JPS62211603A - 波長板 - Google Patents
波長板Info
- Publication number
- JPS62211603A JPS62211603A JP61054515A JP5451586A JPS62211603A JP S62211603 A JPS62211603 A JP S62211603A JP 61054515 A JP61054515 A JP 61054515A JP 5451586 A JP5451586 A JP 5451586A JP S62211603 A JPS62211603 A JP S62211603A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- hologram
- holograms
- surface relief
- light
- wavelength plate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Diffracting Gratings Or Hologram Optical Elements (AREA)
- Holo Graphy (AREA)
- Optical Head (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔概要〕
表面レリーフ型ホログラムを複数枚重ね、かつそれぞれ
の表面レリーフ型ホログラムの格子溝の方向を一定に揃
えることで、それぞれのホログラムの格子深さが浅くて
も、充分に波長板としての機能が得られるようにする。
の表面レリーフ型ホログラムの格子溝の方向を一定に揃
えることで、それぞれのホログラムの格子深さが浅くて
も、充分に波長板としての機能が得られるようにする。
レーザディスク装置やＣＤプレーヤ等において、光ピツ
クアップを移動させてディスク媒体の読取りが行なわれ
る。このような光ピンクアップ等において、偏光面を変
えるために１八波長板などが使用されるが、本発明はこ
のように偏光状態の変更に使用される波長板に関する。
クアップを移動させてディスク媒体の読取りが行なわれ
る。このような光ピンクアップ等において、偏光面を変
えるために１八波長板などが使用されるが、本発明はこ
のように偏光状態の変更に使用される波長板に関する。
第８図は従来の光学レンズを用いた光ピツクアップの側
面図である。半導体レーザＬＤから出射した光は、コリ
メートレンズ１で平行光に変換された後、真円補正プリ
ズム２−偏光ビームスブリッタ３−１／４波長板４の光
路を経て、対物レンズ５で絞られ、光ディスク６に照射
される。そして情報を読取った反射光は、対物レンズ５
−１／４波長板４−偏光ビームスプリッタ３−集光レン
ズ７→光検知器８の光路を通り、光検知器８によって電
気信号に変換さ゛れる。なお、レンズ５の焦点位置調整
は、駆動コイル９で行なわれる。
面図である。半導体レーザＬＤから出射した光は、コリ
メートレンズ１で平行光に変換された後、真円補正プリ
ズム２−偏光ビームスブリッタ３−１／４波長板４の光
路を経て、対物レンズ５で絞られ、光ディスク６に照射
される。そして情報を読取った反射光は、対物レンズ５
−１／４波長板４−偏光ビームスプリッタ３−集光レン
ズ７→光検知器８の光路を通り、光検知器８によって電
気信号に変換さ゛れる。なお、レンズ５の焦点位置調整
は、駆動コイル９で行なわれる。
このように従来の光ピツクアップでは、多数の群レンズ
などを使用しなければならず、光ピツクアップが大形で
、かつ重量が大きいために、高速駆動に支障を来してい
る。また多数の光学レンズを空間的に位置調整して配置
しなければならないので、組立てが困難である。
などを使用しなければならず、光ピツクアップが大形で
、かつ重量が大きいために、高速駆動に支障を来してい
る。また多数の光学レンズを空間的に位置調整して配置
しなければならないので、組立てが困難である。
そこで本発明の出願人は、昭和６０年１１月２０日付は
出願の特願昭６０−２６０３１７号において、第９図、
第１０図のように、群レンズなどに代えてホログラムを
使用することを提案した。第９図において、１０は位相
型のコリメート用ホログラム、１１は表面レリーフ型ホ
ログラム、１２は対物ホログラムである。位相型ホログ
ラム１０は第８図のコリメートレンズｌと真円補正プリ
ズム２０作用をするものであり、表面レリーフ型ホログ
ラム１１は、第８図の偏光ビームスプリッタ３の作用を
司るものである。
出願の特願昭６０−２６０３１７号において、第９図、
第１０図のように、群レンズなどに代えてホログラムを
使用することを提案した。第９図において、１０は位相
型のコリメート用ホログラム、１１は表面レリーフ型ホ
ログラム、１２は対物ホログラムである。位相型ホログ
ラム１０は第８図のコリメートレンズｌと真円補正プリ
ズム２０作用をするものであり、表面レリーフ型ホログ
ラム１１は、第８図の偏光ビームスプリッタ３の作用を
司るものである。
対物ホログラム１２は、第８図の群レンズ５に代わるも
のである。
のである。
半導体レーザＬＤから出射した発散光は、実線で示すよ
うに、コリメート用の位相型ホログラム１０でコリメー
トされると共に、光デイスク６側に回折され、表面レリ
ーフ型ホログラム１１を透過して１／４波長板４で、円
偏光に変換される。そして対物ホログラム１２で光ディ
スク６に収束される。
うに、コリメート用の位相型ホログラム１０でコリメー
トされると共に、光デイスク６側に回折され、表面レリ
ーフ型ホログラム１１を透過して１／４波長板４で、円
偏光に変換される。そして対物ホログラム１２で光ディ
スク６に収束される。
光ディスク６から反射して来る信号光は、破線で示すよ
うに、対物ホログラム１２でコリメートされた後、１７
４波長板４で直線偏光に戻され、表面レリーフ型ホログ
ラム１１で偏光分離されると共に、検知器８側に収束さ
れる。
うに、対物ホログラム１２でコリメートされた後、１７
４波長板４で直線偏光に戻され、表面レリーフ型ホログ
ラム１１で偏光分離されると共に、検知器８側に収束さ
れる。
第１０図は、表面レリーフ型ホログラムＩｌａが光デイ
スク６側への収束作用と偏光分離作用を司り、位相型ホ
ログラム１０ａが、検知器８側への収束作用を司るもの
である。
スク６側への収束作用と偏光分離作用を司り、位相型ホ
ログラム１０ａが、検知器８側への収束作用を司るもの
である。
このように、重量が大きくかつ大型の群レンズ１．５や
偏光ビームスプリッタ３の作用を、小型のホログラムで
実現できる。
偏光ビームスプリッタ３の作用を、小型のホログラムで
実現できる。
ところが１７４波長板４は、従来どおり、雲母などの異
方性結晶材料からなる波長板を使用しているので、反射
損失を抑えるためにＡＲココ−ィングが必要である。更
に、切り出し角１度など、材料の貰精度加工が要求され
、コストダウンを図ることが難しいという状況にあった
。そこで本発明の出願人は、第９図、第１０図の１／４
波長板４に代えて、波長板も、作成が容易なホログラム
に置き換え可能とする手段を提案している。しかしなが
らホログラムで波長板の機能を得るには、表面レリーフ
型ホログラムの格子深さを充分に深くしなければならず
、波長板用ホログラムの作成が困難である。また１／２
波長板は１／４波長板の２倍の格子深さを要するので、
１７２波長板は一層作成が困難である０本発明は波長板
をホログラムで代用する場合におけるこのような問題を
解消し、任意の波長板をホログラムでも容易に作成可能
とすることにある。
方性結晶材料からなる波長板を使用しているので、反射
損失を抑えるためにＡＲココ−ィングが必要である。更
に、切り出し角１度など、材料の貰精度加工が要求され
、コストダウンを図ることが難しいという状況にあった
。そこで本発明の出願人は、第９図、第１０図の１／４
波長板４に代えて、波長板も、作成が容易なホログラム
に置き換え可能とする手段を提案している。しかしなが
らホログラムで波長板の機能を得るには、表面レリーフ
型ホログラムの格子深さを充分に深くしなければならず
、波長板用ホログラムの作成が困難である。また１／２
波長板は１／４波長板の２倍の格子深さを要するので、
１７２波長板は一層作成が困難である０本発明は波長板
をホログラムで代用する場合におけるこのような問題を
解消し、任意の波長板をホログラムでも容易に作成可能
とすることにある。
第１図は本発明による波長板の基本原理を説明する断面
図である。１２ａ 、 １２ｂはガラス等の基板であり
、それぞれの片面に、１ｍｍ当たり２０００本程度０格
子を有する表面レリーフ型ホログラム旧、８２が形成さ
れている。両ホログラムＨ１、Ｈ２は、格子溝１３．１
３が同じ方向を向くように配置され、かつ図においては
、背中合わせになっている。そしてガラス板１２ａと１
２ｂとの間が、接着剤１４で接着されている。なお、ホ
ログラムＨ１、Ｈ２の基板を独立させないで、１枚の基
板の両面にホログラムＨ１、Ｈ２を直接形成してもよい
。
図である。１２ａ 、 １２ｂはガラス等の基板であり
、それぞれの片面に、１ｍｍ当たり２０００本程度０格
子を有する表面レリーフ型ホログラム旧、８２が形成さ
れている。両ホログラムＨ１、Ｈ２は、格子溝１３．１
３が同じ方向を向くように配置され、かつ図においては
、背中合わせになっている。そしてガラス板１２ａと１
２ｂとの間が、接着剤１４で接着されている。なお、ホ
ログラムＨ１、Ｈ２の基板を独立させないで、１枚の基
板の両面にホログラムＨ１、Ｈ２を直接形成してもよい
。
第２図は表面レリーフ型ホログラムにおける複屈折作用
を示す図で、レリーフ形状が矩形の場合である。（ａｌ
は矩形レリーフにおける複屈折Δｎとレリーフ形状との
関係を示すもので、横軸はレリーフ幅Ｗとピッチｄとの
比、縦軸は複屈折Δｎである。ｗ／ｄの比が、０．２〜
０゜６程度の領域で、複屈折Δｎが大きい。また表面レ
リーフ型ホログラムの材料によって屈折率が異なるため
、材料によって複屈折Δｎも異なる。例えば屈折率ｎが
１゜５のホトポリマーの場合は、複屈折Δｎも小さく、
なだらかな曲線となっている。表面レリーフ型ホログラ
ム用の材料として通しているホトレジストは、屈折率が
１．６６程度である。
を示す図で、レリーフ形状が矩形の場合である。（ａｌ
は矩形レリーフにおける複屈折Δｎとレリーフ形状との
関係を示すもので、横軸はレリーフ幅Ｗとピッチｄとの
比、縦軸は複屈折Δｎである。ｗ／ｄの比が、０．２〜
０゜６程度の領域で、複屈折Δｎが大きい。また表面レ
リーフ型ホログラムの材料によって屈折率が異なるため
、材料によって複屈折Δｎも異なる。例えば屈折率ｎが
１゜５のホトポリマーの場合は、複屈折Δｎも小さく、
なだらかな曲線となっている。表面レリーフ型ホログラ
ム用の材料として通しているホトレジストは、屈折率が
１．６６程度である。
したがって複屈折Δｎは、表面レリーフ型ホログラムの
材料と、ｗ ／ ｄに依存する。ｆｂ１図は、複屈折に
より得られる位相差Δφと格子深さｈとの関係を示すも
ので、横軸は格子深さり、縦軸は位相差である。２本の
特性線とも、格子深さｈが深くなるにつれて、位相のず
れが増大することを示している。
材料と、ｗ ／ ｄに依存する。ｆｂ１図は、複屈折に
より得られる位相差Δφと格子深さｈとの関係を示すも
ので、横軸は格子深さり、縦軸は位相差である。２本の
特性線とも、格子深さｈが深くなるにつれて、位相のず
れが増大することを示している。
図の右側の特性線は、屈折率ｎ＝１．５０のホトレジス
トの場合であり、左側の特性線は、屈折率ｎ−１，６６
の材料である。このように、複屈折Δｎが０．１５と大
きい場合は、表面レリーフ型ホログラムの格子深さｈが
浅く、例えば、ｎ＝１．６６のとき、Δφ−π／２を得
るには、ｈ ＝ １．３０ ｐ ｍ （ｈ／ｄ ＝ ２
゜９９）である。Δｎが０２１０と小さい場合は、格子
深さｈを１．９５ ｕ ｍ （ｈ／ｄ÷４．４８）と深
くしなければならない。１７２波長板の場合も、同様に
Δｎが小さいと、格子深さｈを深（しなければならない
。
トの場合であり、左側の特性線は、屈折率ｎ−１，６６
の材料である。このように、複屈折Δｎが０．１５と大
きい場合は、表面レリーフ型ホログラムの格子深さｈが
浅く、例えば、ｎ＝１．６６のとき、Δφ−π／２を得
るには、ｈ ＝ １．３０ ｐ ｍ （ｈ／ｄ ＝ ２
゜９９）である。Δｎが０２１０と小さい場合は、格子
深さｈを１．９５ ｕ ｍ （ｈ／ｄ÷４．４８）と深
くしなければならない。１７２波長板の場合も、同様に
Δｎが小さいと、格子深さｈを深（しなければならない
。
このように、複屈折Δｎが大きいほど、１７４波長板を
実現するために必要な位相差Δφ−π／２を与える格子
の深さは浅（なる。しかしながら実際には、ｈ／ｄ ＞
３．０なる深い格子を作成するのはかなり難しい。
実現するために必要な位相差Δφ−π／２を与える格子
の深さは浅（なる。しかしながら実際には、ｈ／ｄ ＞
３．０なる深い格子を作成するのはかなり難しい。
しかしながら本発明により、複数の表面レリーフ型ホロ
グラムＨ１、ｕ２を重ねて使用すれば、それぞれのホロ
グラムＨ１、Ｈ２の格子深さｈが浅くても、２倍の格子
深さを得ることができる。
グラムＨ１、ｕ２を重ねて使用すれば、それぞれのホロ
グラムＨ１、Ｈ２の格子深さｈが浅くても、２倍の格子
深さを得ることができる。
Δｎ ＝０．１０の材料の場合、１７４波長板に得るに
は、格子深さｈは１．９５μｍ程度要するが、本発明に
より２枚重ねにする場合は、その半分の格子深さで足り
る。したがってΔｎの小さな材料でも容易に実現できる
。
は、格子深さｈは１．９５μｍ程度要するが、本発明に
より２枚重ねにする場合は、その半分の格子深さで足り
る。したがってΔｎの小さな材料でも容易に実現できる
。
また格子深さｈを深くすれば、１７２波長板も作成でき
るが、本発明により表面レリーフ型ホログラムを複数枚
重ねることで、実質的に深い格子深さを容易に得られる
ため、任意の波長板を実現できる。
るが、本発明により表面レリーフ型ホログラムを複数枚
重ねることで、実質的に深い格子深さを容易に得られる
ため、任意の波長板を実現できる。
第３図は、矩形レリーフホログラムの場合の反射率と格
子深さとの関係を示すもので、横軸が格子深さｈと格子
とフチｄとの比、縦軸が反射率（χ）である。（ａ）は
Ｐ偏光の場合、（ｂ）はＳ偏光の場合である。いずれの
場合も、格子深さｈが極めて小さく、格子ピッチｄが極
めて大きく平坦な場合、すなわちｈ／ｄがＯの場合は、
反射率も最大となるが、その後は、ｈ／ｄの増加につれ
て反射率は周期的に増減を繰り返している。したがうて
Ｐ偏光に対しても、Ｓ偏光に対しても、反射率を小さく
するには、（ａ）と（ｂ）の両方において、反射率が小
さいｈ／ｄの値を選択する。
子深さとの関係を示すもので、横軸が格子深さｈと格子
とフチｄとの比、縦軸が反射率（χ）である。（ａ）は
Ｐ偏光の場合、（ｂ）はＳ偏光の場合である。いずれの
場合も、格子深さｈが極めて小さく、格子ピッチｄが極
めて大きく平坦な場合、すなわちｈ／ｄがＯの場合は、
反射率も最大となるが、その後は、ｈ／ｄの増加につれ
て反射率は周期的に増減を繰り返している。したがうて
Ｐ偏光に対しても、Ｓ偏光に対しても、反射率を小さく
するには、（ａ）と（ｂ）の両方において、反射率が小
さいｈ／ｄの値を選択する。
例えば格子深さす、１．２２ ｐ ｍ（ｈ／ｄ＝４．９
）では、反射率はＳ偏光に対しては、矢印ａ２位置で３
．０χ、Ｐ偏光に対しては矢印ａ、位置で０．６０χで
ある。この反射率は、レリーフ形状を考慮することで、
さらに小さくすることが可能である。なお、当然の事な
がら、表面レリーフ形状は矩形でも、正弦波形状でも、
あるいは他の断面形状でもよい。
）では、反射率はＳ偏光に対しては、矢印ａ２位置で３
．０χ、Ｐ偏光に対しては矢印ａ、位置で０．６０χで
ある。この反射率は、レリーフ形状を考慮することで、
さらに小さくすることが可能である。なお、当然の事な
がら、表面レリーフ形状は矩形でも、正弦波形状でも、
あるいは他の断面形状でもよい。
第４図は表面レリーフ型ホログラムの作成方法の実施例
である。まず（ａ）のように、ガラス板１２に、ホログ
ラム材料としてレジスト１５を積層する。そして干渉縞
のホログラフィ露光と現像を行なうことで、（ｂｌのよ
うに、格子溝１３を有する表面レリーフ型ホログラムＨ
が得られる。こうして得られた複数の表面レリーフ型ホ
ログラムを重ねて、格子溝の方向が平行になるように位
置合わせし、接着する。
である。まず（ａ）のように、ガラス板１２に、ホログ
ラム材料としてレジスト１５を積層する。そして干渉縞
のホログラフィ露光と現像を行なうことで、（ｂｌのよ
うに、格子溝１３を有する表面レリーフ型ホログラムＨ
が得られる。こうして得られた複数の表面レリーフ型ホ
ログラムを重ねて、格子溝の方向が平行になるように位
置合わせし、接着する。
あるいは、（ｂｌの表面レリーフ型ホログラムＨをマス
ターとし、ホトポリマーなどのような他の材料１６にビ
ームエツチングなどで複製し、（Ｃ）のような表面レリ
ーフ型ホログラムＨ゛を得ることもできる。またマスク
用ホログラムＨまたは複製されたホログラムＨ°を型に
し、ホトポリマ法等による転写で成型することもできる
。このようにレジストマスクとビームエツチング等の併
用により、さらに耐久性が高い材料に転写・作製出来る
、等の効果が得られる。いずれも大面積に作ることが可
能なため、２枚重ねにするためのホログラム対は同じロ
フトから選ぶことが出来る。
ターとし、ホトポリマーなどのような他の材料１６にビ
ームエツチングなどで複製し、（Ｃ）のような表面レリ
ーフ型ホログラムＨ゛を得ることもできる。またマスク
用ホログラムＨまたは複製されたホログラムＨ°を型に
し、ホトポリマ法等による転写で成型することもできる
。このようにレジストマスクとビームエツチング等の併
用により、さらに耐久性が高い材料に転写・作製出来る
、等の効果が得られる。いずれも大面積に作ることが可
能なため、２枚重ねにするためのホログラム対は同じロ
フトから選ぶことが出来る。
第５図は、２枚の表面レリーフ型ホログラム（格子）を
貼り合わせる際の位置決めの方法を示す側面図である。
貼り合わせる際の位置決めの方法を示す側面図である。
表面レリーフ型ホログラムでは、第６図に示すように、
入射偏光状態により回折効率が変化する。１．３〈λ／
ｄ＜２．０の領域では、Ｓ偏光の時回折効率は極大、Ｐ
偏光の時極小となる。
入射偏光状態により回折効率が変化する。１．３〈λ／
ｄ＜２．０の領域では、Ｓ偏光の時回折効率は極大、Ｐ
偏光の時極小となる。
そこで、１．０＜λ／ｄ＜２．０を満足する様にレーザ
光源１７の波長を選ぶ。先ず第５図（ａ）のように、１
枚目のホログラムＨ１に於いて、レーザ光源１７からＳ
偏光をブラウン角θ鳳で入射させ、入射偏光方向と溝１
３の方向とを平行にする。このとき、ホログラムＨ１に
よる回折出力光１８を光検出器１９でモニタし、極大と
なる位相を見つければ良い。すなわち（ｂ）において、
ホログラムＨ１の格子溝１３方向が、入射Ｓ偏光と平行
となり、θ１がゼロとなるように調節する。次に同図（
ｅ）のように、回折光（入射偏光状態保持）１８を入射
光として、２枚目のホログラムＨ２の回折出力光２０を
光検出器１９でモニタして、極大となる位置、すなわち
Ｔｄ１図におけるθ２がゼロとなる位置を探す。
光源１７の波長を選ぶ。先ず第５図（ａ）のように、１
枚目のホログラムＨ１に於いて、レーザ光源１７からＳ
偏光をブラウン角θ鳳で入射させ、入射偏光方向と溝１
３の方向とを平行にする。このとき、ホログラムＨ１に
よる回折出力光１８を光検出器１９でモニタし、極大と
なる位相を見つければ良い。すなわち（ｂ）において、
ホログラムＨ１の格子溝１３方向が、入射Ｓ偏光と平行
となり、θ１がゼロとなるように調節する。次に同図（
ｅ）のように、回折光（入射偏光状態保持）１８を入射
光として、２枚目のホログラムＨ２の回折出力光２０を
光検出器１９でモニタして、極大となる位置、すなわち
Ｔｄ１図におけるθ２がゼロとなる位置を探す。
これ以外に、従来のλ／４板と組み合わせて、垂直入射
時の偏光状態の変化をモニタして行う方法もある。この
位置合わせが終了することで、２枚のホログラムＨ１、
Ｈ２の溝は互いに平行に揃う、そして、１八波長板とし
て使うためには、第７図のように、溝方向に対して、４
５＠の傾きを持たせて、Ｓ偏光やＰ偏光などの直線偏光
を入射すれば良い。
時の偏光状態の変化をモニタして行う方法もある。この
位置合わせが終了することで、２枚のホログラムＨ１、
Ｈ２の溝は互いに平行に揃う、そして、１八波長板とし
て使うためには、第７図のように、溝方向に対して、４
５＠の傾きを持たせて、Ｓ偏光やＰ偏光などの直線偏光
を入射すれば良い。
以上のように本発明によれば、１７４波長板などの波長
板を、表面レリーフ型ホログラムを複数枚重ねて構成す
ることで、従来の異方性結晶材料から高精度に加工する
ｌへ波長板に比べて、製造が極めて容易となり、量産化
に適している。複数枚構成であるため、各々の格子につ
いてはΔφ−π／４以下で良く、極端な深溝化（ｈ／ｄ
＞３．０）を行う必要がなく、ホログラフィ法による
波長板の製造が一層容易となる。しかも反射率を１％以
下に抑えることが可能であり、その場合ＡＲコートが不
必要となる。
板を、表面レリーフ型ホログラムを複数枚重ねて構成す
ることで、従来の異方性結晶材料から高精度に加工する
ｌへ波長板に比べて、製造が極めて容易となり、量産化
に適している。複数枚構成であるため、各々の格子につ
いてはΔφ−π／４以下で良く、極端な深溝化（ｈ／ｄ
＞３．０）を行う必要がなく、ホログラフィ法による
波長板の製造が一層容易となる。しかも反射率を１％以
下に抑えることが可能であり、その場合ＡＲコートが不
必要となる。
第１図は本発明による波長板の基本原理を説明する断面
図、第２図は本発明による波長板の作用を説明する図、
第３図は反射率と格子深さとの関係を示す図、第４図は
表面レリーフ型ホログラムの作成方法を示す図、第５図
は複数枚の表面レリーフ型ホログラムの位置合わせ方法
を示す図、第６図は入射偏光状態と回折効率との関係を
示す図、第７図は複数枚重ねの波長板で１八波長板を構
成する例を示す斜視図、第８図は従来の光ピンクアンプ
の側面図、第９図、第１０図は従来のホログラム式光ピ
ツクアップの側面図である。 図において、Ｈｌ、Ｈ２は表面レリーフ型ホログラム、
１２ａ 、１２ｂはガラス板、１３は格子溝、１４は接
着剤、１７は位置合わせ用レーザ光源、１８は位置合わ
せ用光検出器をそれぞれ示す。 特許出願人 富士通株式会社 代理人 弁理士 青 柳 稔 第１図 第４図 啼Ｗ／ｄ 耐＃ηｒｒ−宍１（１）考Ｉ旧
斥とレノ−７昧乙の５べ県債Ｉ猟さｈ （，１１’） （ｂ）右ａ１蔽ヒ清し吸こピの鵜 表面レリーフホロク゛ラムにお１する判θ臼斤第２図 （（２＞ ”Ｐ４１ｓ先（掲羞ξ連直）少）Ｓ偏光（４
噂４て単性） 双剤率Ｙ符）遍ざ濃 第３図 （ｃ） （ｄ）仏１会とカ域 第５図 予 θ傭） ＋ （Ｓ’） （ｐ） 第６図 第７図 従奈の凌よジグ−７０ 第８図
図、第２図は本発明による波長板の作用を説明する図、
第３図は反射率と格子深さとの関係を示す図、第４図は
表面レリーフ型ホログラムの作成方法を示す図、第５図
は複数枚の表面レリーフ型ホログラムの位置合わせ方法
を示す図、第６図は入射偏光状態と回折効率との関係を
示す図、第７図は複数枚重ねの波長板で１八波長板を構
成する例を示す斜視図、第８図は従来の光ピンクアンプ
の側面図、第９図、第１０図は従来のホログラム式光ピ
ツクアップの側面図である。 図において、Ｈｌ、Ｈ２は表面レリーフ型ホログラム、
１２ａ 、１２ｂはガラス板、１３は格子溝、１４は接
着剤、１７は位置合わせ用レーザ光源、１８は位置合わ
せ用光検出器をそれぞれ示す。 特許出願人 富士通株式会社 代理人 弁理士 青 柳 稔 第１図 第４図 啼Ｗ／ｄ 耐＃ηｒｒ−宍１（１）考Ｉ旧
斥とレノ−７昧乙の５べ県債Ｉ猟さｈ （，１１’） （ｂ）右ａ１蔽ヒ清し吸こピの鵜 表面レリーフホロク゛ラムにお１する判θ臼斤第２図 （（２＞ ”Ｐ４１ｓ先（掲羞ξ連直）少）Ｓ偏光（４
噂４て単性） 双剤率Ｙ符）遍ざ濃 第３図 （ｃ） （ｄ）仏１会とカ域 第５図 予 θ傭） ＋ （Ｓ’） （ｐ） 第６図 第７図 従奈の凌よジグ−７０ 第８図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 （１）、入射光の偏光面を変える作用をする表面レリー
フ型ホログラムを、それぞれのホログラムの格子溝方向
が一致するように、複数枚重ねてなる波長板。 （２）、前記の複数枚のホログラムは、２枚１組とし、
対になったホログラム同士が背中合わせに貼り付けられ
ていることを特徴とする特許請求の範囲第（１）項記載
の波長板。（３）、前記２枚のホログラムは、レリーフ
型ホログラムにおける回折効率の入射偏光依存性（効率
はＳ偏光に対して最大、Ｐ偏光に対して最小）を利用し
て位置合わせし、貼り合わせ、かつそれらを組み合わせ
てなることを特徴とする特許請求の範囲第（１）項記載
の波長板。 （４）、前記表面レリーフ型ホログラムは、ホトレジス
トに形成された表面レリーフ型ホログラムが形成された
ホトレジストをマスターとして、ホトポリマーなどにビ
ームエッチング法、ホトポリマ法により転写して作製さ
れてなる表面レリーフ型格子を利用して１／４波長板を
構成したものであることを特徴とする特許請求の範囲第
（１）項記載の波長板。 （５）、前記の１対の表面レリーフ型ホログラムは、１
枚の基板の両面に形成されたものであることを特徴とす
る特許請求の範囲第（１）項記載の波長板。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61054515A JPS62211603A (ja) | 1986-03-12 | 1986-03-12 | 波長板 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61054515A JPS62211603A (ja) | 1986-03-12 | 1986-03-12 | 波長板 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62211603A true JPS62211603A (ja) | 1987-09-17 |
Family
ID=12972783
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61054515A Pending JPS62211603A (ja) | 1986-03-12 | 1986-03-12 | 波長板 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62211603A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02143201A (ja) * | 1988-11-25 | 1990-06-01 | Ricoh Co Ltd | ２重回折格子 |
| US6424436B1 (en) | 1999-04-06 | 2002-07-23 | Nec Corporation | Holographic element |
-
1986
- 1986-03-12 JP JP61054515A patent/JPS62211603A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02143201A (ja) * | 1988-11-25 | 1990-06-01 | Ricoh Co Ltd | ２重回折格子 |
| US6424436B1 (en) | 1999-04-06 | 2002-07-23 | Nec Corporation | Holographic element |
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