JPS62274064A - 管状部材の内面蒸着方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ３、発明の詳細な説明 ［産業上の利用分野］ 本発明は、管状部材殊に管径の小さい管状部材の内面の
様に蒸着被膜の形成が難しい箇所に蒸発物質あるいは反
応生成物を蒸着させる方法に関するものである。

［従来の技術］ 基材を表面処理することによって基材表面に優れた機能
あるいは新しい機能を付与する技術は古くから研究され
且つ実施されている。例えば基材の耐摩耗性を高める為
の技術としては高周波による表面焼入れやめっき法があ
り、更に近年半導体産業を中心に目ざましい発展を遂げ
工具等にも広く利用すれるようになりつつあるＰＶＤ　
（物理的蒸着）法やＣＶＤ　（化学的蒸着）法が挙げら
れる。但しこれら表面処理法には操作性の観点において
夫々一長一短の面があり用途によって向・不向があるこ
とから適宜選択使用されている。

一方管状部材殊に細径の管状部材の内面の様に、スペー
ス的な理由によって表面処理操作性が劣る分野において
は、従来比較的処理が容易であるという理由から塗装あ
るいはめっき法が採用されている。しかしこれらの方法
によって得られる被膜の性能（耐摩耗性や耐腐食性等）
はＰＶＤ法やＣＶＤ法で得られる被膜の性能に比べてか
なり劣るという問題があり、ＰＶＤ法あるいはＣＶＤ法
の適用が求められている。しかるにＰＶＤ法及びＣＶＤ
法には夫々下記の様な欠点があり、管状部材内面に対し
て良質の蒸着被膜を形成した例は未だ報告されていない
。

即ちＰＶＤ法には大きく分けて真空蒸着、スパッタ蒸着
、イオンブレーティングがあり、このうち真空蒸着は高
真空下で行なわれるので膜清浄度は良好であるが、合金
やある種の混合物、或は通常の熱源を用いた場合の高融
点金属等この方法によっては蒸着できない物がある。ま
た蒸発粒子に指向性がないので目的とする表面以外に蒸
発粒子が凝集するといった問題がある。さらに蒸発粒子
のエネルギーが低いため（平均０．１ｅｖ程度）被膜と
基材間の界面密着性が良くないという欠点があると共に
、管状部材の内面に蒸着するためには蒸発原料及びその
加熱源を管状部材内に挿入する必要があり、操作性の面
からいっても適用管径に限度がある。

一方スバッタ法はグロー放電を利用するため不活性ガス
雰囲気の低真空域で行なう必要があり、その為被膜内に
ガス成分を取り込み易い。又蒸発粒子の生成が不活性イ
オンによるスパッタ（はじきだし）によるため膜形成速
度も真空蒸着に比べて劣っている。さらに機構上あらゆ
る合金、或は混合物の被膜が形成可能であるが純金属以
外は一般にスパッタリング収率が低く膜形成速度が更に
遅くなる。但し蒸発粒子の有するエネルギーが高い（数
〜数百ｅｖ、平均１０ａｖ）ため界面の結合性は真空蒸
着に優っている。そしてスパッタ法の場合、管状部材内
面に挿入する必要があるのは最も簡単な場合原料物質の
みであり、真空蒸着よりも制限は少ないが、最大の欠点
である蒸着速度を上げるためにはやはりマグネット等を
挿入する必要がある。

次いでイオンブレーティングは原理的に言えば真空蒸着
法に蒸発粒子を電離する機構を加えたものであり蒸発粒
子中にイオどを含むため電界加速を利用することにより
蒸発粒子の指向性を上げ膜形成速度を上げることができ
る。その為蒸発粒子のエネルギーはスパッタ法よりも更
に高く（数十〜数百６ｖ）　、界面の密着性もより改善
される。しかしながら真空蒸着を更に複雑化した機構で
あり真空蒸着での問題点、即ち蒸着物質が限定されると
共に管状部材内面に被膜を形成するに当たっては管状部
材内に加熱源等を挿入しなければならず加熱源等が一層
嵩ぼる為、挿入は極めて困難となるという操作性面から
の制約は拡大され大きな問題となっている。

このようにＰＶＤ法による管状部材の内面への蒸着は蒸
発物質の制限や蒸発源、蒸発エネルギー源を管内面に配
置することの困難さ等から実用には不向きである。更に
イオンブレーティングにおいては電離機構の選択及びそ
の配置が問題となって実用化されていないのが現状であ
る。

他方ＣＶＤ法による管内面蒸着技術は「鋼管内壁へのＴ
ｉＮ及びＴｉＣの耐食ＣＶＤコーティング」として提案
されている（金属表面技術ｖｏ１．３５Ｎｏ、１２　、
　Ｐ５９０）　、しかしＣＶＤ法においては、被膜種類
にあった反応ガスの選択が必要であり被膜種類も制限を
受ける場合が多い、そしてこれらのガスは一般に毒性を
有するものが多く取り扱いが危険であり、或は装置とし
て構成する際のガスＩＡ埋設備が高価なものとなるとい
った問題点がある。更に反応を起こさせる為には基板（
この場合には管状部材）を加熱する必要があり管状部材
の変形、変質（例えば焼もどし軟化）等の問題もある。

［発明が解決しようとする問題点］ 上記の如〈従来の蒸着方法においては、蒸着物質の種類
が限られるだけでなく、管状部材の内面に蒸着被膜を形
成するに当たっては、管内に蒸発エネルギー源等を挿入
しなければならないが、管状部材の管径によってはこれ
らの挿入が困難であり、結局実施し得る管径がかなり大
径のものに限定されるという問題があり、実用されるに
至っていない。

本発明はこうした事情に着目してなされたものであって
、蒸着物質の種類に制約がなくしかも管径の如何にかか
わらず良質の蒸着被膜を形成することができる様な管状
部材の内面蒸着方法を提供することを目的とするもので
ある。

［問題点を解決する為の手段］ しかして上記目的を達成した本発明方法は、管状部材の
内面に蒸着被膜を形成する方法であって、管状部材の内
部に配置した蒸発原料物質と管状部材の間に電圧を印加
すると共に、蒸発原料物質にレーザ光を照射して蒸着を
行なう点に第１の要旨があり、これによって蒸発物質の
蒸着を達成しており、又管状部材の内面に蒸着被膜を形
成する方法であって、管状部材の内部に蒸発原料物質を
配置すると共に反応性ガスを導入し、蒸発原料物質と管
状部材の間に電圧を印加しつつ蒸発原料物質にレーザ光
を照射して蒸発物質と反応性ガスの反応生成物の蒸着を
行なう点に第２の要旨があり、これによって蒸発物質と
反応性ガスの反応生成物の蒸着を達成するものである。

［作用］ 蒸発原料物質を蒸発させる為の蒸発エネルギー源として
は、従来抵抗加熱によるもの、電子ビーム加熱によるも
の、高周波誘導加熱によるもの等が提示されているが、
これらの方式を採用しようとすればいずれも装置がある
程度嵩高くなると共に、蒸発原料物質と蒸発エネルギー
源を接近して配置しなければならないという欠陥があり
、結局管状部材内面への蒸着処理の場合には管状部材内
部に蒸発原料物質及び蒸発エネルギー源の両方を挿入す
る必要が生じる。その結果蒸発エネルギー源等を挿入で
きない管径［上限となる管径はかなり大径（およそ１０
０ｍｍφ）となり、通常の管径ではたいていの場合挿入
できない］の管状部材に対してはその内面に蒸着被膜を
形成することができない。

そこで本発明者等は、管状部材内面の蒸着処理に適した
蒸発エネルギー源について検討を重ね、レーザ光を蒸発
エネルギー源として採用すれば該蒸着処理が可能になる
のではないかとの知見を得るに至った。即ちレーザ光は
高エネルギー密度で収束性が高く、遠距離から照射して
も減衰することなく対象物に照射することができる。又
ミラー等によって光路を容易に屈曲させることができ、
光路幅も小さい為小径の管状部材内部へも不都合なしに
導入し、管状部材内部に配置した蒸発原料物質に照射・
加熱することができる。本発明においてはこの様な特性
を持つレーザ光の照射により蒸発原料物質を蒸発させる
が、蒸発物質あるいは管状部材内部を反応性ガス雰囲気
とし反応性ガスと反応させて得られる反応生成物をその
まま蒸着させただけでは高い蒸着速度を得ることはでき
ず、しかも蒸着被膜の強度及び耐久性が低く、厚さ、密
度、純度等も不均一なものとなる。そこで本発明におい
ては管状部材内部に配置した蒸発原料物質と管状部材の
間に電圧を印加することにより、電離・形成されている
蒸発物質に指向性及び運動エネルギーを付与し、蒸着被
膜の特性及び膜形成速度を向上させている。

上記構成をとることにより管状部材の内面に優れた物性
を持つ蒸発物質あるいは反応性ガスとの反応生成物の蒸
着被膜を効率良く形成することができる様になった。又
レーザ光を照射するという手段が採用されるので蒸発原
料物質の種類に制限なく蒸発させることができ、当該蒸
発物質あるいは上記反応生成物からなる蒸着被膜を形成
することができる。

尚蒸着に当たっては蒸発原料物質の蒸発を促進する為に
蒸着雰囲気即ち管状部材内部を減圧するコトカ望マシく
、１０−’　Ｔｏｒｒ以下、より好ましくは１０−’　
Ｔｏｒｒ以下とすることが推奨される。

又蒸発原料物質に対してレーザ光を照射する際には必要
により光路にレンズ等を配置しレーザ光をさらに収束さ
せてエネルギー密度を高めてもよい。その他管状部材内
面に蒸着被膜をできるだけ均一に形成することが望まれ
るので、これに対処する為蒸発原料物質挿入位置（即ち
蒸発位置）と管状部材を軸方向に相対的に移動させるこ
とが望まれる。また蒸着被膜の周方向厚さを均一とする
為に必要により管状部材を挿入蒸発原料に対して相対的
に管軸を中心として回転させることも盲動である。

［実施例］ 第１図は本発明方法を実施する為に使用される内面蒸着
装置を示す模式図で、装置はレーザ発振機１．管状部材
を処理する為の真空チャンバー２、チャンバー２内にレ
ーザビーム３を導く光路系４、電圧を印加する電源５、
真空ポンプ及び排気系６、チャンバー２内での管状部材
の昇降機構フ、圧力及び温度の測定系８、反応性ガス系
９、冷却系１０、及びそれらの動力源１１と制御装置１
２から構成される。

真空チャンバー２内は第２図に示すように管状部材１３
を保持し管軸方向に昇降する台座１４、管状部材１３内
部に挿入された蒸発原料物質１５、その保持部１６、蒸
発原料１５表面との距離を一定に保った集光光学部品１
７、それを保持する光路円筒１８及びその保持部１９、
管状部材１３を一定温度に保つためのヒーター２０等か
らなる。管状部材１３には加速電圧２１を印加するので
管状部材１３と光路円筒保持部１９１台座部１４との間
には絶縁体リング２２を挿入している。尚管状部材１３
の内面に管軸方向に均一な厚さの蒸着膜２３を得るため
に管状部材１３を管軸方向に昇降させるが、その上限位
置及び下限位置においてレーザ光集光々学部品１７と蒸
発原料１５表面間の焦点距離に相当する長さの余裕が確
保される様に、光路円筒保持部１９及び台座部１４には
焦点距離分の余長を設けている。又真空チャンバー２の
内部高さは、少なくとも管状部材１３の全長の２倍以上
とすることが望ましい。他方管状部材１３に負の電圧２
１を印加し他の部分は全てアース電位とすると共に、真
空チャンバー２内及び管状部材１３内をいずれも排気す
る必要がある為台座部１４には排気口２７を設けており
、且つ反応ガス２４を導入でとるようにガス導入口２５
も設けである。又蒸発原料物質１５及びレーザ光光路変
更光学部品２６．集光光学部品１７を水冷する一方、管
状部材１３はヒータ２０で加熱し、蒸着時の温度を一定
に保つことによって蒸着膜２３の特性（例えば密着性）
を向上させると共に均質な蒸着ＩＩ！　２３−ン＜得ら
れるようにしている。尚他の構成として、真空チャンバ
ー２を無くし、管状部材１３そのものを真空容器として
も良く、この場合には、真空チャンバー２の有る無し以
外は同様の構成となる。また管状部材１３の昇降機構７
の代わりにレーザ光路円１４１８と蒸発原料１５表面間
の距離を一定に保ちながら、両者を同時に穆勤させる様
な構造を設けても良い。

一方レーザ光路系４は第３図（ａ）に示すように適当な
光路２８内を通過したレーザ光３の光路をミラー等の光
路変更光学部品２６で曲げ、レーザ光路円筒１８．レー
ザ集光光学部品１・７を通って真空チャンバー２内に導
く構造になっている。

光路円筒部１８は管状部材と同軸で管状部材１３と同程
度の長さを有し、その中に集光光学部品１７が配置され
ている。集光光学部品１７の焦点軸２９は管状部材中心
軸３０と一致しており、蒸発原料１５表面と集光光学部
品１７間の距離、は、焦点距離と必要なスポット径に応
じて設定する。

照射時及びその前後の光路円筒１８の位置調整は、光路
円筒位置調整機構３１によって行う。

レーザ光３を曲げたり集光するための光学部品１７．２
６は水冷する。この構成はパルス発振の場合に用いられ
る基本的構成であり、スポット３２は第３図（ｂ）に示
すように中心部に固定される。ここではレーザ光集光に
レンズを用いているが、凹面鏡であってもよい。但し管
状部材１３が短いものでないと焦点距離が長くなり集光
時の収差が大きくなって集光特性が悪化するのでレンズ
を用いる方が好ましい。またＹＡＧレーザの場合にはこ
れら光路系４を光ファイバーで構成する事も可能である
。

上記構成の蒸着装置を用いて蒸着を行なうに当たり、管
状部材内圧力は蒸発物質の蒸気圧と蒸着前の圧力、導入
反応ガス圧力によってきめられる。ところで最適な蒸着
圧力は蒸発粒子の平均自由行程と管状部材の形状、及び
達成したい蒸着速度によって決めるべきものであるが、
蒸発粒子の平均自由行程が蒸発源と管壁間の距離よりも
実質的に大きくなるような圧力が必要である。またレー
ザ光路系のレンズやウィンドーと蒸発源の距離が、この
平均自由工程よりも大きくなるような圧力が望ましい。

そこでこうした要望を満足する為には蒸発粒子の平均自
由行程を考慮して管状部材内圧力は１０−２Ｔｏｒｒ以
下とすることが望ましく、真空度を上げるに従い当然に
生成蒸着膜の純度、特性が上がるのでより高真空一般に
は１０−’　Ｔｏｒｒ以下の高真空にすることが望まれ
る。尚平均自由行程λ（ａｍ）は次式によって近似的に
求めることができる。

一方上記ではパルス発振レーザを使用したが、レーザ光
はこれに限定される訳ではなく連続発振レーザを使用し
てもよい。但し連続発振レーザの場合後記相互作用時間
に関する照射条件を満たすために同一点に続けて照射す
ることができず、走査する必要がある。連続発振レーザ
を使用する際、蒸発原料表面上でビームスポット３２を
移動させる（走査する）機構としては、第４．５．６図
のような構成が考えられる。第４図は管軸３０と焦点軸
２９をずらしてあり、蒸発原料保持部１６を管軸３０で
あり、且つ蒸発原料保持部軸３３である軸を中心に回転
させる機構となっている。同図（ｂ）に見られるように
スポット３２は円形軌跡３４を描く。第５図は逆に管軸
３０と蒸発原料保持部１６の中心軸３３をずらし、蒸発
原料保持部１６をその中心軸３３の周りに回転させる機
構になっている。同図（ｂ）に見られるようにスポット
３２は円形軌跡３４を描く。更に第６図（ａ）は２枚の
ミラー３５．３６を調和させて並進振動させビームスポ
ット３４を移動させる機構である。同図（ｂ）に示すよ
うに入射方向３７に対し４５°の傾きを持つミラー３５
を入射方向に往復振動させる。さらに入射方向３８に対
し４５°の傾きを持つミラー３６を入射方向３８に往復
振動させる。ここで最終的なレーザビームの方向は最初
の方向３７に対し直角をなす。尚ミラーを凹面積とし、
集光光学部品を兼ねても良い、同図Ｃに見られるように
スポット３２はほぼ四角形に近い軌跡３４を描く。

上記レーザ照射において材料表面が瞬時に気化温度に達
して気化蒸発するためにはレーザ光と材料の相互作用時
間をＴ（ｓ）、レーザパワーをＰ　（ｋｗ）、パワー密
度をＰ　ｄ　（ｗ／ｃｍ２）とすると、次のような条件
となる。

Ｔ≦１０−’（ｓ）　、Ｐｄ≧１０　’　（ｗ／ｃｍ’
）　　・・・（２）更に蒸発と同時にプラズマ化するた
めにはＴ≦１０−３（ｓ）　、　Ｐｄ≧１０　’　（Ｗ
／ｃｍ’）　　７−（３）どのようなＴ及びＰｄを得る
ためには次のような条件式でパワーＰ（Ｋｗ）、スポッ
ト径Ｓ（ｍｍ）、パルス発振での周波数ｆ　（）ｌｘ）
及びデユーティｄ（ｋ）。

連続発振での走査速度Ｖ　（ｍ／ｗｉｎ、）を決めれば
よい。

パルス発振の場合 連続発振の場合 Ｔ　＝　−Ｘ　ｏ、ｏａ　　　　　　　　　　　　　　
　　（６）■ 上記条件（２）　、　（３）は蒸発物質の物理的性質、
例えば熱伝導度、蒸発温度、電離エネルギー等によって
も変化する値であるが下限としてほぼ全固体に当てはま
る値である。

装置はレーザ光が管軸方向に平行となり、蒸発原料表面
ヘレーザ光が垂直に入射するように構成されている０表
面から粒子が蒸発する方向はＣＯＳ分布に従うので蒸発
粒子に指向性を与えないと蒸発粒子が有効に管状部材内
壁に蒸着しないこととなる。管状部と蒸発原料（或は絶
縁体の場合にはその保持部）間に電圧を印加したのは蒸
発粒子に管状部材内壁に向かう指向性と運動エネルギー
を与え、管状部材内壁への蒸着確率を増し蒸着膜の密着
性等の特性を向上させるためであり、これは蒸発粒子中
のイオンの効果である。電離環が高いほどこの効果は大
きい。この場合の印加電圧は管状部材の形状及び装置構
成（レーザ光路円筒部のレンズ、或はウィンドーと蒸発
原料表面との距離）によって決まるが、一般には数Ｋｖ
で十分である。尚管軸方向の膜厚をより均一なものとす
る為には蒸発原料とレーザ光集光光学部品を一定の距離
に保ちつつ一緒に管軸方向に管状部材に対して相対的に
移動させる事が有効であり、これによって管状部材全長
にわたって均一な膜厚を得ることができる。さらに管軸
を中心とした回転運動を加えると周方向の膜厚の均一性
を増すことができる。

又蒸発物質と反応し反応生成物を形成するような活性ガ
ス、例えばＮ２やｏ２を導入することによって窒化膜、
或は酸化膜等の反応生成物被膜を形成することがでミる
。この時のガス導入量は蒸発物質の蒸気圧とガスとの反
応確率及び反応生成物の組成によって化学量論的に決定
すればよい。

実施例Ｉ ＣＯ２レーザを用いてＴｉを蒸　させ直径８ｍｍすの管
状部オ内面にＴｉＮの被膜を形　させ互。

（装置構成）−第１図に示す装置を使用（膜形成条件） 使用レーザ　　　ＣＯ２レーザ（波長１０．６μｍ）発
振形態　　　　パルス 出力　　　　　　３Ｋｗ 発振周波数　　　３００Ｈｚ デユーティ　　　　５０％ スポット径　　　０．２　ｍｍす 管形状　　　　　内径；６０ｍｍφ、全長；１ｍ蒸着時
圧力　　　６　Ｘ　１Ｏ−３ＴｏｒｒＮ２分圧　　　　
３　Ｘ　１Ｏ−３Ｔｏｒｒ印加電圧　　　　２Ｋｖ 管加熱温度　　　３００℃ （形成被膜） 蒸着物貢　　　　ＴｉＮ（第７図＝Ｘ線回折結果参照） 蒸着膜厚　　　　約１０μｍ （第８図：長さ方向の分布側 定結果参照） 蒸着速度　　　　約１μｍ／＋ｉｎ ビッカース 微小硬度　　１７００ 耐食性　　　　　濃塩酸中に１２時間放置後表面変化な
し 上記に示す通り、硬度並びに耐食性の優れたＴｉＮ蒸着
被膜を能率良く管状部材内面に形成することができた。

実施例２ （装置構成）−第６図に示す装置を使用（膜形成条件） 使用レーザ　　　ＹＡＧレーザ（波長１．０８　μｍ）
発振形態　　　　連続 出力　　　　　　３００冑 スポット径　　　０．１　ｍｍす 走査速度　　　　５　ｍ／ｗｉｎ、　（ミラー振動数：
４００Ｈｚ、振幅：３ｍｍ） 管形状　　　　　内径；　３０ｍｍす、全長；　３０ｃ
ｍ蒸着時圧力　　　約４　Ｘ　１０’″３Ｔｏｒｒ印加
電圧　　　　１にＶ 管加熱温度　　　無加熱 （形成液１１ｊ） 蒸着物質　　　　Ａ１２０ｓＣ第９図：Ｘ線回折結果参
照） 蒸着膜厚　　　　約８μｍ 蒸着速度　　　　約ｏ、２　ｐ　ｍ／ｍｉｎ。

ビッカース 微小硬度　　２１００ 上記に示す通り、優れた硬度を示すＡＩＬ２０ｓ蒸着被
膜を能率良く管状部材内面に形成することができた。

［発明の効果］ 本発明は以上の様に構成されており、以下要約する効果
を得ることができる。

（１）従来のＰＶＤ法においては蒸発物質が制限される
という問題があったが、蒸発及び伝熱エネルギー源とし
てレーザ光を利用することにより蒸見物質あるいはその
反応生成物の種類の如何にかかわらず管状部材内面に蒸
着することができる。

（２）蒸発及び電離エネルギー源として、高エネルギー
密度で集束性が高く、しかもミラー等の光学部品によっ
て光路を自由に設計することのできるレーザ光を利用す
ることにより管状部材の外部にエネルギー源を配置して
管内の蒸発原料物質を蒸発させることができ、従来蒸着
が困難であった小径の管状部材内面に蒸着被膜を形成す
ることができる。

（３）管状部材内部に配置した蒸発原料物質と管状部材
の間に電圧を印加することにより、強度や耐久性の優れ
た蒸着被膜を能率良く蒸着することができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明方法を実施する為の内面蒸着装置の基本
的構成を示す模式図、第２図は第１図における真空チャ
ンバー内の構造を示す模式図、第３図は第１図装置の光
路系を示す模式図、′ｓ４〜６図はレーザ光の走査態様
を示す説明図、第７図はＴｉＮ蒸着膜のＸ線回折結果を
示すチャート、第８図はＴｉＮ蒸着膜の長さ方向膜厚分
布を示すグラフ、箪９図はＡＩｌ、Ｏ，蒸着膜のＸ線回
折結果を示すチャートである。 １・・・レーザ発振器　　２・・・真空チャンバー３・
・・レーザビーム　　４・・・レーザ光路系５・・・電
圧付加電源 ６・・・真空ポンプ及び排気系 ７・・・管状部材昇降機構 ８・・・圧力、温度測定系 ９・・・ガス系　　　　　１０・・・冷却系１１・・・
動力源　　　　　１２・・・制御装置１３・・・管状部
材　　　　１４・・・管状部材保持台座１５・・・蒸発
原料物質　　１６・・・蒸発原料保持部１７・・・集光
光学部品　　１８・・・光路円筒１９・・・光路円筒保
持部　２０・・・ヒーター２１・・・加速電圧　　　　
２２・・・絶縁体リング２３・・・蒸着膜　　　　　２
４・・・反応性ガス２５・・・反応性ガス導入口 ２６・・・光路変更光学部品 ２７・・・管状部材内部排気口 ２８・・・レーザ光光路　　２９・・・焦点軸３０・・
・管状部材中心軸 ３１・・・光路円筒位置調整機構 ３２・・・ビームスポット ３３・・・蒸発原料保持部中心軸 ３４・・・ビームスポット軌跡 ３５．３６・・・ミラー

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）管状部材の内面に蒸着被膜を形成する方法であっ
   て、管状部材の内部に配置した蒸発原料物質と管状部材
   の間に電圧を印加すると共に、蒸発原料物質にレーザ光
   を照射して蒸着を行なうことを特徴とする管状部材の内
   面蒸着方法。
2. （２）管状部材の内面に蒸着被膜を形成する方法であっ
   て、管状部材の内部に蒸発原料物質を配置すると共に反
   応性ガスを導入し、蒸発原料物質と管状部材の間に電圧
   を印加しつつ蒸発原料物質にレーザ光を照射して蒸発物
   質と反応性ガスの反応生成物の蒸着を行なうことを特徴
   とする管状部材の内面蒸着方法。