JPS62249458A - 半導体装置 - Google Patents

半導体装置

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JPS62249458A
JPS62249458A JP61092175A JP9217586A JPS62249458A JP S62249458 A JPS62249458 A JP S62249458A JP 61092175 A JP61092175 A JP 61092175A JP 9217586 A JP9217586 A JP 9217586A JP S62249458 A JPS62249458 A JP S62249458A
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JP
Japan
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gel
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JP61092175A
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Inventor
Koji Emata
江俣 孝司
Hiroshi Tate
宏 舘
Takayuki Okinaga
隆幸 沖永
Masayuki Shirai
優之 白井
Kanji Otsuka
寛治 大塚
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Hitachi Ltd
Hitachi Solutions Technology Ltd
Original Assignee
Hitachi ULSI Engineering Corp
Hitachi Ltd
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    • H10W76/40Fillings or auxiliary members in containers, e.g. centering rings
    • H10W76/42Fillings
    • H10W76/47Solid or gel fillings
    • HELECTRICITY
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  • Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は半導体装置に関し、特に、シリコーン系ゲルに
より半導体素子を封止して成る半導体装置のスペーサ一
部およびキャップ部の改良並びに耐湿性の向上技術に関
する。
〔従来の技術〕
本発明者等は、先に、半導体素子をシリコーン系ゲルに
より封止して成る半導体装置を提案した。
この装置の一例は、その裏面から外部接続ピンが垂直方
向に引出されたペース上に半導体素子を固着し、ワイヤ
ボンディング後、当該ベース上に投げられたダムにより
区画されたエリア内に、シリコーン系ゲル材をボッティ
ングし、ベークにして、当該ゲルを形成し、このゲル(
より半導体素子を封止して成る。
このゲルは湿分な水分子として透過するだけで、水膜を
形成しないので、耐湿性ある半導体装置となすことがで
きるが、柔軟であるため、半導体素子の機械的損傷をさ
ける等から、ダム上にキャップを取付けして成る。
一方、かかる従来のアキシャルピングリットアレイタイ
プの半導体装置では、実装時にプリント基板から浮かせ
て、洗浄(性)を良くするなどの目的から、その外部接
続ビンにスペーサーと称される例えばリング状の補助具
を取付けることが行われている。
このように、従来例ではスペーサーの取付けなどの煩雑
な工程を要するなどの難点があった。なお、シリコーン
系ゲルにより半導体素子を封止する技術については、先
に本出願人より提出された%願昭59−222187、
%願昭59−199619などがある。
〔発明か解決しようとする問題点〕
本発明は半導体装置をプリント基板などの実装基板に実
装するときに、当該装置が当該基板から一定の高さを保
持できるスペーサーを殊更に取付ける必要がない技術を
提供することを目的とする。
本発明は、また、シリコーン系ゲルで封止して成る半導
体装置において、従来の装置に比してより一層耐湿性を
向上し得る技術を提供することを目的とする。
本発明の前記ならびにそのほかの目的と新規な特徴は1
本明細書の記述および添付図面からあきらかになるであ
ろう。
〔問題点を解決するための手段〕
本願において開示される発明のうち代表的なものの概要
を簡単に説明すれば、下記のとおりである。
すなわち、本発明では、前記のごとき半導体装置におけ
るキャップにおいて、従来のダムを一体化したキャップ
とするとともに、キャップ裏面に該キャップを支持する
2本の支持体を立設して該支持体によりペース上にキャ
ップを支持し、これら支持体間に封止材を充填し、さら
に、キャップの端部なペース下面より突出させた。これ
により、キャップ端部の突出によりスペーサー効果をも
たせることができまた、支持体間の封止材により、より
一層封止の信頼性を向上させることができ、さらに、当
該支持体によりダムとしての役割を果させることもでき
た。
〔実施例〕
次に、本発明を、図面に示す実施例に基づき説明する。
第1図は本発明による半導体装置の実施例を示す要部断
面図、第2図は同全体断面図、第3図は当該装置の平面
図、第4図は同底面図である。
これら図にて、1はペース、2は外部接続ビン、3は半
導体素子、4はコネクタワイヤ、5はキャップ、6はシ
リコーン系ゲルである。
ペース1は、例えばガラスエポキシ基板に!り構成され
、該ペース1の裏面からは多数の外部接続ビン2が垂設
されている。ペースlの表面からは、該接続ビンのヘッ
ド部7が突出している。ペース1には図示されていない
が、導体パターンを有する。
ペース1上に半導体素子3をシリコーン系接着剤などに
より固着する。
第1図における、半導体素子3は、例えばシリコン単結
晶基板から成り、周知の技術によって、この半導体素子
(チップ)内には多数の回路素子が形成され、1つの回
路機能を与えている。回路素子は、例えばCMO8から
成り、これらの回路素子によって1例えば論理回路およ
びメモリの回路機能が形成されている。
半導体素子3のボンディング電極(図示せず)と前記ペ
ース1表面の導体パターンを、例えばAu線よりなるコ
ネクタワイヤ4により、周知の超音波ワイヤボンディン
グ法などによりワイヤボンディングする。
かかる結線により、当該素子3内の内部配線が外部に取
出され、電気的導通がとられる。かかるワイヤボンディ
ング後に、半導体素子3、コネクタワイヤ4、外部接続
ビン2のヘッド部7を被覆するように、シリコーン系ゲ
ル6を形成するゲル材をボッティングする。
本発明に使用されるシリコーン系ゲル(ゲル材)6とし
ては、従来エレクトロニクスあるいはオプティカルファ
イバー用シリコーンコーディング剤として市販されてい
たものを使用でき、例えばシリコーンゲルはICメモリ
ーのソフトエラ一対策用として用いられていた。本発明
はこれを封止材料として使用せんとするものである。
ゲルは、その加熱硬化前はリキッド状態であり、1液タ
イプ、2液タイプがあり、例えば主剤と硬化剤とから2
液タイプのゲル材の場合、これらを混合すると反応硬化
(架橋反応)し、硬化物(ゲル)を得る。
硬化システムとしては次の反応式で示す様に、縮金型、
付加型、紫外勝硬化型がある。
縮合型 一8i−+ROH Cat:5n−Ti系触媒 R:例えばアルキル基(以下同じ) 付加型 紫外線硬化型 硬化物を得るに、加熱(ベータ)するとゴム化が進む。
本発明に使用されるシリコーン系ゲル6はシリコーンゴ
ムやシリコーンオイルと異なり架橋密度の低いものであ
る。
例えば架橋密度の大小からみるとゴムが架橋密度が一番
大で、その下がゲル、さらに、その下がオイルというこ
とになる。
架橋密度は一般に針入度計を用いて測定され、針入度計
についてはJ I SK2808に規定され、それに使
用される針についてはASTMD1321に規格がある
針入・度からみて、一般に、ゲルは4.0〜20.0寵
の範囲、オイルは20.0m以上であり、ゲルの硬化反
応の促進によりゴム化が起こり、ゴムと称されているも
のは一般に針入度4.0 wt以下である。
本発明に使用されるシリコーン系ゲル6には前記の如く
、市販のものが使用され、例えば信越化学工業社製KJ
R9010、X−35−100東レシリコーン社製JC
R611Qなどが使用できる。
上記X−35−100[A(主剤)、B(硬化剤)2液
タイプ、針入度10u+]の硬化反応機構は白金付加型
で、2液低温高温用ゲルで一75〜250Cの温度範囲
で使用できる。
ゲル材の流れ止めに、ベース1上に垂設した二つの支持
体8.9のうち半導体素子3に近い側の支持体8を使用
することができる。
この支持体8の内側をシリコーン系グ/l/6により封
止し、さらに、両支持体8.9の間にシリコーン系ゲル
6を充填すると、封止性が向上する。
外側の支持体9の外側ベース1上にシリコーンゴム接着
剤10を塗布しておく。
両支持体8,9間のシリコーン系ゲル6に代えてシリコ
ーンゴム接着剤を充填してもよく、内側の支持体8内部
にシリコーン系ゲル6が塗布され、さらに、このように
、シリコーンゴム接着剤が充填(塗布)されていること
により、耐湿性を向上させることができる。
キャップ5を支持体8.9上に載置する。
キャップ5は天井部11から直角方向に延在部12を有
し、さらに、該延在部12から延在したスペーサ一部1
3を有する。
キャップ5は、外側の支持体9の外側ベース上に塗布さ
れたシリコーンゴム接着剤10により、ベース1に取付
けすることができる。
スペーサ一部13は、ベース1の裏面から適宜長さで突
出している。スペーサ一部13は例えば第3図、第4図
のキャップのコーナ部のみに設けられてもよい。キャッ
プ5や支持体8.9は、例えば合成樹脂により構成され
る。
このように、キャップ5自体にスペーサ一部13を設け
ることにより、殊更にスペーサーを外部接続ピン2に取
付ける工程を省略できる。
また、半導体素子3’!’コネクタワイヤ4はシリコー
ン系ゲル6により被覆され、このゲA/6は耐湿性に富
むので、耐湿性に富んだ半導体装置が得られるが、さら
に、支持体8と支持体9の間にシリコーン系ゲル6を入
れると、キャップ5とベース1間から、水分などの、半
導体素子3に害を与える、有害物質が侵入してきてもこ
の両支持体8゜9間のシリコーン系ゲルの存在6により
、耐湿性が確保され、かかる二重シールにより、耐湿性
を従来に比してより一層向上させることができる。
その際、シリコーン系ゲル6により、半導体素子3のみ
ならず、コネクタワイヤ4や外部接続ピン2のヘッド部
7にも当該シリコーン系ゲル6を被覆しているので、よ
り一層耐湿性を向上させることができろ。
シリコーンゴム接着剤10により、支持体8゜9をベー
ス1上に立設しておくことにより、当該支持体8,9を
シリコーン系ゲル6の液状ゲル材の流れ止め(ダム)に
も使用できる。
以上本発明者によってなされた発明を実施例にもとづき
具体的に説明したが、本発明は上記実施例に限定される
ものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で梅々変史可
能であることはいうまでもない。
以上の説明では主として本発明者によってなされた発明
をその背景となった利用分野であるピングリッドアレイ
タイプの半導体パッケージに適用した場合について説明
したが、7リコーンゲルを使用する他のタイプの半導体
パッケージにも適用できる。
〔発明の効果〕
本願において開示される発明のうち代表的なものによっ
て得られる効果を簡単に説明すれば、下記のとおりであ
る。
すなわち、本発明によれば、スペーサーを殊更に取付け
る必要がなく、また、耐湿性を向上させることができた
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明による半導体装置の実施例を示す要部拡
大断面図、 第2図は同全体断11¥i因、 第3図は本発明による半導体装置の実施例を示す平面図
、 第4図は同底面図である。 1・・・ベース、2・・・外部接続ピン、3・・・半導
体素子、4・・・コネクタワイヤ、5・・・キャップ、
6・・・シリコーン系ゲル、7・・・外部接続ピンのヘ
ッド部、8・・・支持体、9・・・支持体、1o・パシ
リコーンゴム接着剤、11・・・キャップ天井部、12
・・・キャップ延在部、13・・・スペーサ一部。 第  1  図 第  2  図

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、裏面に外部接続端子が設けられたベースと、かかる
    ベース上に固着された半導体素子と、該素子を覆うゲル
    剤と、上記ベースの側面に係合する端部と上記ベースの
    表面に対する高さを規定する技持部とを持ちシール材に
    より上記ベースに接着されてなるキャップとを備えた半
    導体装置。 2、上記キャップは、更に、上記ベースの裏面から突出
    するスペーサ部を持っていることを特徴とする特許請求
    の範囲第1項記載の半導体装置。 3、キャップが樹脂製である特許請求の範囲第1項又は
    第2項記載の半導体装置。
JP61092175A 1986-04-23 1986-04-23 半導体装置 Pending JPS62249458A (ja)

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