JPS62274477A - パタ−ン欠陥検査装置 - Google Patents

パタ−ン欠陥検査装置

Info

Publication number
JPS62274477A
JPS62274477A JP61118833A JP11883386A JPS62274477A JP S62274477 A JPS62274477 A JP S62274477A JP 61118833 A JP61118833 A JP 61118833A JP 11883386 A JP11883386 A JP 11883386A JP S62274477 A JPS62274477 A JP S62274477A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
information
size
defect
inspected
image information
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP61118833A
Other languages
English (en)
Inventor
Keiichi Hirose
恵一 広瀬
Yoshihiko Fujimori
義彦 藤森
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nikon Corp
Original Assignee
Nikon Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nikon Corp filed Critical Nikon Corp
Priority to JP61118833A priority Critical patent/JPS62274477A/ja
Publication of JPS62274477A publication Critical patent/JPS62274477A/ja
Priority to US07/473,103 priority patent/US5046109A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
  • Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
  • Image Processing (AREA)
  • Image Analysis (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 3、発明の詳細な説明 〔産業上の利用分野〕 本発明はパターン認識技術を用いた欠陥検査装置に関し
、特に設計情報に基づいて形成された幾何学的な明暗の
パターンを有する被検査物(例えば、半導体集積回路製
造用のマスクやレチクル)を撮像して該パターンに対応
する被検査画像情報を出力する゛被検査画像情報発生手
段と、前記設計情報を前記被検査画像情報と比較しろる
形に処理して参照画像情報として出力する参照画像情報
発土手段と、前記被検査画像情報と前記参照画像情報と
を比較してその結果から前記パターンの欠陥を検出する
検査手段とを有するパターン欠陥検査装置に関する。
〔従来の技術〕
従来この種の装置として、例えば特開昭58−1344
29号公報に開示されたものがある。この装置では、前
記被検査画像情報と参照画像情報とのそれぞれから、パ
ターンの明暗を分ける境界線(エツジ)の屈曲の特徴を
表す情報(屈曲の状態、位置)を抽出し、両画像情報が
同じエツジの特徴情報を有していないときに、被検査パ
ターンに欠陥があると判定する方法を採用している。
〔発明が解決しようとする問題点〕
ところで、検査後欠陥は修正しうるのであるが、それに
要するコストは欠陥の個数と欠陥個々のサイズとに比例
するものである。しかしながら、上記従来装置から欠陥
情報として得られるのはエツジの特徴情報のみであるの
で、欠陥の個数は検出できても、欠陥個々のサイズは知
ることができなかった。そのため欠陥の修正に要するコ
ストを予め正確に算出することは不可能であった。
本発明の目的は、欠陥のサイズも検出でき、欠陥の修正
に要するコストを正確に算出することができるパターン
欠陥検査装置を提供することにある。
〔問題点を解決するための手段〕
この目的を達成するために、本発明のパターン欠陥検査
装置は下記構成を有するものである。
設計情報に基づいて形成された被検査パターンを有する
被検査物を撮像して、該被検査パターンに対応する被検
査画像情報を出力する被検査画像情報発生手段(ID、
BN)と、 前記設計情報を前記被検査画像情報と比較しうる形に処
理して参照画像情報として出力する参照画像情報発生手
段(OM、DF)と、 前記被検査画像情報と前記参照画像情報とを比較して、
その結果から前記被検査パターンの欠陥を検出する検査
手段(I P)とを有し、該検査手段は、前記欠陥の各
種方向のサイズを判定するサイズ判定手段(IPa)を
含む。
〔作用〕
このような構成であるから、いかなる欠陥でも、その形
状を検出することができ、適切なサイズ判定が可能とな
る。
〔実施例〕
以下、本発明の一実施例を添付図面を参照して詳細に説
明する。
第2図は本発明に係るパターン欠陥検査装置全体を示す
ブロック図である。同図において、設計情報に基づいて
形成された被検査パターンを有するレチクル、マスク等
の被検査物WKは、移動ステージ装置上に載置されてい
る。被検査パターン全体の一部である小領域内に存在す
る被検査パターンが、−次元撮像素子を含む撮像装置I
Dによって撮像される。この撮像は、ステージ装置ST
が被検査物WKを一方向に移動し、撮像装置IDがその
移動方向と垂直に読取走査することによって得られる。
撮像装置TDから得られたアナログ画像情報は、2値化
回路BNに出力される。
2値化回路BNは、アナログ画像情報を撮像装置10の
1走査線当り512回サンプリングし、サンプリングし
たアナログ画像情報のレベルを2値化して、被検査画像
情報としての2値画像情報を得る。この被検査画像情報
は、512XN(Nは移動ステージの移動距離やt最像
装置の走査間隔等により変化する数値)画素を単位とし
て処理される時系列画像データであり、各画素(ビット
)が論理「1」 (クロムによりパターンが形成されて
いる部分)又は論理「0」 (パターンが形成されてい
ない部分)となる。この被検査画像情報は検査回路IP
に出力される。
一方、計算機CPは、撮像装置IDで撮像した被検査パ
ターンの小領域に対応する参照画像情報を、外部記憶装
置○Mから読み取り、パターン変形回路DFに出力する
。変形回路DFは、計算機cpからの参照画像情報に処
理を加え、参照画像情報が表す参照パターンを被検査パ
ターンに対応すべく拡大または縮小させ、処理後の参照
画像情報を検査回路rpに送る。
検査回路IPは、互いに同期した状態で時系列的に入力
されてくる被検査画像情報と参照画像情報とを比較し、
両画像情報の示すパターンに欠陥とみなすべき相違があ
ると、欠陥情報を計算機CPに出力する。計算acpは
、この欠陥情報を外部記憶装置OMに送り、そこに記憶
させる。
計算機CPは、欠陥検査を適正に進行させるために各部
の制御を行う。
第3図は、検査回路IPの構成を示すブロック図である
。検査回路IPは、直接比較回路IPaと特徴抽出回路
IPbとから構成される。直接比較回路IPaと特徴抽
出回路rpbとは、変形回路DFからの参照画像情報と
2値化回路BNからの被検査画像情報とを共に受け、そ
れぞれ異なる処理方式で両画像情報を比較することによ
り欠陥検査を行ない、その結果としての欠陥情報をそれ
ぞれ第2図の計算機CPに送る。計算機CPは両欠陥情
報を編集して、外部記憶装置○Mに記憶させる。
第1図は、直接比較回路IPaの構成を示すブロック図
である。直接比較回路IPaに時系列的に入力されてく
る参照画像情報と被検査画像情報とは、切出回路lPa
1、lPa2にそれぞれ入力される。
第4図に示すように、切出回路IPaLは、512ビツ
トの直列入力直列出力形のシフトレジスタSRa 1.
5Ra2、・・・・・、5Ra8と、9ビツトの直列入
力並列出力形のシフトレジスタ5RbO1SRbl、5
Rb2、・・・・・、5Rb8から構成される。
シフトレジスタSRa 1の入力端子は変形回路DFか
らの参照画像情報を受け、出力端子はシフトレジスタS
Ra 2の入力端子に接続される。シフトレジスタSR
a 2の出力端子はシフトレジスタ5Ra3(不図示)
の入力端子に接続される。
以上の接続法がシフトレジスタSRa 8まで繰り返さ
れているので、シフトレジスタSRa 1〜5Ra8で
は参照画像情報が512X8ビツト(画素)に展開され
ることになる。ti像装!IDにおける1走査線のピン
ト数が各シフトレジスタSRa 1xsRa 8と同じ
512ビツトであるから、各シフトレジスタ5Ral−
3Ra8には1走査線ずつ遅れた参照画像情報が格納さ
れることになる。
シフトレジスタ5RbOの入力端子は変形回路DFから
の参照画像情報を受け、シフトレジスタ5Rblの入力
端子はシフトレジスタSRa 1の出力端子に接続され
る。同様にシフトレジスタ5Rb2の入力端子はシフト
レジスタSRa 2の出力端子に接続される。シフトレ
ジスタ5Rb3〜5Rb8についても同様の接続がなさ
れているので、シフトレジスタ5RbO〜5Rb8では
参照画像情報が9×9画素に展開されることになる。
従ってこのシフトレジスタ5RbO〜5RbB内でシフ
トされる9×9画素の参照画像情報を視覚化して表現す
ると次のようになる。例えば64×64画素の処理単位
(詳しくは後述するが、この処理単位の中で検出される
欠陥のうち、最大のものがこの処理単位の欠陥として、
記録され、またCRT等に表示される)に展開された参
照画像情報を、更に小さな9×9画素の大きさのウィン
ドを通して観察し、このウィンドを走査線方向に1画素
ずつ移動させ、1走査線(512画素)移動させる度に
、次の走査線に帰線させ、また以上の移動を繰り返すと
いうことになる。シフトレジスタ5RbO〜5Rb8は
並列出力が可能であるから、9×9画素の参照画像情報
を同時に出力しうる。
入力が2値化回路BNから被検査画像情報であることを
除いて切出回路tPaも全く同様の構成である。
第5図は、切出回路lPa1、lPa2による9×9画
素のウィンドを示す模式図である。この中のある画素を
座標で特定するために、水平方向(走査線方向)に1〜
9の番号を、垂直方向にA〜Iのアルファベットをそれ
ぞれ付す6例えば、左上角の画素は座標(1,A)、中
央の画素は(5,F、) 、右下角の画素は(9,I)
で特定される。
切出回路lPa1.lPa2によって切り出された9×
9画素の参照画像情報と被検査画像情報のうち、座標(
5,E)の画素に入力してくる参照画像情報と被検査画
像情報とは、それぞれイクスクルーシプオア回路lPa
3の両入力端子に人力される。イクスクルーシブオア回
路lPa3は、再入力情報が不一致の場合、すなわち被
検査パターンに欠陥がある場合には論理「1」、一致す
る場合には論理rOJの出力を、切出回路[Pa4に送
る。切出回路lPa4は、第4図の切出回路lPa1、
lPa2と同一の構成である。9×9画素の直列入力並
列出力形シフトレジスタに展開される情報の一部は、サ
イズ判定回路lPa5に入力される。
方向別サイズ判定回路lPa5は、欠陥のサイズを0°
、45°、90” 、135°の各方向で測定する。0
°の方向のサイズを測定するためには、第6図に示す模
式図でハンチングを付した座[(2,E)、(3,E)
、・・・・・、(8゜E)の7つの画素の情報(0°用
サイズ判定情報)が利用され、45°の方向のサイズを
測定するためには、第7図に示す模式図でハンチングを
付した座標(2,B)、(3,C)、(4,D)、(5
,E)、(6,F)、(7,G)、(8゜H)の7つの
画素の情報(45゛用サイズ判定情報)が利用され、9
0”の方向のサイズを測定するためには、第8図に示す
模式図でハンチングを付した座標(5,B)、(5,C
)、・・・・・、(5,H)の7つの画素の情報(90
°用サイズ判定情報)が利用され、135°の方向のサ
イズを測定するためには、第9図に示す模式図でハンチ
ングを付した座標(2,H)、(3,G)、(4,F)
、(5,E)、(6,D)、(7゜0)、(8,B)の
7つの画素の情報(135゜用サイズ判定情報)が利用
される。方向別サイズ判定回路lPa5は、各方向のサ
イズの判定結果を個別に出力する。
最大サイズ判定回路lPa6は、各方向のサイズ判定結
果を得て、その中で最大のサイズをものを判別して、そ
のサイズと方向との情報を出力する。
第10図は、方向別サイズ判定回路lPa5と最大サイ
ズ判別回路lPa6との構成を示すブロック図である。
同図において、O”、45°、90’、135°用の各
サイズ判定回路PLI、PL2、PL3、F’LAは、
それぞれPLD (プログラマブル・ロジック・デバイ
ス)で構成されている。各サイズ判定回路PLI〜PL
4は、それぞれ7ビツトの並列人力である各サイズ判定
情報を受けて、そのサイズに対応した3ビツトの並列出
力を発生する。0°用サイズ判定回路PLIを例にとっ
て説明すると、同回路PL1は、切出回路lPa4の座
標(2,E)、(3,E) 、・・・・・、(8,E)
の画素から入力されてくる7ビツトの0°用サイズ判定
情報を受けて、座標(4,、E)、(5,E)、(6,
E)の画素からの情報がそれぞれ論理「1」で、それ以
外の画素からの情報が論理rOJであったとすると、サ
イズが3画素である旨を示す3ビツトの情報(例えば、
「0IIJ)を3本の出力端子から出力する。各サイズ
判定回路は欠陥のサイズが1〜6画素である旨を示す情
報と、7画素以上であることを示す情報との計7種のサ
イズ情報を出力しうる。
最大サイズ判別回路lPa6は、3個のPROM  P
RI、PH1、PH1で構成されている。
PROM  PRIは、O”、45°用サイズ判定回路
PLI、PL2からの計6ビツトのサイズ情報と、後述
するサイズ判定禁止回路lPa7からの2ビツトのサイ
ズ判定禁止情報とを、入力として8本のアドレス線に受
ける。そして、同FROM  PRIは、サイズが大き
い方のサイズ情報を3本のデータ線から出力する。ただ
し、サイズ判定禁止情報により一方のサイズ情報のサイ
ズ判定が禁止されているときは、他方のサイズ情報をデ
ータ線から出力する。併せてどちらのサイズ情報が選択
されたのかを1本のデータ線から出力する。PROM 
 PH1は、90°、135°用サイズ判定回路PL3
、PL4からの計6ビツトの情報と、後述するサイズ判
定禁止回路lPa7からの2ビツトのサイズ判定禁止情
報とを、入力として8本のアドレス線に受ける。そして
、同FROM  PH1は、サイズが大きい方のサイズ
情報を3本のデータ線から出力する。サイズ判定禁止情
報により一方のサイズ情報のサイズ判定が禁止されてい
るときは、他方のサイズ情報をデータ線から出力する。
併せてどちらのサイズ情報が選択されたのかを1本のデ
ータ線から出力する。FROM  PH1は、先(7)
FROM  PRI、PH1からの8ビツトの並列出力
を8本のアドレス線で受け、より大きいサイズを示す最
大サイズ情報を3本のデータ線で第2図の計ytmcp
に送ると共に、最大サイズ情報がどちらの方向のサイズ
に対応するのかを示す方向情報を2本のデータ線から計
算機CPに出力する。尚、PROM  PRI、PH1
、PH1は、それぞれ両方向のサイズ情報が示すサイズ
が等しい場合には、どちらかの方向のサイズを出力する
ように設定されている。
第1図に戻って、サイズ判定禁止回路[Pa7は、第1
1図に示すようにエツジ検出回路EDと、拡大回路EL
とから構成されている。
エツジ検出回路EDは、第12図に(1)〜(8)を付
した8つの座標の画素情報を切出回路rPa 1から受
けて、エツジの有無と、エツジがあった場合にはその方
向を検出して、その旨を表す情報を出力する。すなわち
、(11〜(4)の4ビツトの情報が全て論理「1」で
あり、かつ(5)〜(8)の4ビツトの情報が全て論理
「0」であるか、またはその逆の論理、すなわち(1)
〜(4)の4ビツトの情報が全て論理「0」であり、か
つ(5)〜(8)の4ビツトの情報が全て論理「1」で
あった場合には、参照画像情報が0°のエツジを表現し
ていると判断し、(8)、(kl〜(3)の4ビツトの
情報が全て論理「1」であり、かつ(4)〜(7)の4
ビツトの情報が全て論理「0」であるか、またはその逆
の論理であった場合には参照画像情報が45°のエツジ
を表現していると判断し、(7)、(8)、(11、(
2)の4ビツトの情報が全て論理「1」であり、かつ(
3)〜(6)の4ビツトの情報が全て論理「0」である
か、またはその逆の論理であった場合には参照画像情報
が90°のエツジを表現していると判断し、(6)〜(
8)、(1)の4ビツトの情報が全て論理「1」であり
、かつ(2)〜(5)の4ビツトの情報が全て論理rO
Jであるか、またはその逆の論理であった場合には参照
画像情報が135°のエツジを表現していると判断し、
4方向に対応した4ビツトの並列出力をエツジ検出情報
として拡大回路ELに送る。
拡大回路ELは、第13図に示すように512のビット
数を有する4個の直列入力並列出力形のシフトレジスタ
5Rcl−3Rc4と、オア回路ORIと、4ビツトの
直列入力並列出力形シフトレジスタSRdとから成る回
路を4&l有している。
シフトレジスタ5Rclの入力端子は4ビツトのエツジ
検出情報のうちの1ビツトを受け、その出力端子はシフ
トレジスタ5Rc2の入力端子に接続される。シフトレ
ジスタ5Rc2の出力端子はシフトレジスタ5Rc3 
(不図示)の入力端子に接続される。以上の接続法がシ
フトレジスタ5Rc4まで繰り返されているので、シフ
トレジスタ5Rcl〜5Rc4では参照画像情報が51
2×4ビツト(画素)に展開されることになる。撮像装
置!Dにおける1走査線のビー/ )数が各シフトレジ
スタSRc 1〜S Rc 4と同じ512ビツトであ
るから、各シフトレジスタ5Rcl〜5Rc4には1走
査線ずつ遅れたエツジ検出情報が格納されることになる
オア回路OR1は5つの入力端子を有し、シフトレジス
タ5Rclに入力されたlビットのエツジ検出情報と、
シフトレジスタ5Rcl〜5Rc4の出力が入力される
。オア回路ORIの出力は、シフトレジスタSRdの入
力端子に送られる。
オア回路OR2は、5つの入力端子を有し、オア回路O
RIの出力と、シフトレジスタSRdの各ピットの出力
とを受ける。従ってこのオア回路OR2の出力は、1と
7)のエツジ検出信号を5×5画素に拡大することにな
る。
拡大回路ELは、シフトレジスタ5Rcl−5Rc4、
オア回路ORI、シフトレジスタ5Rd1オア回路OR
2から成る回路を、4方向のエツジ検出情報に対応して
4組持っているのであるから、その出力も4ビツトの並
列出力となる。この並列出力は、O’ 、45” のエ
ツジに対応する2ビツトと、90°、135°のエツジ
に対応する2ビツトとに分けられ、それぞれサイズ判定
禁止情報として、第1O図で説明したFROM  PR
I、PH1のデータ線にそれぞれ送られる。またこの4
ビツトのサイズ判定禁止情報は、最大サイズ判別回路r
Pa6から最大サイズ情報が出力されたとき、その情報
が示す欠陥がどの方向のエツジ近傍で検出されたかを示
す情報として利用するために後段の計算機CPに送られ
る。
第1図において、タイミング調整回路lPa8は、被検
査画像情報を展開する切出回路lPa2から中心の座標
(5,E)の画素情報を受けて、その出力のタイミング
を最大サイズ判定回路lPa6の出力のタイミングにあ
わせるべく遅延させる。そしてその遅延出力は、判定回
路lPa6が欠陥の最大サイズを示す最大サイズ情報と
その方向を示す方向情報を出力したとき、その欠陥が論
理rOJ、「1」のどちらであるか、つまりパターンが
有るべきところに無い白欠陥か、逆に無いべきところに
有る黒欠陥かを判別する情報として利用できるので、白
黒判別情報として計算機CPに送られる。
第14図、第15図は、直接比較回路IPaの欠陥検査
の処理をパターン化して示した模式図である。
特徴抽出回路IPbとしては、例えば特開昭58−13
4429号公報に開示された方式の回路が採用される。
この回路は、被検査パターンのエツジが所定の段差で屈
曲していることを被検査画像情報から検知したとき、こ
の段差に対応する情報が参照画像情報に含まれているか
どうかを検査して、含まれていないときは欠陥情報を発
生するものである。
以下、本実施例の動作について説明する。
第2図において、被検査物WK上の被検査パターンは、
移動ステージSTの移動に伴いt最像装置IDによって
撮像される。描像装置IDから得られたアナログ画像情
報は、2値化回路BNで2値化されて、パターンが有る
部分は論理rN、無い部分は論理rOJとなる被検査画
像情報となり、検査回路IPに出力される。
計算411CPは、1像装置IDで撮像した被検査パタ
ーンに対応する参照画像情報を、外部記憶装置OMから
読み取ってパターン変形回路DFに出力する。変形回路
OFは、参照画像情報が表す参照パターンを被検査パタ
ーンに対応すべく拡大または縮小させた後、検査回路I
Pに送る。
検査回路IPは、互いに同期した状態で時系列的に入力
されてくる被検査画像情報と参照画像情報とを比較し、
両画像情報の示すパターンに欠陥とみなすべき相違があ
ると、欠陥情報を計算機CPに出力する。計算機CPは
、この欠陥情報を外部記憶装置○Mに送り、そこに記憶
させる。より詳述すると、第3図において、検査回路I
Pを構成する直接比較回路IPaと特徴抽出回路IPb
とは、変形回路DFからの参照画像情報と2値化回路B
Nからの被検査画像情報とを共に受け、それぞれ異なる
処理方式で両画像情報を比較することにより欠陥検査を
行ない、その結果としての欠陥情報をそれぞれ第2図の
計算機CPに送る。計算機CPは両欠陥情報を編集して
、外部記憶装置OMに記憶させる。この編集法について
は後述する。
第1図において、直接比較回路IPaに時系列的に入力
されてくる参照画像情報と被検査画像情報とは、切出回
路lPa1.lPa2にそれぞれ入力され、9X9画素
に展開される。9×9画素の参照画像情報と被検査画像
情報のうち、座標(5,2)の中心画素に入力されてき
た情報は、イクスクルーシプオア回路lPa3に入力さ
れ、イクスクルーシブオア回路lPa3は、再入力情報
が不一致の場合、すなわち被検査パターンに欠陥がある
場合には論理「1」、一致する場合には論理「0」の出
力を、切出回路rPa4に送る。
切出回路lPa4は、イクスクルーシブオア回路lPa
3の時系列的出力を9×9画素に展開する。
第14図(a)、(b)は、検査回路IPに時系列的に
入力してくる参照画像情報と被検査画像情報とを64X
64画素の処理単位で展開し、パターン化した状態を示
している。同図(C)は、イクスクルーシプオア回路l
Pa3の出力を同じく処理単位で展開した状態を示して
いる。これらを対照してみれば分かるように、参照画像
情報に対応する参照パターンPTr (同図(a))と
、被検査画像情報に対応する被検査パターンPTi(同
図(b))とを重ね合わせ、−敗しないところを抜き出
したのが、イクスクルーシブオア回路lPa3の出力に
対応する欠陥パターンPTd(同図(C))となってい
る。
方向別サイズ判定回路lPa5を構成する各サイズ判定
回路PLI〜PL4 (第10図)のそれぞれが、第6
図〜第9図においてハンチングで示した、0°、45°
、90’ 、135°の各方向用サイズ判定情報を切出
回路lPa4から受けて、0°方向に7画素以上、45
°方向に4画素、90゛方向に5画素、135°方向に
4画素であることを示すサイズ情報を出力したとする。
そうすると、最大サイズ判別回路TPa6のPROMP
RIは、0”、45°用サイズ判定回路PLI、PL2
から7画素以上のサイズ情報と4画素のサイズ情報とを
計6本のアドレス線から受けることになる。その時、サ
イズ判定禁止回路lPa7からは何れの方向のサイズ判
定も禁止しない旨の情報を2本のアドレス線から受けで
いたとすると、同FROM  PRIは、アドレス線の
人力により指定されるメモリセルの内容を4ビツトのデ
ータ線から読み出す。その内容は、欠陥のサイズが7画
素以上、その方向が0°であることを示すように予め設
定されている。
一方、PROM  PH1は、90’、135゜用サイ
ズ判定回路PL3、PL4から5画素のサイズ情報と4
画素のサイズ情報とを計6本のアドレス線から受けるこ
とになる。この時、サイズ判定禁止回路lPa7から9
0’の方向のサイズ判定も禁止する旨のサイズ判定禁止
情報を2本のアドレス線から受けていたとすると、同F
ROMPR2は、アドレス線の入力によりI勘定される
メモリセルから欠陥のサイズが4画素、その方向が13
5°であることを示す情報をデータ線から送出する。こ
のように、エツジと平行な方向のサイズを比較の対象か
ら除く処理は、被検査物WKがマスクやレチクル等の場
合に有効な処理である。
エツジと直交する方向の突出量が大きな欠陥は、それが
黒欠陥のときは隣接するパターンと接触してブリッジを
形成したり、逆に白欠陥のときは断線を起こしたりする
。これは、エツジと直交する方向の成分を持つサイズが
、エツジと平行な方向のサイズより重視されねばならな
いことを意味している。従って、本実施例では、エツジ
と平行な方向のサイズを無視して、エツジと直交する成
分を持つサイズの重要度を相対的に上げることとしたも
のである。
FROM  PH1は、先のFROM  PRI、PH
1から計8ビットの並列出力を8本のアドレス線で受け
、アドレス線の入力により指定されるメモリセルから欠
陥のサイズが7画素以上、その方向が0°であることを
示す情報を5本のデータ線から計算機CPに出力する。
第1図、第11図において、エツジ検出回路EDは、第
12図に(1)〜(8)を付した8つの座標の画素情報
を切出回路IPa 1から受け、(7)、(8)、fi
l、(2)の4ビツトの情報が全て論理「1」であり、
かつ(3)〜(6)の4ビツトの情報が全て論理rOJ
であるか、またはその逆の論理であったとすると、参照
画像情報が90’のエツジを表現していると判断し、4
ビツトの並列出力のうち第3位の桁のと、トを論理「1
」とし、残りの3ビツトを論理「0」とする、この4ビ
ツトのエツジ検出情報は、エツジが存在し、その方向が
90’であったことを示す。
拡大回路ELは、90゛のエツジが存在したことを示す
4ビツトのエツジ検出情報を5×5画素に拡大し、サイ
ズ判定禁止情報として、第10図で説明したFROM 
 PH1に送る。PROMPH1は、このエツジ検出情
報を受けて、90゜方向のサイズを比較対象から除く。
第15図(a) 〜(d)は、第14図(a)の参照パ
ターンP T’rのエツジ検出とその結果の拡大とを行
ったの模式図を示している。同図(a)は0°のエツジ
の検出拡大を、同図(b)は45°のエツジの検出拡大
を、同図(C)は90゜のエツジの検出拡大を、同図(
d)は135°のエツジの検出拡大をそれぞれ示してお
り、ハツチングを付した箇所では、サイズの判定が禁止
される。
計算機cpは、最大サイズ判定回路lPa6から最大サ
イズ情報と方向情報とからなる欠陥情報を、拡大回路E
Lからサイズ判定禁止情報を、タイミング調整回路lP
a8から白黒判別情報を、特徴抽出回路IPbから欠陥
情報を受けて、次の処理を行う。
1、被検査画像情報の示すエツジ近傍では、被検査パタ
ーンの撮像情報を2値化する際に2値化誤差(量子化誤
差)による凹凸が不可避的に生じるので、この凹凸まで
が欠陥と誤判定され、また、参照パターンと被検査パタ
ーンとの位置合わせ誤差(参照画像情報と被検査画像情
報との同期ずれ)による誤判定も生ずるという問題があ
る。これらの誤判定により検出された欠陥は、一般に擬
似欠陥と呼ばれている。そこでこの擬似欠陥に対処する
ために、本実施例の計算機CPは次の処理を行っている
。すなわち、最大サイズ判定回路■Pa6から最大サイ
ズ情報が出力されると、サイズ判定禁止情報が出力され
ているか否かを確認することにより、検出された欠陥が
エツジ近傍に在るものか否かを判断する。該禁止情報が
出力されている場合は、欠陥がエツジ近傍で検出された
もので擬似欠陥である可能性があるので、擬似欠陥のサ
イズ(これは2値化誤差や位置合わせ誤差をどの程度許
容するかによって予め分かる)を考慮して規定した許容
値(例えば4WA素)と、出力された最大サイズ情報の
表すサイズとを比較し、許容値を下回るサイズの最大サ
イズ情報は欠陥情報として扱わないようにしている。こ
れにより擬似欠陥を排除するようになっている。
ii、計算機CPは、最大サイズ情報が次々と入力して
くるが、前記64X64画素の処理単位の中で最大のも
のをその処理単位の欠陥のサイズとする。そのための信
号処理としては、新しいサイズ情報が入力してくる度に
、前回入力されてメモリに格納されている旧いサイズ情
報と比較し、新しいサイズ情報がより大きい場合は、メ
モリの内容をこれで更新する。この処理を前記処理単位
の範囲内で行い、最終的に残ったサイズ情報をこの処理
単位の欠陥として、その処理単位の座標(これは例えば
1像装置のサンプリングパルスを計数することで分かる
)、その欠陥のサイズ情報と方向情報、その欠陥が検出
された時の白黒判定情報とサイズ判定禁止情報等を外部
記憶装置OMに記録したり、またCRT等に表示させた
りする。CRTでは、例えば512X512画素で全画
面を構成し、そこに、参照パターンと被検査パターンと
を重ねて表示し、欠陥のある処理単位を64×64ii
!i素の大きさの枠で表示すると共に、その欠陥の種類
を枠内に表示する等の画像処理を行うと好適である。そ
のための技術は、特開昭59−77576号に開示され
ている。欠陥の種類とは、例えばエツジに近接したエツ
ジ欠陥や、エツジから分離した孤立欠陥等の種別をいう
、これは計算機CPが、サイズ判定禁止情報が有る場合
はエツジ欠陥と判断し、無い場合はエツジから離れた孤
立欠陥と判断することにより実現される。
iii 、処理単位内で直接比較回路IPaが欠陥を検
出できなかった場合、電算機CPは、特徴抽出回路IP
bの欠陥情報を取り込む、直接比較回路IPaは、iで
説明したように、擬似欠陥を排除するために、エツジ近
傍に存在する小さいが本当の欠陥まで見落とす虞がある
。しかし、特徴抽出回路IPbは欠陥のサイズは検出し
得ないが、直接比較回路IPaが見落とすエツジ近傍の
欠陥の有無は検出しうるので、欠陥検査の精度が保証さ
れる。
尚、欠陥の方向情報の利用法としては、欠陥の種類の判
定が挙げられる。例えば、第16図に示すように、2つ
のエツジ欠陥D ’31 % D e 2の間に、連続
して孤立欠陥Diが挟まれており、その欠陥の方向が同
じ場合であって、各欠陥が白欠陥の場合は断線欠陥、黒
欠陥の場合はブリッジ欠陥と、計算機CPが判断できる
〔発明の効果〕
以上のように、本発明のパターン欠陥検査装置によれば
、欠陥の各種方向の゛サイズを判定しうるので、いかな
る形状の欠陥でも、適切なサイズ判定が可能となる。
【図面の簡単な説明】
第1図は直接比較回路IPaの構成を示すブロック図、
第2図は本発明に係るパターン欠陥検査装置全体を示す
ブロック図、第3図は検査回路IPの構成を示すブロッ
ク図、第4図は切出回路lPa1の構成を示す回路図、
第5図は切出回路lPa1、lPa2による9×9画素
のウィンドを示す模式図、第6図乃至第9図は各方向の
サイズ判定のために利用される情報の座標を示す模式図
、第10図は方向別サイズ判定回路lPa5と最大サイ
ズ判別回路lPa6との構成を示すブロック図、第11
図はサイズ判定禁止回路lPa7の構成を示すブロック
図、第12図はエツジ検出回路EDが受ける情報の座標
を示す模式図、第13図は拡大回路ELの構成を示す回
路図、第14図、第15図は直接比較回路IPaの欠陥
検査の処理をパターン化して示した模式図、第16図は
断線欠陥またはブリッジ欠陥を示す拡大図である。 〔主要部分の符号の説明〕 ID、BN・・・・・被検査画像情報発生手段OM、D
F・・・・・・参照画像情報発生手段IP・・・・・・
・・・・・・・・・検査手段IPa・・・・・・・・・
・・サイズ判定手段第2図 第4図 O″7f陶のプイス゛牛」定、用・1々宰(5°7向の
ブイχ判定用・置版 第7図 ’yo’i+甘トクプイせ°判定mt貴魅135°方#
Jのサイス°甲1足用七即老し第9図 第11図 45°      qo″     /35゜第12図 第1,3図 (b)    第14図 第15図

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)設計情報に基づいて形成された被検査パターンを
    有する被検査物を撮像して、該被検査パターンに対応す
    る被検査画像情報を出力する被検査画像情報発生手段と
    、 前記設計情報を前記被検査画像情報と比較しうる形に処
    理して参照画像情報として出力する参照画像情報発生手
    段と、 前記被検査画像情報と前記参照画像情報とを比較して、
    その結果から前記被検査パターンの欠陥を検出する検査
    手段とを有するパターン欠陥検査装置において、 前記検査手段は、前記欠陥の各種方向のサイズを判定す
    るサイズ判定手段を含むことを特徴とするパターン欠陥
    検査装置。
  2. (2)前記サイズ判定手段は前記各種方向のサイズを比
    較する比較手段を含み、該比較手段はそれらの中から最
    大のものを選択して出力することを特徴とする特許請求
    の範囲第2項記載のパターン欠陥検査装置。
  3. (3)前記検査手段は前記参照画像情報が表すエッジの
    方向を検出し、該エッジと平行な方向のサイズを前記比
    較手段における比較対象から除くことを特徴とする特許
    請求の範囲第1項記載のパターン欠陥検査装置。
JP61118833A 1986-03-12 1986-05-23 パタ−ン欠陥検査装置 Pending JPS62274477A (ja)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP61118833A JPS62274477A (ja) 1986-05-23 1986-05-23 パタ−ン欠陥検査装置
US07/473,103 US5046109A (en) 1986-03-12 1990-02-01 Pattern inspection apparatus

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP61118833A JPS62274477A (ja) 1986-05-23 1986-05-23 パタ−ン欠陥検査装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS62274477A true JPS62274477A (ja) 1987-11-28

Family

ID=14746283

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP61118833A Pending JPS62274477A (ja) 1986-03-12 1986-05-23 パタ−ン欠陥検査装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS62274477A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN100386773C (zh) * 2004-12-27 2008-05-07 欧姆龙株式会社 图像处理方法、基板检查方法和装置及检查数据制作方法

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN100386773C (zh) * 2004-12-27 2008-05-07 欧姆龙株式会社 图像处理方法、基板检查方法和装置及检查数据制作方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPS6332666A (ja) パタ−ン欠陥検出方法
US7869643B2 (en) Advanced cell-to-cell inspection
US20030031356A1 (en) Pattern inspection apparatus and method
JP2502875B2 (ja) 配線パタ―ン検査装置
CN1331206C (zh) 缺陷检查方法
JP5010207B2 (ja) パターン検査装置及び半導体検査システム
JPS61212708A (ja) 多層パターン欠陥検出方法及びその装置
JP2009047458A (ja) 回路パターン検査装置および検査方法
JP2924859B2 (ja) 外観検査方法及び装置
JP4084969B2 (ja) パターン検査装置及びパターン検査方法
JPH06129992A (ja) 周期性パターンの検査装置
JPS62280981A (ja) パタ−ン欠陥検査装置
JP2676990B2 (ja) 配線パターン検査装置
JP3106370B2 (ja) グラフ情報によるプリント基板の欠陥検出及び種別認識方法
JPH1091788A (ja) パターン位置合わせ装置およびパターン位置合わせ方法
JP2712803B2 (ja) 配線パターン検査装置
JPH03170930A (ja) パターン検査装置
JP2819905B2 (ja) 配線パターン検査装置
JP3198105B2 (ja) 自動外観検査装置
JP2765339B2 (ja) スルーホール検査装置
JPH01296142A (ja) 2次元画像比較検査装置
JP2924860B2 (ja) 異物検査方法及び装置
JP2825392B2 (ja) プリント配線板における画像パターンの検査方法及びその装置
JPH03252546A (ja) 配線パターン検査装置
JP2998518B2 (ja) パターン検査装置