JPS62250010A - ポリエチレンの製造方法 - Google Patents
ポリエチレンの製造方法Info
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- JPS62250010A JPS62250010A JP9552586A JP9552586A JPS62250010A JP S62250010 A JPS62250010 A JP S62250010A JP 9552586 A JP9552586 A JP 9552586A JP 9552586 A JP9552586 A JP 9552586A JP S62250010 A JPS62250010 A JP S62250010A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［発明の技術分野］
本発明は配位子化合物系触媒を用いた所定の物性を有す
るポリエチレンの製造方法に関し、特にポリエチレンの
物性に関与するパラメータをセンサーおよびガスクロマ
トグラフィによって検知し、その検知信号をコンピュー
タにより演算制御して所定の物性をもつポリエチレンを
製造する方法に係わる。
るポリエチレンの製造方法に関し、特にポリエチレンの
物性に関与するパラメータをセンサーおよびガスクロマ
トグラフィによって検知し、その検知信号をコンピュー
タにより演算制御して所定の物性をもつポリエチレンを
製造する方法に係わる。
［発明の技術的背景］
ポリエチレンの製造において、工業的には連続法により
、所定温度に保たれた重合反応器内で所定の生成速度に
より、所定の規格即ち所定の物性のポリエチレンが生成
するように運転されることが一般的には望ましい。
、所定温度に保たれた重合反応器内で所定の生成速度に
より、所定の規格即ち所定の物性のポリエチレンが生成
するように運転されることが一般的には望ましい。
配位子化合物系触媒を用いてポリエチレンを製造する際
に、制御すべき生成ポリエチレンの物性は種々あり、中
でも溶融流れ指数（以下、ＭＦＲと称す。）および密度
が最も重要な因子である。
に、制御すべき生成ポリエチレンの物性は種々あり、中
でも溶融流れ指数（以下、ＭＦＲと称す。）および密度
が最も重要な因子である。
このＶＦＲおよび密度（Ｉ〕）はポリエチレンの分子量
の目安で、ポリエチレンの用途によって適宜設定化され
、需要者がポリエチレンの銘柄を選択する上で重要なイ
ンデックスである。
の目安で、ポリエチレンの用途によって適宜設定化され
、需要者がポリエチレンの銘柄を選択する上で重要なイ
ンデックスである。
通常、ポリエチレンの製造は連続重合法により、所定温
度に保たれた重合反応器内に所定量の触媒、所定量のエ
チレン、所定量の水素ガスを供給して、所定の物性、し
たがって所定規格のポリエチレンが生成するように運転
される。
度に保たれた重合反応器内に所定量の触媒、所定量のエ
チレン、所定量の水素ガスを供給して、所定の物性、し
たがって所定規格のポリエチレンが生成するように運転
される。
前述の所定量の触媒、所定量のエチレン、所定量の水素
ガスを供給することは反応系を所定の状態に保つための
方法であるが、実際は供給量を所定の量とするだけでは
反応系を所定の状態に保つのは無理である。例えば、触
媒の微細な変化、活性の低下などによってエチレン濃度
が上昇して、生成するポリエチレンのＶＦＲが低下する
。このような理由の判然としない微細な外乱は多い。こ
の外乱によって、所定のＭＦＲあるいは密度の範囲を越
えるポリエチレンが製造された場合、規格外品として処
分される。したがって、この損失を防ぐために、従来は
りアクタ−よりサンプリングした重合体試料をＭＦＲ計
並びに密度勾配管により分析して、生成重合体のＭＦＲ
および密度のデータを得、その値に応じて水素供給弁、
エチレンの供給弁の操作を指示するという技法が用いら
れていた。しかしながら、この方法は、分析に時間がか
かり（ＭＦＲ１時間、密度３時間）、その時間分の遅れ
によって対応が遅れ格外品がふえるという難点があり、
更に、測定に係る装置、人員が必要とされた。
ガスを供給することは反応系を所定の状態に保つための
方法であるが、実際は供給量を所定の量とするだけでは
反応系を所定の状態に保つのは無理である。例えば、触
媒の微細な変化、活性の低下などによってエチレン濃度
が上昇して、生成するポリエチレンのＶＦＲが低下する
。このような理由の判然としない微細な外乱は多い。こ
の外乱によって、所定のＭＦＲあるいは密度の範囲を越
えるポリエチレンが製造された場合、規格外品として処
分される。したがって、この損失を防ぐために、従来は
りアクタ−よりサンプリングした重合体試料をＭＦＲ計
並びに密度勾配管により分析して、生成重合体のＭＦＲ
および密度のデータを得、その値に応じて水素供給弁、
エチレンの供給弁の操作を指示するという技法が用いら
れていた。しかしながら、この方法は、分析に時間がか
かり（ＭＦＲ１時間、密度３時間）、その時間分の遅れ
によって対応が遅れ格外品がふえるという難点があり、
更に、測定に係る装置、人員が必要とされた。
したがって、直接反応系内を監視する方法が提案されて
いるが、重合反応器からサンプル採取に敗るまでに重合
が生じて反応系内の状態を正確に把握できない（米国特
許第３８３５１０６号）などの難点がある。
いるが、重合反応器からサンプル採取に敗るまでに重合
が生じて反応系内の状態を正確に把握できない（米国特
許第３８３５１０６号）などの難点がある。
なお、反応系内を監視し、その圧力を測定して最終製品
であるエチレン共重合体の組成を均質化する技術も知ら
れているが（米国特許第３６９１１４２号）、所望の物
性、特に、ＭＦＲおよび（または）密度を有するポリエ
チレンを製造するのに好適な技法ではない。
であるエチレン共重合体の組成を均質化する技術も知ら
れているが（米国特許第３６９１１４２号）、所望の物
性、特に、ＭＦＲおよび（または）密度を有するポリエ
チレンを製造するのに好適な技法ではない。
更に、反応系内の水素及びエチレン濃度を監視し、これ
にコンピュータによる監視制御システムを導入し、供給
水素量、供給エチレン量等を制御する方法が提案されて
いるが（米国特許第４４６９８５３号、特公昭６０−２
８２８５号）、最近開発された線状低密度ポリエチレン
のように共重合するコモノマー量の反応率が低く、コモ
ノマーを多量に且つリサイクルして用いる生産システム
においては物性コントロールが難しく、単に水素とエチ
レン濃度の制御では所定の物性のポリオレフィンを得る
ことは難しい。
にコンピュータによる監視制御システムを導入し、供給
水素量、供給エチレン量等を制御する方法が提案されて
いるが（米国特許第４４６９８５３号、特公昭６０−２
８２８５号）、最近開発された線状低密度ポリエチレン
のように共重合するコモノマー量の反応率が低く、コモ
ノマーを多量に且つリサイクルして用いる生産システム
においては物性コントロールが難しく、単に水素とエチ
レン濃度の制御では所定の物性のポリオレフィンを得る
ことは難しい。
［発明の目的］
本発明はこのような従来の難点に鑑みなされたもので、
配位子化合物系および水素の存在下にエチレンおよび必
要に応じコモノマーを重合して所定のＶＦＲおよび密度
を有するポリエチレンを製造するにあたり反応系の物性
をコンピュータにより推定計算することにより安定した
所定のＶＦＲおよび密度を有するポリエチレンを製造す
る方法を提供することである。
配位子化合物系および水素の存在下にエチレンおよび必
要に応じコモノマーを重合して所定のＶＦＲおよび密度
を有するポリエチレンを製造するにあたり反応系の物性
をコンピュータにより推定計算することにより安定した
所定のＶＦＲおよび密度を有するポリエチレンを製造す
る方法を提供することである。
［発明の概要］
このような目的を達成するため、本発明者らは運転条件
が同一であれば、製品の物性（ＭＦＲ１密度）も同一で
あるということを前提に、運転データ、すなわち反応系
内の水素とエチレンの比率、温度、コモノマー量触媒濃
度などがらＶＦＲ及び密度を推算する計算式を作成し、
この計算式に基き３１算するシステム及びプログラムを
開発した。
が同一であれば、製品の物性（ＭＦＲ１密度）も同一で
あるということを前提に、運転データ、すなわち反応系
内の水素とエチレンの比率、温度、コモノマー量触媒濃
度などがらＶＦＲ及び密度を推算する計算式を作成し、
この計算式に基き３１算するシステム及びプログラムを
開発した。
我々が経験的に見い出した計算式は次式で表わされる。
ｉ）コモノマーがない時、
ＭＦＲ＝ｈｘ（［ｏ、 ］ ／ ［ｃ、 ］ ）’刈Ｔ
）ｂＸ（ＣＡＴ）’ −−−−−（１）Ｄ＝に’ Ｘ（
［Ｈ２］ ／ ［Ｃ２］ ）” Ｘ（Ｔ）” Ｘ（ＣＡ
Ｔ）ｃ”・（ＩＩ）ｉｊ）コモノマーがある時、 ＭＦＲ＝ｋＸ（［Ｈ２］ ／ ［Ｃ２］）ａＸ（Ｔ）ｂ
Ｘ（ＣＡＴ）ＣＸ ｅｘｐ（ｄＸ ［Ｃｘｌ ／ ［Ｃ
９］ ） ・”・・（ＩＩ）Ｄ”ｋ’ Ｘ（［
Ｈ２］ ／ ［Ｃ２］ ）” Ｘ（１’）”Ｘ（
ＣＡＴ）”Ｘ ｅｘｐ（ｄ’ ［Ｃｘｌ ／ ［Ｃ３］
・・・・・（ＩＶ）但し、杭、ａ、 ｂ
、 ｃ、 ｄ、 ｋ′、ａ′、ｂ′、ｃ′、ｄ’は各運
転条件により経験的に求められた定数。
）ｂＸ（ＣＡＴ）’ −−−−−（１）Ｄ＝に’ Ｘ（
［Ｈ２］ ／ ［Ｃ２］ ）” Ｘ（Ｔ）” Ｘ（ＣＡ
Ｔ）ｃ”・（ＩＩ）ｉｊ）コモノマーがある時、 ＭＦＲ＝ｋＸ（［Ｈ２］ ／ ［Ｃ２］）ａＸ（Ｔ）ｂ
Ｘ（ＣＡＴ）ＣＸ ｅｘｐ（ｄＸ ［Ｃｘｌ ／ ［Ｃ
９］ ） ・”・・（ＩＩ）Ｄ”ｋ’ Ｘ（［
Ｈ２］ ／ ［Ｃ２］ ）” Ｘ（１’）”Ｘ（
ＣＡＴ）”Ｘ ｅｘｐ（ｄ’ ［Ｃｘｌ ／ ［Ｃ３］
・・・・・（ＩＶ）但し、杭、ａ、 ｂ
、 ｃ、 ｄ、 ｋ′、ａ′、ｂ′、ｃ′、ｄ’は各運
転条件により経験的に求められた定数。
［Ｈ２］ ／ ［Ｃ２］は液相中の水素およびエエチレ
ンのモル比、 ［Ｃｘｌ ／ ＥＣ２］は液相中のコモノマーおよびエ
チレンのモル比、 Ｔは反応器内温度（℃） ＣＡＴは触媒濃度（ｍ ｍｏｌ／ Ｑ−溶媒）ここでコ
モノマーとは、エチレンと共重合され＝７− る小割合のオレフィンを意味し、具体的にはプロピレン
＜Ｃ，、）、ブテン（Ｃ４）およびメチルペンタン（Ｃ
ｓ）が用いられる。
ンのモル比、 ［Ｃｘｌ ／ ＥＣ２］は液相中のコモノマーおよびエ
チレンのモル比、 Ｔは反応器内温度（℃） ＣＡＴは触媒濃度（ｍ ｍｏｌ／ Ｑ−溶媒）ここでコ
モノマーとは、エチレンと共重合され＝７− る小割合のオレフィンを意味し、具体的にはプロピレン
＜Ｃ，、）、ブテン（Ｃ４）およびメチルペンタン（Ｃ
ｓ）が用いられる。
コモノマーの使用割合は、モノマーであるエチレンに対
して３０モル％以下、好ましくは１０モル％以下である
ことが好ましい。本発明のポリエチレンの製造に使用さ
れる配位子化合物系触媒は、通常（ａ）Ｍｅｎｄｅｌｅ
ｌｊｅｆｆの周期律表■ないし■族の遷移金属の化合物
と、（ｂ）周期率表第１ないし■族の有機金属化合物ま
たは水素化合物を主成分とする触媒である。特に好まし
くは、チタンまたはバナジウムのハロゲン化合物と、ア
ルミニウムの有機金属化合物を主成分とする触媒を挙げ
ることができる。上記成分（ａ）および（または）（ｂ
）が担体に担持されていてもよく、電子供与体等の変性
剤で処理されていてもよい。
して３０モル％以下、好ましくは１０モル％以下である
ことが好ましい。本発明のポリエチレンの製造に使用さ
れる配位子化合物系触媒は、通常（ａ）Ｍｅｎｄｅｌｅ
ｌｊｅｆｆの周期律表■ないし■族の遷移金属の化合物
と、（ｂ）周期率表第１ないし■族の有機金属化合物ま
たは水素化合物を主成分とする触媒である。特に好まし
くは、チタンまたはバナジウムのハロゲン化合物と、ア
ルミニウムの有機金属化合物を主成分とする触媒を挙げ
ることができる。上記成分（ａ）および（または）（ｂ
）が担体に担持されていてもよく、電子供与体等の変性
剤で処理されていてもよい。
このような配位子化合物系触媒としては１例えば米国特
許第３２５７３３２号、米国特許第３８２６７９２号、
米国特許第３１１３１１５号、米国特許第３５４６１３
３号、米国特許第４１２５６９８号、米国特許第４０７
１６７２号、米国特許第４０７１６７４号、米国特許第
３６４２７４６号、米国特許第３０５１６９０号、米国
特許第３０５８９６３号、および英国特許第１１４０６
４９号に記載された触媒を使用することができる。
許第３２５７３３２号、米国特許第３８２６７９２号、
米国特許第３１１３１１５号、米国特許第３５４６１３
３号、米国特許第４１２５６９８号、米国特許第４０７
１６７２号、米国特許第４０７１６７４号、米国特許第
３６４２７４６号、米国特許第３０５１６９０号、米国
特許第３０５８９６３号、および英国特許第１１４０６
４９号に記載された触媒を使用することができる。
エチレンの重合に当って使用される触媒の使用量は、一
般に重合溶剤ＩＱ当りチタン原子に換算して０．Ｏｌな
いし０．８ミリモルとする。
般に重合溶剤ＩＱ当りチタン原子に換算して０．Ｏｌな
いし０．８ミリモルとする。
本発明の触媒を使用してのエチレン重合反応は通常の配
位子化合物系触媒によるエチレンの重合反応と同様にし
て行なわれ得る。即ち、反応はすべて実質的に酸素、水
などを絶った状態で行なわれる。適当な不活性溶媒、例
えばプロパン、ブタン、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン
、灯油などの脂肪族炭化水素が使用され、この中に触媒
およびエチレン、必要に応じて更にコモノマーを送入し
て重合が進められる。エチレンの重合に際し重合温度は
通常５０ないし９０℃が採用される。重合は加圧下に進
められるのが好ましく、１ないし１０ｋｇ／ｃｄで行な
うのが一般的である。
位子化合物系触媒によるエチレンの重合反応と同様にし
て行なわれ得る。即ち、反応はすべて実質的に酸素、水
などを絶った状態で行なわれる。適当な不活性溶媒、例
えばプロパン、ブタン、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン
、灯油などの脂肪族炭化水素が使用され、この中に触媒
およびエチレン、必要に応じて更にコモノマーを送入し
て重合が進められる。エチレンの重合に際し重合温度は
通常５０ないし９０℃が採用される。重合は加圧下に進
められるのが好ましく、１ないし１０ｋｇ／ｃｄで行な
うのが一般的である。
ＩＯ−
［発明の実施例］
以下、図面を参照して本発明の好ましい実施例を詳述す
る。
る。
図面は本発明のポリエチレンの製造方法を実施したブロ
ック図を示し、重合反応器ｌには重合反応器への水素ガ
スを供給する水素供給ライン２、エチレンを供給するエ
チレン供給ライン３、コモノマーを供給するコモノマー
供給ライン４、溶媒であるヘキサンを供給する溶媒供給
ライン５、触媒を供給する触媒供給うイン６および重合
反応器ｌから生成物であるポリエチレンを取り出す出口
ライン７がそれぞれ設けられる。
ック図を示し、重合反応器ｌには重合反応器への水素ガ
スを供給する水素供給ライン２、エチレンを供給するエ
チレン供給ライン３、コモノマーを供給するコモノマー
供給ライン４、溶媒であるヘキサンを供給する溶媒供給
ライン５、触媒を供給する触媒供給うイン６および重合
反応器ｌから生成物であるポリエチレンを取り出す出口
ライン７がそれぞれ設けられる。
そして水素供給ライン２には水素供給量を制御する制御
弁２ａが、エチレン供給ライン３にはエチレン供給量を
制御する制御弁３ａがコモノマー供給うイン４にはコモ
ノマー供給量を制御する制御弁４ａが、溶媒供給ライン
５には溶媒供給量を制御する制御弁５ａが、触媒供給ラ
イン６には触媒供給量を制御する制御弁６ａがそれぞれ
設けられており、このうち水素供給弁２ａ、エチレン供
給弁３ａ、及びコモノマー供給弁４ａは後述するコンピ
ュータからの制御信号により、所定のＭＦＲのポリエチ
レンを生成するようにエチレン濃度、水素カス濃度およ
びコモノマー量を変更すべくその開度が制御される。
弁２ａが、エチレン供給ライン３にはエチレン供給量を
制御する制御弁３ａがコモノマー供給うイン４にはコモ
ノマー供給量を制御する制御弁４ａが、溶媒供給ライン
５には溶媒供給量を制御する制御弁５ａが、触媒供給ラ
イン６には触媒供給量を制御する制御弁６ａがそれぞれ
設けられており、このうち水素供給弁２ａ、エチレン供
給弁３ａ、及びコモノマー供給弁４ａは後述するコンピ
ュータからの制御信号により、所定のＭＦＲのポリエチ
レンを生成するようにエチレン濃度、水素カス濃度およ
びコモノマー量を変更すべくその開度が制御される。
重合反応器ｌにはサンプリングライン８が設けられてお
り、サンプリングライン８に導入された試料は反応熱を
系から除去するための熱交換器９とアキュムレーターｌ
Ｏを経て気相と液相に分離され、各々、反応器１にリサ
イクルされる。熱交換器９はその出口の温度が５０〜３
０℃の範囲のある定められた値に自動的に調整され、試
料を気相と液相とに分離する。分離された気相及び液相
（固形分を含む）はアキュムレーター１０から重合反応
器１にリサイクルライン１１及び１２を経て戻される。
り、サンプリングライン８に導入された試料は反応熱を
系から除去するための熱交換器９とアキュムレーターｌ
Ｏを経て気相と液相に分離され、各々、反応器１にリサ
イクルされる。熱交換器９はその出口の温度が５０〜３
０℃の範囲のある定められた値に自動的に調整され、試
料を気相と液相とに分離する。分離された気相及び液相
（固形分を含む）はアキュムレーター１０から重合反応
器１にリサイクルライン１１及び１２を経て戻される。
気相はリサイクルライン１１の途中でカスクロマトグラ
フィ１３及び１３′に導びかれ、ガスクロマトグラフィ
１３で水素ガス濃度、エチレン濃度がガスクロマトグラ
フィ１３′でコモノマー濃度が測定される。
フィ１３及び１３′に導びかれ、ガスクロマトグラフィ
１３で水素ガス濃度、エチレン濃度がガスクロマトグラ
フィ１３′でコモノマー濃度が測定される。
コモノマー中炭素数６のメチルペンタンは液相からライ
ン１１′及び気化器を経てコモノマー用のガスクロマト
グラフィ１３’で測定される。
ン１１′及び気化器を経てコモノマー用のガスクロマト
グラフィ１３’で測定される。
ガスクロマトグラフィとしてはそれがオレフィンを検出
するまでの時間（保持時間）が重合反応器内で反応物の
滞留時間以下である如く設定された高速ガスクロマトグ
ラフィを使用する（オレフィン検知時間ＩＯ分以下、好
ましくは５秒ないし１分のガスクロマトグラフィ）。ガ
スクロマトグラフィ１３で測定した水素ガス濃度および
オレフィン濃度に基づく測定成分信号がコンピュータ１
４に入力される。
するまでの時間（保持時間）が重合反応器内で反応物の
滞留時間以下である如く設定された高速ガスクロマトグ
ラフィを使用する（オレフィン検知時間ＩＯ分以下、好
ましくは５秒ないし１分のガスクロマトグラフィ）。ガ
スクロマトグラフィ１３で測定した水素ガス濃度および
オレフィン濃度に基づく測定成分信号がコンピュータ１
４に入力される。
重合反応器ｌにはセンサーとしての圧力測定装置１５及
び温度計１６が設けられており、それぞれの測定値は電
気信号としてコンピュータ１４に入力される。測定値を
電気信号として出力する圧力測定装置１５として、具体
的には発信器型圧力ｎ１、温度計１６として熱電対式温
度側が挙げられる。次に、コンピュータ１４による推算
システムについて説明する。
び温度計１６が設けられており、それぞれの測定値は電
気信号としてコンピュータ１４に入力される。測定値を
電気信号として出力する圧力測定装置１５として、具体
的には発信器型圧力ｎ１、温度計１６として熱電対式温
度側が挙げられる。次に、コンピュータ１４による推算
システムについて説明する。
コンピュータ１４は演算部１１７、演算部■１８、制御
部１１９、制御部［２０から成り、ます、演算部１１４
でガスクロマトグラフィ１１からの測定成分信号及び圧
力と温度の測定信号を基に液相中の水素とエチレンのモ
ル比［８２］ ／ ［Ｃ２］、およびコモノマーとエチ
レンのモル比［Ｃｘ］ ／［Ｃ２１を推算する。次いで
、演算部［１Ｂで供給溶媒量と供給触媒量とから計算し
た触媒濃度ＣＡ′ｒ、重合反応器内温度Ｔ及び先に推算
した水素とエチレンのモル比［Ｈ２］ ／ ［Ｃ２］及
びコモノマーとエチレンのモル比［Ｃｘ］ ／ ＥＣ２
］を基に、予めブロクラムされている推算式に基き、Ｍ
ＦＲ及び密度を推算する。推算値は表示装置２１に例え
ば１分周期にグラフ表示されると共に、プリンター２２
によりプリントアウトされ、更に記憶装置２３内に格納
される。
部１１９、制御部［２０から成り、ます、演算部１１４
でガスクロマトグラフィ１１からの測定成分信号及び圧
力と温度の測定信号を基に液相中の水素とエチレンのモ
ル比［８２］ ／ ［Ｃ２］、およびコモノマーとエチ
レンのモル比［Ｃｘ］ ／［Ｃ２１を推算する。次いで
、演算部［１Ｂで供給溶媒量と供給触媒量とから計算し
た触媒濃度ＣＡ′ｒ、重合反応器内温度Ｔ及び先に推算
した水素とエチレンのモル比［Ｈ２］ ／ ［Ｃ２］及
びコモノマーとエチレンのモル比［Ｃｘ］ ／ ＥＣ２
］を基に、予めブロクラムされている推算式に基き、Ｍ
ＦＲ及び密度を推算する。推算値は表示装置２１に例え
ば１分周期にグラフ表示されると共に、プリンター２２
によりプリントアウトされ、更に記憶装置２３内に格納
される。
ＶＦＲと密度の推算値は制御部Ｉ２０において予め設定
された溶融流れ指数ＭＦＲおよび密度を示す基準設定値
と対比され、両者が合致するように［Ｌ ］ ／ ［Ｃ
２］値の目標値及び［Ｃｘｌ ／ ＥＣ，ｌコ値の目標
値が設定され、制御部■１７に入力されろ。制御部１１
１７は設定された［）Ｉ、］ ／ ［Ｃ２］値の目標値
及び［Ｃｘｌ ／ ［Ｃ２］値の目標値と、先に演算部
１１７で推算したモル比の推算値とを比較し、両者の差
異に応じた信号を出力する。この信号に基き、電流／空
気圧コンバータ、あるいはマニュアルで、水素供給弁２
ａ、エチレン供給弁３ａおよびコモノマー供給弁４ａを
それぞれ操作する。
された溶融流れ指数ＭＦＲおよび密度を示す基準設定値
と対比され、両者が合致するように［Ｌ ］ ／ ［Ｃ
２］値の目標値及び［Ｃｘｌ ／ ＥＣ，ｌコ値の目標
値が設定され、制御部■１７に入力されろ。制御部１１
１７は設定された［）Ｉ、］ ／ ［Ｃ２］値の目標値
及び［Ｃｘｌ ／ ［Ｃ２］値の目標値と、先に演算部
１１７で推算したモル比の推算値とを比較し、両者の差
異に応じた信号を出力する。この信号に基き、電流／空
気圧コンバータ、あるいはマニュアルで、水素供給弁２
ａ、エチレン供給弁３ａおよびコモノマー供給弁４ａを
それぞれ操作する。
下記に示す表−１は本発明の方法により生産した代表５
銘柄の推算ＶＦＲ及び密度と、分析により得たＭＦＲ及
び密度との比較、昨位生産量当りの分析回数ならびにオ
フ品（格外品）生成量を示すもので、分析値との差はＭ
ＦＲで１０％、密度で０．２％と実用範囲内であった。
銘柄の推算ＶＦＲ及び密度と、分析により得たＭＦＲ及
び密度との比較、昨位生産量当りの分析回数ならびにオ
フ品（格外品）生成量を示すもので、分析値との差はＭ
ＦＲで１０％、密度で０．２％と実用範囲内であった。
表−２は、従来のＶＦＲ及び密度の分析によって上記銘
柄を生産した時の結果で１本発明の方法に比べ、分析回
数、オフ品発生量はともに著しく多い。
柄を生産した時の結果で１本発明の方法に比べ、分析回
数、オフ品発生量はともに著しく多い。
（表−１）
（表−２）
一１５＝
［発明の効果］
以上説明したように本発明によるポリエチレンの製法は
、運転データに基き、現在生成している製品のＭＦＲ及
び密度を随時、推定計算し、それに基き、水素、エチレ
ン及びコモノマーの供給量を制御しているので、格外品
の生成を極力少なくし、所定物性のポリエチレンが製造
でき、殊に物性コントロールの難しい線状低密度ポリエ
チレンを製造する技法として好適のものである。
、運転データに基き、現在生成している製品のＭＦＲ及
び密度を随時、推定計算し、それに基き、水素、エチレ
ン及びコモノマーの供給量を制御しているので、格外品
の生成を極力少なくし、所定物性のポリエチレンが製造
でき、殊に物性コントロールの難しい線状低密度ポリエ
チレンを製造する技法として好適のものである。
図面は本発明方法を実施したブロック図である。
１・・・・・・・・・重合反応器
２・・・・・・・・・水素供給ライン
３・・・・・・・・・エチレン供給ライン４・・・・・
・・・・コモノマー供給ライン５・・・・・・・・・溶
媒供給ライン ６・・・・・・・・・触媒供給ライン ７・・・・・・・・・出口ライン ８・・・・・・・・・サンプリングライン９・・・・・
・・・・熱交換器 １０・・・・・・・・・アキュムレーター１１・・・・
・・・・・リサイクルライン１２・・・・・・・・・リ
サイクルライン１３．１３’・・・ガスクロマトクララ
イ１４・・・・・・・・・コンピュータ １５・・・・・・・・圧力測定装置（センサー）１６・
・・・・・・・温度計（センサー）１７・・・・・・・
・演算部■ 】８・・・・・・・・演算部■ １９・・・・・・・・制御部■ ２０・・・・・・・・制御部■ ２１・・・・・・・・表示部 ２２・・・・・・・・プリンタ ２３・・・・・・・・記憶装置 代理人 弁理士 守 谷 −雄 ＝ １Ｑ −
・・・・コモノマー供給ライン５・・・・・・・・・溶
媒供給ライン ６・・・・・・・・・触媒供給ライン ７・・・・・・・・・出口ライン ８・・・・・・・・・サンプリングライン９・・・・・
・・・・熱交換器 １０・・・・・・・・・アキュムレーター１１・・・・
・・・・・リサイクルライン１２・・・・・・・・・リ
サイクルライン１３．１３’・・・ガスクロマトクララ
イ１４・・・・・・・・・コンピュータ １５・・・・・・・・圧力測定装置（センサー）１６・
・・・・・・・温度計（センサー）１７・・・・・・・
・演算部■ 】８・・・・・・・・演算部■ １９・・・・・・・・制御部■ ２０・・・・・・・・制御部■ ２１・・・・・・・・表示部 ２２・・・・・・・・プリンタ ２３・・・・・・・・記憶装置 代理人 弁理士 守 谷 −雄 ＝ １Ｑ −
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、配位化合物系触媒および水素の存在下にエチレンを
重合して所定の溶融流れ指数（ＭＦＲ）および密度（Ｄ
）を有するポリエチレンを製造するにあたり、反応器内
の温度、圧力、液相内成分組成。 触媒濃度をセンサーおよびガスクロマトグラフィーによ
り検知し、該検知した値を示す信号をコンピュータに入
力し、式 I 、IIに基き、 ＭＦＲ＝ｋ×（［Ｈ＿２］／［Ｃ＿２］）＾ａ×（Ｔ）
＾ｂ×（ＣＡ丁）＾ｃ・・・・・（ I ）Ｄ＝ｋ′×（
［Ｈ＿２］／［Ｃ＿２］）＾ａ′×（Ｔ）＾ｂ×（ＣＡ
Ｔ）＾ｃ′・・・・・（II）但し、ｋ、ａ、ｂ、ｃ、ｄ
、ｋ′、ａ′、ｂ′、ｃ′、は各反応条件により経験的
に求められた定数、 ［Ｈ＿２］／［Ｃ＿２］は液相中の水素およびエチレン
のモル比 Ｔは反応器内温度（℃） ＣＡＴは触媒濃度（ｍ ｍｏｌ／ｌ−溶媒）反応器内の
溶融流れ指数および密度を推定計算し表示すると共に、
予め設定された前記所定の溶融流れ指数および密度と対
比して液相中の水素およびエチレンのモル比の目標値を
求め前記反応器へのエチレン供給量を制御することを特
徴とするポリエチレンの製造方法。 ２、配位化合物系触媒および水素の存在下にエチレンお
よびコモノマーを重合して所定の溶融流れ指数（ＭＦＲ
）および密度（Ｄ）を有するポリエチレンを製造するに
あたり、反応器内の温度、圧力、液相内成分組成、触媒
濃度をセンサーおよびガスクロマトグラフィーにより検
知し、該検知した値を示す信号をコンピュータに入力し
、式III、IVに基き、 ＭＦＲ＝ｋ×（［Ｈ＿２］／［Ｃ＿２］）＾ａ×（Ｔ）
＾ｂ×（ＣＡＴ）＾ｃ×ｅｘｐ（ｄ×［Ｃｘ］／［Ｃ＿
２］・・・・・・（III）Ｄ＝ｋ′×（［Ｈ＿２］／［
Ｃ＿２］）＾ａ′×（Ｔ）＾ｂ′×（ＣＡＴ）＾ｃ′×
ｅｘｐ（ｄ′×［Ｃｘ］／［Ｃ＿２］）・・・・・・（
IV）但し、ｋ、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｋ′、ａ′、ｂ′、ｃ
′、は各反応条件により経験的に求められた定数、 ［Ｈ＿２］／［Ｃ＿２］は液相中の水素およびエチレン
のモル比 ［Ｃｘ］／［Ｃ＿２］は液相中のコモノマーおよびエチ
レンのモル比 Ｔは反応器内温度（℃） ＣＡＴは触媒濃度（ｍ ｍｏｌ／ｌ−溶媒）反応器内の
溶融流れ指数および密度を推定計算し表示すると共に、
予め設定された前記所定の溶融流れ指数および密度と対
比して、液相中の水素およびエチレンのモル比の目標値
及び液相中のコモノマーおよびエチレンのモル比の目標
値を求め、前記反応器へのエチレンおよびコモノマーの
供給量を制御することを特徴とするポリエチレンの製造
方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9552586A JPH0725830B2 (ja) | 1986-04-23 | 1986-04-23 | ポリエチレンの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9552586A JPH0725830B2 (ja) | 1986-04-23 | 1986-04-23 | ポリエチレンの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62250010A true JPS62250010A (ja) | 1987-10-30 |
| JPH0725830B2 JPH0725830B2 (ja) | 1995-03-22 |
Family
ID=14139971
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9552586A Expired - Fee Related JPH0725830B2 (ja) | 1986-04-23 | 1986-04-23 | ポリエチレンの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0725830B2 (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5830954A (en) * | 1994-12-26 | 1998-11-03 | Mitsui Petrochemical Industries, Ltd. | Method and apparatus for controlling polyolefine resin production plant |
| GB2334958A (en) * | 1998-02-25 | 1999-09-08 | Porpoise Viscometers Ltd | Control of a continous polymerisation process using melt flow index (MFI) |
| JP2010504390A (ja) * | 2006-09-21 | 2010-02-12 | ユニオン カーバイド ケミカルズ アンド プラスティックス テクノロジー エルエルシー | 多峰系における特性を制御する方法 |
| JP2011057721A (ja) * | 2009-09-04 | 2011-03-24 | Idemitsu Kosan Co Ltd | ポリオレフィンの製造方法、その製造装置、および、重合装置 |
| JP2019524906A (ja) * | 2016-06-24 | 2019-09-05 | ダウ グローバル テクノロジーズ エルエルシー | 高圧フリーラジカルエチレンコポリマーの製造プロセス |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3835106A (en) | 1969-03-20 | 1974-09-10 | Stamicarbon | Method of controlling a polymer preparation process |
| US3691142A (en) | 1969-05-29 | 1972-09-12 | Du Pont | Control system for an ethylene copolymerization process |
| JPS55142008A (en) | 1979-04-23 | 1980-11-06 | Mitsui Petrochem Ind Ltd | Preparation of polyolefin |
| JP6028285B2 (ja) | 2012-02-23 | 2016-11-16 | 国立研究開発法人産業技術総合研究所 | ナトリウム二次電池正極材料、該ナトリウム二次電池用正極材料の製造方法、該ナトリウム二次電池用正極材料を用いるナトリウム二次電池用電極、該ナトリウム二次電池用電極を備える非水系ナトリウム二次電池、及び該非水系ナトリウム二次電池を用いる電気機器 |
| JP6340802B2 (ja) | 2014-01-24 | 2018-06-13 | 富士通株式会社 | 植物栽培システム |
-
1986
- 1986-04-23 JP JP9552586A patent/JPH0725830B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5830954A (en) * | 1994-12-26 | 1998-11-03 | Mitsui Petrochemical Industries, Ltd. | Method and apparatus for controlling polyolefine resin production plant |
| GB2334958A (en) * | 1998-02-25 | 1999-09-08 | Porpoise Viscometers Ltd | Control of a continous polymerisation process using melt flow index (MFI) |
| GB2334958B (en) * | 1998-02-25 | 2001-11-07 | Porpoise Viscometers Ltd | Melt flow index determination in polymer process control |
| JP2010504390A (ja) * | 2006-09-21 | 2010-02-12 | ユニオン カーバイド ケミカルズ アンド プラスティックス テクノロジー エルエルシー | 多峰系における特性を制御する方法 |
| JP2011057721A (ja) * | 2009-09-04 | 2011-03-24 | Idemitsu Kosan Co Ltd | ポリオレフィンの製造方法、その製造装置、および、重合装置 |
| JP2019524906A (ja) * | 2016-06-24 | 2019-09-05 | ダウ グローバル テクノロジーズ エルエルシー | 高圧フリーラジカルエチレンコポリマーの製造プロセス |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0725830B2 (ja) | 1995-03-22 |
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