JPS62230970A - マグネトロンスパツタ装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （イ）産業上の利用分野 本発明はマグネトロンスパッタ装置に関する。

（ロ）従来の技術 従来から成膜技術の一つとして、マグネトロンスパッタ
装置が広く用いられている。このｙ＆置は、第２図の如
く、アルゴンガスの存する真空チャンバの中で、膜が付
されるべき基板２に対向してターゲット板３が設けられ
、このターゲット板の背面ｌｌ１ｌＩ（反基板ｎｔｑ　
＞に永久磁石５が配されたものであ′　る。そして、基
板２とターゲット板３との間に電圧がかけられている。

また、永久磁′ｒｉ５は、ｉ３図の如く、円柱磁石５ａ
の回りに間隔を存して同心に円環磁石５ｂが配置された
ものである。

そして、円柱磁石５ａのターデツ）Ｉｌｌｑ端面をＮ極
、円環磁石５　ｂのそれをＳ極とすれば、第２図示の如
く、磁力線は中心Ｎ極から周囲ｓｌ＋二至る。

従って、磁力線の折り返し点において、アルゴンイオン
は、矢示Ｂの如く、円環磁石の半径方向外側へ向く磁場
と同時に、矢示Ｅの如くターゲット板と垂直に向かう電
場に曝されることになる。そのため、７レミングの左手
の法則に上り、アルゴンイオンには磁場とＴＬ場との両
方向に垂直な方向に力が加わる。そして、結局のところ
、ドーナツ状の空間内にアルゴンイオンが集まることに
なる。

このようにして集まったアルゴンイオンがターゲット板
３に衝突して原子をはじき出すので、ターデツ）［３の
表面は円環状に？２食され、いわゆる線状蒸発源が生成
される。

また、マグネトロンスパッタ装置で１よ、限られた頭載
にアルゴンイオンが集められるので、全体としてのアル
ゴンイオンの個数が少なかつても、つまり、アルゴンガ
スの圧力が低かつても、スパッタ作用が充分に行なわれ
る。それ故に従来の装置て゛は、アルゴンゲスの圧力が
（出＜保たれていた。゛（ハ）発明が解決しようとする
問題、α）肖記の如く、従来の装置では線状の蒸発源と
低圧力の２つの理由によ−って、基板表面・＼の“つき
まわり（ステップカバレーノ）″が悪い。ここで、ｈｒ
−仮炙面にある凹凸の山の頂上と谷底のターゲット板・
８表面に平行な面１こ生成されｒこ膜の厚さを１、クー
プツト板の表面に垂直な而（凹凸の側面）に生成された
膜の厚さをビとすれば、ピ／ｌの値が“つきまわり”と
呼ぼｊしる。

そして、線状蒸発源では、原子が飛び出してくるのはタ
ーデラミ板の全面がζ）ではな（、限られた領域のみか
らであるので、凹凸の側面に到達する）！；（丁は少な
くなっている。まｒこ、圧力が低い場訃はアルゴンイオ
ンの数が少ないので、ターゲット板から飛び出した原子
はアルゴンイオンに衝突せずに基板表面に到達するが、
或は、衝突してもその回数が少ない。従って、ターゲッ
ト板から飛び出した原子の進行方向が変わる回数が少な
く、結局、凹凸の側面に至る原子が少な（なる。これら
の理由がら“つきよりり１が悪くなる。

従って、本発明の目的は、“つきまわり”の良好なマグ
ネトロンスパッタ装置を提供することを目的とする。

（ニ）問題点を解決するための手段 前記目的を達成するため、本発明の（１η或は次の如（
である。即ち、ターゲット板の裏側に内、蔵されている
永久磁石を、前記ターゲット板の面に平行な面内で移動
させる駆動はｔｌｔが設けられたことである。

（ホ）作　用 永久磁石がｆｆｉ！ｌ１ＪＪ＋茂枯によって、ターゲッ
ト板の面に平行な面内で移動せられ、これによってｙ−
ゲット板の表面には面状蒸発源が生成され、“つきまわ
り”が良くなる。

（へ）実施例 次に本発明の一実施例を図面にもとづき説明する。

真空チャンバＣ内で、基板ホルダ１が鉛直面に展延して
立設され、その表面には被膜を付されるべき基板２が取
付けられている。基板２に対し間隔を存して対向するタ
ーデットハヮノング４の一！ＩＩＩ　ｌｌ１ｉにはター
デラミ板３が基板２に対し間隔を存して対向して取ｆ・
１けられている。また、ターグツ１ハウノング・ｔの内
部で前記ターゲット板３の裏面側には永久磁石５が設け
られている。

また、磁石５の文面には、磁石の中心輪線がＣ）偏芯し
た位置に、回転柚６が取付けられ、この軸の部端はハフ
ノング・［の璧を貫通してハウゾング４の外側・＼突出
している。そしてこの突出端には伝動歯１１１９を介し
てモータ７が接続されている。

従って、そ−タ７を回転させれば、伝動歯１７１９をπ
して回転軸６が回転し、磁石５は偏心回転し、クープツ
ト板３の表面には面状蒸発源が生成される、 なお、ターゲット板３が円形でない場合には、回転軸９
と磁石５とをカムまたはゼネバ等の運動変換磯構を介し
て連結することにより、磁石５を揺動または平行往復運
動をさせてもよい。

（ト）発明の効果 本発明は以上の如く、永久磁石がターゲット板の面と平
行な面内で移動ｒるので、ターゲット板の表面には面状
蒸発源が生成され、これによって基板・＼の“つきまわ
り”が向上することとなった。

【図面の簡単な説明】

ｍ１１２１は本発明の一実施例を示す水平断面図、ｆｊ
Ｓ２図は従来技術の水平断面図、第３図は永久磁石の斜
ン見図である。 ２・・・基板、３・・・ターゲット板、５・・・永久磁
石、６・・・回転軸、７・・・モータ、８・・・真空チ
ャンバ代理人　　弁理士　西教　圭一部 代理人　　弁理士　大館　新　平 代理人　　弁理士　百聞　壬生弥 第１図 第２図 第３図

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. ターゲット板の裏側に内蔵されている永久磁石を、前記
   ターゲット板の面に平行な面内で移動させる駆動機構が
   設けられたことを特徴とするマグネトロンスパッタ装置
   。