JPS62279083A - 粉体プラズマ肉盛溶接方法 - Google Patents
粉体プラズマ肉盛溶接方法Info
- Publication number
- JPS62279083A JPS62279083A JP12212186A JP12212186A JPS62279083A JP S62279083 A JPS62279083 A JP S62279083A JP 12212186 A JP12212186 A JP 12212186A JP 12212186 A JP12212186 A JP 12212186A JP S62279083 A JPS62279083 A JP S62279083A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- gas
- welding
- plasma
- metal
- scale
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- Pending
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- Arc Welding In General (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
８、発明の詳細な説明
〔産業上の利用分野〕
本発明は粉体プラズマ肉盛溶接方法に関する。
粉体プラズマ溶接法は、無溶接材料の溶接が可能である
ため、最近その用途が飛躍的に拡大しつつある。
ため、最近その用途が飛躍的に拡大しつつある。
従来の粉体プラズマ溶接法においては、プラズマガスお
よびシールドガスとしてアルゴンガス。
よびシールドガスとしてアルゴンガス。
ヘリウムガスをそれぞれ単独で使用するか、あるいは両
者の混合ガスが使用されていた。
者の混合ガスが使用されていた。
上記のように、アルゴンガス、ヘリウムガス単独あるい
は両者の混合ガスをプラズマガスおよびシールドガスと
して使用すると、強固な酸化物を形成しやすい粉末にて
肉盛溶接を実施する場合、溶接金属が著しく酸化（いわ
ゆるスケール付着）する。そのため、次に積層する溶接
金属に悪影響をおよぼし、場合によっては溶接金属に割
れが発生することがあった。これを防止するために、溶
接各層あるいは各溶接パスごとに、溶接金属表面の酸化
物をグラインダにより除去する必要があった。このこと
は溶接作業時間の増加につ々がり、コストの著しい上昇
を招いてイタ。
は両者の混合ガスをプラズマガスおよびシールドガスと
して使用すると、強固な酸化物を形成しやすい粉末にて
肉盛溶接を実施する場合、溶接金属が著しく酸化（いわ
ゆるスケール付着）する。そのため、次に積層する溶接
金属に悪影響をおよぼし、場合によっては溶接金属に割
れが発生することがあった。これを防止するために、溶
接各層あるいは各溶接パスごとに、溶接金属表面の酸化
物をグラインダにより除去する必要があった。このこと
は溶接作業時間の増加につ々がり、コストの著しい上昇
を招いてイタ。
本発明は、上記欠点を解消し溶接金属表面に酸化物のな
い清浄な溶接金属を形成し、割れ発生を防止できる粉体
プラズマ肉盛溶接方法を提供することを目的とするもの
である。
い清浄な溶接金属を形成し、割れ発生を防止できる粉体
プラズマ肉盛溶接方法を提供することを目的とするもの
である。
上記問題点を解決する本発明の手段は、体積率で２〜８
０俤の水素ガスを含有し、残部がアルゴンガスまたはヘ
リウムガス単独あるいは両者の混合ガスからなるガスを
プラズマガスおよびシールドガスとして使用することを
特徴とする粉体プラズマ肉盛溶接方法、である。
０俤の水素ガスを含有し、残部がアルゴンガスまたはヘ
リウムガス単独あるいは両者の混合ガスからなるガスを
プラズマガスおよびシールドガスとして使用することを
特徴とする粉体プラズマ肉盛溶接方法、である。
本発明者は、粉体プラズマ肉盛溶接時におけるプラズマ
ガスおよびシールドガスの組成と、肉盛溶接金属表面に
発生するスケールと、積層溶接により発生する割れとの
関係を詳細に検討した。その結果、体積率で２〜３０係
の水素ガスを含有し、残部がアルゴンガスあるいはヘリ
ウムガス単独、または両者の混合ガスからなるプラズマ
ガスおよびシールドガスを使用すれば、溶接金属表面に
スケールの発生がなく、さらに積層を実施しても溶接金
属層に割れが発生し方いことを見出した。
ガスおよびシールドガスの組成と、肉盛溶接金属表面に
発生するスケールと、積層溶接により発生する割れとの
関係を詳細に検討した。その結果、体積率で２〜３０係
の水素ガスを含有し、残部がアルゴンガスあるいはヘリ
ウムガス単独、または両者の混合ガスからなるプラズマ
ガスおよびシールドガスを使用すれば、溶接金属表面に
スケールの発生がなく、さらに積層を実施しても溶接金
属層に割れが発生し方いことを見出した。
つぎにプラズマガスおよびシールドガスの組成において
水素ガスを体積率で２〜３０チに限定した理由を説明す
る。
水素ガスを体積率で２〜３０チに限定した理由を説明す
る。
水素ガス量２係未満では、肉盛溶接金属表面にスケール
が発生し、そのため積層時に溶接金属層に割れが発生す
る。一方、水素ガス量が３０係をこえて含有すると、プ
ラズマの集中性が高まり、被肉盛材料（母材）の溶接金
属への溶込みが多くなる。そのため粉体プラズマ肉盛溶
接法の特徴である低希釈率を確保できなくなる。その結
果溶接金属の特性１例えば高硬度、を確保できない。
が発生し、そのため積層時に溶接金属層に割れが発生す
る。一方、水素ガス量が３０係をこえて含有すると、プ
ラズマの集中性が高まり、被肉盛材料（母材）の溶接金
属への溶込みが多くなる。そのため粉体プラズマ肉盛溶
接法の特徴である低希釈率を確保できなくなる。その結
果溶接金属の特性１例えば高硬度、を確保できない。
次に本発明の実施例を従来法と比較して説明する。また
水素ガス含有量が本発明の範囲外のガスを使用した場合
も比較例として示す。
水素ガス含有量が本発明の範囲外のガスを使用した場合
も比較例として示す。
これらの実施例の比較試験における種々の条件は下記の
通りである。
通りである。
ａ）使用母材・、 ｓ ｓ ４，１材、板厚５０１１ｂ
）肉盛金属・・・ＪＩＳ ５ＫＩ−１５３相当粉末Ｃ
）溶接機・・・定格３００Ａの粉体プラズマ肉盛溶接装
置 ａ） シールドガス・・・■純アルゴン、■純ヘリウ
ム。
）肉盛金属・・・ＪＩＳ ５ＫＩ−１５３相当粉末Ｃ
）溶接機・・・定格３００Ａの粉体プラズマ肉盛溶接装
置 ａ） シールドガス・・・■純アルゴン、■純ヘリウ
ム。
０５０％アルゴン＋５０係ヘリウ
ム、■アルゴン＋水素の混合ガス。
■ヘリウム＋水素の混合ガス。
■アルゴン＋ヘリウム＋水素ノ混
合ガス
ｅ）積 層・・・１層当り３パスで２層盛りｆ）溶接
条件・・・電流：１５０Ａ、電圧：ｇｏｖ。
条件・・・電流：１５０Ａ、電圧：ｇｏｖ。
溶接速度二８ＣｌｌＬＺ分。
粉体供給量：８０＃／分。
プラズマガス流量＝１１／分。
シールドガス流量：２５／／分
上記条件により実施した粉体プラズマ肉盛溶接の従来法
、比較例（水素含有量が本発明の範囲外）および本発明
法それぞれにおける、スケール、割れの発生、初層の希
釈率、および焼入、焼戻し後の硬さを比較して第１表に
示す。
、比較例（水素含有量が本発明の範囲外）および本発明
法それぞれにおける、スケール、割れの発生、初層の希
釈率、および焼入、焼戻し後の硬さを比較して第１表に
示す。
第１表から明らかなように、従来法ではスケールおよび
割れが発生し、比較例ではガス中の水素含有量が本発明
より少ない場合はスケール、割れが発生し、多い場合は
希釈率が大きくなり、焼入。
割れが発生し、比較例ではガス中の水素含有量が本発明
より少ない場合はスケール、割れが発生し、多い場合は
希釈率が大きくなり、焼入。
焼戻し後の硬さが低下する。本発明によれば、スケール
、割れの発生はなく、しかも希釈率が小さく、焼入、焼
戻し後の硬さも確保できる。
、割れの発生はなく、しかも希釈率が小さく、焼入、焼
戻し後の硬さも確保できる。
以上説明したように、本発明では粉体プラズマ肉盛溶接
において、所定量の水素ガスを含有するアルゴンガスあ
るいはヘリウムガスをプラズマガスおよびシールドガス
として使用することにより、肉盛溶接金属のスケールお
よび割れの発生を防止することができ、さらに低希釈の
溶接を行々うことができた。
において、所定量の水素ガスを含有するアルゴンガスあ
るいはヘリウムガスをプラズマガスおよびシールドガス
として使用することにより、肉盛溶接金属のスケールお
よび割れの発生を防止することができ、さらに低希釈の
溶接を行々うことができた。
Claims (1)
- 体積率で２〜３０％の水素ガスを含有し、残部がアルゴ
ンガスまたはヘリウムガス単独あるいは両者の混合ガス
からなるガスをプラズマガスおよびシールドガスとして
使用することを特徴とする粉体プラズマ肉盛溶接方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12212186A JPS62279083A (ja) | 1986-05-29 | 1986-05-29 | 粉体プラズマ肉盛溶接方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12212186A JPS62279083A (ja) | 1986-05-29 | 1986-05-29 | 粉体プラズマ肉盛溶接方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62279083A true JPS62279083A (ja) | 1987-12-03 |
Family
ID=14828140
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12212186A Pending JPS62279083A (ja) | 1986-05-29 | 1986-05-29 | 粉体プラズマ肉盛溶接方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62279083A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2772013A1 (fr) * | 1997-12-10 | 1999-06-11 | Air Liquide | Melange gazeux ternaire et application de ce melange a la projection plasma de materiaux refractaires |
| FR2813598A1 (fr) * | 2000-09-06 | 2002-03-08 | Air Liquide | Projection plasma avec melange gazeux ternaire |
| JPWO2008111150A1 (ja) * | 2007-03-12 | 2010-06-24 | 三菱重工業株式会社 | 弁装置 |
-
1986
- 1986-05-29 JP JP12212186A patent/JPS62279083A/ja active Pending
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2772013A1 (fr) * | 1997-12-10 | 1999-06-11 | Air Liquide | Melange gazeux ternaire et application de ce melange a la projection plasma de materiaux refractaires |
| EP0924968A1 (fr) * | 1997-12-10 | 1999-06-23 | L'air Liquide, Societe Anonyme Pour L'etude Et L'exploitation Des Procedes Georges Claude | Mélange gazeux ternaire et application de ce mélange à la projection plasma de matériaux réfractaires |
| US6265687B1 (en) | 1997-12-10 | 2001-07-24 | L'air Liquide, Societe Anonyme Pour L'etude Et L'exploitation Des Procedes Georges Claude | Method of using a ternary gaseous mixture in the plasma projection of refractory materials |
| FR2813598A1 (fr) * | 2000-09-06 | 2002-03-08 | Air Liquide | Projection plasma avec melange gazeux ternaire |
| WO2002020399A1 (fr) * | 2000-09-06 | 2002-03-14 | L'air Liquide, Societe Anonyme A Directoire Et Conseil De Surveillance Pour L'etude Et L'exploitation Des Procedes Georges Claude | Projection plasma avec melange gazeux ternaire |
| JPWO2008111150A1 (ja) * | 2007-03-12 | 2010-06-24 | 三菱重工業株式会社 | 弁装置 |
| JP5101601B2 (ja) * | 2007-03-12 | 2012-12-19 | 三菱重工業株式会社 | 弁装置 |
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