JPS62219982A - ガス放電装置用放電電極 - Google Patents
ガス放電装置用放電電極Info
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- JPS62219982A JPS62219982A JP62046912A JP4691287A JPS62219982A JP S62219982 A JPS62219982 A JP S62219982A JP 62046912 A JP62046912 A JP 62046912A JP 4691287 A JP4691287 A JP 4691287A JP S62219982 A JPS62219982 A JP S62219982A
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- JP
- Japan
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- gas flow
- electrodes
- discharge
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- Pending
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 12
- 238000001816 cooling Methods 0.000 abstract description 5
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 abstract description 4
- 238000005452 bending Methods 0.000 abstract 1
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 description 6
- 239000000498 cooling water Substances 0.000 description 3
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/02—Constructional details
- H01S3/03—Constructional details of gas laser discharge tubes
- H01S3/038—Electrodes, e.g. special shape, configuration or composition
- H01S3/0385—Shape
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- Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
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- Optics & Photonics (AREA)
- Lasers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［発明の技術分野］
この発明はピン状電極を用いた放Ｎ電極の構造に関し、
当該ピン状電極がガス流内で効果的に冷ｍされ、ガス流
内で安定したグロー放電を行うことができるようにした
ガス放電ｖ装置用放電電極に関する。
当該ピン状電極がガス流内で効果的に冷ｍされ、ガス流
内で安定したグロー放電を行うことができるようにした
ガス放電ｖ装置用放電電極に関する。
［発明の背景技術とその問題点］
従来より、各種のガス放電装置に、ピン状電極を備えた
ａｍ電極が使用されている。このピン状電極の１例とし
ては、例えば所定長さの線材を略り字状に折曲げ、Ｌ字
の一辺（支柱部）を絶縁基板に立設し、他辺（延伸部）
で所定の放電を行わせる態様である。
ａｍ電極が使用されている。このピン状電極の１例とし
ては、例えば所定長さの線材を略り字状に折曲げ、Ｌ字
の一辺（支柱部）を絶縁基板に立設し、他辺（延伸部）
で所定の放電を行わせる態様である。
ところが、この種のピン状ｆｆｉ極を、例えば３軸直交
型のレーザ発振装置に用いる場合には、次の如きの問題
がある。□ ■ 延伸部の先端はただ単に線材を剪断しただけの形状
であるため、ここで局所的放電が発生し、安定したグロ
ー放電を行わせることが難かしい。
型のレーザ発振装置に用いる場合には、次の如きの問題
がある。□ ■ 延伸部の先端はただ単に線材を剪断しただけの形状
であるため、ここで局所的放電が発生し、安定したグロ
ー放電を行わせることが難かしい。
■ 又、延伸部をガス流に一致させた場合には、延伸部
の基部で加熱されたガスが先端方向に流れて行くことに
なり、ピン状電極の冷却が不十分となる。
の基部で加熱されたガスが先端方向に流れて行くことに
なり、ピン状電極の冷却が不十分となる。
［発明の概要］
この発明の目的は、ピン状電極がガス流内で効果的に冷
Ｗされ、ガス流内で安定したグロー放電を行うことがで
きるガス放電装置用放電電極を提供することを目的とす
る。
Ｗされ、ガス流内で安定したグロー放電を行うことがで
きるガス放電装置用放電電極を提供することを目的とす
る。
上記目的を達成するために、この発明では、線材の先端
を略円形に巻き込んでカール部を形成し、該カール部か
ら所定の距離を延伸部に形成し、該延伸部の基部を略し
字状に折曲げて所定長さの支柱部を形成し、前記カール
部と前記延伸部と前記支柱部とで構成されるピン状電極
を、前記延伸部がガス流と直交するようにガス流内に配
設した。
を略円形に巻き込んでカール部を形成し、該カール部か
ら所定の距離を延伸部に形成し、該延伸部の基部を略し
字状に折曲げて所定長さの支柱部を形成し、前記カール
部と前記延伸部と前記支柱部とで構成されるピン状電極
を、前記延伸部がガス流と直交するようにガス流内に配
設した。
［発明の実施例］
第１図及び第２図に、この発明を実施した３軸直交型の
レーザ発振装置を示している。
レーザ発振装置を示している。
第１図に示すように、レーザ発振装置１は密ｎ状のレー
ザ容器３内に発振要素を内蔵して構成されている。容器
３の右側面には、電源線５と、レーザ媒質たる混合ガス
を注入するガス注入管７と、内部冷却用の冷却水配管９
とが接続されている。
ザ容器３内に発振要素を内蔵して構成されている。容器
３の右側面には、電源線５と、レーザ媒質たる混合ガス
を注入するガス注入管７と、内部冷却用の冷却水配管９
とが接続されている。
容器３の左側面にはレーザ出力窓１１が形成されている
。
。
第２図に示すように、容器３の内部上方には、多数のピ
ン状電極１３を備えた一対の放電電極１５Ｕ、、１５Ｄ
が上下に所定間隔を置いて円筒体３の長手方向に沿って
配設されている。下方の放電電極１５Ｄの下方には、図
において反時計方向に回転し容器３内にガス流Ａを作る
ブロワ−１７が設けられている。
ン状電極１３を備えた一対の放電電極１５Ｕ、、１５Ｄ
が上下に所定間隔を置いて円筒体３の長手方向に沿って
配設されている。下方の放電電極１５Ｄの下方には、図
において反時計方向に回転し容器３内にガス流Ａを作る
ブロワ−１７が設けられている。
ブロワ−１７と、放電電極１５Ｕ、１５Ｄが形成する放
電部空間Ｂとの間には、ガス冷却甲の熱交換３１９．２
１が設けられている。ブロワ−１７と、熱交換器１９．
２１と、放電電極１５Ｕ。
電部空間Ｂとの間には、ガス冷却甲の熱交換３１９．２
１が設けられている。ブロワ−１７と、熱交換器１９．
２１と、放電電極１５Ｕ。
１５Ｄとの間には円滑なガス流Ａを作るための流れ制御
板ＰＣＩ、ＦＣ２，ＦＣ３が適宜に設けられている。又
、容器３の内部両端には、＃開放電空間Ｂを介して一対
のフォールディングミラーＭが対向配設されている。
板ＰＣＩ、ＦＣ２，ＦＣ３が適宜に設けられている。又
、容器３の内部両端には、＃開放電空間Ｂを介して一対
のフォールディングミラーＭが対向配設されている。
第３図及び第４図に示すように、放７！ｌ！電極１５Ｕ
、１５Ｄは、千鳥状に配列された多数のピン状電極１３
を備えている。ピン状電極１３は線材の先端を略円形に
巻き込んでカール部１３Ａを形成し、該カール部１３Ａ
から所定の距離を延伸部１３Ｂとし、該延伸部１３Ｂの
基部を１字状に折曲げて所定長さの支柱部１３Ｃを形成
して構成されている。延伸部１３Ｂはガス流Ａと直交す
るよう基板２３上に植設されている。基板２３はセラミ
ックス製の絶縁基板２３Ａと、モールド部２３Ｂと、ｔ
！４製シールド板２３Ｇとで構成されている。
、１５Ｄは、千鳥状に配列された多数のピン状電極１３
を備えている。ピン状電極１３は線材の先端を略円形に
巻き込んでカール部１３Ａを形成し、該カール部１３Ａ
から所定の距離を延伸部１３Ｂとし、該延伸部１３Ｂの
基部を１字状に折曲げて所定長さの支柱部１３Ｃを形成
して構成されている。延伸部１３Ｂはガス流Ａと直交す
るよう基板２３上に植設されている。基板２３はセラミ
ックス製の絶縁基板２３Ａと、モールド部２３Ｂと、ｔ
！４製シールド板２３Ｇとで構成されている。
ピン状電極１３の支柱部１３Ｃは絶縁基板２３Ａｌ１通
し、その後端はモールド部２３Ｂ内でバラストコンデン
サ２５に接続されている。コンデンサ２５は前記電源線
５に接続されている。モールド部２３Ｂ内には冷却水配
管９が通されている。
し、その後端はモールド部２３Ｂ内でバラストコンデン
サ２５に接続されている。コンデンサ２５は前記電源線
５に接続されている。モールド部２３Ｂ内には冷却水配
管９が通されている。
冷却水配管９は、絶縁基板と近接されて配置され、絶縁
基板２３Ａが熱変形、特に、反りを生ずるのを防止する
。
基板２３Ａが熱変形、特に、反りを生ずるのを防止する
。
第５図に示したように、ピン状′ｉ！極１３はガス流を
受り、ガス流Ａ内に長さ吏の乱流Ｒを生ずることになる
。
受り、ガス流Ａ内に長さ吏の乱流Ｒを生ずることになる
。
ここに、ピン状Ｆｆ８ｉ１３の延伸部１３Ｂはガス流Ａ
と直交しているので、乱流長さ吏は相当短かいか、又は
、はとんどゼロとなる。
と直交しているので、乱流長さ吏は相当短かいか、又は
、はとんどゼロとなる。
因みに、第４図に示したピン状電極に左方向からガスが
与えられる場合には、乱流長さＬは延伸部長さにｌｌ１
３ｉして、又、カール部１３Ａが作る空洞２７に関連し
てＬ＞吏となる。もつとも、本例においても、粘性係数
をν、特徴的長さをａ１ガス密度をρ、ガス速度をＵ、
として与えられるレイノルズ数、 Ｒｅ■ρ拳Ｕφａ／ν を所定値、例えば５０以下としなくてはならない。
与えられる場合には、乱流長さＬは延伸部長さにｌｌ１
３ｉして、又、カール部１３Ａが作る空洞２７に関連し
てＬ＞吏となる。もつとも、本例においても、粘性係数
をν、特徴的長さをａ１ガス密度をρ、ガス速度をＵ、
として与えられるレイノルズ数、 Ｒｅ■ρ拳Ｕφａ／ν を所定値、例えば５０以下としなくてはならない。
従って、本例に示したピン状電極１３では、乱流長さ吏
が相当短かいものとなり、後続のピン状電極を近接配置
することが可能となる。
が相当短かいものとなり、後続のピン状電極を近接配置
することが可能となる。
又、本例に示したピン状電極１３は、カール部１３Ａ、
延伸部１３Ｂ１支柱部１３Ｇは、共に、ガス流へに対し
て直交配置しているので、ピン状７１１極１３は、ガス
流Ａによって一様に冷汗されることになる。囚みに、ピ
ン状Ｎ極１３の延伸部１３Ａをガス流に沿って配置する
場合には、延伸部１３Ｂの基部で加熱されたガスが延伸
部先端に向つて流れることになり、延伸部１３Ｂ及びカ
ール部１３Ａの冷却が不十分となる。
延伸部１３Ｂ１支柱部１３Ｇは、共に、ガス流へに対し
て直交配置しているので、ピン状７１１極１３は、ガス
流Ａによって一様に冷汗されることになる。囚みに、ピ
ン状Ｎ極１３の延伸部１３Ａをガス流に沿って配置する
場合には、延伸部１３Ｂの基部で加熱されたガスが延伸
部先端に向つて流れることになり、延伸部１３Ｂ及びカ
ール部１３Ａの冷却が不十分となる。
更に、本例に示した放電電極では、ピン状電極の配列を
千鳥状としたことにより、基板全面で均一な放電を行わ
せることが可能となる。
千鳥状としたことにより、基板全面で均一な放電を行わ
せることが可能となる。
以上により、ピン状電極１３は十分冷却されると共に良
い乱流を作ることがｈ＜、千鳥配列されたピン状電極で
、放ＩＦｉ電極１５Ｕ、１５Ｄは、均一に、安定したグ
ロー放電を行うことが可能となる。
い乱流を作ることがｈ＜、千鳥配列されたピン状電極で
、放ＩＦｉ電極１５Ｕ、１５Ｄは、均一に、安定したグ
ロー放電を行うことが可能となる。
第１図はこの発明を実施したレーザ発振装置の斜視図で
ある。 第２図は第１図の■−■矢視断面図である。 第３図はこの発明の一実施例を示す放電電極の斜視図で
ある。 第４図はピン状電極の構成を拡大して示す断面説明図で
ある。 第５図は第３図に示した下方の放電電極の一部を拡大し
て示す斜視説明図である。 １ レーザ発振状￥ ３レーザ容器 ＦＩＧ、２
ある。 第２図は第１図の■−■矢視断面図である。 第３図はこの発明の一実施例を示す放電電極の斜視図で
ある。 第４図はピン状電極の構成を拡大して示す断面説明図で
ある。 第５図は第３図に示した下方の放電電極の一部を拡大し
て示す斜視説明図である。 １ レーザ発振状￥ ３レーザ容器 ＦＩＧ、２
Claims (2)
- （１）線材の先端を略円形に巻き込んでカール部を形成
し、該カール部から所定の距離を延伸部に形成し、該延
伸部の基部を略Ｌ字状に折曲げて所定長さの支柱部を形
成し、前記カール部と前記延伸部と前記支柱部とで構成
されるピン状電極を、前記延伸部がガス流と直交するよ
うにガス流内に配設したことを特徴とするガス放電装置
用放電電極。 - （２）ピン状電極は、基板に対し、千鳥配列とされる特
許請求の範囲第１項に記載のガス放電装置用放電電極。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US841767 | 1986-03-20 | ||
| US06/841,767 US4698551A (en) | 1986-03-20 | 1986-03-20 | Discharge electrode for a gas discharge device |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62219982A true JPS62219982A (ja) | 1987-09-28 |
Family
ID=25285642
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62046912A Pending JPS62219982A (ja) | 1986-03-20 | 1987-03-03 | ガス放電装置用放電電極 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4698551A (ja) |
| JP (1) | JPS62219982A (ja) |
Families Citing this family (17)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6879103B1 (en) * | 1997-03-18 | 2005-04-12 | The Trustees Of The Stevens Institute Of Technology | Glow plasma discharge device |
| US5872426A (en) * | 1997-03-18 | 1999-02-16 | Stevens Institute Of Technology | Glow plasma discharge device having electrode covered with perforated dielectric |
| US6900592B2 (en) * | 1997-03-18 | 2005-05-31 | The Trustees Of The Stevens Institute Of Technology | Method and apparatus for stabilizing of the glow plasma discharges |
| US6147452A (en) * | 1997-03-18 | 2000-11-14 | The Trustees Of The Stevens Institute Of Technology | AC glow plasma discharge device having an electrode covered with apertured dielectric |
| EP1242810A1 (en) | 1999-12-15 | 2002-09-25 | Stevens Institute of Technology | Segmented electrode capillary discharge, non-thermal plasma apparatus and process for promoting chemical reactions |
| US7094322B1 (en) | 1999-12-15 | 2006-08-22 | Plasmasol Corporation Wall Township | Use of self-sustained atmospheric pressure plasma for the scattering and absorption of electromagnetic radiation |
| US6923890B2 (en) * | 1999-12-15 | 2005-08-02 | Plasmasol Corporation | Chemical processing using non-thermal discharge plasma |
| US7192553B2 (en) * | 1999-12-15 | 2007-03-20 | Plasmasol Corporation | In situ sterilization and decontamination system using a non-thermal plasma discharge |
| US6955794B2 (en) * | 1999-12-15 | 2005-10-18 | Plasmasol Corporation | Slot discharge non-thermal plasma apparatus and process for promoting chemical reaction |
| US7029636B2 (en) * | 1999-12-15 | 2006-04-18 | Plasmasol Corporation | Electrode discharge, non-thermal plasma device (reactor) for the pre-treatment of combustion air |
| EP1430501A2 (en) | 2001-07-02 | 2004-06-23 | Plasmasol Corporation | A novel electrode for use with atmospheric pressure plasma emitter apparatus and method for using the same |
| CA2463554A1 (en) * | 2001-11-02 | 2003-05-15 | Plasmasol Corporation | Non-thermal plasma slit discharge apparatus |
| JP2007518543A (ja) * | 2004-01-22 | 2007-07-12 | プラズマゾル・コーポレイション | モジュール式滅菌システム |
| WO2005070017A2 (en) * | 2004-01-22 | 2005-08-04 | Plasmasol Corporation | Capillary-in-ring electrode gas discharge generator for producing a weakly ionized gas and method for using the same |
| US20070048176A1 (en) * | 2005-08-31 | 2007-03-01 | Plasmasol Corporation | Sterilizing and recharging apparatus for batteries, battery packs and battery powered devices |
| US7804879B2 (en) * | 2006-05-23 | 2010-09-28 | Coherent, Inc. | Gas laser electrodes shaped in the longitudinal axis |
| US20080180031A1 (en) * | 2007-01-19 | 2008-07-31 | Spellman High Voltage Electronics Corporation | Device for remediation of gaseous and aerosol streams |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CH378425A (de) * | 1959-12-09 | 1964-06-15 | Elesta Ag Elektronische Steuer | Glimmentladungszählröhre |
| US4320322A (en) * | 1980-03-24 | 1982-03-16 | Gte Products Corporation | Electrode geometry to improve arc stability |
| US4342115A (en) * | 1980-10-06 | 1982-07-27 | United Technologies Corporation | Laser discharge electrode configuration |
-
1986
- 1986-03-20 US US06/841,767 patent/US4698551A/en not_active Expired - Fee Related
-
1987
- 1987-03-03 JP JP62046912A patent/JPS62219982A/ja active Pending
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US4698551A (en) | 1987-10-06 |
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