JPS62203076A - Ｐｍｔゲイン調節方法 - Google Patents
Ｐｍｔゲイン調節方法Info
- Publication number
- JPS62203076A JPS62203076A JP61044918A JP4491886A JPS62203076A JP S62203076 A JPS62203076 A JP S62203076A JP 61044918 A JP61044918 A JP 61044918A JP 4491886 A JP4491886 A JP 4491886A JP S62203076 A JPS62203076 A JP S62203076A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- scintillator
- ring
- gain adjustment
- pmt
- gain
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- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Measurement Of Radiation (AREA)
- Nuclear Medicine (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
この発明は、ＰＭＴ （光電子増倍管）のゲインを調節
する方法に関し、特にアンガ方式の位置決め法を採用し
たリング型ＥＣＴ装置に用いられている多数のＰＭＴの
ゲインを調節する方法に関する。
する方法に関し、特にアンガ方式の位置決め法を採用し
たリング型ＥＣＴ装置に用いられている多数のＰＭＴの
ゲインを調節する方法に関する。
従来の技術
アンガ方式の位置決め法を採用したリング型ＥＣＴ装置
では、１個あるいは複数個の一体型シンチレータがリン
グ型に形成されており、その外側に、１個のシンチレー
タにつき複数個のＰＭＴが配置されて、１個のシンチレ
ータ内の放射線入射位置がアンガ方式で、つまり各ＰＭ
Ｔ出力をその位置に応じて重み付は加算する方法で求め
られ発明が解決しようとする問題点 ところで、このアンガ方式のリング型ＥＣＴ装置では、
多数のＰＭＴのゲインがそろっていないと位置決めの精
度が悪くなり、そのため再構成画像に大きな歪みが生じ
る不具合がある。しかし。
では、１個あるいは複数個の一体型シンチレータがリン
グ型に形成されており、その外側に、１個のシンチレー
タにつき複数個のＰＭＴが配置されて、１個のシンチレ
ータ内の放射線入射位置がアンガ方式で、つまり各ＰＭ
Ｔ出力をその位置に応じて重み付は加算する方法で求め
られ発明が解決しようとする問題点 ところで、このアンガ方式のリング型ＥＣＴ装置では、
多数のＰＭＴのゲインがそろっていないと位置決めの精
度が悪くなり、そのため再構成画像に大きな歪みが生じ
る不具合がある。しかし。
現実には多数のＰＭＴのゲインは同じ高電圧を印加して
もばらつき、しかも時の経過とともに変化する。
もばらつき、しかも時の経過とともに変化する。
この発明は、簡単で且つ正確にＰＭＴのゲインを調節す
ることができる、ＰＭＴゲイン調節方法を提供すること
を目的とする。
ることができる、ＰＭＴゲイン調節方法を提供すること
を目的とする。
問題点を解決するための手段
この発明のＰＭＴゲイン調節方法では、まず、リング型
シンチレータの内側に、各ＰＭＴの中心位置に対応して
放射線透過孔が設けられたリング型の放射線遮蔽板を挿
入し、このリング型放射線遮蔽板の内側に線源を置いた
状態とする。そして、各ＰＭＴにつき設けられたゲイン
調節回路を１個のみ除いてゲイン零にした上で１個のシ
ンチレータについて配置された複数のＰＭＴ出力を加算
した信号を、たとえばシングルチャネルアナライザに導
き、所定のウィンド内に入る回数をカウントする。そし
て、そのカウント数が最大になるよう、そのゲイン零と
されていないゲイン調節回路のゲインを調節する。この
操作を、全てのゲイン調節回路の各々につき繰り返す。
シンチレータの内側に、各ＰＭＴの中心位置に対応して
放射線透過孔が設けられたリング型の放射線遮蔽板を挿
入し、このリング型放射線遮蔽板の内側に線源を置いた
状態とする。そして、各ＰＭＴにつき設けられたゲイン
調節回路を１個のみ除いてゲイン零にした上で１個のシ
ンチレータについて配置された複数のＰＭＴ出力を加算
した信号を、たとえばシングルチャネルアナライザに導
き、所定のウィンド内に入る回数をカウントする。そし
て、そのカウント数が最大になるよう、そのゲイン零と
されていないゲイン調節回路のゲインを調節する。この
操作を、全てのゲイン調節回路の各々につき繰り返す。
作 用
多数のＰＭＴにつき各々ゲイン調節回路を接続し、北の
１ｆｉのみ除いてゲイン零とすれば、１個のシンチレー
タ内の複数のＰＭＴ出力を加算した信号は、その１個の
ゲイン調節回路に接続されている１個のＰＭＴの出力の
みに対応することになる。
１ｆｉのみ除いてゲイン零とすれば、１個のシンチレー
タ内の複数のＰＭＴ出力を加算した信号は、その１個の
ゲイン調節回路に接続されている１個のＰＭＴの出力の
みに対応することになる。
そしてシンチレータの内側には、各ＰＭＴの中心位置に
対応して放射線透過孔が設けられた放射線遮蔽板が配置
されているので、上記の１個のＰＭＴの出力は、その中
心位置に入射した放射線に対応した出力ということにな
る。
対応して放射線透過孔が設けられた放射線遮蔽板が配置
されているので、上記の１個のＰＭＴの出力は、その中
心位置に入射した放射線に対応した出力ということにな
る。
そこで上記のＰＭＴ出力の加算信号を、たとえばシング
ルチャネルアナライザに導き、所定のウィンド内に入る
回数をカウントし、そのカウント数が最大になるよう、
上記のゲイン零とされていない１個のゲイン調節回路の
ゲインを調節すれば、上記のウィンドがリング型放射線
遮蔽板の内側に置かれた線源から放射される放射線につ
いての光電ビークに対応するよう調整されている限り、
ゲインの調整が出来たことになる。
ルチャネルアナライザに導き、所定のウィンド内に入る
回数をカウントし、そのカウント数が最大になるよう、
上記のゲイン零とされていない１個のゲイン調節回路の
ゲインを調節すれば、上記のウィンドがリング型放射線
遮蔽板の内側に置かれた線源から放射される放射線につ
いての光電ビークに対応するよう調整されている限り、
ゲインの調整が出来たことになる。
この操作を全てのゲイン調節回路について繰り返せば、
多数のＰＭＴの全てにつきゲインがそろい、アンガ方式
の位置決め精度が高まり、再構成画像の歪みを除去でき
る。
多数のＰＭＴの全てにつきゲインがそろい、アンガ方式
の位置決め精度が高まり、再構成画像の歪みを除去でき
る。
実施例
第１図において、アンガ方式で位置計算を行なうリング
型ＥＣＴ装置は、リング型に一体に形成されたシンチレ
ータｌと、その外側に円筒状のライトガイド２を介して
配列される多数のＰＭＴ３とを有している。シンチレー
タ１はたとえばＮａＩ結晶からなる。
型ＥＣＴ装置は、リング型に一体に形成されたシンチレ
ータｌと、その外側に円筒状のライトガイド２を介して
配列される多数のＰＭＴ３とを有している。シンチレー
タ１はたとえばＮａＩ結晶からなる。
各ＰＭＴ３の出力は、第２図に示すように、それぞれゲ
イン調節回路７と増幅器８とを経てアンガ方式の位置演
算回路に送られるとともに、加算回路９に送られて全て
のＰＭＴ３の出力が加算されてエネルギ信号αが得られ
る。このエネルギ信号αは入射した放射線のエネルギを
判別するためのもので、これにより特定のエネルギの放
射線についてのみ位置演算とカウントとが行なわれる。
イン調節回路７と増幅器８とを経てアンガ方式の位置演
算回路に送られるとともに、加算回路９に送られて全て
のＰＭＴ３の出力が加算されてエネルギ信号αが得られ
る。このエネルギ信号αは入射した放射線のエネルギを
判別するためのもので、これにより特定のエネルギの放
射線についてのみ位置演算とカウントとが行なわれる。
またこのエネルギ信号αは位置演算回路に送られて位置
信号のノーマライズにも用いられる。 −ゲイ
ンを調節する場合は、上記のリング型シンチレータｌの
内側に放射線透過孔５を有する、鉛などで作られたリン
グ型放射線遮蔽板４を挿入し、さらにその中に基準とな
る線源６を置く、このリング型放射線遮蔽板４には、各
ＰＭＴ３の中心位置に対応して放射線透過孔５が設けら
れており、線源６から放出された放射線はこの孔５を通
ってシンチレータ１に入射し、光電効果を生じる。この
放射線透過孔５は、こうしてシンチレータｌ内で生じる
光が隣接するＰＭＴ３に入らない程度の小さな直径の孔
とされている。
信号のノーマライズにも用いられる。 −ゲイ
ンを調節する場合は、上記のリング型シンチレータｌの
内側に放射線透過孔５を有する、鉛などで作られたリン
グ型放射線遮蔽板４を挿入し、さらにその中に基準とな
る線源６を置く、このリング型放射線遮蔽板４には、各
ＰＭＴ３の中心位置に対応して放射線透過孔５が設けら
れており、線源６から放出された放射線はこの孔５を通
ってシンチレータ１に入射し、光電効果を生じる。この
放射線透過孔５は、こうしてシンチレータｌ内で生じる
光が隣接するＰＭＴ３に入らない程度の小さな直径の孔
とされている。
そして、まず第１番目のＰＭＴ３につき、ゲインを調節
するものとすると、この第１番目のＰＭＴ３に接続され
ているゲインｙＡｍ回路７以外の、他のゲイン調ｔＭ＠
路７は全てゲインが零に制御される。すると、第１番目
のＰＭＴ３の出力のみが加算回路９から出力されること
になるので、エネルギ信号αは第１番目のＰＭＴ３の出
力に対応することになる。ところが、上記のように遮蔽
板４で遮蔽されていてＰＭＴ３の中心部に相当する位置
にしか放射線が入射しないため、このＰＭＴ３の出力は
入射放射線のエネルギにきわめて良く対応することにな
る。そこで、エネルギ信号αをシングルチャネルアナラ
イザに送って、第３図のようにその波形のピークがウィ
ンドのアッパーレベルＵＬとロワーレベルＬＬとの間に
あるか否かを検出し、この間にあればその回数をカウン
トしていく。このウィンドのアッパーレベルＵＬとロワ
ーレベルＬＬとは、線源６から放出される放射線による
光電ピークのエネルギに対応して設定されており、この
カウント数が最も多くなるように、上記の第１番目のゲ
イン調節回路７を調節すれば、光電ピークを丁度とらえ
るようなゲインの調節が完了したことになる。
するものとすると、この第１番目のＰＭＴ３に接続され
ているゲインｙＡｍ回路７以外の、他のゲイン調ｔＭ＠
路７は全てゲインが零に制御される。すると、第１番目
のＰＭＴ３の出力のみが加算回路９から出力されること
になるので、エネルギ信号αは第１番目のＰＭＴ３の出
力に対応することになる。ところが、上記のように遮蔽
板４で遮蔽されていてＰＭＴ３の中心部に相当する位置
にしか放射線が入射しないため、このＰＭＴ３の出力は
入射放射線のエネルギにきわめて良く対応することにな
る。そこで、エネルギ信号αをシングルチャネルアナラ
イザに送って、第３図のようにその波形のピークがウィ
ンドのアッパーレベルＵＬとロワーレベルＬＬとの間に
あるか否かを検出し、この間にあればその回数をカウン
トしていく。このウィンドのアッパーレベルＵＬとロワ
ーレベルＬＬとは、線源６から放出される放射線による
光電ピークのエネルギに対応して設定されており、この
カウント数が最も多くなるように、上記の第１番目のゲ
イン調節回路７を調節すれば、光電ピークを丁度とらえ
るようなゲインの調節が完了したことになる。
こうして第１番目のＰＭＴ３についてのゲイン７ＪＪ節
が終了したら、同様の操作で第２番目のＰＭＴ３につい
てのゲイン調節を行ない、さらに次のＰＭＴ３というよ
うにして、各ＰＭＴ３について順次ゲイン調節操作を行
なっていき、全てのＰＭＴ３について終了したら、全て
のＰＭＴ３についてゲインを同じに調整できたことにな
る。
が終了したら、同様の操作で第２番目のＰＭＴ３につい
てのゲイン調節を行ない、さらに次のＰＭＴ３というよ
うにして、各ＰＭＴ３について順次ゲイン調節操作を行
なっていき、全てのＰＭＴ３について終了したら、全て
のＰＭＴ３についてゲインを同じに調整できたことにな
る。
ゲインの調節が終了した後、実際の被写体について臨床
測定しようとする場合、放射線遮蔽板４と線源６とを取
り除き、代りにシンチレータ１の内側にコリメータを取
り付けて、放射性同位元素の投与された被写体を挿入す
る。この被写体の測定においては、各ＰＭＴ３のゲイン
が調節済みであるため、均一性および直線性のよい再構
成画像を得ることができる。
測定しようとする場合、放射線遮蔽板４と線源６とを取
り除き、代りにシンチレータ１の内側にコリメータを取
り付けて、放射性同位元素の投与された被写体を挿入す
る。この被写体の測定においては、各ＰＭＴ３のゲイン
が調節済みであるため、均一性および直線性のよい再構
成画像を得ることができる。
なお、上記ではシンチレータｌはリング型に一体に形成
されている１個のもので構成されているが、いくつかに
分割しそれらを結合して全体としてリング型としたもの
でもよい。この場合、ゲインは、その各部分のシンチレ
ータに光結合されているＰＭＴ群のグループ内で同じに
そろえられていることが、そのシンチレータ内での位置
決め精度を左右するため特に重要であるから、そのグル
ープ内でのみ上記のようなゲイン調節を行なってもよい
。
されている１個のもので構成されているが、いくつかに
分割しそれらを結合して全体としてリング型としたもの
でもよい。この場合、ゲインは、その各部分のシンチレ
ータに光結合されているＰＭＴ群のグループ内で同じに
そろえられていることが、そのシンチレータ内での位置
決め精度を左右するため特に重要であるから、そのグル
ープ内でのみ上記のようなゲイン調節を行なってもよい
。
また、上記ではリング型ＥＣＴ装置において多数のＰＭ
Ｔのゲインを調節することについて述べたが、このＰＭ
Ｔゲイン調節方法は、アンガ方式で位置決め演算をする
他の全ての放射線位詮検出装置のＰＭＴのゲインを調節
することに利用できる。
Ｔのゲインを調節することについて述べたが、このＰＭ
Ｔゲイン調節方法は、アンガ方式で位置決め演算をする
他の全ての放射線位詮検出装置のＰＭＴのゲインを調節
することに利用できる。
発明の効果
この発明のＰＭＴゲイン調節方法によれば、簡単な操作
で多数のＰＭＴの全てにつきゲインを正確にそろえるこ
とができ、その結果アンガ方式の位置決め精度が高まり
、再構成画像の歪みを除去できる。
で多数のＰＭＴの全てにつきゲインを正確にそろえるこ
とができ、その結果アンガ方式の位置決め精度が高まり
、再構成画像の歪みを除去できる。
第１図はこの発明の一実施例の模式図、第２図は同実施
例の回路図、第３図はエネルギ信号の波形図である。 ｌ・・・シンチレータ ２・・・ライトガイド３・
・・ＰＭＴ ４・・・放射線遮蔽板５・、
・・放射線透過孔 ６・・・線源７・・・ゲイン調
節回路 ８・・・増幅器９・・・加算回路 ）原理 迄雛以２ ぅ、 簿３（支） 時門
例の回路図、第３図はエネルギ信号の波形図である。 ｌ・・・シンチレータ ２・・・ライトガイド３・
・・ＰＭＴ ４・・・放射線遮蔽板５・、
・・放射線透過孔 ６・・・線源７・・・ゲイン調
節回路 ８・・・増幅器９・・・加算回路 ）原理 迄雛以２ ぅ、 簿３（支） 時門
Claims (1)
- （１）１個あるいは複数個の一体型シンチレータがリン
グ型に形成されており、該リング型シンチレータの外側
に、１個のシンチレータにつき複数個のＰＭＴが配置さ
れて、１個のシンチレータ内の放射線入射位置がアンガ
方式で求められるリング型ＥＣＴ装置において、上記リ
ング型シンチレータの内側に、各ＰＭＴの中心位置に対
応して放射線透過孔が設けられたリング型の放射線遮蔽
板を挿入し、このリング型放射線遮蔽板の内側に線源を
置いた状態で、各ＰＭＴにつき設けられたゲイン調節回
路を１個のみ除いてゲイン零にした上で１個のシンチレ
ータ内の複数のＰＭＴ出力を加算した信号の、所定のウ
インド内に入る回数をカウントし、そのカウント数が最
大になるようゲイン零とされていないゲイン調節回路の
ゲインを調節するという操作を、全てのゲイン調節回路
の各々につき繰り返すことを特徴とする、ＰＭＴゲイン
調節方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61044918A JPS62203076A (ja) | 1986-02-28 | 1986-02-28 | Ｐｍｔゲイン調節方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61044918A JPS62203076A (ja) | 1986-02-28 | 1986-02-28 | Ｐｍｔゲイン調節方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62203076A true JPS62203076A (ja) | 1987-09-07 |
Family
ID=12704844
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61044918A Pending JPS62203076A (ja) | 1986-02-28 | 1986-02-28 | Ｐｍｔゲイン調節方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62203076A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012533734A (ja) * | 2009-07-16 | 2012-12-27 | ユニバーシテット ヤギエロンスキ | ガンマ量子反応の位置及び時間を測定するストリップ装置と方法及び陽電子放射断層撮影においてガンマ量子反応の位置及び時間を測定するストリップ装置の使用方法 |
| JP2012533733A (ja) * | 2009-07-16 | 2012-12-27 | ユニバーシテット ヤギエロンスキ | ガンマ量子反応の位置及び時間を測定するマトリックス装置及び方法、並びに陽電子放射断層撮影においてガンマ量子反応の位置及び時間を測定する前記装置の使用方法 |
| CN107817510A (zh) * | 2016-09-12 | 2018-03-20 | 通用电气公司 | 用于光共享检测器的通用读出 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5748655Y2 (ja) * | 1976-11-05 | 1982-10-25 | ||
| JPS5826629A (ja) * | 1981-08-07 | 1983-02-17 | Nissan Motor Co Ltd | 自動車ドアのシ−ル装置 |
| JPS60161615U (ja) * | 1984-04-05 | 1985-10-26 | マツダ株式会社 | 自動車のダスト侵入防止構造 |
-
1986
- 1986-02-28 JP JP61044918A patent/JPS62203076A/ja active Pending
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5748655Y2 (ja) * | 1976-11-05 | 1982-10-25 | ||
| JPS5826629A (ja) * | 1981-08-07 | 1983-02-17 | Nissan Motor Co Ltd | 自動車ドアのシ−ル装置 |
| JPS60161615U (ja) * | 1984-04-05 | 1985-10-26 | マツダ株式会社 | 自動車のダスト侵入防止構造 |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012533734A (ja) * | 2009-07-16 | 2012-12-27 | ユニバーシテット ヤギエロンスキ | ガンマ量子反応の位置及び時間を測定するストリップ装置と方法及び陽電子放射断層撮影においてガンマ量子反応の位置及び時間を測定するストリップ装置の使用方法 |
| JP2012533733A (ja) * | 2009-07-16 | 2012-12-27 | ユニバーシテット ヤギエロンスキ | ガンマ量子反応の位置及び時間を測定するマトリックス装置及び方法、並びに陽電子放射断層撮影においてガンマ量子反応の位置及び時間を測定する前記装置の使用方法 |
| CN107817510A (zh) * | 2016-09-12 | 2018-03-20 | 通用电气公司 | 用于光共享检测器的通用读出 |
| CN107817510B (zh) * | 2016-09-12 | 2023-05-12 | 通用电气公司 | 用于光共享检测器的通用读出 |
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