JPS6226799A - 荷電粒子装置 - Google Patents
荷電粒子装置Info
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- JPS6226799A JPS6226799A JP16390785A JP16390785A JPS6226799A JP S6226799 A JPS6226799 A JP S6226799A JP 16390785 A JP16390785 A JP 16390785A JP 16390785 A JP16390785 A JP 16390785A JP S6226799 A JPS6226799 A JP S6226799A
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- inflector
- charged particle
- synchrotron radiation
- orbit
- slit
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は、荷電粒子装置に関゛するものであシ。
もう少し詳しくいうと、電子ビームのような荷電粒子ビ
ームを加速するための円形状の平衡軌道を有する荷電粒
子装置に関するものである。
ームを加速するための円形状の平衡軌道を有する荷電粒
子装置に関するものである。
この発明の荷電粒子装置は、シンクロトロンおよびス)
L/−シリングの双方に適用可能であるが。
L/−シリングの双方に適用可能であるが。
以下の説明では電子ビームのストレージリングをを示し
、ストレージリング(10)u、111子ビームCハの
導入部K)@次に設けられた第1〜第7のインフレクタ
(2a)〜(2t)、電子ビーム(1)が周回する円形
状の平衡軌道(,71、導入部に配置された矩形)くン
ブ電出石(Aa)、平衡軌道(3)に配置てれた微調バ
ンプ電磁石(Ab)、第1の高周波空洞(7a)。
、ストレージリング(10)u、111子ビームCハの
導入部K)@次に設けられた第1〜第7のインフレクタ
(2a)〜(2t)、電子ビーム(1)が周回する円形
状の平衡軌道(,71、導入部に配置された矩形)くン
ブ電出石(Aa)、平衡軌道(3)に配置てれた微調バ
ンプ電磁石(Ab)、第1の高周波空洞(7a)。
第2の高周波空洞(7b)等からなっておシ、1!子ビ
ーム(1)は、磁場境界(り)と動径方向(f)との交
点(9)を通って、磁場境界(弘)の接MA(、S−1
と所定の角度(θ)でインフレクタ(コa)へ入射され
るようになっている。(1g)はシンクロトロン放射光
である。
ーム(1)は、磁場境界(り)と動径方向(f)との交
点(9)を通って、磁場境界(弘)の接MA(、S−1
と所定の角度(θ)でインフレクタ(コa)へ入射され
るようになっている。(1g)はシンクロトロン放射光
である。
なお、上記の構成機器は、第1.第コの高周波空洞(?
a)(7b)それぞれの一部を除いて、真空中に配設さ
れている。
a)(7b)それぞれの一部を除いて、真空中に配設さ
れている。
以上の構成になるストレージリング(10)は。
高エネルギーの電子束を平衡軌道(3)に沿って周回さ
せ、かつ、数時間から数70時間の間、高エネルギーの
電子東上その運動エネルギーで保持し続けるように機能
する。ストレージリング(10)の用途の1つとしては
、高エネルギーの電子束が平衡軌道(3)全周回すると
きに放射するシンクロトロン放射光を伴うので、それを
利用する超LSI露光用の光源がある。
せ、かつ、数時間から数70時間の間、高エネルギーの
電子東上その運動エネルギーで保持し続けるように機能
する。ストレージリング(10)の用途の1つとしては
、高エネルギーの電子束が平衡軌道(3)全周回すると
きに放射するシンクロトロン放射光を伴うので、それを
利用する超LSI露光用の光源がある。
通常、ストレージリング(10)の上流側には。
周知の線形加速器またはシンクロトロンのような加速器
が設けられておシ、電子ビーム(ハは上流側の加速器か
ら送られてくる。電子ビーム(1)は、接線(3)との
間の所定角度(θ)、たとえば、30度程度で、動径方
向Cざ)と出湯境界(す)との交点(?lを通ってスト
レージリング(10)へ入射され、第1のインフレクタ
(ユa)〜第7のインフレクタ(:1y)t−介して導
入され、矩形バンプ電磁石rAa)により平衡軌道(3
)と平行になり、を子ビーム(ハの断面中心は平衡軌道
(3)の回りを緩やかに振動する。
が設けられておシ、電子ビーム(ハは上流側の加速器か
ら送られてくる。電子ビーム(1)は、接線(3)との
間の所定角度(θ)、たとえば、30度程度で、動径方
向Cざ)と出湯境界(す)との交点(?lを通ってスト
レージリング(10)へ入射され、第1のインフレクタ
(ユa)〜第7のインフレクタ(:1y)t−介して導
入され、矩形バンプ電磁石rAa)により平衡軌道(3
)と平行になり、を子ビーム(ハの断面中心は平衡軌道
(3)の回りを緩やかに振動する。
この振動は、1!子ビーム(1)の断面中心が平衡軌道
(3)と入射後初めて交差する点で、電子ビーム(/)
と平衡軌道(3)とのなす角度をOにする微調バンプ電
磁石〔6b)によって除去される。かくて、電子ビーム
(/)の断面中心は平衡軌道(3)と一致するにいたる
。
(3)と入射後初めて交差する点で、電子ビーム(/)
と平衡軌道(3)とのなす角度をOにする微調バンプ電
磁石〔6b)によって除去される。かくて、電子ビーム
(/)の断面中心は平衡軌道(3)と一致するにいたる
。
電子ビーム(1)の運動エネルギーにも依存するが。
たとえば、l!:00MeV程度の運動エネルギーで平
衡軌道(3)の直径が7.6rIL程度の場合、/周当
シのシンクロトロン放射損失は約’t ! KeVとな
る。このように高い放射損失で量子寿命を十分長くする
には、高周波空洞に発生させる加速電圧を高くする必要
があり、この高電圧を7個の高周波空洞で実現すること
が難しくなることがある。第一図の従来例では、このよ
うな場合を想定して第1の高周波空洞(りa)および第
一の高周波空洞(りb)が設置されている。
衡軌道(3)の直径が7.6rIL程度の場合、/周当
シのシンクロトロン放射損失は約’t ! KeVとな
る。このように高い放射損失で量子寿命を十分長くする
には、高周波空洞に発生させる加速電圧を高くする必要
があり、この高電圧を7個の高周波空洞で実現すること
が難しくなることがある。第一図の従来例では、このよ
うな場合を想定して第1の高周波空洞(りa)および第
一の高周波空洞(りb)が設置されている。
第3図は、ストレージリング(10)の中心平面での対
称軸方向の磁場分布C/7)と、それを形成するための
コイル配置例を示している。(//)は(/J)を原点
とする座標の横軸で、第一図の動径方向(fflである
。(/2)は縦軸であシ、コイル配置については相対的
な配置寸法となシ、磁場分布に関しては相対的な磁場強
度を示す。横軸(/l)上には平衡軌道(、?)の位置
も示しである。この平衡軌道(3)を所定の寸法にすれ
ば磁場を形成するためのコイル糸をなす上火コイル(/
4(a)、下火コイル(/すb)、土中コイル(/&a
)、下中コイル(/jb )。
称軸方向の磁場分布C/7)と、それを形成するための
コイル配置例を示している。(//)は(/J)を原点
とする座標の横軸で、第一図の動径方向(fflである
。(/2)は縦軸であシ、コイル配置については相対的
な配置寸法となシ、磁場分布に関しては相対的な磁場強
度を示す。横軸(/l)上には平衡軌道(、?)の位置
も示しである。この平衡軌道(3)を所定の寸法にすれ
ば磁場を形成するためのコイル糸をなす上火コイル(/
4(a)、下火コイル(/すb)、土中コイル(/&a
)、下中コイル(/jb )。
上挙コイル(/Aa )および下手コイル(lAb)そ
れぞれの配置寸法も相対的に比例で考えればよい。
れぞれの配置寸法も相対的に比例で考えればよい。
ま−た、第3図に示したのは、ストレージリング(/Q
)用の磁場を空心コイル系で形成する例であシ、要求さ
れる磁場強度および平衡軌道(j)の直径の大きさに応
じて超電導コイルを用いたル、常電導コイル、鉄心入シ
電磁石が用いられたりする。
)用の磁場を空心コイル系で形成する例であシ、要求さ
れる磁場強度および平衡軌道(j)の直径の大きさに応
じて超電導コイルを用いたル、常電導コイル、鉄心入シ
電磁石が用いられたりする。
磁場境界(ダ)が第3図に示しであるが、al場境界陣
)の内側には正の磁場の部分があり、特に、平衡軌道(
,71O近傍では1弱収束形の磁場(たとえば。
)の内側には正の磁場の部分があり、特に、平衡軌道(
,71O近傍では1弱収束形の磁場(たとえば。
曲率指数で0.l)が形成されていて、水平方向および
垂直方向の電子束の発散を防止するようになっている。
垂直方向の電子束の発散を防止するようになっている。
磁場境界(<’lよシ外側の負の磁場の部分の電子ビー
ム(1)の通路に関しては、適当に選択された磁気遮蔽
体(図示せず)を設置して無視できる程度までに弱い磁
場が作られるようにしている。
ム(1)の通路に関しては、適当に選択された磁気遮蔽
体(図示せず)を設置して無視できる程度までに弱い磁
場が作られるようにしている。
第7〜第7のインフレクタ(コa)〜(コt)は。
平衡軌道(3)側にそれぞれ曲率中心をもっている。
第一図の場合は、インフレクタ(コa)〜(:1g)か
の電界は、平行する板状の陰・陽極間に印加された電圧
で生成できるが、を子ビームCハの曲率半径が大きくな
る方向[fi圧は印加されている。この意味でインフレ
クタ(2a)〜(:111)の機能は、交点(テ)で導
入された電子ビーム(1)が過度に磁界によって偏向さ
れるのを防ぎ、緩やかな角度で円形状の平衡軌道(j)
に導入する。ここで、インフレクタの数は、ストレージ
リング(10)の磁場の強度、電子ビーム(/lの運動
エネルギーの大きさに俸存して適当に選択される。
の電界は、平行する板状の陰・陽極間に印加された電圧
で生成できるが、を子ビームCハの曲率半径が大きくな
る方向[fi圧は印加されている。この意味でインフレ
クタ(2a)〜(:111)の機能は、交点(テ)で導
入された電子ビーム(1)が過度に磁界によって偏向さ
れるのを防ぎ、緩やかな角度で円形状の平衡軌道(j)
に導入する。ここで、インフレクタの数は、ストレージ
リング(10)の磁場の強度、電子ビーム(/lの運動
エネルギーの大きさに俸存して適当に選択される。
以上のストレージリング(10)では、平衡軌道(、?
+からのシンクロトロン放射光(/l)が放射され。
+からのシンクロトロン放射光(/l)が放射され。
−例として、第qと第!のインフレクタ(2d)(コe
)間から取出される。
)間から取出される。
通常、平衡軌道(jlの接線方向に平衡軌道(3)の全
周上からシンクロトロン放射は発射されている。
周上からシンクロトロン放射は発射されている。
第一図の紙面に直角方向に電子束の幅に対した厚さをも
つ形で、平衡軌道(3)の円の部分をくシ貫いた円板状
の形で、シンクロトロン放射は出ている。
つ形で、平衡軌道(3)の円の部分をくシ貫いた円板状
の形で、シンクロトロン放射は出ている。
したがって、第1のインフレクタ(2a)〜第7のイン
フレクタ(2t)、第1の高周波空洞(りa)および第
コの高周波空洞(7b)の内部C図示せず)。
フレクタ(2t)、第1の高周波空洞(りa)および第
コの高周波空洞(7b)の内部C図示せず)。
などは、シンクロトロン放射に晒されている。
〔発明が解決しようとする問題点3
以上のような従来の荷電粒子装置では、第1のインフレ
クタ(コa)〜第7のインフレクタ(ユ?)のような金
属にシンクロトロン放射が当った場合。
クタ(コa)〜第7のインフレクタ(ユ?)のような金
属にシンクロトロン放射が当った場合。
光電子が放射される。シンクロトロン放射の一例である
シンクロトロン放射光(/l)は線で示しであるが、シ
ンクロトロン放射光(/l)は第グのインフレクタ(2
d)と第3のインフレクタ(コe)の間に広がっている
。このために、シンクロトロン放射光(/ざ)の一部が
第5のインフレクタ(2e)の陰極の端部に当ってその
部分からは電子が放射される。この電子の一部は、第!
のインフレクタ(コe)の隘・陽極間隙で加速され、第
3のインフレクタCコe)の陰・陽極間隙における絶縁
破壊の引き金の役割をなし、信頼度の高い運転を確保す
ることができないという問題点があった。
シンクロトロン放射光(/l)は線で示しであるが、シ
ンクロトロン放射光(/l)は第グのインフレクタ(2
d)と第3のインフレクタ(コe)の間に広がっている
。このために、シンクロトロン放射光(/ざ)の一部が
第5のインフレクタ(2e)の陰極の端部に当ってその
部分からは電子が放射される。この電子の一部は、第!
のインフレクタ(コe)の隘・陽極間隙で加速され、第
3のインフレクタCコe)の陰・陽極間隙における絶縁
破壊の引き金の役割をなし、信頼度の高い運転を確保す
ることができないという問題点があった。
この発明は、上記のような問題点を解消するためになさ
れたもので、構造的な工夫によってインフレクタの陰・
陽極間の絶縁破壊を防止できるとともに、高信頼度で運
転できる荷電粒子装置を得ることを目的とする 〔問題点を解決するための手段〕 この発明て係る荷電粒子装置は1円形状の平衡軌道上を
安定に運動している電子束からのシンクロトロン放射光
の広がシラ制限するスリットが設けられている。
れたもので、構造的な工夫によってインフレクタの陰・
陽極間の絶縁破壊を防止できるとともに、高信頼度で運
転できる荷電粒子装置を得ることを目的とする 〔問題点を解決するための手段〕 この発明て係る荷電粒子装置は1円形状の平衡軌道上を
安定に運動している電子束からのシンクロトロン放射光
の広がシラ制限するスリットが設けられている。
この発明においては、スリットが、シンクロトロン放射
光の広がりを制限する機能をもっているので、隣接する
インフレクタ間の間隙を、シンクロトロン放射光が、イ
ンフレクタの陰極に当らずに通過する。
光の広がりを制限する機能をもっているので、隣接する
インフレクタ間の間隙を、シンクロトロン放射光が、イ
ンフレクタの陰極に当らずに通過する。
第1図はこの発明の一実施例を示し1図において、(/
ざ)はシンクロトロン放射光、(2d/)il’f第弘
のインフレクタ(コd)の陽極、(2d2)は第すのイ
ンフレクタ(コd)の陰極、(コe/)は第りのインフ
レクタ(コe)の陽極、(コe2)は第3のインフレク
タ(−〇)の陰極であり、第グ、第3のインフレクタ(
ud)(2e)の間隙(/?)に向けてスリンI−(2
0)が設けられている。これ等の構成は、真空中に設置
され、スリット(2o)は真空容器(図示せず)に絶縁
物(図示せず)を介して固定されている。その他の構成
は第2図のものと同様であシ、説明を省略する。
ざ)はシンクロトロン放射光、(2d/)il’f第弘
のインフレクタ(コd)の陽極、(2d2)は第すのイ
ンフレクタ(コd)の陰極、(コe/)は第りのインフ
レクタ(コe)の陽極、(コe2)は第3のインフレク
タ(−〇)の陰極であり、第グ、第3のインフレクタ(
ud)(2e)の間隙(/?)に向けてスリンI−(2
0)が設けられている。これ等の構成は、真空中に設置
され、スリット(2o)は真空容器(図示せず)に絶縁
物(図示せず)を介して固定されている。その他の構成
は第2図のものと同様であシ、説明を省略する。
以上の構成によ)、第ψのインフレクタ(2d)の陰極
rJdj)および第3のインフレクタ(xe)の陰極(
コe2)は、真空容器と同電位であるが。
rJdj)および第3のインフレクタ(xe)の陰極(
コe2)は、真空容器と同電位であるが。
第ダのインフレクタ(コd)の陽極(コd/)および第
3のインフレクタ(コe)の陽極(ユe/)は、真空容
器に比して正の高電位に保持しである。スリット(コO
)も真空容器に比べて正の電位に保持しである。
3のインフレクタ(コe)の陽極(ユe/)は、真空容
器に比して正の高電位に保持しである。スリット(コO
)も真空容器に比べて正の電位に保持しである。
シンクロトロン放射光(/l)は、スリット(20)に
よって余分の広がりの部位が削り取られ、第1図のよう
な形で、第qのインフレクタ(jd)と第3のインフレ
クタ(コe)との間隙(/デ)ヲ、インフレクタ(2d
)(コe)に衝突することなく通過する。スリット〔コ
O)の、シンクロトロン放射光(7g)の通過孔の端部
では1周知の光電効果による電子の放出がある。このよ
うにして放出された電子は、第ダのインフレクタ(ユd
)の陰極(2cl2)および第3のインフレクタ(2e
)の陰極(ユe2)とスリット(20)間に、スリット
(ユO)が正電位になるように印加されている電界によ
って両イン7/クタ(2d>(コe)からスリット(2
0>の方へ追い返され、結果として第すのインフレクタ
(コd)および第3のインフレクタ(コe)の電極間の
絶縁破壊が防止される。
よって余分の広がりの部位が削り取られ、第1図のよう
な形で、第qのインフレクタ(jd)と第3のインフレ
クタ(コe)との間隙(/デ)ヲ、インフレクタ(2d
)(コe)に衝突することなく通過する。スリット〔コ
O)の、シンクロトロン放射光(7g)の通過孔の端部
では1周知の光電効果による電子の放出がある。このよ
うにして放出された電子は、第ダのインフレクタ(ユd
)の陰極(2cl2)および第3のインフレクタ(2e
)の陰極(ユe2)とスリット(20)間に、スリット
(ユO)が正電位になるように印加されている電界によ
って両イン7/クタ(2d>(コe)からスリット(2
0>の方へ追い返され、結果として第すのインフレクタ
(コd)および第3のインフレクタ(コe)の電極間の
絶縁破壊が防止される。
以上は、第すのインフレクタr、2d)と第3のインフ
レクタ(コe)との間隙(/q)からシンクロトロン放
射光(/l)を取出す場合についてのみ説明したが、シ
ンクロトロン放射光(7g)を隣接する他のインフレク
タ間の間隙を通して取出す場合も同様であることはいう
までもない。なお、ジンクロトoン放射光(7g)は、
スリット(20)の全面、@ダのインフレクタの陰極(
2d2)および第5のインフレクタの陰#i、(2e2
)のスリット(SO)の影になっていない部分にも当る
が、この点、第1図では模式的に示し念。
レクタ(コe)との間隙(/q)からシンクロトロン放
射光(/l)を取出す場合についてのみ説明したが、シ
ンクロトロン放射光(7g)を隣接する他のインフレク
タ間の間隙を通して取出す場合も同様であることはいう
までもない。なお、ジンクロトoン放射光(7g)は、
スリット(20)の全面、@ダのインフレクタの陰極(
2d2)および第5のインフレクタの陰#i、(2e2
)のスリット(SO)の影になっていない部分にも当る
が、この点、第1図では模式的に示し念。
なお、上記実施例では、スリット(−〇)と真空容器と
の間に電位差を設ける構成にしたが、スリン) (20
)を真空容器と同電位にしても、ある程度の目的l′i
達成できる。
の間に電位差を設ける構成にしたが、スリン) (20
)を真空容器と同電位にしても、ある程度の目的l′i
達成できる。
また、スリット(コo)(4,隣接、するインフレクタ
間にある間隙に対応した位置に設置したが、平衡軌道(
,7)と共軸状に、高周波空洞やバンプ電磁石は避けて
、スリット相当の部材を設置じても、同等の目的を達成
できる。 。
間にある間隙に対応した位置に設置したが、平衡軌道(
,7)と共軸状に、高周波空洞やバンプ電磁石は避けて
、スリット相当の部材を設置じても、同等の目的を達成
できる。 。
さらに、空心コイル系の場合について説明したが、この
発明は空心コイル系からなるものに適用が限定されるも
のではなく、鉄心入りの電磁石系を用いた装置にも適用
できる。
発明は空心コイル系からなるものに適用が限定されるも
のではなく、鉄心入りの電磁石系を用いた装置にも適用
できる。
この発明け1以上の説明から明らかなように。
円形状の平衡軌道を周回する荷電粒子からのシンクロト
ロン放射光を、インフレクタの電極に衝突しないように
制限するスリットを設けたので、インフレクタの陰・9
電極間のP縁破111を防止でき。
ロン放射光を、インフレクタの電極に衝突しないように
制限するスリットを設けたので、インフレクタの陰・9
電極間のP縁破111を防止でき。
信頼度を向上することができる効果がある。
第1図はこの発明の一実施例の要部概略平断面図1M2
図は従来の荷電粒子装置の要部概略平面図、第3図は同
じく空心コイル系の配置および磁場分布線図である。 (1)・・電子C荷τ粒子)ビーム、(コa)〜(コf
)・・第1〜第7のインフレクタ、(3)・・平衡軌道
。 (/1)・・シンクロトロン放射光、(20)・・スリ
ット。 なお、各図中、同一符号は同−又は相当部分を示す。 2cl、2e : イー7Lクタ 18 : シ〉りOトD一枚殉了光 20: スリ11.ト
図は従来の荷電粒子装置の要部概略平面図、第3図は同
じく空心コイル系の配置および磁場分布線図である。 (1)・・電子C荷τ粒子)ビーム、(コa)〜(コf
)・・第1〜第7のインフレクタ、(3)・・平衡軌道
。 (/1)・・シンクロトロン放射光、(20)・・スリ
ット。 なお、各図中、同一符号は同−又は相当部分を示す。 2cl、2e : イー7Lクタ 18 : シ〉りOトD一枚殉了光 20: スリ11.ト
Claims (2)
- (1)荷電粒子が周回する平衡軌道への前記荷電粒子の
導入部に、前記平衡軌道側にそれぞれ曲率中心をもつ複
数個のインフレクタを順次に配置し、弱収束形磁場分布
をもつ円形状の前記平衡軌道を形成してなる荷電粒子装
置において、前記平衡軌道を周回する前記荷電粒子から
のシンクロトロン放射光の広がりを制限するスリットを
備えてなることを特徴とする荷電粒子装置。 - (2)シンクロトロン放射光が取出される隣接するイン
フレクタの間隙に対向して設けられたスリットを備えた
特許請求の範囲第1項記載の荷電粒子装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16390785A JPS6226799A (ja) | 1985-07-26 | 1985-07-26 | 荷電粒子装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16390785A JPS6226799A (ja) | 1985-07-26 | 1985-07-26 | 荷電粒子装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6226799A true JPS6226799A (ja) | 1987-02-04 |
Family
ID=15783090
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16390785A Pending JPS6226799A (ja) | 1985-07-26 | 1985-07-26 | 荷電粒子装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6226799A (ja) |
-
1985
- 1985-07-26 JP JP16390785A patent/JPS6226799A/ja active Pending
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