JPS62242199A - 低温液化ガス流下装置 - Google Patents
低温液化ガス流下装置Info
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- JPS62242199A JPS62242199A JP8478586A JP8478586A JPS62242199A JP S62242199 A JPS62242199 A JP S62242199A JP 8478586 A JP8478586 A JP 8478586A JP 8478586 A JP8478586 A JP 8478586A JP S62242199 A JPS62242199 A JP S62242199A
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- liquefied gas
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- drive
- temperature liquefied
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- Pending
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-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B65—CONVEYING; PACKING; STORING; HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL
- B65B—MACHINES, APPARATUS OR DEVICES FOR, OR METHODS OF, PACKAGING ARTICLES OR MATERIALS; UNPACKING
- B65B31/00—Packaging articles or materials under special atmospheric or gaseous conditions; Adding propellants to aerosol containers
- B65B31/006—Adding fluids for preventing deformation of filled and closed containers or wrappers
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Dispersion Chemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Vacuum Packaging (AREA)
- Filling Or Discharging Of Gas Storage Vessels (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
■ −上のl
この発明は、果実飲料、コーヒー飲料缶等に用いられる
アルミニウム或はスチール缶に内容物を充填した後、液
体窒素を缶内に一定量滴下して所定の内圧を生じさせる
ために使用されたり、精密理科学実験に用いられる各種
化学物質、薬品類を不活性ガスと共に封入する場合にも
使用されうる低温液化ガス流下装置に関するものである
。
アルミニウム或はスチール缶に内容物を充填した後、液
体窒素を缶内に一定量滴下して所定の内圧を生じさせる
ために使用されたり、精密理科学実験に用いられる各種
化学物質、薬品類を不活性ガスと共に封入する場合にも
使用されうる低温液化ガス流下装置に関するものである
。
1従来■肢歪
近年、アルミニウム或はスチール類の缶は缶素材節約の
目的から缶胴壁が著しく薄<加工されている。したがっ
て、外圧によって容易に変形し易い欠点があり、この欠
点を解消するために缶内に、例えば液体窒素を充填して
缶内の圧力を高める手段がとられ、缶内に液体窒素を供
給する装置として液化ガス流下装置が開発された。
目的から缶胴壁が著しく薄<加工されている。したがっ
て、外圧によって容易に変形し易い欠点があり、この欠
点を解消するために缶内に、例えば液体窒素を充填して
缶内の圧力を高める手段がとられ、缶内に液体窒素を供
給する装置として液化ガス流下装置が開発された。
従来の低温液化ガス流下装置の一実施例を第6図および
第7図に示す。第6図に示す従来の低温液化ガス流下装
置は、容器本体50の上部にフランジ板51、下部に底
面板52がボルト等で取り付けられている。そして、フ
ランジ板51の上面中央にはソレノイドバルブ54が固
設され、このソレノイドバルブ54の下方には弁杆55
が垂設され、かつ弁杆55の下端にはノズル孔57に係
脱自在に係合する弁体56が付設されている。そして、
このような装置においてはソレノイドバブル54を作動
せしめ、弁杆55並びに弁体56を上下方向に作動させ
ることにより、ノズル孔57と弁体56とを当接或は離
間させることによりノズル孔57を開閉するものである
。すなわち、弁杆55並びに弁体56がソレノイドバル
ブ54により上昇せしめられ、弁体56とノズル孔57
とが離間されている間に、容器本体50内の液体窒素が
化58内に滴下されるものである。
第7図に示す。第6図に示す従来の低温液化ガス流下装
置は、容器本体50の上部にフランジ板51、下部に底
面板52がボルト等で取り付けられている。そして、フ
ランジ板51の上面中央にはソレノイドバルブ54が固
設され、このソレノイドバルブ54の下方には弁杆55
が垂設され、かつ弁杆55の下端にはノズル孔57に係
脱自在に係合する弁体56が付設されている。そして、
このような装置においてはソレノイドバブル54を作動
せしめ、弁杆55並びに弁体56を上下方向に作動させ
ることにより、ノズル孔57と弁体56とを当接或は離
間させることによりノズル孔57を開閉するものである
。すなわち、弁杆55並びに弁体56がソレノイドバル
ブ54により上昇せしめられ、弁体56とノズル孔57
とが離間されている間に、容器本体50内の液体窒素が
化58内に滴下されるものである。
又、第7図に示す従来の低温液化ガス流下装置は、容器
本体60内底面に固定盤61をボトル等で固設し、この
固定盤61の上面に回転盤62の下面を接触させて回転
させるものである。回転盤62はモータ(図示せず)に
連結された軸63により回転され、この回転盤62には
、複数の導入孔62aが穿設されている。一方、固定盤
61にはノズル孔64に連通ずる排出孔61aが穿設さ
れている。そして、このような装置においていは回転盤
62の導入孔62aと固定盤61の排出孔61aが合致
した時に、導入孔62a内の液体窒素が排出孔61aを
通じて缶65に供給されるものである。
本体60内底面に固定盤61をボトル等で固設し、この
固定盤61の上面に回転盤62の下面を接触させて回転
させるものである。回転盤62はモータ(図示せず)に
連結された軸63により回転され、この回転盤62には
、複数の導入孔62aが穿設されている。一方、固定盤
61にはノズル孔64に連通ずる排出孔61aが穿設さ
れている。そして、このような装置においていは回転盤
62の導入孔62aと固定盤61の排出孔61aが合致
した時に、導入孔62a内の液体窒素が排出孔61aを
通じて缶65に供給されるものである。
■ ■がゞ しようとするロ 占
しかしながら、このような従来の低温液化ガス流下装置
においては、以下に示す問題点があった。
においては、以下に示す問題点があった。
第6図に示す装置の場合は、容器本体50内の液体窒素
の液面変化と内圧の変化によりノズル孔57の圧力が変
化し、滴下量に変動をもたらすと共に、ソレノイドバル
ブ54の作動が非常に高速かつ短時間に切り換わるため
、弁体56近傍の液体窒素の流れが大きく乱れる。そし
て、これらの要因のため液体窒素の滴下量に著しい変動
がもたらされるという問題点があった。さらに、ソレノ
イドバルブ54の作動時間の不規則性が、これに拍車を
かけていた。
の液面変化と内圧の変化によりノズル孔57の圧力が変
化し、滴下量に変動をもたらすと共に、ソレノイドバル
ブ54の作動が非常に高速かつ短時間に切り換わるため
、弁体56近傍の液体窒素の流れが大きく乱れる。そし
て、これらの要因のため液体窒素の滴下量に著しい変動
がもたらされるという問題点があった。さらに、ソレノ
イドバルブ54の作動時間の不規則性が、これに拍車を
かけていた。
第7図に示す装置の場合は、回転盤62の回転速度を変
えることによって液体窒素の滴下量を微tJ節すること
ができるが、滴下量を大きく変えるためには、導入孔6
2aの孔径および肉厚の大きい別の回転盤62に取り換
えなければならず頗る面倒であった。
えることによって液体窒素の滴下量を微tJ節すること
ができるが、滴下量を大きく変えるためには、導入孔6
2aの孔径および肉厚の大きい別の回転盤62に取り換
えなければならず頗る面倒であった。
この発明は、このような従来の問題点に着目してなされ
たもので、常に一定量の液体窒素を缶に供給でき、かつ
どんな大きさの缶65にも迅速かつ簡単に液体窒素の供
給量を対応させて滴下できる低温液化ガス流下装置を提
供することを目的とするものである。
たもので、常に一定量の液体窒素を缶に供給でき、かつ
どんな大きさの缶65にも迅速かつ簡単に液体窒素の供
給量を対応させて滴下できる低温液化ガス流下装置を提
供することを目的とするものである。
■−を”するための
この目的を達成するため、この発明は低温液化ガス貯槽
1より供給される低温液化ガスを液体2および気化ガス
3の状態で収容すると共に、該液体2の液位を一定に保
つ液位制御系Aを備えた容器において、該容器本体4内
底面4aに回転自在に枢支される回転盤5と、該回転盤
5の排出孔5aに突出部6aを摺動自在に挿入して回転
盤5を回転する駆動盤6と、該駆動盤6を主軸6Cを介
して回転する駆動装置7と、該駆動盤6の上面に当接し
、かつ容器本体4内の気化ガス3をガス通路9aから駆
動盤6の導入孔6bに供給して前記液体2を滴下せしめ
る加圧パイプ9とから成り、駆動盤6の主軸6C上方に
は、前記導入孔6bおよび排出孔5aの液体収納容積を
自由に変え得る調整装置10が付設されていることを特
徴とするものであり、その実施態様として前記駆動盤6
の下面には、該駆動盤6を上方にバネ付勢するバネ体1
1が内装されたものであり、又前記駆動盤6の上面には
、円形状の凹所12に残留する気化ガス3を抜くための
複数のガス抜き孔13が穿設されたことを特徴とするも
のである。
1より供給される低温液化ガスを液体2および気化ガス
3の状態で収容すると共に、該液体2の液位を一定に保
つ液位制御系Aを備えた容器において、該容器本体4内
底面4aに回転自在に枢支される回転盤5と、該回転盤
5の排出孔5aに突出部6aを摺動自在に挿入して回転
盤5を回転する駆動盤6と、該駆動盤6を主軸6Cを介
して回転する駆動装置7と、該駆動盤6の上面に当接し
、かつ容器本体4内の気化ガス3をガス通路9aから駆
動盤6の導入孔6bに供給して前記液体2を滴下せしめ
る加圧パイプ9とから成り、駆動盤6の主軸6C上方に
は、前記導入孔6bおよび排出孔5aの液体収納容積を
自由に変え得る調整装置10が付設されていることを特
徴とするものであり、その実施態様として前記駆動盤6
の下面には、該駆動盤6を上方にバネ付勢するバネ体1
1が内装されたものであり、又前記駆動盤6の上面には
、円形状の凹所12に残留する気化ガス3を抜くための
複数のガス抜き孔13が穿設されたことを特徴とするも
のである。
少虞訓B(社)を度
以上のような構成をもった、この発明の作用について説
明する。第1図および第4図に示すように、駆動盤6の
突出部6aが回転盤5の排出孔5aに挿入されているか
ら、駆動盤6が駆動装置7により回転されると、回転盤
5は同時に軸5Cを中心に回転する。そして、駆動盤6
の突出部6aに穿設された導入孔6bおよび回転盤5の
排出孔5aがノズル孔4bと一致した時に液体窒素が化
8内に確実に滴下される。又駆動盤6を回転する主軸6
Cの上端に設けられた調整装置10の作動により駆動盤
6が上下方向に自由自在に移動する。
明する。第1図および第4図に示すように、駆動盤6の
突出部6aが回転盤5の排出孔5aに挿入されているか
ら、駆動盤6が駆動装置7により回転されると、回転盤
5は同時に軸5Cを中心に回転する。そして、駆動盤6
の突出部6aに穿設された導入孔6bおよび回転盤5の
排出孔5aがノズル孔4bと一致した時に液体窒素が化
8内に確実に滴下される。又駆動盤6を回転する主軸6
Cの上端に設けられた調整装置10の作動により駆動盤
6が上下方向に自由自在に移動する。
すなわち、主軸6Cおよび駆動盤6がバネ体11に抗し
て押し下げられると排出孔5aの高さH。
て押し下げられると排出孔5aの高さH。
は以前より小さくなるので、化8内に滴下される液体窒
素の量は減少する。又、主軸6Cおよび駆動盤6がハネ
体11によって押し上げられると、排出孔5aの高さi
(2は以前より大きくなるので、化8内に滴下される液
体窒素の量は増加する。このように、この発明に係る装
置においては、化8内に充填される液体窒素の滴下量を
簡単かつ迅速に増減させることができるので、あらゆる
大きさの缶8への窒素充填が早急にできる。さらに、こ
の発明では駆動盤6と回転盤5との間に形成される円形
状の凹所12内に液体窒素が侵入し、沸騰する虞れがあ
るが、この沸騰により発生する窒素ガスを外部に逃がす
ための、複数のガス抜き孔13を駆動盤6の天面に穿設
したから、凹所I2内の気化ガスに押圧されて液体窒素
が突出部6aと排出孔5aとの間隙を伝いノズル孔4b
を経て缶8に突発的に流出するのを防止することができ
る。
素の量は減少する。又、主軸6Cおよび駆動盤6がハネ
体11によって押し上げられると、排出孔5aの高さi
(2は以前より大きくなるので、化8内に滴下される液
体窒素の量は増加する。このように、この発明に係る装
置においては、化8内に充填される液体窒素の滴下量を
簡単かつ迅速に増減させることができるので、あらゆる
大きさの缶8への窒素充填が早急にできる。さらに、こ
の発明では駆動盤6と回転盤5との間に形成される円形
状の凹所12内に液体窒素が侵入し、沸騰する虞れがあ
るが、この沸騰により発生する窒素ガスを外部に逃がす
ための、複数のガス抜き孔13を駆動盤6の天面に穿設
したから、凹所I2内の気化ガスに押圧されて液体窒素
が突出部6aと排出孔5aとの間隙を伝いノズル孔4b
を経て缶8に突発的に流出するのを防止することができ
る。
次に、第5図により、この発明に係る低温液化ガス流下
装置の各制御系の作用について説明すると、液位制御系
Aは容器本体4内の液体窒素の液位をレベルセンサー2
1によって検出し、このレベルセンサー21の送信をコ
ントローラ20が検知し、供給管18の電磁弁19を適
宜に開閉して容器本体4内の液体窒素の量を制御する。
装置の各制御系の作用について説明すると、液位制御系
Aは容器本体4内の液体窒素の液位をレベルセンサー2
1によって検出し、このレベルセンサー21の送信をコ
ントローラ20が検知し、供給管18の電磁弁19を適
宜に開閉して容器本体4内の液体窒素の量を制御する。
これにより、容器本体4内には液体窒素が常に一定量だ
け貯留するようにされている。又、容器本体4内のガス
圧は減圧制御系Bにより常に一定になるように制御され
ている。すなわち、容器本体4内の気化ガス3のガス圧
が一定圧以上になると、排出管15に付設されている減
圧弁16が開放されて容器本体4内の圧力が外方に放出
される。
け貯留するようにされている。又、容器本体4内のガス
圧は減圧制御系Bにより常に一定になるように制御され
ている。すなわち、容器本体4内の気化ガス3のガス圧
が一定圧以上になると、排出管15に付設されている減
圧弁16が開放されて容器本体4内の圧力が外方に放出
される。
亜大犯■
次に、この発明を図面に基づいて説明する。
第1図〜第5図は、この発明の一実施例を示す図面であ
る。第1図において4は、低温液化ガス貯槽より供給さ
れる低温液体ガス(実施例においては液体窒素)を液体
2および気化ガス3の状態で収容する容器本体である。
る。第1図において4は、低温液化ガス貯槽より供給さ
れる低温液体ガス(実施例においては液体窒素)を液体
2および気化ガス3の状態で収容する容器本体である。
この容器本体4内底面の中心位置には、底面に軸5cを
有する回転盤5が回転自在に設けられている。この回転
盤5には、第3図に示すように軸5cから一定の半径方
向に排出孔5aが穿設されている。実施例では3O″間
隔で12個の排出孔5aが穿設されているが、数につい
ては液体窒素の滴下量に対応させて任意に設定できる。
有する回転盤5が回転自在に設けられている。この回転
盤5には、第3図に示すように軸5cから一定の半径方
向に排出孔5aが穿設されている。実施例では3O″間
隔で12個の排出孔5aが穿設されているが、数につい
ては液体窒素の滴下量に対応させて任意に設定できる。
又回転盤5の上方には駆動盤6が設けられており、この
駆動盤6の突出部6aは回転盤5の排出孔5aに上下動
自在に挿入されている。したがって、駆動盤6と回転盤
5は嵌合状態で一体となって軸5cを中心に回転する。
駆動盤6の突出部6aは回転盤5の排出孔5aに上下動
自在に挿入されている。したがって、駆動盤6と回転盤
5は嵌合状態で一体となって軸5cを中心に回転する。
なお、この駆動盤6に突設された突出部6aは実施例で
は30”間隔で12個設けられているが、数については
回転盤5に対応させて任意に設定できる。突出部6aに
は、液体窒素を貯留するための導入孔6bが穿設されて
いる。導入孔6bの直径をDlとすると面積は+πD1
′、駆動盤6の高さを■]い排出孔5aの直径をD2と
すると面積は+π02”、その高さH2とすると液体窒
素の貯留量は+πD、zxH,+−1−πD、zxH,
となる(第1図、第4図)。又、駆動盤6を上昇するた
めにバネ体11の一端が駆動盤6の内周面に当接され、
駆動盤6が上昇するようにバネ付勢されている。他方、
このハネ体11の他端は回転盤5に形成された凹部5b
内に収納されている。なお、この駆動盤6の天面には複
数のガス抜き孔13が穿設されている。第4図は軸6d
の下面にバネ体11が付勢された第1図の他の実施例を
示す図面である。
は30”間隔で12個設けられているが、数については
回転盤5に対応させて任意に設定できる。突出部6aに
は、液体窒素を貯留するための導入孔6bが穿設されて
いる。導入孔6bの直径をDlとすると面積は+πD1
′、駆動盤6の高さを■]い排出孔5aの直径をD2と
すると面積は+π02”、その高さH2とすると液体窒
素の貯留量は+πD、zxH,+−1−πD、zxH,
となる(第1図、第4図)。又、駆動盤6を上昇するた
めにバネ体11の一端が駆動盤6の内周面に当接され、
駆動盤6が上昇するようにバネ付勢されている。他方、
このハネ体11の他端は回転盤5に形成された凹部5b
内に収納されている。なお、この駆動盤6の天面には複
数のガス抜き孔13が穿設されている。第4図は軸6d
の下面にバネ体11が付勢された第1図の他の実施例を
示す図面である。
次に駆動装置7について説明する。
駆動装置7は、駆動盤6の主軸6Cの上部に固設された
歯車7a、7bに連結するモータ(図示せず)から構成
されている。そして、このモータ(図示せず)の駆動に
より駆動盤6および回転盤5が一体となって回転される
。
歯車7a、7bに連結するモータ(図示せず)から構成
されている。そして、このモータ(図示せず)の駆動に
より駆動盤6および回転盤5が一体となって回転される
。
さらに、この駆動盤6の上面には加圧パイプ9が当接さ
れている。この加圧パイプ9にはガス通路9aおよび開
口9bが穿設され、気化ガス3は開口9bから流入し、
ガス通路9aを通り、導入孔6bおよび排出孔5a内の
液体窒素を缶8内へその圧力で押し出して滴下する。実
施例では、気化ガスの圧力は200mmAq程度である
。なお、加圧パイプ9の底面および駆動盤6の上面の少
なくとも一方には、摩耗を防止するためのセラミックコ
ーティングが施されている。
れている。この加圧パイプ9にはガス通路9aおよび開
口9bが穿設され、気化ガス3は開口9bから流入し、
ガス通路9aを通り、導入孔6bおよび排出孔5a内の
液体窒素を缶8内へその圧力で押し出して滴下する。実
施例では、気化ガスの圧力は200mmAq程度である
。なお、加圧パイプ9の底面および駆動盤6の上面の少
なくとも一方には、摩耗を防止するためのセラミックコ
ーティングが施されている。
次に調整装置10について説明する。
調整装置10は駆動盤6を上下動するための装置である
。主軸6cの上端にはスラストベアリング10aが設け
られ、このスラストベアリング10aの上部には回転板
10bが設けられている。この回転板10b上面の凹部
には支持台10fに支持された調整ネジ10cの先端部
が当接され、さらにこの調整ネジ10cはカサ歯車10
dを介してサーボモータ10eに連結されている。した
がって、サーボモータ10eを作動して調整ネジ10c
を左或は右に回転することにより主軸6cおよび駆動盤
6を上下方向に移動調整できる。なお、スラストベアリ
ング10aの介在により主軸6Cは駆動装置7からの回
転駆動に関係なく上下方向に容易に移動する。又面圧調
整装置14は駆動盤6を上下方向に変位させた場合に、
これに同調させて加圧パイプ9を上下方向に移動させる
ための装置である。この加圧パイプ9の上端にはバネ体
14aが内装され、バネ体14aの上部には押圧板14
bが被冠され、さらにこの押圧板14bの上には、支持
台14fに支持された調整ネジ14Cが@置されている
。さらに、このネジ14cはカサ歯車14dを介してサ
ーボモータ14eに連結されている。したがって、サー
ボモータ14eを作動して調整ネジ14cを左或は右に
回転することにより加圧パイプ9を上下方向に移動調整
することができ、加圧パイプ9底面の駆動盤6への面圧
調整が可能となる。
。主軸6cの上端にはスラストベアリング10aが設け
られ、このスラストベアリング10aの上部には回転板
10bが設けられている。この回転板10b上面の凹部
には支持台10fに支持された調整ネジ10cの先端部
が当接され、さらにこの調整ネジ10cはカサ歯車10
dを介してサーボモータ10eに連結されている。した
がって、サーボモータ10eを作動して調整ネジ10c
を左或は右に回転することにより主軸6cおよび駆動盤
6を上下方向に移動調整できる。なお、スラストベアリ
ング10aの介在により主軸6Cは駆動装置7からの回
転駆動に関係なく上下方向に容易に移動する。又面圧調
整装置14は駆動盤6を上下方向に変位させた場合に、
これに同調させて加圧パイプ9を上下方向に移動させる
ための装置である。この加圧パイプ9の上端にはバネ体
14aが内装され、バネ体14aの上部には押圧板14
bが被冠され、さらにこの押圧板14bの上には、支持
台14fに支持された調整ネジ14Cが@置されている
。さらに、このネジ14cはカサ歯車14dを介してサ
ーボモータ14eに連結されている。したがって、サー
ボモータ14eを作動して調整ネジ14cを左或は右に
回転することにより加圧パイプ9を上下方向に移動調整
することができ、加圧パイプ9底面の駆動盤6への面圧
調整が可能となる。
さらに、この発明は第5図に示すように、レベルセンサ
ー21、コントローラ20および電磁弁19とから構成
される液位制御系Aおよび容器本体4のフランジ部4c
から排出管15を経て減圧弁16に連結される減圧制御
系Bによって制御されている。
ー21、コントローラ20および電磁弁19とから構成
される液位制御系Aおよび容器本体4のフランジ部4c
から排出管15を経て減圧弁16に連結される減圧制御
系Bによって制御されている。
々鎗り医
以上説明してきたように、この発明によれば従来の装置
のように回転盤を取り替える手間が省け、かつ液体窒素
の滴下量の大幅な増減にも迅速かつ簡単に対応すること
ができる。特に、この発明に係る装置においては、液体
窒素の液面変化、容器本体の内圧の変化、バルブの不均
一な作動などの影響を全く受けないので、滴下する液体
窒素の定量化が頗る容易である。
のように回転盤を取り替える手間が省け、かつ液体窒素
の滴下量の大幅な増減にも迅速かつ簡単に対応すること
ができる。特に、この発明に係る装置においては、液体
窒素の液面変化、容器本体の内圧の変化、バルブの不均
一な作動などの影響を全く受けないので、滴下する液体
窒素の定量化が頗る容易である。
第1図〜第5図は、この発明に係る低温液化ガス流下装
置の一実施例を示す図面であり、第1図は低温液化ガス
流下装置を示した断面図、第2図は第1図のA−A線端
面図、第3図は第1図のB−B線端面図、第4図は低温
液化ガス流下装置の他の実施例を示した断面図、第5図
は低温液化ガス流下装置の制御系を示した図面、第6図
および第7図は従来の低温液化ガス流下装置を示した図
面である。 1・・・低温液化ガス貯槽 2・・・液体 3・・・気
化ガス4・・・容器本体 5・・・回転盤 5a・
・・排出孔6・・・駆動盤 6a・・・突出部 6
b・・・導入孔6C・・・主軸 7・・・駆動装置
9・・・加圧パイプ9a・・・ガス通路 10・・・
調整装置 11・・・バネ体12・・・凹所 13
・・・ガス抜き孔 A・・・液位制御系大陽酸素株式会
社
置の一実施例を示す図面であり、第1図は低温液化ガス
流下装置を示した断面図、第2図は第1図のA−A線端
面図、第3図は第1図のB−B線端面図、第4図は低温
液化ガス流下装置の他の実施例を示した断面図、第5図
は低温液化ガス流下装置の制御系を示した図面、第6図
および第7図は従来の低温液化ガス流下装置を示した図
面である。 1・・・低温液化ガス貯槽 2・・・液体 3・・・気
化ガス4・・・容器本体 5・・・回転盤 5a・
・・排出孔6・・・駆動盤 6a・・・突出部 6
b・・・導入孔6C・・・主軸 7・・・駆動装置
9・・・加圧パイプ9a・・・ガス通路 10・・・
調整装置 11・・・バネ体12・・・凹所 13
・・・ガス抜き孔 A・・・液位制御系大陽酸素株式会
社
Claims (3)
- (1)低温液化ガス貯槽より供給される低温液化ガスを
液体および気化ガスの状態で収容すると共に、該液体の
液位を一定に保つ液位制御系を備えた容器において、 該容器本体内底面に回転自在に枢支される回転盤と、該
回転盤の排出孔に突出部を摺動自在に挿入して回転盤を
回転する駆動盤と、該駆動盤を主軸を介して回転する駆
動装置と、該駆動盤の上面に当接し、かつ容器本体内の
気化ガスをガス通路から駆動盤の導入孔に供給して前記
液体を滴下せしめる加圧パイプとから成り、駆動盤の主
軸上方には、前記導入孔および排出孔の液体収納容積を
自由に変え得る調整装置が付設されていることを特徴と
する低温液化ガス流下装置。 - (2)前記駆動盤の下面には、該駆動盤を上方にバネ付
勢するバネ体が内装されたことを特徴とする特許請求の
範囲第1項記載の低温液化ガス流下装置。 - (3)前記駆動盤の上面には、円形状の凹所に残留する
気化ガスを抜くための複数のガス抜き孔が穿設されてい
ることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の低温液
化ガス流下装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8478586A JPS62242199A (ja) | 1986-04-11 | 1986-04-11 | 低温液化ガス流下装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8478586A JPS62242199A (ja) | 1986-04-11 | 1986-04-11 | 低温液化ガス流下装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62242199A true JPS62242199A (ja) | 1987-10-22 |
Family
ID=13840351
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8478586A Pending JPS62242199A (ja) | 1986-04-11 | 1986-04-11 | 低温液化ガス流下装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62242199A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2011111161A (ja) * | 2009-11-24 | 2011-06-09 | Ctc:Kk | 液体滴下装置 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5833439A (ja) * | 1981-05-29 | 1983-02-26 | マンネスマン・アクチエンゲゼルシヤフト | プラスチツク被覆鋼管上に着色標識線条を作る方法と装置 |
-
1986
- 1986-04-11 JP JP8478586A patent/JPS62242199A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5833439A (ja) * | 1981-05-29 | 1983-02-26 | マンネスマン・アクチエンゲゼルシヤフト | プラスチツク被覆鋼管上に着色標識線条を作る方法と装置 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2011111161A (ja) * | 2009-11-24 | 2011-06-09 | Ctc:Kk | 液体滴下装置 |
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