JPS62265722A - 照明光学系 - Google Patents
照明光学系Info
- Publication number
- JPS62265722A JPS62265722A JP61109983A JP10998386A JPS62265722A JP S62265722 A JPS62265722 A JP S62265722A JP 61109983 A JP61109983 A JP 61109983A JP 10998386 A JP10998386 A JP 10998386A JP S62265722 A JPS62265722 A JP S62265722A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- luminous flux
- splitting
- optical system
- light
- illumination
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70058—Mask illumination systems
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は照明光学系に関し、特に半導体製造において可
干渉性の良い高輝度のレーザー等の光源金円いて被照射
面である電子回路等の微細パターンを照明する際に元の
干渉による被照射面の照明むら等の悪影響全軽減し均一
なる照明全可能とした照明光学系に関するものである。
干渉性の良い高輝度のレーザー等の光源金円いて被照射
面である電子回路等の微細パターンを照明する際に元の
干渉による被照射面の照明むら等の悪影響全軽減し均一
なる照明全可能とした照明光学系に関するものである。
（従来の技術）
最近の半導体製造技術には電子回路の高集積化に伴い・
高密度の回路パターンが形成可能のリングラフィ技術が
請求されている。
高密度の回路パターンが形成可能のリングラフィ技術が
請求されている。
一般にマスク又はレチクル面上の回路バターｙ全りエ・
・面上に転写する場合・ウニ・・面上に転写される回路
パターンの解像線幅は光源の波長に比例してくる。この
為波長２００〜３００ ｎｍの遠紫外（ディープＵＶ領
域）の短い波長を元型する例えば超高圧水銀灯やキセノ
ン水銀ランプ等が用いられている。しかし２からこれら
の光源は低輝度で指向性もなくしかもウニ八面上に塗布
するフォトレジストの感光性も低い為露光時間が長くな
りスルーグツ＋−１−低下させる原因となっていた。
・面上に転写する場合・ウニ・・面上に転写される回路
パターンの解像線幅は光源の波長に比例してくる。この
為波長２００〜３００ ｎｍの遠紫外（ディープＵＶ領
域）の短い波長を元型する例えば超高圧水銀灯やキセノ
ン水銀ランプ等が用いられている。しかし２からこれら
の光源は低輝度で指向性もなくしかもウニ八面上に塗布
するフォトレジストの感光性も低い為露光時間が長くな
りスルーグツ＋−１−低下させる原因となっていた。
両方最近エキ７７（ｅｘＣｌｍａｒ ）レーザーという
ディープＵＶ領域に発振波長を有する光源が開発され１
その、％ｆ４度性）単色性１指向註等の良さからリング
ラフィ技術への応用が種々研究されている。しかしなが
らエキ／マレ−ブーを用いると多くの場合レーザー特有
の可干渉性によシマスフ面やウェー面の不完全さや照明
系の光学特性等が原因して、マスク面やクエ・・面等の
被照射面上に不規則な干渉縞、所謂スペックルが発生し
てくる。このスペックルは照”Ａム５や焼付は誤差を起
こしマスクパターン像の解像力を低下させる原因となっ
てくる。
ディープＵＶ領域に発振波長を有する光源が開発され１
その、％ｆ４度性）単色性１指向註等の良さからリング
ラフィ技術への応用が種々研究されている。しかしなが
らエキ／マレ−ブーを用いると多くの場合レーザー特有
の可干渉性によシマスフ面やウェー面の不完全さや照明
系の光学特性等が原因して、マスク面やクエ・・面等の
被照射面上に不規則な干渉縞、所謂スペックルが発生し
てくる。このスペックルは照”Ａム５や焼付は誤差を起
こしマスクパターン像の解像力を低下させる原因となっ
てくる。
（発明が解決しようとする問題点）
本発明はレーザー寺の可干渉性の良い高輝度の光源を用
いた際に被照射面に生じるスペックルの軽減を図９被照
射面の均一照明を可能とじ九照明光学系の提供を目的と
する。
いた際に被照射面に生じるスペックルの軽減を図９被照
射面の均一照明を可能とじ九照明光学系の提供を目的と
する。
本発明の更なる目的はエキシマレーザ−等の可干渉性の
良い光源を用いた際にマスク面やウニ・・面に生ずるス
ペックルの平均化７１ｉ−図クマスクパターン像の高ｙ
ｆＩ像力化を可能とした半導体製造用の露光装置に好適
な照明光学系の提供にある。
良い光源を用いた際にマスク面やウニ・・面に生ずるス
ペックルの平均化７１ｉ−図クマスクパターン像の高ｙ
ｆＩ像力化を可能とした半導体製造用の露光装置に好適
な照明光学系の提供にある。
（問題点ｔ−４決する為の手段）
光源からの光束を所定の反射率金有する複数の反射面よ
り成る２つの分割プリズムと該２つの分割プリズムの間
に配置した偏光面を９０度可回転せる光学素子と金有す
る光束分割部材に入射させ・該光束分割部材から射出し
±光束を被照射面に導光させ九ことである。
り成る２つの分割プリズムと該２つの分割プリズムの間
に配置した偏光面を９０度可回転せる光学素子と金有す
る光束分割部材に入射させ・該光束分割部材から射出し
±光束を被照射面に導光させ九ことである。
この池水発明の特徴は実施例において記載されている。
（実施例）
第１図は本発明の一実施例の光学系のｖｉ略図である。
同図において１け光源で例えば可視域のＮｅ−Ｎｏ 、
Ａｒ レーザーや不可視域のエキシマレーザ−等か
ら成っている。２は光源１から放射された光束、３は光
束２の光束径を以後の光学系に適合させる為に拡大若し
くは縮少する光束整形器、４は光束分割部材で入射光束
全複数に分割し・かつ複数の光束間に各々異った光路差
を付与して射出させている。５，７は各々光束分割部材
４の一部全構成する分割プリズムで複数の反射面を有し
・これらの反射面により所定の偏光成分を有し念入射光
束を複数に分割し、かつ分割しｔ複数の光束間に各々光
路差を与えて射出させている。６け光束分割部材４の一
部を構成する光学素子で入射光束の偏光面ｔ−９０度回
転させる例えば１Ａｔｆ！ｉ、長板や９０”旋光子等か
ら成っている。８け曵数の微少レンズより成る７ライア
イレンズでｈ９２次光源面を形成している。９はコンデ
ンサーレンズ、１０けマスクやレチクル等の被照射面で
ある。
Ａｒ レーザーや不可視域のエキシマレーザ−等か
ら成っている。２は光源１から放射された光束、３は光
束２の光束径を以後の光学系に適合させる為に拡大若し
くは縮少する光束整形器、４は光束分割部材で入射光束
全複数に分割し・かつ複数の光束間に各々異った光路差
を付与して射出させている。５，７は各々光束分割部材
４の一部全構成する分割プリズムで複数の反射面を有し
・これらの反射面により所定の偏光成分を有し念入射光
束を複数に分割し、かつ分割しｔ複数の光束間に各々光
路差を与えて射出させている。６け光束分割部材４の一
部を構成する光学素子で入射光束の偏光面ｔ−９０度回
転させる例えば１Ａｔｆ！ｉ、長板や９０”旋光子等か
ら成っている。８け曵数の微少レンズより成る７ライア
イレンズでｈ９２次光源面を形成している。９はコンデ
ンサーレンズ、１０けマスクやレチクル等の被照射面で
ある。
本実ｍ例では光源１から放射されるＳ偏光成分とＰＩＪ
２光成分金有するランダムな偏光状態の光５Ｊ、２を光
束整形器３で適当な大きさの光束径に整形して元来分′
４１）部材４の分割プリズム５に入射させている。特に
本実施例では分割プリズム５ｔ−比較的製造が各易なＳ
偏光成分の入射光束を所定の割合で反射させることので
きる複数の反射面５−１ 、５−２ 、５−３ 、・・
・と全反射面父上り！成している。これにより入射光束
のうちＳ偏光成分の″／ｌ、！Ｘ、ｔ−複数の反射面５
−１゜５−２．・・・で強度的に等分割して一味な強度
分布の光束として反射させ更に複数の反射面５−１．５
−２．・・・の各反射面間の距、＠全適切に保ち、好ま
しくは可干渉距離よりも長くしてインコヒーレント化、
所謂非可干渉化を凹９射出させている。
２光成分金有するランダムな偏光状態の光５Ｊ、２を光
束整形器３で適当な大きさの光束径に整形して元来分′
４１）部材４の分割プリズム５に入射させている。特に
本実施例では分割プリズム５ｔ−比較的製造が各易なＳ
偏光成分の入射光束を所定の割合で反射させることので
きる複数の反射面５−１ 、５−２ 、５−３ 、・・
・と全反射面父上り！成している。これにより入射光束
のうちＳ偏光成分の″／ｌ、！Ｘ、ｔ−複数の反射面５
−１゜５−２．・・・で強度的に等分割して一味な強度
分布の光束として反射させ更に複数の反射面５−１．５
−２．・・・の各反射面間の距、＠全適切に保ち、好ま
しくは可干渉距離よりも長くしてインコヒーレント化、
所謂非可干渉化を凹９射出させている。
一万Ｐ偏光成分の光束はその大部分が分Ｊｆｌプリズム
５の全反射面５０で反射して射出する。そこでＰ偏光成
分の光束？光学素子６により偏光面を９０度可回転せて
分割プリズム５と同様の分割プリズム７にＳ偏光成分の
光束として入射させている。これにより分割プリズム５
と同様にＳ月元成分の光束を複数の反射説７−１゜７−
２．７−３．・−・で強度的に等分割し、更に非可干渉
化を図って射出させている。
５の全反射面５０で反射して射出する。そこでＰ偏光成
分の光束？光学素子６により偏光面を９０度可回転せて
分割プリズム５と同様の分割プリズム７にＳ偏光成分の
光束として入射させている。これにより分割プリズム５
と同様にＳ月元成分の光束を複数の反射説７−１゜７−
２．７−３．・−・で強度的に等分割し、更に非可干渉
化を図って射出させている。
このとき分割プリズム５から射出したＳ偏光成分の複数
に分割され九光束は偏光素子６によシＰ偏光成分の光束
となシその大部分は分割プリズム７の全反射Ｃ１ｊ７０
で反射して射出する。
に分割され九光束は偏光素子６によシＰ偏光成分の光束
となシその大部分は分割プリズム７の全反射Ｃ１ｊ７０
で反射して射出する。
このように本実施例では光束分割部材４に入射するＳ偏
光成分及びＰ偏光成分の光束を各々強度的に等分割して
面積的に一様な強度分布を有する帯状の光束とし、更に
非可干渉化を図って射出させた後嘱フライアイレンズ８
に導ｊｔシている。
光成分及びＰ偏光成分の光束を各々強度的に等分割して
面積的に一様な強度分布を有する帯状の光束とし、更に
非可干渉化を図って射出させた後嘱フライアイレンズ８
に導ｊｔシている。
そしてプライアイレンズ８の集光点全第２次光源面とし
て１これより射出した一様なｇ度分布の光束を用い、コ
ンデンサーレンズ９により被照射面１０をスペックルの
発生全軽減して均一照射している。
て１これより射出した一様なｇ度分布の光束を用い、コ
ンデンサーレンズ９により被照射面１０をスペックルの
発生全軽減して均一照射している。
尚不実施グｊにおいて分割プリズム７の複数の反射面を
Ｐ偏光成分に対して等分割する反射面で溝底しても良く
これによれば光学素子６は不要となる。
Ｐ偏光成分に対して等分割する反射面で溝底しても良く
これによれば光学素子６は不要となる。
第２図は第１図の光束分割部材４の把の一実施例の説明
図である。
図である。
同図において２０は光束分割部材、２１．２３は各々第
１図と同様の分割プリズムであり、光の進行方向に対し
て反射面が互いに直交するように配置されている。２２
は第１図と同様の光学素子である。
１図と同様の分割プリズムであり、光の進行方向に対し
て反射面が互いに直交するように配置されている。２２
は第１図と同様の光学素子である。
第１図の実施例では光束分割部材４より射出する光束径
は帯状となっている。これに対して本実施例では分割プ
リズム２１ 、２３ ｔ−前述の如く配置することによ
り入射光束を縦方向と横方向に拡大して射出させている
。
は帯状となっている。これに対して本実施例では分割プ
リズム２１ 、２３ ｔ−前述の如く配置することによ
り入射光束を縦方向と横方向に拡大して射出させている
。
尚本実施例では光束分割部材２０に置台偏光のレーザ又
は予め偏光板等を用いて一方向の偏光状態の光束−例え
ばＳ偏光成分の光束を入射させている。そして分割プリ
ズム２１から一次元方向に強度的に等分割して射出させ
る。そして偏光索子２２で偏光面を９０度可回転せて分
割プリズム２３に対してＳ偏光成分の光束となるように
入射させている。これによシ光束ｔ−２次元的に一様な
強度分布を有する光束径に拡大すると共に光束の非可干
渉化を効率的に行っている。
は予め偏光板等を用いて一方向の偏光状態の光束−例え
ばＳ偏光成分の光束を入射させている。そして分割プリ
ズム２１から一次元方向に強度的に等分割して射出させ
る。そして偏光索子２２で偏光面を９０度可回転せて分
割プリズム２３に対してＳ偏光成分の光束となるように
入射させている。これによシ光束ｔ−２次元的に一様な
強度分布を有する光束径に拡大すると共に光束の非可干
渉化を効率的に行っている。
第２図に示す光束分割部材には一方向に偏光している偏
光成分の光束全入射させて光束径の拡大を図っているが
ランダムな偏元成分金有する光束に対して第２図の笑施
りＩＪと同様に２次元的な光束径の拡大を図るには・飼
えば第１図に示した光束分割部材４を２つ第３図に示す
ように互いに光束の拡大方向が直交するように配置すれ
ば良い。同図において３０ 、４０は各々光束分割部材
Ｓ３１ 、３３ 、 、ｉｌ 、 ４３は分割プリズム
、３２゜４２は偏光面金９０”回転させる光学素子であ
る。
光成分の光束全入射させて光束径の拡大を図っているが
ランダムな偏元成分金有する光束に対して第２図の笑施
りＩＪと同様に２次元的な光束径の拡大を図るには・飼
えば第１図に示した光束分割部材４を２つ第３図に示す
ように互いに光束の拡大方向が直交するように配置すれ
ば良い。同図において３０ 、４０は各々光束分割部材
Ｓ３１ 、３３ 、 、ｉｌ 、 ４３は分割プリズム
、３２゜４２は偏光面金９０”回転させる光学素子であ
る。
第３図では入射光束を光束分割部材３０により一方向に
拡大し、更に光束分割部材４０により光束分割部材３０
による光束の拡大方向と直交する方向に光束全拡大し全
体的に２次元的な光束径の拡大を行っている。
拡大し、更に光束分割部材４０により光束分割部材３０
による光束の拡大方向と直交する方向に光束全拡大し全
体的に２次元的な光束径の拡大を行っている。
（発明の効果）
本発明によれば前述の構成を有する光束分割部材を光学
系中に設けることにより可干渉性の良いレーザー光束等
音用いたときの光束匝の拡大を図りつつ光束強度の一様
化を図り被照射面上ニ生じるスペックル？経減させ・か
つ被照射面の均一照明を可能とじ九特に半導体製造装置
に好適な照明光学系全達成することができる。
系中に設けることにより可干渉性の良いレーザー光束等
音用いたときの光束匝の拡大を図りつつ光束強度の一様
化を図り被照射面上ニ生じるスペックル？経減させ・か
つ被照射面の均一照明を可能とじ九特に半導体製造装置
に好適な照明光学系全達成することができる。
第１図は本発明の一実施例］の光字系の概略図・第２図
、第３図は各々第１図の一部分の他の実施例の説明図で
ある。図中１）−を光源、２け光束、３け光束整形器、
４，２０，３０．４０は各々光束分割部材１ｓ 、 ７
１２＋ 、 ２３ 、３１ 、３３ 、４１ 、４３は
分割プリズム、６ 、２２．３２．４２は偏光面’ｉ
９０’回転させる光学素子、８はフライアイレンズ・９
けコンデンサーレンズ、１０は被照射面である。 特許出題人 キャノン株式会社
、第３図は各々第１図の一部分の他の実施例の説明図で
ある。図中１）−を光源、２け光束、３け光束整形器、
４，２０，３０．４０は各々光束分割部材１ｓ 、 ７
１２＋ 、 ２３ 、３１ 、３３ 、４１ 、４３は
分割プリズム、６ 、２２．３２．４２は偏光面’ｉ
９０’回転させる光学素子、８はフライアイレンズ・９
けコンデンサーレンズ、１０は被照射面である。 特許出題人 キャノン株式会社
Claims (3)
- （１）光源からの光束を所定の反射率を有する複数の反
射面より成る２つの分割プリズムと該２つの分割プリズ
ムの間に配置した偏光面を９０度回転させる光学素子と
を有する光束分割部材に入射させ、該光束分割部材から
射出した光束を被照射面に導光させたことを特徴とする
照明光学系。 - （２）前記分割プリズムの複数の反射面は一方向の偏光
成分の光束を強度的に等分割して反射させるように構成
されていることを特徴とする特許請求の範囲第１項記載
の照明光学系。 - （３）前記２つの分割プリズムを該分割プリズムの反射
面が光束の進行方向に対して互いに直交するように配置
したことを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の照明
光学系。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61109983A JPH0666246B2 (ja) | 1986-05-14 | 1986-05-14 | 照明光学系 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61109983A JPH0666246B2 (ja) | 1986-05-14 | 1986-05-14 | 照明光学系 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62265722A true JPS62265722A (ja) | 1987-11-18 |
| JPH0666246B2 JPH0666246B2 (ja) | 1994-08-24 |
Family
ID=14524104
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61109983A Expired - Fee Related JPH0666246B2 (ja) | 1986-05-14 | 1986-05-14 | 照明光学系 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0666246B2 (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100280431B1 (ko) * | 1998-01-20 | 2001-04-02 | 김영환 | 노광장치의웨이퍼정렬방법 |
| US20130271945A1 (en) | 2004-02-06 | 2013-10-17 | Nikon Corporation | Polarization-modulating element, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method |
| US8861084B2 (en) | 2004-01-16 | 2014-10-14 | Carl Zeiss Smt Ag | Polarization-modulating optical element |
| US9423698B2 (en) | 2003-10-28 | 2016-08-23 | Nikon Corporation | Illumination optical apparatus and projection exposure apparatus |
| US9581911B2 (en) | 2004-01-16 | 2017-02-28 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Polarization-modulating optical element |
| US9678437B2 (en) | 2003-04-09 | 2017-06-13 | Nikon Corporation | Illumination optical apparatus having distribution changing member to change light amount and polarization member to set polarization in circumference direction |
| US9885872B2 (en) | 2003-11-20 | 2018-02-06 | Nikon Corporation | Illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method with optical integrator and polarization member that changes polarization state of light |
-
1986
- 1986-05-14 JP JP61109983A patent/JPH0666246B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100280431B1 (ko) * | 1998-01-20 | 2001-04-02 | 김영환 | 노광장치의웨이퍼정렬방법 |
| US9885959B2 (en) | 2003-04-09 | 2018-02-06 | Nikon Corporation | Illumination optical apparatus having deflecting member, lens, polarization member to set polarization in circumference direction, and optical integrator |
| US9678437B2 (en) | 2003-04-09 | 2017-06-13 | Nikon Corporation | Illumination optical apparatus having distribution changing member to change light amount and polarization member to set polarization in circumference direction |
| US9423698B2 (en) | 2003-10-28 | 2016-08-23 | Nikon Corporation | Illumination optical apparatus and projection exposure apparatus |
| US9760014B2 (en) | 2003-10-28 | 2017-09-12 | Nikon Corporation | Illumination optical apparatus and projection exposure apparatus |
| US9885872B2 (en) | 2003-11-20 | 2018-02-06 | Nikon Corporation | Illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method with optical integrator and polarization member that changes polarization state of light |
| US10281632B2 (en) | 2003-11-20 | 2019-05-07 | Nikon Corporation | Illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method with optical member with optical rotatory power to rotate linear polarization direction |
| US8861084B2 (en) | 2004-01-16 | 2014-10-14 | Carl Zeiss Smt Ag | Polarization-modulating optical element |
| US9316772B2 (en) | 2004-01-16 | 2016-04-19 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Producing polarization-modulating optical element for microlithography system |
| US9581911B2 (en) | 2004-01-16 | 2017-02-28 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Polarization-modulating optical element |
| US20130271945A1 (en) | 2004-02-06 | 2013-10-17 | Nikon Corporation | Polarization-modulating element, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method |
| US10007194B2 (en) | 2004-02-06 | 2018-06-26 | Nikon Corporation | Polarization-modulating element, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method |
| US10234770B2 (en) | 2004-02-06 | 2019-03-19 | Nikon Corporation | Polarization-modulating element, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method |
| US10241417B2 (en) | 2004-02-06 | 2019-03-26 | Nikon Corporation | Polarization-modulating element, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0666246B2 (ja) | 1994-08-24 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5048926A (en) | Illuminating optical system in an exposure apparatus | |
| JP2655465B2 (ja) | 反射型ホモジナイザーおよび反射型照明光学装置 | |
| US5153773A (en) | Illumination device including amplitude-division and beam movements | |
| US9885872B2 (en) | Illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method with optical integrator and polarization member that changes polarization state of light | |
| KR940016475A (ko) | 반사 및 굴절 광학 시스템 및 이를 이용한 투사 노광장치 | |
| JP2590510B2 (ja) | 照明装置 | |
| JPWO2005010963A1 (ja) | 照明光学装置、露光装置および露光方法 | |
| JPH11312631A (ja) | 照明光学装置および露光装置 | |
| JP2619473B2 (ja) | 縮小投影露光方法 | |
| JPS61212816A (ja) | 照明装置 | |
| JP2969718B2 (ja) | 照明装置及びそれを用いた回路の製造方法 | |
| JPH01114035A (ja) | 露光装置 | |
| JPH0666246B2 (ja) | 照明光学系 | |
| JPS60230629A (ja) | 照明光学装置 | |
| JP2565134B2 (ja) | 照明光学装置 | |
| JPH10232497A (ja) | 露光装置 | |
| JPH11174365A (ja) | 照明光学装置及び該照明光学装置を備えた露光装置並びに露光方法 | |
| JPH0769576B2 (ja) | 照明光学装置 | |
| JP2765162B2 (ja) | 照明装置 | |
| JPS6225483A (ja) | 照明装置 | |
| JP2770984B2 (ja) | 照明装置，投影露光装置及び素子製造方法 | |
| JP3111476B2 (ja) | 照明光学装置 | |
| JPH06215997A (ja) | 投影露光装置 | |
| JPS58222522A (ja) | プロジエクシヨンアライナ | |
| JPS6381420A (ja) | 照明装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |