Asahi Chem Ind Co Ltd | Curing of conductive paint |
-
1986
- 1986-02-28 JP JP61042003A patent/JPS62200703A/en active Pending
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| JPH02240168A (en) * | 1989-03-14 | 1990-09-25 | Asahi Chem Ind Co Ltd | Curing of conductive paint |
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