JPS62280308A - 銀−パラジウム合金微粉末の製造方法 - Google Patents
銀−パラジウム合金微粉末の製造方法Info
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- JPS62280308A JPS62280308A JP61125495A JP12549586A JPS62280308A JP S62280308 A JPS62280308 A JP S62280308A JP 61125495 A JP61125495 A JP 61125495A JP 12549586 A JP12549586 A JP 12549586A JP S62280308 A JPS62280308 A JP S62280308A
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B22—CASTING; POWDER METALLURGY
- B22F—WORKING METALLIC POWDER; MANUFACTURE OF ARTICLES FROM METALLIC POWDER; MAKING METALLIC POWDER; APPARATUS OR DEVICES SPECIALLY ADAPTED FOR METALLIC POWDER
- B22F9/00—Making metallic powder or suspensions thereof
- B22F9/16—Making metallic powder or suspensions thereof using chemical processes
- B22F9/18—Making metallic powder or suspensions thereof using chemical processes with reduction of metal compounds
- B22F9/24—Making metallic powder or suspensions thereof using chemical processes with reduction of metal compounds starting from liquid metal compounds, e.g. solutions
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- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
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- H05K1/00—Printed circuits
- H05K1/02—Details
- H05K1/09—Use of materials for the conductive, e.g. metallic pattern
- H05K1/092—Dispersed materials, e.g. conductive pastes or inks
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- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Manufacture Of Metal Powder And Suspensions Thereof (AREA)
- Powder Metallurgy (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
3、発明の詳細な説明
〔産業上の利用分野〕
本発明は電子工業分野における電極材料もしくは接点等
、なかでもセラミックコンデンサー等の製造に使用され
る銀−パラジウム合金微粉末の製造方法に関する。
、なかでもセラミックコンデンサー等の製造に使用され
る銀−パラジウム合金微粉末の製造方法に関する。
電子工業の分野でスクリーン印刷方法による厚膜導電回
路用に銀−パラジウムペーストが広く使用されている。
路用に銀−パラジウムペーストが広く使用されている。
銀−パラジウムを使用する目的は銀のみで配線した場合
におこるマイグレーションを抑制すること及びパラジウ
ムを加えることによって銀の融点を上げ、所望する焼成
温度における基板使用条件に適用できるようにするなど
がある。
におこるマイグレーションを抑制すること及びパラジウ
ムを加えることによって銀の融点を上げ、所望する焼成
温度における基板使用条件に適用できるようにするなど
がある。
近年、?li子部品の小形化、精密化に伴って導電膜の
厚さは数ミクロン、まで薄く、しかも配線回路の幅と間
隔はいっそう狭くすること(例えば100ミクロン)が
要求されている。そのためペーストを構成する導電性金
属粉は粒径が小さく、粒度のそろった、組成が均一なも
のが必要となっている。
厚さは数ミクロン、まで薄く、しかも配線回路の幅と間
隔はいっそう狭くすること(例えば100ミクロン)が
要求されている。そのためペーストを構成する導電性金
属粉は粒径が小さく、粒度のそろった、組成が均一なも
のが必要となっている。
ところが、銀−パラジウムペーストは従来別々に製造さ
れた銀粉とパラジウム粉とを非常に長時間混合して相互
の均一分散をはかって使用されている。
れた銀粉とパラジウム粉とを非常に長時間混合して相互
の均一分散をはかって使用されている。
この方法の問題点は、
(1)分散のために数10時間と非常に長時間を要する
。しかしそれでも、 (2)混合物に本質的である微視的領域での組成の不均
質さは避けられない。
。しかしそれでも、 (2)混合物に本質的である微視的領域での組成の不均
質さは避けられない。
従って、前記の電子部品にたいする要求を十分満足でき
ない。
ない。
さらに、セラミックコンデンサーの内部電極として従来
の銀とパラジウムの混合物を使用した場合、セラミック
が焼成して強度を増加する以前の温度、すなわち100
〜500℃の温度範囲内で前記混合粉が焼成中に合金形
成に伴う異常膨張、収縮を生るため、電極とセラミック
との間に層割れ(デラミネーション)を起す可能性が高
く、コンデンサーの容量低下を生じ易かった。
の銀とパラジウムの混合物を使用した場合、セラミック
が焼成して強度を増加する以前の温度、すなわち100
〜500℃の温度範囲内で前記混合粉が焼成中に合金形
成に伴う異常膨張、収縮を生るため、電極とセラミック
との間に層割れ(デラミネーション)を起す可能性が高
く、コンデンサーの容量低下を生じ易かった。
この傾向は誘電体の膜厚が簿くなる程激しいものである
。
。
上記の問題点を解決する方法として、銀とパラジウムの
合金粉末を使用することが考えられ、そのための報告も
いくつかある。例えば特開昭58−11701.特開昭
59−132503、特開昭59−224111があり
、粉末の製造法の観点からは特開昭53−56125が
ある。
合金粉末を使用することが考えられ、そのための報告も
いくつかある。例えば特開昭58−11701.特開昭
59−132503、特開昭59−224111があり
、粉末の製造法の観点からは特開昭53−56125が
ある。
銀−パラジウムの合金粉を製造する上記のごとき従来技
術の方法はいずれも、銀とパラジウムの混合酸化物か混
合水酸化物を水素気流中で加熱還元(特開昭58−11
701.特開昭59−132503、特開昭53−56
125)するかあるいは銀粉とパラジウム粉を十分に混
合したのち300℃で大気中で加熱する(特開昭59−
224111)といった方法である。これらは合金化す
るための前駆体、即ち、酸化物、水酸化物あるいは2種
の金属粉が必要であり、しかも危険な水素を使用するな
ど工業上有利な方法ではない。さらに大気中で高温に加
熱することは粒子同志の焼結及び銀、パラジウt1の酸
化を生じて好ましくないものであった。
術の方法はいずれも、銀とパラジウムの混合酸化物か混
合水酸化物を水素気流中で加熱還元(特開昭58−11
701.特開昭59−132503、特開昭53−56
125)するかあるいは銀粉とパラジウム粉を十分に混
合したのち300℃で大気中で加熱する(特開昭59−
224111)といった方法である。これらは合金化す
るための前駆体、即ち、酸化物、水酸化物あるいは2種
の金属粉が必要であり、しかも危険な水素を使用するな
ど工業上有利な方法ではない。さらに大気中で高温に加
熱することは粒子同志の焼結及び銀、パラジウt1の酸
化を生じて好ましくないものであった。
さらに、これら従来方法によって製造した粉末は部分的
には合金化しているものの、銀及びパラジウム粉末が混
存しているものであり、層割れを完全に防止し得るもの
なはないという問題点を有するものであった。
には合金化しているものの、銀及びパラジウム粉末が混
存しているものであり、層割れを完全に防止し得るもの
なはないという問題点を有するものであった。
本発明の目的はこのような従来の問題点を解消すべくな
されたもので、任意の組成に制御した銀−パラジウムの
合金組成を有し、セラミックコンデンサー内部電極用と
して使用した場合に層割れを生じず、その他電子工業分
野にも好適に使用できる銀−パラジウム合金微粉末を湿
式法の簡便な方法と装置により製造し得る方法を提供す
ることにある。
されたもので、任意の組成に制御した銀−パラジウムの
合金組成を有し、セラミックコンデンサー内部電極用と
して使用した場合に層割れを生じず、その他電子工業分
野にも好適に使用できる銀−パラジウム合金微粉末を湿
式法の簡便な方法と装置により製造し得る方法を提供す
ることにある。
本発明者らは、前記目的を達成すへく種々研究を重ねた
結果、銀及びパラジウムをイオンとして含有する酸性溶
液にとドラジンあるいはヒドラジン化合物(以下、これ
らをヒドラジン化合物と称す)を加えることにより、平
均粒径0.01〜1.0ミクロンの銀−パラジウム合金
微粉末が還元析出されること、そしてこれを常法により
ろ過、洗浄、乾燥し、さらに必要により不活性雰囲気中
あるいは真空中で温度100〜500℃で加熱処理する
ことにより、平均粒径0.01〜1.0ミクロンを有し
、層割れを起こさない銀−パラジウム合金微粉末が得ら
れることを見い出し、本発明を完成させたものである。
結果、銀及びパラジウムをイオンとして含有する酸性溶
液にとドラジンあるいはヒドラジン化合物(以下、これ
らをヒドラジン化合物と称す)を加えることにより、平
均粒径0.01〜1.0ミクロンの銀−パラジウム合金
微粉末が還元析出されること、そしてこれを常法により
ろ過、洗浄、乾燥し、さらに必要により不活性雰囲気中
あるいは真空中で温度100〜500℃で加熱処理する
ことにより、平均粒径0.01〜1.0ミクロンを有し
、層割れを起こさない銀−パラジウム合金微粉末が得ら
れることを見い出し、本発明を完成させたものである。
以下に本発明の構成を作用とともにさらに詳細に説明す
る。
る。
本発明は銀イオンとパラジウムイオンが共存する溶液を
出発物質とする。銀イオン源としては銀をイオンとして
含有する水溶液、好ましくは硝酸銀の水溶液を使用する
。パラジウムイオン源としてはパラジウムをイオンとし
て含む溶液ならば何でもよいが、硝酸パラジウム水溶液
が好ましい、塩化パラジウム溶液は塩素イオンが前記共
存する銀イオンと反応して塩化銀の沈澱を生じて銀が出
発物質のイオンとして有効に使われなくなること、しか
も最終生成物が配線回路材料として悪影響のある塩素を
含む恐れがあること等から好ましくない。
出発物質とする。銀イオン源としては銀をイオンとして
含有する水溶液、好ましくは硝酸銀の水溶液を使用する
。パラジウムイオン源としてはパラジウムをイオンとし
て含む溶液ならば何でもよいが、硝酸パラジウム水溶液
が好ましい、塩化パラジウム溶液は塩素イオンが前記共
存する銀イオンと反応して塩化銀の沈澱を生じて銀が出
発物質のイオンとして有効に使われなくなること、しか
も最終生成物が配線回路材料として悪影響のある塩素を
含む恐れがあること等から好ましくない。
前記、硝酸銀水溶液と硝酸パラジウム水溶液を混合し、
硝酸酸性溶液とする。酸性溶液であることは本発明の銀
−パラジウム合金微粉末製造には不可欠である。混合溶
液中の銀及びパラジウムイオン濃度は10〜200g/
Qが適当である。
硝酸酸性溶液とする。酸性溶液であることは本発明の銀
−パラジウム合金微粉末製造には不可欠である。混合溶
液中の銀及びパラジウムイオン濃度は10〜200g/
Qが適当である。
銀とパラジウムの濃度比は最終的に生成する銀−パラジ
ウム合金微粉末の組成に対応して選択することができる
。つまり1本発明の銀−パラジウム合金微粉末の組成比
は出発物質となる前記銀、パラジウム混合溶液の濃度比
を変えることにより容易に任意に制御することができる
。
ウム合金微粉末の組成に対応して選択することができる
。つまり1本発明の銀−パラジウム合金微粉末の組成比
は出発物質となる前記銀、パラジウム混合溶液の濃度比
を変えることにより容易に任意に制御することができる
。
その結果、工業的に用いられている数%〜数10%のパ
ラジウムを含む銀−パラジウム厚膜回路用のペーストに
適する合金粉だけでなく、極めて幅広い範囲のパラジウ
ム含量を有する銀−パラジウム合金微粉末を製造するこ
とができる。
ラジウムを含む銀−パラジウム厚膜回路用のペーストに
適する合金粉だけでなく、極めて幅広い範囲のパラジウ
ム含量を有する銀−パラジウム合金微粉末を製造するこ
とができる。
次に、銀、パラジウム混合酸性溶液中にヒドラジン化合
物を添加し、銀イオンとパラジウムイオンを微粉末状態
で還元析出せしめる。しかも1合金粉の組成は混合溶液
の濃度比がそのままの比率で析出粉末に移ることで決め
られる。
物を添加し、銀イオンとパラジウムイオンを微粉末状態
で還元析出せしめる。しかも1合金粉の組成は混合溶液
の濃度比がそのままの比率で析出粉末に移ることで決め
られる。
ここに本発明の有用性がある。
ヒドラジン化合物の添加量は前記銀−パラジウム混合溶
液中の銀イオンおよびパラジウムイオンを還元するに必
要な当量の2〜10倍量が適量である。
液中の銀イオンおよびパラジウムイオンを還元するに必
要な当量の2〜10倍量が適量である。
2倍量未満では還元が不十分であるか、還元反応に長時
間を要する。10倍量以上では過剰のヒドラジン化合物
の損失を招く。
間を要する。10倍量以上では過剰のヒドラジン化合物
の損失を招く。
還元剤として用いるヒドラジン化合物としてはヒドラジ
ンを成分として含み、ヒドラジンと同様な作用により還
元を行うことのできる化合物ならば何でもよいが、抱水
ヒドラジンが好ましい。
ンを成分として含み、ヒドラジンと同様な作用により還
元を行うことのできる化合物ならば何でもよいが、抱水
ヒドラジンが好ましい。
還元時の溶液の温度は10〜100℃とすることが好ま
しい、低温では反応が遅く、シかも得られる合金微粉末
の組成が不均質になる傾向があり、100℃以上では溶
液が沸騰して操業が困難になる。 ゛ ヒドラジン化合物が溶液中の銀イオンおよびパラジウム
イオンの全量と効率的に反応するように攪はん等の従来
の方法を用いて反応を促進してもよい0反応に従って起
こる発泡がなくなり、それ以上の変化が認められなくな
るまで反応を続ける。
しい、低温では反応が遅く、シかも得られる合金微粉末
の組成が不均質になる傾向があり、100℃以上では溶
液が沸騰して操業が困難になる。 ゛ ヒドラジン化合物が溶液中の銀イオンおよびパラジウム
イオンの全量と効率的に反応するように攪はん等の従来
の方法を用いて反応を促進してもよい0反応に従って起
こる発泡がなくなり、それ以上の変化が認められなくな
るまで反応を続ける。
次に、還元析出した銀−パラジウム合金微粉末をスラリ
ー状態で含む溶液から該微粉°末を分離回収するために
常法に従って固液分離を行なう。ここでいう常法とは重
力沈降、減圧ろ過、遠心分離、加圧ろ過など、従来技術
の方法のいずれでもよい。
ー状態で含む溶液から該微粉°末を分離回収するために
常法に従って固液分離を行なう。ここでいう常法とは重
力沈降、減圧ろ過、遠心分離、加圧ろ過など、従来技術
の方法のいずれでもよい。
次に、固液分離された。湿った状態の微粉末はこれも常
法による後処理を施す。すなわち微粉末を水で洗浄して
、微粉末に付着した溶液成分を除去する1次に、乾燥に
先立って低沸点溶媒を用いて微粉末を洗浄し、微粉末に
付着した水を置換除去する。この場合用いる低沸点溶媒
としてはアセトンのごとき水酸基を有しない溶媒を用い
る。水酸基を有する溶媒は銀−パラジウム微粉末の触媒
作用により、自然燃焼して有効に作用し得ないだけでな
く、安全操業上も好ましくない。
法による後処理を施す。すなわち微粉末を水で洗浄して
、微粉末に付着した溶液成分を除去する1次に、乾燥に
先立って低沸点溶媒を用いて微粉末を洗浄し、微粉末に
付着した水を置換除去する。この場合用いる低沸点溶媒
としてはアセトンのごとき水酸基を有しない溶媒を用い
る。水酸基を有する溶媒は銀−パラジウム微粉末の触媒
作用により、自然燃焼して有効に作用し得ないだけでな
く、安全操業上も好ましくない。
次いで低沸点溶媒の付着した1分離回収した合金微粉末
を乾燥して低沸点溶媒を揮発除去する。乾燥時の雰囲気
は大気あるいは不活性ガスあるいは真空のいずれでもよ
いが、通常は大気中で行なうのが好ましい。乾燥温度は
特に制限はなく、大気中の場合でも室温から90℃位の
範囲の温度で乾燥することができる。
を乾燥して低沸点溶媒を揮発除去する。乾燥時の雰囲気
は大気あるいは不活性ガスあるいは真空のいずれでもよ
いが、通常は大気中で行なうのが好ましい。乾燥温度は
特に制限はなく、大気中の場合でも室温から90℃位の
範囲の温度で乾燥することができる。
このようにして得られた銀−パラジウム微粉末は後記す
るように銀とパラジウムとが合金化したものであり、そ
の粒径は0.01〜1.0ミクロンと極めて微細なもの
である。
るように銀とパラジウムとが合金化したものであり、そ
の粒径は0.01〜1.0ミクロンと極めて微細なもの
である。
得られた銀−パラジウム合金微粉末はその後、不活性雰
囲気中あるいは真空中で温度100〜500℃で加熱処
理するようにしてもよい。この加熱処理により銀−パラ
ジウム合金微粉末の表面積が小さくなり、同時に銀−パ
ラジウム合金微粉未組織の均一化がなお一層促進される
ことになる。なお、この加熱処理温度が100℃未満で
は加熱処理の効果が十分でなく、逆に500℃を越えて
も表面積及び組織の均一化の状態の進展が見られなくな
る。この加熱処理は合金微粉末が生成した水溶液スラリ
ーのまま実施してもよいし、乾燥して微粉末として回収
した後に乾式、湿式いずれかの方法で行ってもよい。
囲気中あるいは真空中で温度100〜500℃で加熱処
理するようにしてもよい。この加熱処理により銀−パラ
ジウム合金微粉末の表面積が小さくなり、同時に銀−パ
ラジウム合金微粉未組織の均一化がなお一層促進される
ことになる。なお、この加熱処理温度が100℃未満で
は加熱処理の効果が十分でなく、逆に500℃を越えて
も表面積及び組織の均一化の状態の進展が見られなくな
る。この加熱処理は合金微粉末が生成した水溶液スラリ
ーのまま実施してもよいし、乾燥して微粉末として回収
した後に乾式、湿式いずれかの方法で行ってもよい。
加熱処理する前の銀−パラジウム合金微粉末の比表面積
は5〜30m/gであり、製造条件や粒径、粉末組成等
によって異なるがその一例を表−1に示す。また、加熱
処理した後の結果を表−2に示す。表−2より、加熱処
理することにより表面の微細な凹凸が滑らかになって比
表面積が低下することがわかる。また後述するように合
金の組織状態も均一になる。このように、加熱処理する
ことにより比表面積が小さくなることは合金粉を塗料や
ペースト材料として使用する場合、表面積が大きいと吸
油量が多くなったり、耐酸化性が低下したり、不都合が
生じたりすることが防止されることになる。
は5〜30m/gであり、製造条件や粒径、粉末組成等
によって異なるがその一例を表−1に示す。また、加熱
処理した後の結果を表−2に示す。表−2より、加熱処
理することにより表面の微細な凹凸が滑らかになって比
表面積が低下することがわかる。また後述するように合
金の組織状態も均一になる。このように、加熱処理する
ことにより比表面積が小さくなることは合金粉を塗料や
ペースト材料として使用する場合、表面積が大きいと吸
油量が多くなったり、耐酸化性が低下したり、不都合が
生じたりすることが防止されることになる。
−平均粒径は電子顕微鏡写真から測定した値(以下余白
) 以下にX線回折による解析結果より合金化の様子を説明
する。
) 以下にX線回折による解析結果より合金化の様子を説明
する。
第1図〜第3項は比較例、第4図〜第6図が本発明に関
するデータである。
するデータである。
第1図は市販の銀粉(0,2ミクロン)とパラジウム粉
(0,1ミクロン)を長時間よく混合した銀−パラジウ
ム混合粉のパラジウム30重量%のX線回折図である。
(0,1ミクロン)を長時間よく混合した銀−パラジウ
ム混合粉のパラジウム30重量%のX線回折図である。
銀とパラジウムそれぞれのピークがあり、単なる混合状
態で存在していることがわかる。
態で存在していることがわかる。
第2図は上記混合粉を窒素中で200℃、60分間加熱
処理した場合、第3図は400℃、60分間同しく窒素
中で加熱処理したものである。200℃では混合状態に
変化はなく、400℃ではじめて部分的に合金化してく
るが、依然としてパラジウム単体が存在していることが
わかる。
処理した場合、第3図は400℃、60分間同しく窒素
中で加熱処理したものである。200℃では混合状態に
変化はなく、400℃ではじめて部分的に合金化してく
るが、依然としてパラジウム単体が存在していることが
わかる。
第4図は本発明の方法に従って製造したパラジウム30
重量%の銀−パラジウム合金微粉末(平均粒径0.2ミ
クロン)のX線回折図である。第5図、第6図はこの合
金微粉末を窒素中でそれぞれ200℃、60分間、 4
00℃、60分間加熱処理した場合のX線回折図である
。
重量%の銀−パラジウム合金微粉末(平均粒径0.2ミ
クロン)のX線回折図である。第5図、第6図はこの合
金微粉末を窒素中でそれぞれ200℃、60分間、 4
00℃、60分間加熱処理した場合のX線回折図である
。
前記混合粉の場合と異なり、本発明方法による粉末では
すでに合金化が完了していることがわかる。完全に固溶
して粒子成長し、組織がより均一化した場合が第6図に
相当する。
すでに合金化が完了していることがわかる。完全に固溶
して粒子成長し、組織がより均一化した場合が第6図に
相当する。
以上のような本発明方法によって、銀−パラジウム合金
粉末が得られる生成機構については必ずしも明らかでは
ないが、まず核生成し成長した銀−パラジウムの数十人
の超微粉子が互いに凝集接触し、相互拡散して融合し合
金化するものと考えられる。
粉末が得られる生成機構については必ずしも明らかでは
ないが、まず核生成し成長した銀−パラジウムの数十人
の超微粉子が互いに凝集接触し、相互拡散して融合し合
金化するものと考えられる。
以下に本発明を実施例に基づいてさらに具体的に説明す
る。
る。
実施例1
銀イオン濃度が18.69g/ Il、パラジウムイオ
ン濃度が8.01g/ Qの温度20℃の硝酸酸性溶液
59゜911に抱水ヒドラジン2425.7g (理論
量の10倍)を30分間で添加し、 40分間反応させ
た。還元析出した銀−パラジウム合金微粉末を自然重力
ろ過器によりろ過し、水55flにて洗浄後、アセトン
9Qを通液ろ過の各処理をした後、温度70℃の通常雰
囲気で乾燥し、銀−パラジウム合金微粉末1600gを
得た。得られた銀−パラジウム合金微粉末は、銀70%
、パラジウム30%の組成を有し1分散性の良好な粒度
分布幅の小さい、平均粒径0.2μm、比表面積19n
?/g、 Na、に、C1<10ppmの高純度微粉末
であった。X線回折の結果は第7図に示すように、銀−
パラジウム合金微粉末のピークを示すものであった。ま
たこの粉末を窒素雰囲気中200℃、10分間加熱処理
したものは、合金化がさらに進み、その比表面積は6.
0Om/gとなった。加熱処理した粉末を両押式成形治
具により圧力1000Kg/−にて直径511I11、
高さ5msの円柱状ペレットに成形し、理学電機層TM
A(膨張率針)により、大気中、昇温速度20’C/m
inで900℃までのペレットの膨張、収縮を2回測定
した。その結果を第9図(a)に示した。セラミックコ
ンデンサー内部電極用として使用した場合に問題となる
350 ℃〜500’Cにおける膨張、収縮がほとんど
ないことがわかる。またこの粉末をガラスフリット、有
機バインダー、有機溶剤とともに混練し、は−ストとし
たものをアルミナ基板にスクリーンに印刷し、大気中9
00’CXl0分焼成し、得られた厚膜の比抵抗は3.
4×10−sΩ・C11であった。
ン濃度が8.01g/ Qの温度20℃の硝酸酸性溶液
59゜911に抱水ヒドラジン2425.7g (理論
量の10倍)を30分間で添加し、 40分間反応させ
た。還元析出した銀−パラジウム合金微粉末を自然重力
ろ過器によりろ過し、水55flにて洗浄後、アセトン
9Qを通液ろ過の各処理をした後、温度70℃の通常雰
囲気で乾燥し、銀−パラジウム合金微粉末1600gを
得た。得られた銀−パラジウム合金微粉末は、銀70%
、パラジウム30%の組成を有し1分散性の良好な粒度
分布幅の小さい、平均粒径0.2μm、比表面積19n
?/g、 Na、に、C1<10ppmの高純度微粉末
であった。X線回折の結果は第7図に示すように、銀−
パラジウム合金微粉末のピークを示すものであった。ま
たこの粉末を窒素雰囲気中200℃、10分間加熱処理
したものは、合金化がさらに進み、その比表面積は6.
0Om/gとなった。加熱処理した粉末を両押式成形治
具により圧力1000Kg/−にて直径511I11、
高さ5msの円柱状ペレットに成形し、理学電機層TM
A(膨張率針)により、大気中、昇温速度20’C/m
inで900℃までのペレットの膨張、収縮を2回測定
した。その結果を第9図(a)に示した。セラミックコ
ンデンサー内部電極用として使用した場合に問題となる
350 ℃〜500’Cにおける膨張、収縮がほとんど
ないことがわかる。またこの粉末をガラスフリット、有
機バインダー、有機溶剤とともに混練し、は−ストとし
たものをアルミナ基板にスクリーンに印刷し、大気中9
00’CXl0分焼成し、得られた厚膜の比抵抗は3.
4×10−sΩ・C11であった。
実施例2
銀イオン濃度が80g/Ω、パラジウムイオン濃度が2
0g/ nの温度20℃の硝酸酸性溶液IQに抱水ヒド
ラジンt39.7g(理論量の10倍)を15分間で添
加し、30分間反応させた。還元析出した銀−パラジウ
ム合金微粉末を実施例1と同じ方法でろ過洗浄処理、乾
燥して銀−パラジウム合金微粉末100gを得た。得ら
れた粉末は、銀80%、パラジウム20%の組成を有し
1粒径0.2μm、比表面積9,93rf/g、Na、
K、 C1<10ppmの高純度微粉末であった。X
線回折の結果は第8図に示すように、銀−パラジウム合
金微粉末のピークを示すものであった。また200℃加
熱処理したものは合金化がさらに進み、その比表面積は
5.65 rrr/gとなった。また加熱処理した粉末
を実施例1と同じ方法でTMAにより膨張、収縮を2回
測定した。その結果を第9図(b)に示したが、実施例
1と同様に350℃〜500℃における膨張、収縮はほ
とんど認められなかった。またペースト印刷後、900
℃XIO分焼成した厚膜の比抵抗は1.2X 10−s
Ω・cmであった。
0g/ nの温度20℃の硝酸酸性溶液IQに抱水ヒド
ラジンt39.7g(理論量の10倍)を15分間で添
加し、30分間反応させた。還元析出した銀−パラジウ
ム合金微粉末を実施例1と同じ方法でろ過洗浄処理、乾
燥して銀−パラジウム合金微粉末100gを得た。得ら
れた粉末は、銀80%、パラジウム20%の組成を有し
1粒径0.2μm、比表面積9,93rf/g、Na、
K、 C1<10ppmの高純度微粉末であった。X
線回折の結果は第8図に示すように、銀−パラジウム合
金微粉末のピークを示すものであった。また200℃加
熱処理したものは合金化がさらに進み、その比表面積は
5.65 rrr/gとなった。また加熱処理した粉末
を実施例1と同じ方法でTMAにより膨張、収縮を2回
測定した。その結果を第9図(b)に示したが、実施例
1と同様に350℃〜500℃における膨張、収縮はほ
とんど認められなかった。またペースト印刷後、900
℃XIO分焼成した厚膜の比抵抗は1.2X 10−s
Ω・cmであった。
比較例1
銀イオン濃度が18.69g/ Q、パラジウムイオン
濃度が8.01g/ Qの温度20℃、P)19.0の
銀−パラジウムのアンモニウム錯体溶液1.8712に
、抱水ヒドラジン22.74g(理論量の3倍)を添加
し還元した。還元析出した銀−パラジウム微粉末を自然
重力ろ過器によりろ過し、水2Qにて洗浄後、アセトン
300m flを通液ろ過の各処理をした後、温度70
℃の通常雰囲気で乾燥し、銀−パラジウム微粉末50g
を得た。この粉末は、銀70%。
濃度が8.01g/ Qの温度20℃、P)19.0の
銀−パラジウムのアンモニウム錯体溶液1.8712に
、抱水ヒドラジン22.74g(理論量の3倍)を添加
し還元した。還元析出した銀−パラジウム微粉末を自然
重力ろ過器によりろ過し、水2Qにて洗浄後、アセトン
300m flを通液ろ過の各処理をした後、温度70
℃の通常雰囲気で乾燥し、銀−パラジウム微粉末50g
を得た。この粉末は、銀70%。
パラジウム30%の組成を有し、X線回折の結果は第1
0図のごとく単なる銀とパラジウムの混合物であり、2
00℃加熱処理後も変化は認められなかった。
0図のごとく単なる銀とパラジウムの混合物であり、2
00℃加熱処理後も変化は認められなかった。
比較例2
銀粉(0,5μm)とパラジウム粉(0,1μm)を長
時間よく混合した銀−パラジウム混合粉(パラジウム組
成15%+1%)を、実施例1と同じ方法で。
時間よく混合した銀−パラジウム混合粉(パラジウム組
成15%+1%)を、実施例1と同じ方法で。
TMAにより膨張、収縮を測定した。その結果を第11
図に示す。350〜500℃における膨張、収縮は本発
明により得られた合金粉に比し、非常に激しいことがわ
かる。また市販品の銀°−パラジウムペーストより抽出
した銀−パラジウム粉(Pd組成3Qwt%)の膨張収
縮を測定した結果を第12図に示す。
図に示す。350〜500℃における膨張、収縮は本発
明により得られた合金粉に比し、非常に激しいことがわ
かる。また市販品の銀°−パラジウムペーストより抽出
した銀−パラジウム粉(Pd組成3Qwt%)の膨張収
縮を測定した結果を第12図に示す。
以上のような本発明によれば、銀もしくはパラジウム粉
末が混在しない合金化した銀−パラジウム微粉末が得ら
れ、もしくはこれをさらに100〜500℃という工業
的に扱いやすい温度で加熱処理することにより比表面積
が大幅に低下され、合金状態がより進んだ微粉末が得ら
れ、従ってこれを例えばセラミックコンデンサー内部電
極用として使用した場合には層割れが完全に防止され、
またその他の電子工業分野にも好適に使用し得るもので
あり、しがもこのような銀−パラジウム合金微粉末が水
素を用いたりすることのない湿式法の簡便な方法と装置
により製造できるという効果を有する。
末が混在しない合金化した銀−パラジウム微粉末が得ら
れ、もしくはこれをさらに100〜500℃という工業
的に扱いやすい温度で加熱処理することにより比表面積
が大幅に低下され、合金状態がより進んだ微粉末が得ら
れ、従ってこれを例えばセラミックコンデンサー内部電
極用として使用した場合には層割れが完全に防止され、
またその他の電子工業分野にも好適に使用し得るもので
あり、しがもこのような銀−パラジウム合金微粉末が水
素を用いたりすることのない湿式法の簡便な方法と装置
により製造できるという効果を有する。
第1図〜第3図は銀−パラジウム混合粉(Pd30wt
%)のX線回折であり、第1図は加熱処理なし、第2図
は200℃X60m1n in N2の加熱処理後、第
3図は400”CX60m1n in N2の加熱処理
後の状態をそれぞれ示すものである。 第4図〜第6図は本発明による銀−パラジウム合金微粉
末(Pd30wt%)のX線回折図であり、第4図は加
熱処理なし、第5図は200”CX 60m1nin
N2の加熱処理後、第6図は400°CX 60m1n
in N、の加熱処理後の状態をそれぞれ示すものであ
る。 第7図及び第8図はそれぞれ実施例1 (Pd30wt
%)及び実施例2 (Pd20wt%)により得られた
銀−パラジウム合金微粉末のX線回折図である。 第9図の(a)及び(b)はそれぞれ実施例1及び実施
例2で得られた銀−パラジウム合金微粉末の証度と寸法
変化率との関係図である。 第10図は比較例1で得られた銀−パラジウム微粉末の
X線回折図である。 第11図は比較例2で得られた銀−パラジウム微粉末の
温度と寸法変化率との関係図であり、第12図は市販品
の銀−パラジウムペーストより抽出した銀−パラジウム
粉(Pd組成30wt%)の温度と寸法変化率との関係
図である。 M9 関 (酌Aq−Pd合金粉(Pd30wt%)(blAg−
Pd合金勝lPd20wt%)温度1”cl 扇10 [¥] 2e−(@) 昂11(2) 門12 閏 2劃、C】xlo。 手続補正書(睦) 昭和61年7月9 日
%)のX線回折であり、第1図は加熱処理なし、第2図
は200℃X60m1n in N2の加熱処理後、第
3図は400”CX60m1n in N2の加熱処理
後の状態をそれぞれ示すものである。 第4図〜第6図は本発明による銀−パラジウム合金微粉
末(Pd30wt%)のX線回折図であり、第4図は加
熱処理なし、第5図は200”CX 60m1nin
N2の加熱処理後、第6図は400°CX 60m1n
in N、の加熱処理後の状態をそれぞれ示すものであ
る。 第7図及び第8図はそれぞれ実施例1 (Pd30wt
%)及び実施例2 (Pd20wt%)により得られた
銀−パラジウム合金微粉末のX線回折図である。 第9図の(a)及び(b)はそれぞれ実施例1及び実施
例2で得られた銀−パラジウム合金微粉末の証度と寸法
変化率との関係図である。 第10図は比較例1で得られた銀−パラジウム微粉末の
X線回折図である。 第11図は比較例2で得られた銀−パラジウム微粉末の
温度と寸法変化率との関係図であり、第12図は市販品
の銀−パラジウムペーストより抽出した銀−パラジウム
粉(Pd組成30wt%)の温度と寸法変化率との関係
図である。 M9 関 (酌Aq−Pd合金粉(Pd30wt%)(blAg−
Pd合金勝lPd20wt%)温度1”cl 扇10 [¥] 2e−(@) 昂11(2) 門12 閏 2劃、C】xlo。 手続補正書(睦) 昭和61年7月9 日
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、銀及びパラジウムをイオンとして含有する酸性溶液
にヒドラジンあるいはヒドラジン化合物を加えて平均粒
径が0.01〜1.0ミクロンの銀−パラジウム合金微
粉末を還元析出せしめることを特徴とする銀−パラジウ
ム合金微粉末の製造方法。 2、銀及びパラジウムの合計量が前記溶液1リットル当
り10〜200gである特許請求の範囲第1項記載の方
法。 3、ヒドラジンあるいはヒドラジン化合物を前記溶液中
の銀イオン及びパラジウムイオンを金属に還元するに必
要な当量の2〜10倍加える特許請求の範囲第1項記載
の方法。 4、還元析出時の前記溶液の温度を10〜100℃に保
つ特許請求の範囲第1項記載の方法。 5、銀およびパラジウムの原料としてそれぞれ硝酸銀お
よび硝酸パラジウムを用い、酸性溶液として硝酸酸性溶
液を用いる特許請求の範囲第1項記載の方法。 6、銀及びパラジウムをイオンとして含有する酸性溶液
にヒドラジンあるいはヒドラジン化合物を加えて平均粒
径が0.01〜1.0ミクロンの銀−パラジウム合金微
粉末を還元析出せしめ、得られた合金微粉末を不活性雰
囲気中あるいは真空中で温度100〜500℃で加熱処
理することを特徴とする銀−パラジウム合金微粉末の製
造方法。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61125495A JPS62280308A (ja) | 1986-05-30 | 1986-05-30 | 銀−パラジウム合金微粉末の製造方法 |
| US07/050,832 US4776883A (en) | 1986-05-30 | 1987-05-14 | Process for the production of silver-palladium alloy fine powder |
| DE8787304772T DE3767924D1 (de) | 1986-05-30 | 1987-05-29 | Verfahren zur herstellung feinen pulvers aus einer silber-palladiumlegierung. |
| EP87304772A EP0249366B1 (en) | 1986-05-30 | 1987-05-29 | Process for the production of silver-palladium alloy fine powder |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61125495A JPS62280308A (ja) | 1986-05-30 | 1986-05-30 | 銀−パラジウム合金微粉末の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62280308A true JPS62280308A (ja) | 1987-12-05 |
| JPH0135044B2 JPH0135044B2 (ja) | 1989-07-24 |
Family
ID=14911516
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61125495A Granted JPS62280308A (ja) | 1986-05-30 | 1986-05-30 | 銀−パラジウム合金微粉末の製造方法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4776883A (ja) |
| EP (1) | EP0249366B1 (ja) |
| JP (1) | JPS62280308A (ja) |
| DE (1) | DE3767924D1 (ja) |
Families Citing this family (21)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0363552B1 (en) * | 1988-07-27 | 1993-10-13 | Tanaka Kikinzoku Kogyo K.K. | Process for preparing metal particles |
| TW256798B (ja) * | 1992-10-05 | 1995-09-11 | Du Pont | |
| US5389122A (en) * | 1993-07-13 | 1995-02-14 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Process for making finely divided, dense packing, spherical shaped silver particles |
| US5292359A (en) * | 1993-07-16 | 1994-03-08 | Industrial Technology Research Institute | Process for preparing silver-palladium powders |
| US5429657A (en) * | 1994-01-05 | 1995-07-04 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Method for making silver-palladium alloy powders by aerosol decomposition |
| US5514202A (en) * | 1994-12-20 | 1996-05-07 | National Science Council Of R.O.C. | Method for producing fine silver-palladium alloy powder |
| JPH09286936A (ja) * | 1996-04-22 | 1997-11-04 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | 透明導電膜形成用塗布液、これを用いた透明導電膜及びその形成方法 |
| RU2152288C2 (ru) * | 1996-06-28 | 2000-07-10 | Институт ядерной физики СО РАН | Способ получения порошков металлов группы платины |
| RU2150354C1 (ru) * | 1999-02-01 | 2000-06-10 | Оао "Екатеринбургский Завод По Обработке Цветных Металлов" | Способ получения порошка сплава серебро-палладий |
| RU2226223C2 (ru) * | 2001-07-04 | 2004-03-27 | Завод материалов толстопленочной технологии ОАО "Аналог-Пасты" | Способ получения порошка сплава серебро-палладий |
| US7323064B2 (en) * | 2003-08-06 | 2008-01-29 | Micron Technology, Inc. | Supercritical fluid technology for cleaning processing chambers and systems |
| US20070114499A1 (en) * | 2003-12-01 | 2007-05-24 | Shinroku Kawasumi | Process for producing metal micropowder having particle diameter uniformalized |
| JP2006002228A (ja) * | 2004-06-18 | 2006-01-05 | Dowa Mining Co Ltd | 球状銀粉およびその製造方法 |
| JP5028695B2 (ja) * | 2004-11-25 | 2012-09-19 | Dowaエレクトロニクス株式会社 | 銀粉およびその製造方法 |
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| CN117773140A (zh) * | 2023-12-30 | 2024-03-29 | 苏州泓湃科技有限公司 | 一种金铂钯微纳米粉体的制备方法 |
| CN119346861B (zh) * | 2024-11-01 | 2025-11-28 | 武汉船用电力推进装置研究所(中国船舶集团有限公司第七一二研究所) | 一种银钯合金粉的高温热处理方法 |
Citations (6)
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Family Cites Families (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| DE1458459C2 (de) * | 1963-02-14 | 1974-07-25 | E.I. Du Pont De Nemours And Company, Wilmington, Del. (V.St.A.) | Verfahren zur Herstellung von pulverförmigen Pail adium-Silber-Legierungen |
| US3390981A (en) * | 1964-02-14 | 1968-07-02 | Du Pont | Method for the production of finely divided metals |
| FR1382667A (fr) * | 1964-02-14 | 1964-12-18 | Du Pont | Alliages de palladium-argent et leur procédé de production |
| FR91096E (fr) * | 1964-02-14 | 1968-04-05 | Du Pont | Alliages de palladium-argent et leur procédé de production |
| US3620713A (en) * | 1970-02-26 | 1971-11-16 | Du Pont | Process of preparing noble metal powders |
| FR2131683A5 (en) * | 1971-03-29 | 1972-11-10 | Du Pont | Palladium-silver alloy powder prepn - by reduction of an aq suspension of palladium and silver carbonate |
-
1986
- 1986-05-30 JP JP61125495A patent/JPS62280308A/ja active Granted
-
1987
- 1987-05-14 US US07/050,832 patent/US4776883A/en not_active Expired - Lifetime
- 1987-05-29 DE DE8787304772T patent/DE3767924D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1987-05-29 EP EP87304772A patent/EP0249366B1/en not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (6)
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| JPS5254661A (en) * | 1975-10-31 | 1977-05-04 | Shoei Chemical Ind Co | Method to manufacture silver powder |
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US4776883A (en) | 1988-10-11 |
| JPH0135044B2 (ja) | 1989-07-24 |
| DE3767924D1 (de) | 1991-03-14 |
| EP0249366A1 (en) | 1987-12-16 |
| EP0249366B1 (en) | 1991-02-06 |
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