JPS62285434A - 半導体装置 - Google Patents
半導体装置Info
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- JPS62285434A JPS62285434A JP61129482A JP12948286A JPS62285434A JP S62285434 A JPS62285434 A JP S62285434A JP 61129482 A JP61129482 A JP 61129482A JP 12948286 A JP12948286 A JP 12948286A JP S62285434 A JPS62285434 A JP S62285434A
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- Japan
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- substrate
- chip
- lead frame
- bumps
- bonding
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- H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10W72/00—Interconnections or connectors in packages
- H10W72/20—Bump connectors, e.g. solder bumps or copper pillars; Dummy bumps; Thermal bumps
- H10W72/29—Bond pads specially adapted therefor
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10W72/00—Interconnections or connectors in packages
- H10W72/851—Dispositions of multiple connectors or interconnections
- H10W72/874—On different surfaces
- H10W72/884—Die-attach connectors and bond wires
-
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- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10W72/00—Interconnections or connectors in packages
- H10W72/90—Bond pads, in general
- H10W72/931—Shapes of bond pads
- H10W72/932—Plan-view shape, i.e. in top view
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- H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
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- H10W72/952—Materials of bond pads comprising metals or metalloids, e.g. PbSn, Ag or Cu
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- H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
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- H10W90/701—Package configurations characterised by the relative positions of pads or connectors relative to package parts
- H10W90/721—Package configurations characterised by the relative positions of pads or connectors relative to package parts of bump connectors
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- H10W90/701—Package configurations characterised by the relative positions of pads or connectors relative to package parts
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- H10W90/751—Package configurations characterised by the relative positions of pads or connectors relative to package parts of bond wires
- H10W90/756—Package configurations characterised by the relative positions of pads or connectors relative to package parts of bond wires between a chip and a stacked lead frame, conducting package substrate or heat sink
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- Wire Bonding (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
■0発明の詳細な説明
イ、産業上の利用分野
本発明は半導体装置に関し、特に半導体集積回路(rc
)チップの実装技術によるICパッケージ構造に関する
ものである。
)チップの実装技術によるICパッケージ構造に関する
ものである。
口、従来技術
従来のICパッケージ構造によれば、第5図のように、
ICチップ1をリードフレーム2 (具体的にはマウン
トパッド3又はマウント部)上にマウントし、ICチッ
プ1の各ボンディングパ・ンド4を対応するリードフレ
ームに個々にワイヤ5でボンディングし、更に樹脂矛モ
ールドで全体をパフケージングしている。
ICチップ1をリードフレーム2 (具体的にはマウン
トパッド3又はマウント部)上にマウントし、ICチッ
プ1の各ボンディングパ・ンド4を対応するリードフレ
ームに個々にワイヤ5でボンディングし、更に樹脂矛モ
ールドで全体をパフケージングしている。
しかしながら、こうしたボンディング方式では、特にI
Cの多ビン化に伴ない、ICチップとリードフレームと
の接続が非常に困難となる。 即ち、リードフレーム2
はその製造上、及びワイヤボンディングの都合上、最小
ピ・ノチに物理的限界がある。 このため、ICチップ
1に形成されるアクチイプ領域la自体は小さくてもポ
ンディングパッド4相互の間隔は小さくできず、結果と
してICチップ1の面積を小さくできない。 また、チ
ップ1の面積を小さくしようとすれば、バッド4とリー
ドフレーム2との距離が長くなってワイヤ5が垂れ下っ
たり、樹脂の流し込み時に切断し易くなる。
Cの多ビン化に伴ない、ICチップとリードフレームと
の接続が非常に困難となる。 即ち、リードフレーム2
はその製造上、及びワイヤボンディングの都合上、最小
ピ・ノチに物理的限界がある。 このため、ICチップ
1に形成されるアクチイプ領域la自体は小さくてもポ
ンディングパッド4相互の間隔は小さくできず、結果と
してICチップ1の面積を小さくできない。 また、チ
ップ1の面積を小さくしようとすれば、バッド4とリー
ドフレーム2との距離が長くなってワイヤ5が垂れ下っ
たり、樹脂の流し込み時に切断し易くなる。
この問題点を解消するために、第6図のように、ビーム
リード2に対してバンプ6を用いてICチップ1を接続
するギヤングボンド(T A B (TapeAuto
mated Bonding)の一種〕による種々の
方法が提案されているが、次のような問題が生じる。
リード2に対してバンプ6を用いてICチップ1を接続
するギヤングボンド(T A B (TapeAuto
mated Bonding)の一種〕による種々の
方法が提案されているが、次のような問題が生じる。
(1)、バンプ6をAuめっきで形成する際、チップ1
にダメージを与えてしまう。
にダメージを与えてしまう。
(2)、ボンディング時に、熱膨張係数の大きいビーム
リード2が伸縮を生じてICチップ1がボンディングし
難く、しかも離脱し易くなり、信頼性が低下する。
リード2が伸縮を生じてICチップ1がボンディングし
難く、しかも離脱し易くなり、信頼性が低下する。
(3)、ビームリード2がチップ1のエツジに接触し易
い。
い。
(4)、不良チップにもバンプ6を形成することになる
ので、コスト高になる。
ので、コスト高になる。
ハ0発明の目的
本発明の目的は、容易かつ信頼性良く、低コストにボン
ディング可能であり、しかも半導体チップの多ビン化又
はチップサイズの小型化にも対応できる半導体装置を提
供することにある。
ディング可能であり、しかも半導体チップの多ビン化又
はチップサイズの小型化にも対応できる半導体装置を提
供することにある。
二1発明の構成
即ち、本発明は、半導体チップがバンプを介して別の基
体上に接続され、この別の基体とリードフレームとがボ
ンディングされることによって前記半導体チップと前記
リードフレームとが接続されている半導体装置に係るも
のである。
体上に接続され、この別の基体とリードフレームとがボ
ンディングされることによって前記半導体チップと前記
リードフレームとが接続されている半導体装置に係るも
のである。
ホ、実施例
以下、本発明の実施例を詳細に説明する。
第1図〜第4図は、本発明によるICチップパッケージ
構造の一例を示すものである。
構造の一例を示すものである。
本実施例においては、第1図及び第2図のように、IC
チップ11が第2のく別の)シリコン基板21上に形成
したAuバンプ16を介してフェイスダウン方式で基板
21にマウントされ、更にこの基板21にメタライジン
グ技術で形成されたAnパッド20、Al配線22、A
Iパッド23を介し、ワイヤ15によるボンディングで
リードフレーム12に接続されている。 この場合、基
板21はエポキシ樹脂等のペースト24でリードフレー
ム12のマウントパッド13に接着固定されている。
ここで、上記の基板21としては、例えば低コストのP
−型の<111 >シリコン単結晶基板が使用可能であ
り、またその表面には保護膜(例えば通常のSiO□等
の絶縁膜)が形成され、この保護膜によってAlのうち
なお、第1図中の一点鎖線25はモールド樹脂で全体が
固められる状態を示している。
チップ11が第2のく別の)シリコン基板21上に形成
したAuバンプ16を介してフェイスダウン方式で基板
21にマウントされ、更にこの基板21にメタライジン
グ技術で形成されたAnパッド20、Al配線22、A
Iパッド23を介し、ワイヤ15によるボンディングで
リードフレーム12に接続されている。 この場合、基
板21はエポキシ樹脂等のペースト24でリードフレー
ム12のマウントパッド13に接着固定されている。
ここで、上記の基板21としては、例えば低コストのP
−型の<111 >シリコン単結晶基板が使用可能であ
り、またその表面には保護膜(例えば通常のSiO□等
の絶縁膜)が形成され、この保護膜によってAlのうち
なお、第1図中の一点鎖線25はモールド樹脂で全体が
固められる状態を示している。
このようにパッケージングを行なうことによって、次の
如き顕著に優れた利点が得られる。
如き顕著に優れた利点が得られる。
(11、ICチップlはバンプ16によるフェイスダウ
ンで一旦別の基板21にマウントされ、この基板21を
リードフレーム12とワイヤボンディングする方式であ
るから、リードフレーム12のピ。
ンで一旦別の基板21にマウントされ、この基板21を
リードフレーム12とワイヤボンディングする方式であ
るから、リードフレーム12のピ。
チやワイヤボンディングに制約されることなく’
ICチップ11を小面積化(小型化)したり、
或いは多ピン化の要求にも応えることができる。
ICチップ11を小面積化(小型化)したり、
或いは多ピン化の要求にも応えることができる。
(2)、また、ワイヤ15の長さを短かくできるために
、ワイヤ15の垂れ下りや切断等をなくすことができる
。
、ワイヤ15の垂れ下りや切断等をなくすことができる
。
(3)、バンプ16は予め基板21側に形成しておける
ので、ICチップll側に形成する場合に比べてICチ
ップ11へのダメージがなく、また歩留りがほぼ100
%となり、不良チップがあれば予めチェックできるため
、低コスト化に有利となる。
ので、ICチップll側に形成する場合に比べてICチ
ップ11へのダメージがなく、また歩留りがほぼ100
%となり、不良チップがあれば予めチェックできるため
、低コスト化に有利となる。
(4)、基板21もシリコンで形成するので、温度係数
(熱膨張係数)がICチップ11と同一にでき、熱によ
る歪の発生に強く、ICチップ11も熱的ダメージが生
じない。
(熱膨張係数)がICチップ11と同一にでき、熱によ
る歪の発生に強く、ICチップ11も熱的ダメージが生
じない。
(5)、基板21とリードフレーム12とはワイヤボン
ディングされるので、リードフレーム12の熱膨張及び
収縮が少なく、従ってボンディングの信頼性が大きぐ向
上する。
ディングされるので、リードフレーム12の熱膨張及び
収縮が少なく、従ってボンディングの信頼性が大きぐ向
上する。
(6)、また、バッド13上に基板21、更にはチップ
11を配するので、チップ11の配置に余裕があり、不
所望なショート等が生じない。 但し、チップ11と基
板21との間には、絶縁性コーテイング材を流し込んで
おくのが望ましい。
11を配するので、チップ11の配置に余裕があり、不
所望なショート等が生じない。 但し、チップ11と基
板21との間には、絶縁性コーテイング材を流し込んで
おくのが望ましい。
第3図は、ICチップ11のマウント方法を更に具体的
に例示するものであるが、まず第3A図のように、バン
プ形成用の導電性基板26にめっき法でAuバンプ16
を所定パターンに付着させ、これを矢印27のように基
板21上に加圧下で接合し、そのまま加熱する。 これ
によって、次に基板26を外せば、第3B図のように、
基板21側に(パッド20上に)バンプ16が良好に転
写される。 そして次に、第3C図のように、ICチッ
プ11をフェイスダウン方式でバンプ16上にマウント
する。
に例示するものであるが、まず第3A図のように、バン
プ形成用の導電性基板26にめっき法でAuバンプ16
を所定パターンに付着させ、これを矢印27のように基
板21上に加圧下で接合し、そのまま加熱する。 これ
によって、次に基板26を外せば、第3B図のように、
基板21側に(パッド20上に)バンプ16が良好に転
写される。 そして次に、第3C図のように、ICチッ
プ11をフェイスダウン方式でバンプ16上にマウント
する。
第4図は、基板21を使用する場合の他の利点を示すが
、基板21にはリン等の拡散によってN°型低抵抗領域
28形成しておき、これを上述した両パッド20−23
間のAj2配線中に接続する構造とすれば、必要に応じ
てICチップ11に対し抵抗を外付けでき、しかも基板
21での外付けであるために構成等も簡略である。 な
お、第4図中、29はS i Oz膜、30はS i
Oz 、S i 3 N a等の表面保護膜である。
、基板21にはリン等の拡散によってN°型低抵抗領域
28形成しておき、これを上述した両パッド20−23
間のAj2配線中に接続する構造とすれば、必要に応じ
てICチップ11に対し抵抗を外付けでき、しかも基板
21での外付けであるために構成等も簡略である。 な
お、第4図中、29はS i Oz膜、30はS i
Oz 、S i 3 N a等の表面保護膜である。
以上、本発明を例示したが、上述の例は本発明の技術的
思想に基いて更に変形が可能である。
思想に基いて更に変形が可能である。
例えば、上述の各部分の材質や形状等、更にはボンディ
ング(接続)方法等を変形できる。 バンプ16の種類
、その形成方法、基板21の材質も変更してよく、例え
ば基板21はセラミックスで形成可能である。 また、
基板21には、上述した抵抗の外、ダイオード等を通常
の半導体技術で形成できるし、或いは拡散によることな
しに抵抗を印刷抵抗やポリシリコン抵抗等として基板2
1上に形成してもよい。 また、基板21とリードフレ
ーム12とのボンディングは他の方法、例えばビームリ
ード方式によってもよい。 なお、本発明による装置は
種々のデバイス、例えばディスプレイのドライバ回路に
使用することができる。
ング(接続)方法等を変形できる。 バンプ16の種類
、その形成方法、基板21の材質も変更してよく、例え
ば基板21はセラミックスで形成可能である。 また、
基板21には、上述した抵抗の外、ダイオード等を通常
の半導体技術で形成できるし、或いは拡散によることな
しに抵抗を印刷抵抗やポリシリコン抵抗等として基板2
1上に形成してもよい。 また、基板21とリードフレ
ーム12とのボンディングは他の方法、例えばビームリ
ード方式によってもよい。 なお、本発明による装置は
種々のデバイス、例えばディスプレイのドライバ回路に
使用することができる。
へ0発明の作用効果
フレームにボンディングしているので、リードフレーム
のピッチ等に制約を受けることなしに半導体チップを設
計し、多ピン化しても容易がっ良好に接続をとることが
できる。 また、リードフレーム側の接続はバンプによ
らなくてよいので、リードフレームの熱伸縮が防がれ、
ボンディングの信頼性が向上する。
のピッチ等に制約を受けることなしに半導体チップを設
計し、多ピン化しても容易がっ良好に接続をとることが
できる。 また、リードフレーム側の接続はバンプによ
らなくてよいので、リードフレームの熱伸縮が防がれ、
ボンディングの信頼性が向上する。
第1図〜第4図は本発明の実施例を示すものであって、
第1図はIC(半導体)チップパッケージ構造の要部断
面図、 第2図は同要部の分解斜視図、 第3A図、第3B図、第3C図は半導体チップのマウン
ト工程の主要段階の各断面図、第4図は第2の基板側の
拡大断面図 である。 第5図、第6図は従来のボンディング方式を示すもので
あって、 第5図はワイヤボンディング方式の斜視図、第6図はギ
ヤングボンド方式の断面図 である。 なお、図面に示す符号において、 11−・−−−−−一−−・−・−半導体(IC)チッ
プ12・−・・−−−−−・−・・−リードフレーム1
3−−m=〜−−−・−・−・・・マウントパラ115
−・−・−・−・−−一−−−−−ワイヤ16−・・・
・−・−・−−−−−−一一バンプ20.23−・・・
−・−・−・−パッド21−−−−−−−−−・−一一
−−−−−−−基板24〜−−−−・・−−一−−−−
−−・・・−ペースト25’−一一一・−・−一一一−
−−−−=−モールド樹脂である。 代理人 弁理士 逢 坂 宏 第1図 第3A図 フロ 第3B図 第4図 第5図 帽釦手続補正書 昭和61年7月21日 特許庁長官 黒 1)明 雄 殿 い 1、事件の表示 昭和61年 特許願力129482号 2、発明の名称 半導体装置 3、補正をする者 −1代理人 住 所 東京都立川市柴崎町2−4−11 FINEビ
ル6補正により増加する発明の数 、補正の対象 明細書の発明の詳細な説明の欄 (1)、明細書第2頁9〜10行目の「アクテイブ」を
「アクティブ」と訂正します。 (2)、同第3頁2〜3行目の「チップ1に」を「チッ
プ1の回路部分くアクティブ領域+a)に」と訂正しま
す。 (3)、同第6頁7行目の「収縮」を「収縮の影響」と
訂正します。 (4)、同第6頁13行目と14行目との間に下記の記
載を加入します。 記 r (71、バンプ16は基板21に直接形成すること
ができる。基板21自体には、Icチップ11と異なり
、Sa回路は形成されていない。従って、基板21にバ
ンプ16を直接形成しても、基板21上の集積回路がダ
メージを受ける虞れが無い。このように、基板21にバ
ンプ16を直接形成できるということは、本実施例にお
ける重要な利点である。 ただし、第3図に示すように、いわゆる転写バンプ方法
により、バンプ16を基板21上に形成してもよい。」 (5)、同第8頁3〜5行目の「また、・・・・・・・
・・よってもよい。」を削除します。 (6)、同第8頁16行目の「熱伸縮」を「熱伸縮の影
響」と訂正します。 一以 上−
面図、 第2図は同要部の分解斜視図、 第3A図、第3B図、第3C図は半導体チップのマウン
ト工程の主要段階の各断面図、第4図は第2の基板側の
拡大断面図 である。 第5図、第6図は従来のボンディング方式を示すもので
あって、 第5図はワイヤボンディング方式の斜視図、第6図はギ
ヤングボンド方式の断面図 である。 なお、図面に示す符号において、 11−・−−−−−一−−・−・−半導体(IC)チッ
プ12・−・・−−−−−・−・・−リードフレーム1
3−−m=〜−−−・−・−・・・マウントパラ115
−・−・−・−・−−一−−−−−ワイヤ16−・・・
・−・−・−−−−−−一一バンプ20.23−・・・
−・−・−・−パッド21−−−−−−−−−・−一一
−−−−−−−基板24〜−−−−・・−−一−−−−
−−・・・−ペースト25’−一一一・−・−一一一−
−−−−=−モールド樹脂である。 代理人 弁理士 逢 坂 宏 第1図 第3A図 フロ 第3B図 第4図 第5図 帽釦手続補正書 昭和61年7月21日 特許庁長官 黒 1)明 雄 殿 い 1、事件の表示 昭和61年 特許願力129482号 2、発明の名称 半導体装置 3、補正をする者 −1代理人 住 所 東京都立川市柴崎町2−4−11 FINEビ
ル6補正により増加する発明の数 、補正の対象 明細書の発明の詳細な説明の欄 (1)、明細書第2頁9〜10行目の「アクテイブ」を
「アクティブ」と訂正します。 (2)、同第3頁2〜3行目の「チップ1に」を「チッ
プ1の回路部分くアクティブ領域+a)に」と訂正しま
す。 (3)、同第6頁7行目の「収縮」を「収縮の影響」と
訂正します。 (4)、同第6頁13行目と14行目との間に下記の記
載を加入します。 記 r (71、バンプ16は基板21に直接形成すること
ができる。基板21自体には、Icチップ11と異なり
、Sa回路は形成されていない。従って、基板21にバ
ンプ16を直接形成しても、基板21上の集積回路がダ
メージを受ける虞れが無い。このように、基板21にバ
ンプ16を直接形成できるということは、本実施例にお
ける重要な利点である。 ただし、第3図に示すように、いわゆる転写バンプ方法
により、バンプ16を基板21上に形成してもよい。」 (5)、同第8頁3〜5行目の「また、・・・・・・・
・・よってもよい。」を削除します。 (6)、同第8頁16行目の「熱伸縮」を「熱伸縮の影
響」と訂正します。 一以 上−
Claims (1)
- 1、半導体チップがバンプを介して別の基体上に接続さ
れ、この別の基体とリードフレームとがボンディングさ
れることによって前記半導体チップと前記リードフレー
ムとが接続されている半導体装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61129482A JPS62285434A (ja) | 1986-06-03 | 1986-06-03 | 半導体装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61129482A JPS62285434A (ja) | 1986-06-03 | 1986-06-03 | 半導体装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62285434A true JPS62285434A (ja) | 1987-12-11 |
Family
ID=15010573
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61129482A Pending JPS62285434A (ja) | 1986-06-03 | 1986-06-03 | 半導体装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62285434A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5376825A (en) * | 1990-10-22 | 1994-12-27 | Seiko Epson Corporation | Integrated circuit package for flexible computer system alternative architectures |
-
1986
- 1986-06-03 JP JP61129482A patent/JPS62285434A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5376825A (en) * | 1990-10-22 | 1994-12-27 | Seiko Epson Corporation | Integrated circuit package for flexible computer system alternative architectures |
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