JPS62286974A - N−フェニルスルホニル尿素、その製造方法並びに該化合物を含有する除草及び植物生長調節剤 - Google Patents

N−フェニルスルホニル尿素、その製造方法並びに該化合物を含有する除草及び植物生長調節剤

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JPS62286974A
JPS62286974A JP62140737A JP14073787A JPS62286974A JP S62286974 A JPS62286974 A JP S62286974A JP 62140737 A JP62140737 A JP 62140737A JP 14073787 A JP14073787 A JP 14073787A JP S62286974 A JPS62286974 A JP S62286974A
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hydrogen atom
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    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D521/00—Heterocyclic compounds containing unspecified hetero rings
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A01—AGRICULTURE; FORESTRY; ANIMAL HUSBANDRY; HUNTING; TRAPPING; FISHING
    • A01N—PRESERVATION OF BODIES OF HUMANS OR ANIMALS OR PLANTS OR PARTS THEREOF; BIOCIDES, e.g. AS DISINFECTANTS, AS PESTICIDES OR AS HERBICIDES; PEST REPELLANTS OR ATTRACTANTS; PLANT GROWTH REGULATORS
    • A01N47/00—Biocides, pest repellants or attractants, or plant growth regulators containing organic compounds containing a carbon atom not being member of a ring and having no bond to a carbon or hydrogen atom, e.g. derivatives of carbonic acid
    • A01N47/08—Biocides, pest repellants or attractants, or plant growth regulators containing organic compounds containing a carbon atom not being member of a ring and having no bond to a carbon or hydrogen atom, e.g. derivatives of carbonic acid the carbon atom having one or more single bonds to nitrogen atoms
    • A01N47/28—Ureas or thioureas containing the groups >N—CO—N< or >N—CS—N<
    • A01N47/36—Ureas or thioureas containing the groups >N—CO—N< or >N—CS—N< containing the group >N—CO—N< directly attached to at least one heterocyclic ring; Thio analogues thereof

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、新規なフェニルスルホニル尿素、特に除草及
び植物生長調節特性を有するN−フェニルスルホニル−
N!−ヒリミシニルー、N’−)リアゾリル−もしくは
N′−トリアジニル尿素、それらの製造方法、有効成分
としてそれらを含有する組成物、雑草を防除するための
、とりわけ有用植物の作付地で雑草を選択的に防除する
ための、あるいは植物の生長を調節及び抑制するための
使用方法に関する。
本発明の化合物は、次式1: %式% 〔式中、 Ro及びR“は互いに独立して水i原子または炭素原子
数1もしくは2のアルキル基を表わし、R”は水素原子
、ハロゲン原子、ニトロ基、炭素原子数1ないし4のア
ルキル基、炭素原子数1ないし4のハロアルキル基、炭
素原子数1ないし4のアルコキシ基、炭素原子数1ない
し4のハロアルコキシ基、炭素原子数1ないし4のアル
コキシカルボニル基、炭素原子数1ないし4のアルキル
チオ基、炭素原子数1ないし4のアルキルスルフィニル
基炭素原子数1ないし4のアルキルスルホニル基もしく
は炭素原子数2ないし5のアルコキシアルコキシ基また
は六−8O,NR’ R’ (式中、Roは水素原子、
炭素原子数1もしくは2のアルコキシ基または炭素原子
数1ないし4のアルキル基を表わし、 R8は水素原子、メチル基もしくはエチル基を表わす。
)で表われる基を表わし、 Ro及びRoはそれぞれ水素原子、メチル基もしくはエ
チル基を表わし、 wは酸素原子、イオウ原子、スルフィニル基及びスルホ
ニル橋を表わし、 Aは次式: %式% (式中、x’、x’、x’、x’、x’、x’、x’、
x’及びY’はそれぞれ独立して)・ロゲ/原子、炭素
原子数1ないし4のハロアルコキシ基、炭素原子数1な
いし4のハロアルキル基、炭素原子数1ないし4のアル
コキシ基、炭素原子数1ないし4のアルキル基、ジメチ
ルアミノ基、メチルアミノ基、エチルアミノ基、アミン
基もしくは炭素原子数2ないし4のアルコキシアルキル
基を表わし、E’は窒素原子もしくはメチン橋を表わし
、Elは酸素原子もしくはメチレン橋を表わし、Y3は
Y’と同様の意味を表わすかまたはシクロわし、 Y3はメチル基、メトキシ基、エチル基、エトキシ基、
炭素原子数1もしくは2のハロアルキル基または炭素原
子数1もしくは2のハロアルコキシ基を表わし、 Y4は水素原子、メトキシ基、エトキシ基、ハロゲン原
子もしくは炭素原子数1ないし4のアルキル基を表わし
、 Y“及びYllは互いに独立して水素原子、炭素原子数
1ないし4のアルキル基、ハロゲン原子、メトキシ基も
しくはメチルチオ基を表わし、Y@及びYllは互いに
独立して水素原子もしくはメチル基を表わし、 nは1もしくは2を表わし、 Z′は水素原子、メチル基、エチル基、メトキシ基、エ
トキシ基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル
基、ハロゲン原子、シアン基、ニトロ基、メチルチオ基
、メチルスルフィニル基もしくはメチルスルホニル基を
表わし、zl及びY”は−緒になって炭素原子数2ない
し4のアルキレン橋を表わし、並びに 2′はメチル基もしくはエチル基を表わす。)で表わさ
れる基から選択された基を表わす。〕で表わされる。
除草作用のある尿素、トリアジン及びピリミジン化合物
は、一般的に公知である。除草及び植物生長調節特性を
有するスルホニル原素は、例えばヨーロッパ特許公開公
報第99339号及び第107979号で最近記述され
ている。
上記の定義において、アルキル基とは直鎖もしくは枝分
れ鎖アルキル基として理解される:例えば、メチル基、
エチル基、n−プロピル基。
インプロピル基もしくはブチル基の4つの異性体である
。
アルコキシ基トは、例えばメトキシ基、エトキシ基、n
−プロピルオキシ基、インプロポ千シ基もしくは4つの
ブチルオキシ基の異性体として理解してよく、メトキシ
基、エトキシ基もしくはイソプロポキシ基が好ましい。
アルキルチオ基は、メチルチオ基、エチルチオ基、n−
プロピルチオ基、イソプロピルチオ基もしくは4つのブ
チルチオ基の異性体であってよく、メチルチオ基及びエ
チルチオ基が好ましい。
ハロゲン原子自体及びハロアルコキシ基、ハロアルキル
チオ基もしくはハロアルキル基における置換基の部分と
してのハロゲン原子は、フッ素原子、塩素原子及び臭素
原子を意味するものとして理解してもよく、フッ素原子
及び塩素でのハロアルキル基は、通常クロロメチル基、
フルオロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロ
メチル基、2−10ロエチル基、2.2゜2−トリフル
オロエチル基、1.1.2.2−テトラフルオロエチル
基、ペンタフルオロエチル基、1、1.2− ) !J
フルオロー2−クロロエチル基、2、2.2− トIJ
フルオロ−1,1−,)クロロエチル基、ペンタクロロ
エチル基、4へ3−トリフルオロプロピル基、2.5−
ジクロロプロピル基、1.1.2,3.1−へキサフル
オロプロピル基であシ、好ましくけフルオロメチル基、
クロロメチル基。
ジフルオロメチル基及びトリフルオロメチル基である。
アルコキシアルキル基の例は、メトキシメチル基、メト
キシエチル基、メトキシプロピル基、エトキシエチル基
、エトキシメチル基もしくはプロピルオキシメチル基で
ある。例えばアルコキシアルコキシ基は、メトキシメト
キシ基、メトキシエトキシ基、メトキシプロピルオキシ
基、エトキシメトキシ基、エトキシエトキシ基及びプロ
ピルオキシメトキシ基を包含する。式Iで定義されるア
ルキレン基は、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基
、1−メチルエf L/ン基、1−エチルエチレン基、
2−メチルブチレン基1−メチルブチレン基として定義
されるか、あるいはその橋が酸素原子によって中断され
る場合は−CH,−0−CH,−もしくは−CH,−0
−CH,−CH,−を表わす。
本発明は更に、式!で表わされる化合物のアミン、アル
カリ金属塩基及びアルカリ土類金属塩基もしくは第四ア
ンモニウム塩基と共に形成しうる塩をも包含する。
塩形成アルカリ金属及びアルカリ土類金属の水酸化物は
、リチウム、ナトリウム、カリウム、マグネシウム及び
カルシウムの水酸化物を包含するが、ナトリウム及びカ
リウムの水酸化物が好ましい。
塩を形成するために適当なアミンは、第一、第二及び第
三脂肪族及び芳香族アミンで、例えばメチルアミン、エ
チルアミン、プロピルアミン、イソプロピルアミン、4
つのブチルアミ/の異性体、ジメチルアミン、ジエチル
アミン、ジェタノールアミン、ジプロピルアミン、ジイ
ソプロピルアミン−ジ−n−ブチルアミン、ピロ゛リジ
ン、ピペリジン、モルホリン、トリメチルアミン、トリ
エチルアミン、トリプロピルアミン、キヌクリジン、ピ
リジン、キノリン及びインキノリンを含むが、エチルア
ミン、プロピルアミン、ジエチルアミン及びトリエチル
アミンが好tしく、イソプロピルアミン、ジェタノール
アミン及び1.4−ジアザビシクロ(2,2,2)オク
タンが最も好ましい。
第四アンモニウム塩基の例は、一般にハロアンモニウム
塩のカチオンで、例えばテトラメチルアンモニウムカチ
オン、テトラエチルアンモニウムカチオン、トリメチル
エチルアンモニウムカチ”オンであシ、更にアンモニウ
ムカチオンでもある。
Xl及びY′は式!で定義した意味を表わす。)で表わ
されるピリミジン基を表わす化合物、特にR’、R’、
R”、R’及びR7は水素原子を表わす化合物が好まし
く、とシわけ N−(2−7レニルオキシフエニルスルホニル)−N’
−(4−メトキシ−6−メチルピリミジン−2−イル)
尿素及び N−(2−アレニルオキシフェニルスルホニル)−N’
−(4,6−シメトキシビリミジンー2−イル)尿素、 N−(2−7レニルオキシフエニルスルホニル)−N’
−(4,6−ビス−(ジフルオロメトキした意味を表わ
す。)で表わされるトリアジニル基を表わし、特にR”
、R″及びR”は水素原子を表わす化合物で、最も好ま
しくは、N−(2−アレニルオキシフェニルスルホニル
)  N/−(4−メトキシ−6−メチル−1,3,5
−)リアジン−2−イル)尿素が好ましい。
式!で表わされる化合物を製造するための第一の方法は
、次式■: (式中、 R’、R″、R“R+及びWは式Iで定義した意味を表
わす。)で表わされるアレニルオキシスルホンアミドと
次式III: (式中、 RζA及びWは式Iで定義した意味を表わし、並びに Rはフェニル基、アルキル基もしくは置換されたフェニ
ル基を表わす。)で表わされるカルバメートを塩基の存
在下で反応させることによりなる。
式Iで表わされる化合物を製造するための第二の方法は
1次式■: (式中、 R”、R”、R“、R′及びWは式Iで定義した意味を
表わし、並びに Rはフェニル基、アルキル基もしくは置換されたフェニ
ル基を表わす。)で表わされるスルホニルカルバメート
を次式■: HN−A          (V) R″ (式中、 A及びR″は式!で定義した意味を表わす。)で表わさ
れるアミンと反応させることよりなる。
最後に、式lで表わされる化合物は上記式■で表わされ
るスルホンアミドと次式■:0CN−A       
   (Vl)(式中、 Aは式■で定義した意−味のひとつを表わす。)で表わ
されるインシアネートを反応させることKより得られる
。
所望により、式■で表わされる化合物は、アミン、アル
カリ金属水酸化物、アルカリ土類金属水酸化物もしくは
第四アンモニウム塩基を用いて付加塩に変換することが
できる。これは、例えば式lで表わされる化合物と叫モ
ル量の塩基とを反応させ、溶媒を蒸発させることによシ
行われ名。
式!で表わされる化合物を得るための反応は、中性、不
活性有機溶媒中で有利に実施される。
そのような溶媒とは、ベンゼン、トルエン、キシレンも
しくはシクロヘキサンのような炭化水素二四塩化炭素ま
たはクロロペ/ゼン、エーテル、例、tはジエチルエー
テル、エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレ
ンクリコールジメチルエーテル、テトラヒドロフランも
しくはジオキサンコニトリル、例えばアセトニトリルも
しくはプロピオニトリル:アミド、例えばジメチルホル
ムアミド、ジエチルホルムアミドもしくはN−メチルピ
ロリジノンを包含する。
反応温度は一20℃から+120℃の範囲が好ましい。
カップリングプロセス中の反応は、一般にわずかに発熱
するが、室温で実施することができる。反応時間を短縮
するか変換を誘導するために、反応混合物を沸点まで短
時間加熱するのが有利である。反応時間は、反応触媒と
して塩基を2〜3滴加えることによシ短縮することもで
きる。特に適当な塩基は、トリメチルアミン。
トリエチルアミン、キヌクリジン、1.4−ジアザビシ
クロ(2,2,2)−オクタン、1.5−ジアザビシク
ロ−(4,KO)ノネー5−エンもしくは1゜8−ジア
ザビシクロ(5,4,0)クンデセー7−エンのような
第三アミンを包含する。水素化物、例えば水素化ナトリ
ウム及び水素化カルシウム:水酸化物1例えば水酸化す
) IJウム及び水酸化カリウム;炭酸塩、例えば炭酸
す) IJウム及び炭酸カリウム二または重炭酸塩、例
えば重炭酸カリウム及びナトリウムのような無機塩基を
塩基として使用してもよい。
式■で表わされる最終生成物は、溶媒を濃縮及び/lた
は蒸発させることにより単離でき、そしてエーテル、芳
香族炭化水素もしくは塩素化炭化水素のようにそれらが
難溶性である溶媒中で固体残留物を再結晶するか、また
は粉細することにより精製することができる。
中間体として要求される式■で表わされるアレニルオキ
シ−及ヒアレニルテオフェニルスルホンアミドは、以下
の方法のひとつにより製造できる。ニ ア’ a ?”ニルオキシもしくはチオフェニルスルホ
ンアミドを、プロピニル−アレン転移が生じるまでo’
−so℃の温度でカリウム第三ブチレートの存在下で不
活性有機溶媒中で攪拌する。
2−クロロアリルオキシもしくはチオフェニルスルホン
アミドは、同様にカリウム第三ブチレートの存在下でア
レニルオキシフェニルスルホンアミドまで変換できる。
CA      W’=酸素原子もしくはイオウ原子 変換もしくは転移は、ジメチルスルホキシド、ジメチル
スルホンアミド、ジオキサン、セロソルブ、ジプロピル
エーテル、エタノールもしくはテトラヒドロフランのよ
うな不活性有機溶媒中で06−50℃の低温でおこる。
反応が終了すると、反応混合物を希釈した水性無機酸で
中和して、アレンをそこらから抽出することにより単離
する。
アレニルチオスルホンアミドのスルホキシド及びスルホ
ンは、以下の反応式に従って酢酸のような有機溶媒中で
過酸化水素で酸化することにより得られる。
式■で表わされる中間体は、式■で表わされるアレニル
オキシフェニルスルホンアミドかう公知の方法により得
られる。使用される出発物質は、式Vで表わされるアミ
ノピリミジン、アミノトリアゾール及びアミノトリアジ
ン並びに弐■で表わされる適当なカルバメートであシ、
かつ公知であるかあるいは文献中に記載されている公知
の方法により得ることができるかのどちらかである。式
■で表わされる有効成分は、安定な化合物である。それ
らの扱いは、特別な予防手段を要求しない。
低い施用比率で用いられた場合、式■で表わされる化合
物は良好な選択的生長抑制および選択的除草特性を有し
、そのため有用植物特に穀物、綿、大豆、とうもろこし
および稲にこれらを使用するのが好ましい。いくつかの
場合においては現在総合除草剤によってのみ防除される
雑草に対してもまた損傷を与えることができる。
これらの有効成分の作用形態は通常の場合とは異なる。
多くは転流可能であり、すなわちこれらは植物によって
吸収され、次いでこれらが作用する他の部所に移動する
。それ故例えば表・面処理により多年生雑草の根に損傷
を与えることが可能である。他の除草剤および生長抑制
剤に比べて、式■で表わされる新規な化合物は非常に低
い施用比率で用いられた場合でも効果がある。
式■で表わされる化合物は、特に生長防止特性を示す。
単子葉植物および双子葉植物双方の生長が妨げられる。
それ故例えば式!で表わされる化合物により熱帯地域で
間作としてしばしば栽培される豆科植物の生長を防止す
ることができるので、その結果、栽培植物の間の土壌の
浸食゛が防がれ、間作は主な栽培植物と競合することが
できない。
多くの栽培植物の場合における植物の成長の減少は作物
の密度を増加するようにできるので土地の同じ面積のた
めの更に高い収穫を達成することができる。成長抑制剤
を使用して収穫を増やすための付加的な貢献因子は、植
物の成長が限られているので花及び果実の形成が栄養物
質からよシ大きな程度の利益をうける。
式!で表わされる化合物は、綿及びジャガイモの作物を
落葉させて乾燥させるために使用することもできる。熟
した時に作物を処理することにより、線面もしくは塊茎
の収穫は1葉が落ち及び/もしくはしなびるとき、また
はかん木が枯れるとき非常に容易に行われる。
高比率で施用した場合には、総ての試験植物がその成長
に大きな損傷を受けて枯れた。
本発明はまた弐■で表わされる新規化合物を含む除草お
よび生長抑制剤組成物、並びに発芽前および発芽後の雑
草の防除、および単子葉植物および双子葉植物特に牧草
、熱帯間作および煙草植物の吸枝の生成防止の方法にも
また関するものである。
式1の化合物はそのままの形態で、或いは好ましくは製
剤技術で慣用の補助剤と共に組成物として使用され、公
知の方法により乳剤原液、直接噴霧可能なまたは希釈可
能な溶液、希釈乳剤、水利剤、水溶剤、粉剤、粒剤、お
よび例えばポリマー物質【よるカプセル化剤に製剤化さ
れる。組成物の性質と同様、噴霧、散水または注水のよ
うな適用法は、目的とする対象および使用環境に依存し
て選ばれる。
製剤、即ち式■の化合物および適当な場合には固体また
は液体の添加剤を含む組成物は、公知の方法により、例
えば有効成分を溶媒、固体担体および適当な場合には表
面活性化合物(界面活性剤)のような増量剤と均一に混
合および/または摩砕することにより、製造される。
適当な溶媒は次のものである:芳香族炭化水素、好まし
くは炭素原子数8ないし12の部分、例えばキシレン混
合物または置換ナフタレン:ジプチルフタレートま之は
ジオクチルフタレートのようなフタレート、シクロヘキ
サンまたはパラフィンのような脂肪族炭化水素、エタノ
ール、エチレングリコールモノメチルまたはモノエチル
エーテルのようなアルコールおよびグリコール並び忙そ
れらのエーテルおよびエステル、シクロヘキサノンのよ
うなケトン、N−メチル−2−ピロリドン、ジメチルス
ルホキシドまたはジメチルホルムアミドのような強極性
溶媒、並びにエポキシ化ココナツツ油または大豆油のよ
うなエポキシ化植物油;または水。
例えば粉剤および分散性粉末に使用できる固体担体は通
常、方解石、メルク、カオリン、モンモリロナイトまた
はアタパルジャイトのよう々天然鉱物充填剤である。物
性を改良するために、高分散ケイ酸または高分散吸収性
ポリマーを加えることも可能である。適当な粒状化吸収
性担体は多孔性型のもので、例えば軽石、破砕レンガ、
セピオライトまたはベントナイトであり:そして適当な
非吸収性担体は方解石または砂のような物質である。更
に非常に多くの予備粒状化した無機質および有機質の物
質、特にドロマイトまたは粉状化植物残骸、が使用し得
る。
製剤化すべき式!の化合物の性質によるが、適当な表面
活性化合物は良好な乳化性、分散性および湿潤性を有す
る非イオン性、カオチン性および/″またはアニオン性
界面活性剤である。
1界面活性剤゛の用語は界面活性剤の混合物をも含むも
のと理解されたい。
適当なアニオン性界面活性剤は、いわゆる水溶性の合成
表面活性化合物及び、水溶性石ケンの両者である。
適用される石、鹸は高級脂肪酸(C1,〜C0)のアル
カリ金属塩、アルカリ土類金属塩、または非置換または
置換のアンモニウム塩−例えばオレイン酸またはステア
リン酸、或いは例えばココナツツ油または獣脂から得ら
れる天然脂肪酸混合物のナトリウムまたはカリウム塩で
ある。脂肪酸メチルタウリン塩もまた用い得る。
しかしながら、いわゆる合成界面活性剤、特に脂肪族ス
ルホネート、脂肪族サルフェート、スルホン化ベンズイ
ミダゾール誘導体またはアルキルアリールスルホネート
、が更に頻繁に使用される。脂肪族スルホネートまたは
サルフェートは通常アルカリ金鋼塩、アルカリ土類金属
塩或いは場合によっては置換のアンモニウム塩の形態に
あり、そしてアシル基のアルキル部分をも含む炭素原子
数8ないし22のアルキル基を含み、例えばリグノスル
ホン酸、ドデシル硫酸エステルまたは天然脂肪酸から得
られる脂肪族アルコールサルフェートの混合物のナトリ
ウムまたはカルシウム塩である。これらの化合物には硫
酸エステルの塩および脂肪族アルコールエチレンオキシ
ド付加物のスルホン酸の塩も含まれる。スルホン化ベン
ズイミダゾール誘導体は、好ましくは二つのスルホン酸
基と8′fkいし22個の炭素原子を含む一つの脂肪酸
基とを含む。アルキルアリールスルホネートの例は、ド
デシルベンゼンスルホン酸、シフ゛チルナフタレンスル
ホン[tL<Hナフタレンスルホン酸−ホルムアルデヒ
ド縮合生成物のナトリウム、カルシウムまたはトリエタ
ノールアミン塩である。
対応するホスフェート、例えば4ないし14モルのエチ
レン オキシドを含むp−ノニルフェノール付加物のリ
ン酸エステルの塩、及びリン脂質もまた適当である。
肪酸およびアルキルフェノールのポリグリコール エー
テル誘導体であり、該誘導体は3ないし30個のグリコ
ール エーテル基、(脂肪族)炭化水素部分に8ないし
20個の炭素原子、そしてアルキルフェノールのアルキ
ル部分に6ないし18個の炭素原子を含む。
更に適当な非イオン性界面活性剤は、水溶性ポリエチレ
ンオキシド付加物で、該物質は、ポリプロピレングリコ
ール、エチレンジアミノポリプロピレングリコール、及
びアルキル鎖中ニ1ないし10個の炭素原子を有するア
ルキルポリプロピレングリコールと一緒に20ないし2
50個のエチレングリコール エーテル基および10な
いし100個のプロピレン グリコールエーテル基を含
む。これらの化合物は通常プロピレン グリコール単位
当り−ないし5個のエチレングリコール単位を含む。含
まれてよい非イオン性界面活性剤の代表的例は、ノニル
フェノール−ポリエトキシエタノール、ヒマシ油ポリグ
リコーケ エーテル、ポリエチレン/ボF゛ リエチレンオキシ付加物、トリブチルフェノキシポリエ
トキシエタノール、ポリエチレン グリコールおよびオ
クチルフェノキシポリエトキシエタノールである。ポリ
オキシエチレン ソルビタン トリオレートのようなポ
リオキシエチレン ソルビタンの脂肪酸エステルもまた
適当な非イオン性界面活性剤である。
カチオン性界面活性剤は、特にN−置換基として少なく
とも一つの炭素原子数8ないし22のアルキル基と、他
の置換基として場合によっては低級ハロゲン化アルキル
基、ベンジル基または低級ヒドロキシアルキル基とを含
む第四アンモニウム塩である。該塩は好ましくはノ・ロ
ゲ/化物、メチル硫酸塩またはエチル硫酸塩の形態にあ
り、例えばステアリルトリメチルアンモニウム クロリ
ドまたはベンジル ジー (2−クロロエチル)エチル
アンモニウム プロミドである。
製剤業界で慣用の界面活性剤は例えば下記の刊行物に記
載されている:′マクカッチャンズ、↓ デタージェンツ アンド エマルシアイアーズ アニエ
アル(Mc Cutcheon’s Detergen
tsand Emulsifiers Annual 
)”、マック出版社、リングウッド、ニーーシャーシー
州、1981年:ハー、シュタッヒx (H,5tac
he ) 、 ’テンジッドータツシェンプーフ(Te
n5id−Tashenbuch)”(ハンドブック 
オプ サーフアクタンス)。
カール、ハンザ−フェルラーク(Carl Han−s
er Verlag ) 、ミュンヘンおよび’) イ
ー711981年。
化学的な調整は通常、式Iの有効成分のα1ないし95
%、とシわけ(11ないし80%、固体または液体添加
剤1ないし9c19チ、および界面活性剤口ないし25
%、特K[Llないし25チを含む。
好ましい製剤としては特に下記の成分よシなるものが挙
げられる(%は重量百分率を示す。):粉   剤 懸濁原液 水利剤 粒   剤 市販品は好ましくは濃厚物の形態であるが、その組成費
消費者は通常希釈して使用する。展剤は有効成分の10
01%まで希釈して施用できる。施用量は通常α005
ないし5に、有効成分/ヘクタールである。
この組成物はまた他の添加剤例えば安定剤、消泡剤、粘
度調節剤、結合剤、粘着付与剤並びに肥料、−または特
別々効果の是めの他の有効成分を含有してもよい。
製造実施例 実afj’lJ1:N−(2−アレニルオキシフェニル
1.8−ジアザビシクロ〔S、5.0〕ウンデセーリー
エン(1,5−5)1.52り及び塩化メチレン10厘
10溶液を4.6−ビス(ジフルオロメトキシ−1,3
−ピリミジ−2−イン)インシアネート2−5Sy、2
−アレニルオキシフェニルスルホンアミド2−11y及
び塩化メチレン70m/の混合物に滴下する。反応混合
物を室温で5時間攪拌し、次いで乾燥させるためて蒸発
させる。残留物を水中で攪拌して、希塩酸でpH6に調
節して酢酸エチルで抽出する。抽出物を水で洗浄して、
乾燥し、蒸発によシ濃縮する。残留物をエーテルから結
晶させると、融点139°−140°Cの主題生成物α
65yを得る。
出発物ff2−アレニルオキシフェニルスルホンアミド
は以下の様にして得る。: &)2−71zニルオキシフエニルスルホンアミドの製
造 カリウム第三ブチレート4.5ノを温度が28℃を越え
ないように2−(2−クロロプロペ−2−エニルオキシ
)フェニルスルホンアミド5ノの溶液に少しずつ加える
。
反応混合物を20’−25℃で20時間攪拌し、その後
氷水を加えて、10%の塩酸を滴下することKよりpH
7に調節して、酢酸エチルで抽出する。該抽出物を水及
び塩酸で洗浄して、硫酸ナトリウムで乾燥させて、蒸発
により濃縮する。残留物をシリカゲルのカラムを通して
クロ1トゲラフすると、融点94°−95℃の純粋な2
−アレニルオキシフェニルスルホンアミドを得る。
この化合物は以下の様にしても製造できる。: ミドの製造 カリウム第三プチート4.45gを温度が28℃を毬え
ないように2−プロピニルオキシフェニルスルホンアミ
ド&33F及びジメチルスルホキシド40m1の溶液に
少しずつ加える。反応混合物を20−25℃で4時間攪
拌し、その後氷水を加えて、希塩酸を滴下することによ
りpH7に調節して、そして酢酸エチルで抽出する。有
機相を水及び塩水で洗浄し呼、硫酸ナトリウムで乾燥さ
せて、蒸発により濃縮する。残留物をシリカゲルのカラ
ムを通してクロマトグラフすると、8点94°−95℃
の2−アレニルオキシフェニルスルホンアミド1yを得
る。
![例2 : N−(2−アレニルオキシフェニルスル
ホニル)−N’−(4−メトキシ−6一メチルー1.3
.5− )リアジン−2−イル)尿素の製造2−アレニ
ルオキシフェニルスルホンアミド1.7y、4−メトキ
シ−6−メチル−1,45−トリアジン−2−イルフェ
ニルカルバメート2.08F、1.8−ジアザヒシクo
 I: S、 4.0 :l fz yデセーT−エン
(1,5−5)1.22y及び無水ジオキサン50 m
lの混合物を20°−25℃で4時間攪拌する。該反応
混合物を水中に注ぎ、10%塩酸を滴下することKより
pH6に調節して、酢酸エチルで抽出する。有機相を乾
燥させて、蒸発により濃縮する。残留物を酢酸エチルか
ら結晶させると、融点150°−151℃(分解)の主
題化合物1.8Fを得る。
表01 表02 表 02 (続き) 表 02  (続き) 表 02 (続き) 表 02 (続き) 一ゝ・′へ■c=c=ah 表 03 (続き) 表 05 (続き) 表05 表06 \/−ゝoa−r=c=CH。
表07 製剤例 実施例2: a)水和剤 a)   b)   c) 表の化合物  20%60% α5% リグノスルホン酸ナトリウム   5%  5%  5
%ラウリル硫酸ナトリウム     3%  −−高分
散ケイ散      5% 27% 27%カオリン 
       67% −−塩化ナトリウム     
−−595%有効成分を助剤とともに十分に混合した後
、該混合物を適当なミルで良(磨砕すると、水で4釈し
て所望の濃度の懸濁液を得ることのできる水和剤が得ら
れる。
b)乳剤原液 a)   b) 表の化合物         10% 1%ドデシルベ
ンゼンスルホン酸カルシウム  3%  3%ヒマシ油
ポリグリコールエーテル (エチレンオキシド36モル)      4%  4
%シクロヘキサノン       30% 10%キシ
レン混合物       50% 79%この乳剤原液
を水で希釈することにより、所望の濃度のエマルジーン
を得ることができる。
C)粉剤 a)  b) 表の化合物          α1%  1%タルク
            99.9%  −カオリン 
           −99%有効成分な担体ととも
に混合し、適当なミル中でこの混合物を磨砕することに
より、そのまま使用することのできる粉末を得る。
a)   b) 表の化合物         10% 1%リグノスル
ホン酸ナトIJ ラム   2%  2%カルボキシメ
チルセルロース  1%  1%カカオ7      
     87% 96%有効成分を助剤とともに混合
・磨砕し、続いてこの混合物を水で湿めらす。混合物を
押出し、空気流中で乾燥させる。
e)被覆粒剤 表の化合物          3% ポリエチレングリ:l−ル(mol、wt、200) 
  2%カオリン            94%細か
く粉砕した有効成分を、ミキサー中で1、ポリエチレン
グリコールで藩めらせたカオリンに均一に施用する。こ
の方法により非粉塵性被覆粒剤が得られる。
f)懸濁原液 a)   b) 表の化合物         40% 5%エチレング
リコール      10% 10%リグノスルホン酸
ナトリウム       10%  5%カルボキシメ
チルセルロース        1%   1%37%
ホルムアルデヒド水溶液      cL2% α2%
水                    32% 
77%細かく粉砕した有効成分を助剤とともに均一(混
合し、水で希釈することにより所望の濃度の!!濁液を
得ることのできるM濁性濃厚物が得られる。
g)塩の溶液 表の化合物          5% イソプロピルアミン      1% 水                     91%
プラスチック容器を発泡バーミキュライト(密度: 1
113517cd、水吸収容量: (156s13/り
で満たす。7[1829mの濃度で試験化合物を含む脱
イオン水中の水性乳剤により非吸着性バーミキュライト
を飽和させた後、下記植物の種子をその表面に播<:ナ
スツルチクム オフィシナリス(Nasturtium
 officinajis )、アグロスチス テヌイ
ス(Agrostis tenuis )、ステラリア
メゾ47 (3tellaria media )およ
びジギタリア サングイナリス(Digitaria 
sanguinalis)、。
次いで容器を20℃、照射約20ルクスおよび相対湿度
70%の気侯室中に保持する。4日ないし6日の発芽期
の間、局部的な湿度を増加させるために容器を光透過性
物質でおおい、そして脱イオン水で潅水する。5日砕後
、市販の0.5%の液体肥料(Qreenzit■)を
この水に加える。
WI穐後12日目に試験結果を評価し、そして植物に対
する作用を評価する。式lで表わされる試験化合物は、
この試験で非常に良好な除草作用を示す。
発芽前の作用: 化合物の乳剤濃度=7αf3ppm 実施例4:穀物の成長抑制 夏大麦(ホレデウム プルガレ(Hordeumvul
gare )及び夏ライ麦(スプリング バレー)種を
温室中の滅菌土壌を有するプラスチック容器にまき、必
要なだけ水を与える。式Iの化合物の水性噴霧混合物を
種まき後約21日で若枝に噴霧する。濃度は、1ヘクタ
ール当り有効成分t100りまでに相当する。穀類の成
長の評価は、施用後21日して行なう。
未処理対照植物と比較して処理植物は新しい成長の減少
を示し、(対照植物の60ないし90%)、及びいくつ
かの場合においては、茎の直径にも増加を示す。
実施例5:草の成長抑制 ホソムギ(LOI ium perenne )、ボア
 プラテンシス(po’a pratensis )、
フェスツカ オビナ(pestuca ovina )
、ダクティリス グロメラテ(1)actylis g
lomerate )及びジノトン ダクチo y (
Cynodon dactylon )を温室中でプラ
スチック皿の土II/沈炭/砂の混合物(6:li )
にまき、必要なだけ水を与える。成長する葉を毎週、約
45+!の高さに切りそろえ、種まき後約50日及び最
後に切りそろえた次の日に式1の化合物の水性噴霧混合
物を噴霧する。試験化合物の濃度は、1ヘクタール当り
100J’までの施用率に相当する。草の成長は分散剤
施用後、21日で評価する。
式1の試験化合物は、対照植物の新しい成長に比較して
10ないし30%の範囲の新しい成長の減少を示す。

Claims (20)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)次式: ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) 〔式中、 R^1及びR^2は互いに独立して水素原子または炭素
    原子数1もしくは2のアルキル基を表わし、 R^3は水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、炭素原子
    数1ないし4のアルキル基、炭素原子数1ないし4のハ
    ロアルキル基、炭素原子数1ないし4のアルコキシ基、
    炭素原子数1ないし4のハロアルコキシ基、炭素原子数
    1ないし4のアルコキシカルボニル基、炭素原子数1な
    いし4のアルキルチオ基、炭素原子数1ないし4のアル
    キルスルフィニル基、炭素原子数1ないし4のアルキル
    スルホニル基もしくは炭素原子数2ないし5のアルコキ
    シアルコキシ基または式−SO_2NR^4R^5(式
    中、R^4は水素原子、炭素原子数1もしくは2のアル コキシ基または炭素原子数1ないし4のアルキル基を表
    わし、 R^5は水素原子、メチル基もしくはエチル基を表わす
    。)で表わされる基を表わし、 R^6及びR^7はそれぞれ水素原子、メチル基もしく
    はエチル基を表わし、 Wは酸素原子、イオウ原子、スルフィニル 基及びスルホニル橋を表わし、 Aは次式: ¥A1¥▲数式、化学式、表等があります▼¥A2¥▲
    数式、化学式、表等があります▼¥A3¥▲数式、化学
    式、表等があります▼¥A4¥▲数式、化学式、表等が
    あります▼、¥A5¥▲数式、化学式、表等があります
    ▼、 ¥A6¥▲数式、化学式、表等があります▼、¥A7¥
    ▲数式、化学式、表等があります▼及び ¥A8¥▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、X^1、X^2、X^3、X^4、X^5、X
    ^6、X^7、X^8及びY^1はそれぞれ独立してハ
    ロゲン原子、炭素原子数1ないし4のハロアルコキシ基
    、炭素原子数1ないし4のハロアルキル基、炭素原子数
    1ないし4のアルコキシ基、炭素原子数1ないし4のア
    ルキル基、ジメチルアミノ基、メチルアミノ基、エチル
    アミノ基、アミノ基もしくは炭素原子数2ないし4のア
    ルコキシアルキル基を表わし、 E^1は窒素原子もしくはメチン橋を表わし、E^2は
    酸素原子もしくはメチレン橋を表わし、Y^2はY^1
    と同様の意味を表わすかまたはシクロプロピル基、ジメ
    トキシメチル基、ジエトキシメチル基、基▲数式、化学
    式、表等があります▼もしくは基 ▲数式、化学式、表等があります▼を表わし、 Y^3はメチル基、メトキシ基、エチル基、エトキシ基
    、炭素原子数1もしくは2のハロアルキル基または炭素
    原子数1もしくは2のハロアルコキシ基を表わし、 Y^4は水素原子、メトキシ基、エトキシ基、ハロゲン
    原子もしくは炭素原子数1ないし4のアルキル基を表わ
    し、 Y^6及びY^6^1は互いに独立して水素原子、炭素
    原子数1ないし4のアルキル基、ハロゲン原子、メトキ
    シ基もしくはメチルチオ基を表わし、 Y^8及びY^8^1は互いに独立して水素原子もしく
    はメチル基を表わし、 nは1もしくは2を表わし、 Z^3は水素原子、メチル基、エチル基、メトキシ基、
    エトキシ基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニ
    ル基、ハロゲン原子、シアン基、ニトロ基、メチルチオ
    基、メチルスルフィニル基もしくはメチルスルホニル基
    を表わし、 Z^3及びY^3は一緒になって炭素原子数2ないし4
    のアルキレン橋を表わし、並びに Z^5はメチル基もしくはエチル基を表わす。)で表わ
    される基から選択された基を表わす。〕で表わされるN
    −フェニルスルホニル−N′−ピリミジニル尿素、N′
    −トリアゾリル尿素もしくはN′−トリアジニル尿素、
    またはそれらの塩。
  2. (2)次式 I b: ▲数式、化学式、表等があります▼( I b) 〔式中、 R^1及びR^2が互いに独立して水素原子または炭素
    原子数1もしくは2のアルキル基を表わし、 R^3が水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、炭素原子
    数1ないし4のアルキル基、炭素原子数1ないし4のハ
    ロアルキル基、炭素原子数1ないし4のアルコキシ基、
    炭素原子数1ないし4のハロアルコキシ基、炭素原子数
    1ないし4のアルコキシカルボニル基、炭素原子数1な
    いし4のアルキルチオ基、炭素原子数1ないし4のアル
    キルスルフィニル基、炭素原子数1ないし4のアルキル
    スルホニル基もしくは炭素原子数2ないし5のアルコキ
    シアルコキシ基または式−SO_2NR^4R^5(式
    中、 R^4が水素原子、炭素原子数1もしくは2のアルコキ
    シ基または炭素原子数1ないし4のアルキル基を表わし
    、 R^5が水素原子、メチル基もしくはエチル基を表わす
    。)で表わされる基を表わし、 R^6及びR^7がそれぞれ水素原子、メチル基もしく
    はエチル基を表わし、 Wが酸素原子、イオウ原子、スルフィニル 橋もしくはスルホニル橋を表わし、 Xがハロゲン原子、炭素原子数1ないし4 のアルキル基、炭素原子数1ないし4のハロアルキル基
    、炭素原子数1ないし4のアルコキシ基、炭素原子数1
    ないし4のハロアルコキシ基、アミノ基、メチルアミノ
    基、エチルアミノ基、ジメチルアミノ基もしくは炭素原
    子数2ないし5のアルコキシアルキル基を表わし、並び
    に YがXと同じ意味を表わすかまたはシクロ プロピル基を表わす。〕で表わされる特許請求の範囲第
    1項記載のN−フェニルスルホニル−N′−ピリミジニ
    ル尿素。
  3. (3)式 I b中、 R^1、R^2、R^3、R^6及びR^7が水素原子
    を表わし、 Wが酸素原子を表わし、並びに X及びYが特許請求の範囲第2項で定義し た意味を表わす特許請求の範囲第2項記載のN−フェニ
    ルスルホニル−N′−ピリミジニル尿素。
  4. (4)式 I b中、 R^1、R^2、R^3、R^6及びR^7が水素原子
    を表わし、 Wがイオウ原子を表わし、並びに X及びYが特許請求の範囲第2項で定義し た意味を表わす特許請求の範囲第2項記載のN−フェニ
    ルスルホニル−N′−ピリミジニル尿素。
  5. (5)N−(2−アレニルオキシフェニルスルホニル)
    −N−(4−メトキシ−4−メチルピリミジン−2−イ
    ル)尿素である特許請求の範囲第1項記載の化合物。
  6. (6)N−(2−アレニルオキシフェニルスルホニル)
    −N′−(4,6−ジメトキシピリミジン−2−イル)
    尿素である特許請求の範囲第1項記載の化合物。
  7. (7)N−(2−アレニルオキシフェニルスルホニル)
    −N′−(4,6−ビス−ジフルオロメトキシピリミジ
    ン−2−イル)尿素である特許請求の範囲第1項記載の
    化合物。
  8. (8)次式 I c: ▲数式、化学式、表等があります▼( I c) 〔式中、 R^1及びR^2が互いに独立して水素原子または炭素
    原子数1もしくは2のアルキル基を表わし、 R^3が水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、炭素原子
    数1ないし4のアルキル基、炭素原子数1ないし4のハ
    ロアルキル基、炭素原子数1ないし4のアルコキシ基、
    炭素原子数1ないし4のハロアルコキシ基、炭素原子数
    1ないし4のアルコキシカルボニル基、炭素原子数1な
    いし4のアルキルチオ基、炭素原子数1ないし4のアル
    キルスルフィニル基、炭素原子数1ないし4のアルキル
    スルホニル基もしくは炭素原子数2ないし5のアルコキ
    シアルコキシ基または式−SO_2NR^4R^5(式
    中、R^4が水素原子、炭素原子数1もしくは2のアル
    コキシ基または炭素原子数1ないし4のアルキル基を表
    わし、R^5が水素原子、メチル基もしくはエチル基を
    表わす。)で表わされる基を表わし、 R^6及びR^7がそれぞれ水素原子、メチル基もしく
    はエチル基を表わし、 Wが酸素原子、イオウ原子、スルフィニル 橋もしくはスルホニル橋を表わし、 Xがハロゲン原子、炭素原子数1ないし4 のアルキル基、炭素原子数1ないし4のハロアルキル基
    、炭素原子数1ないし4のアルコキシ基、炭素原子数1
    ないし4のハロアルコキシ基、アミノ基、メチルアミノ
    基、エチルアミノ基、ジメチルアミノ基もしくは炭素原
    子数2ないし5のアルコキシアルキル基を表わし、並び
    に YがXと同じ意味を表わすかまたはシクロ プロピル基を表わす。〕で表わされる特許請求の範囲第
    1項記載のN−フェニルスルホニル−N′−トリアジニ
    ル尿素。
  9. (9)式 I c中、 R^1、R^2、R^3及びR^6が水素原子を表わし
    、並びに、 W、X及びYが特許請求の範囲第8項で定 義した意味を表わす特許請求の範囲第1項記載のN−(
    2−アレニルオキシフェニルスルホニル)−N′−トリ
    アジニル尿素。
  10. (10)N−(2−アレニルオキシフェニルスルホニル
    )−N′−(4−メトキシ−6−メチル−1,3,5−
    トリアジン−2−イル)尿素である特許請求の範囲第1
    項記載の化合物。
  11. (11)次式II: ▲数式、化学式、表等があります▼(II) (式中、 R^1、R^3、R^6、R^7及びWは下記式 I で
    定義する意味を表わす。)で表わされるフェニルスルホ
    ンアミドと次式III: ▲数式、化学式、表等があります▼(III) (式中、 A及びR^2は下記式 I で定義する意味を表わし、並
    びに Rはフェニル基、アルキル基もしくは置換 されたフェニル基を表わす。)で表わされるカルバメー
    トを塩基の存在下で反応させ、そして所望により下記式
    I で表わされる化合物をそれらの塩に変換することよ
    りなる次式 I :▲数式、化学式、表等があります▼(
    I ) 〔式中、 R^1及びR^2は互いに独立して水素原子または炭素
    原子数1もしくは2のアルキル基を表わし、 R^3は水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、炭素原子
    数1ないし4のアルキル基、炭素原子数1ないし4のハ
    ロアルキル基、炭素原子数1ないし4のアルコキシ基、
    炭素原子数1ないし4のハロアルコキシ基、炭素原子数
    1ないし4のアルコキシカルボニル基、炭素原子数1な
    いし4のアルキルチオ基、炭素原子数1ないし4のアル
    キルスルフィニル基、炭素原子数1ないし4のアルキル
    スルホニル基もしくは炭素原子数2ないし5のアルコキ
    シアルコキシ基または式−SO_2NR^4R^5(式
    中、R^4は水素原子、炭素原子数1もしくは2のアル
    コキシ基または炭素原子数1ないし4のアルキル基を表
    わし、 R^5は水素原子、メチル基もしくはエチル基を表わす
    。)で表わされる基を表わし、 R^6及びR^7はそれぞれ水素原子、メチル基もしく
    はエチル基を表わし、 Wは酸素原子、イオウ原子、スルフィニル 基及びスルホニル橋を表わし、 Aは次式: ¥A1¥▲数式、化学式、表等があります▼¥A2¥▲
    数式、化学式、表等があります▼¥A3¥▲数式、化学
    式、表等があります▼¥A4¥▲数式、化学式、表等が
    あります▼、¥A5¥▲数式、化学式、表等があります
    ▼、 ¥A6¥▲数式、化学式、表等があります▼、¥A7¥
    ▲数式、化学式、表等があります▼及び ¥A8¥▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、X^1、X^2、X^3、X^4、X^5、X
    ^6、X^7、X^8及びY^1はそれぞれ独立してハ
    ロゲン原子、炭素原子数1ないし4のハロアルコキシ基
    、炭素原子数1ないし4のハロアルキル基、炭素原子数
    1ないし4のアルコキシ基、炭素原子数1ないし4のア
    ルキル基、ジメチルアミノ基、メチルアミノ基、エチル
    アミノ基、アミノ基もしくは炭素原子数2ないし4のア
    ルコキシアルキル基を表わし、 E^1は窒素原子もしくはメチン橋を表わし、E^2は
    酸素原子もしくはメチレン橋を表わし、Y^2はY^1
    と同様の意味を表わすかまたはシクロプロピル基、ジメ
    トキシメチル基、ジエトキシメチル基、基▲数式、化学
    式、表等があります▼もしくは基▲数式、化学式、表等
    があります▼ を表わし、 Y^3はメチル基、メトキシ基、エチル基、エトキシ基
    、炭素原子数1もしくは2のハロアルキル基または炭素
    原子数1もしくは2のハロアルコキシ基を表わし、 Y^4は水素原子、メトキシ基、エトキシ基、ハロゲン
    原子もしくは炭素原子数1ないし4のアルキル基を表わ
    し、 Y^6及びY^6^1は互いに独立して水素原子、炭素
    原子数1ないし4のアルキル基、ハロゲン原子、メトキ
    シ基もしくはメチルチオ基を表わし、 Y^8及びY^8^1は互いに独立して水素原子もしく
    はメチル基を表わし、 nは1もしくは2を表わし、 Z^3は水素原子、メチル基、エチル基、メトキシ基、
    エトキシ基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニ
    ル基、ハロゲン原子、シアン基、ニトロ基、メチルチオ
    基、メチルスルフィニル基もしくはメチルスルホニル基
    を表わし、 Z^3及びY^3は一緒になって炭素原子数2ないし4
    のアルキレン橋を表わし、並びに Z^5はメチル基もしくはエチル基を表わす。)で表わ
    される基から選択された基を表わす。〕で表わされるN
    −フェニルスルホニル尿素の製造方法。
  12. (12)次式IV: ▲数式、化学式、表等があります▼(IV) (式中、 R^1、R^3、R^6、R^7及びWは下記式 I で
    定義する意味を表わし、並びに Rはフェニル基、アルキル基及び置換され たフェニル基を表わす。)で表わされるスルホニルカル
    バメートを次式V: ▲数式、化学式、表等があります▼(V) (式中、 A及びR^2は下記式 I で定義する意味を表わす。)
    で表わされるアミンと反応させ、そして所望により下記
    式 I で表わされる核化合物をそれらの塩に変換するこ
    とよりなる次式 I :▲数式、化学式、表等があります
    ▼( I ) 〔式中、 R^1及びR^2は互いに独立して水素原子または炭素
    原子数1もしくは2のアルキル基を表わし、 R^3は水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、炭素原子
    数1ないし4のアルキル基、炭素原子数1ないし4のハ
    ロアルキル基、炭素原子数1ないし4のアルコキシ基、
    炭素原子数1ないし4のハロアルコキシ基、炭素原子数
    1ないし4のアルコキシカルボニル基、炭素原子数1な
    いし4のアルキルチオ基、炭素原子数1ないし4のアル
    キルスルフィニル基、炭素原子数1ないし4のアルキル
    スルホニル基もしくは炭素原子数2ないし5のアルコキ
    シアルコキシ基または式−SO_2NR^4R^5(式
    中、R^4は水素原子、炭素原子数1もしくは2のアル
    コキシ基または炭素原子数1ないし4のアルキル基を表
    わし、 R^5は水素原子、メチル基もしくはエチル基を表わす
    。)で表わされる基を表わし、 R^6及びR^7はそれぞれ水素原子、メチル基もしく
    はエチル基を表わし、 Wは酸素原子、イオウ原子、スルフィニル 基及びスルホニル橋を表わし、 Aは次式: ¥A1¥▲数式、化学式、表等があります▼、¥A2¥
    ▲数式、化学式、表等があります▼、¥A3¥▲数式、
    化学式、表等があります▼、¥A4¥▲数式、化学式、
    表等があります▼、¥A5¥▲数式、化学式、表等があ
    ります▼、 ¥A6¥▲数式、化学式、表等があります▼¥A7¥▲
    数式、化学式、表等があります▼及び ¥A8¥▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、X^1、X^2、X^3、X^4、X^5、X
    ^6、X^7、X^8及びY^1はそれぞれ独立してハ
    ロゲン原子、炭素原子数1ないし4のハロアルコキシ基
    、炭素原子数1ないし4のハロアルキル基、炭素原子数
    1ないし4のアルコキシ基、炭素原子数1ないし4のア
    ルキル基、ジメチルアミノ基、メチルアミノ基、エチル
    アミノ基、アミノ基もしくは炭素原子数2ないし4のア
    ルコキシアルキル基を表わし、 E^1は窒素原子もしくはメチン橋を表わし、E^2は
    酸素原子もしくはメチレン橋を表わし、Y^2はY^1
    と同様の意味を表わすか、またはシクロプロピル基、ジ
    メトキシメチル基、ジエトキシメチル基、基▲数式、化
    学式、表等があります▼もしくは基 ▲数式、化学式、表等があります▼を表わし、 Y^3はメチル基、メトキシ基、エチル基、エトキシ基
    、炭素原子数1もしくは2のハロアルキル基または炭素
    原子数1もしくは2のハロアルコキシ基を表わし、 Y^4は水素原子、メトキシ基、エトキシ基、ハロゲン
    原子もしくは炭素原子数1ないし4のアルキル基を表わ
    し、 Y^6及びY^6^1は互いに独立して水素原子、炭素
    原子数1ないし4のアルキル基、ハロゲン原子、メトキ
    シ基もしくはメチルチオ基を表わし、 Y^8及びY^8^1は互いに独立して水素原子もしく
    はメチル基を表わし、 nは1もしくは2を表わし、 Z^3は水素原子、メチル基、エチル基、メトキシ基、
    エトキシ基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニ
    ル基、ハロゲン原子、シアン基、ニトロ基、メチルチオ
    基、メチルスルフィニル基もしくはメチルスルホニル基
    を表わし、 Z^3及びY^3は一緒になって炭素原子数2ないし4
    のアルキレン橋を表わし、並びに Z^5はメチル基もしくはエチル基を表わす。)で表わ
    される基から選択された基を表わす。〕で表わされるフ
    ェニルスルホニル尿素の製造方法。
  13. (13)次式II: ▲数式、化学式、表等があります▼(II) (式中、 R^1、R^3、R^6、R^7及びWは下記式 I で
    定義する意味を表わす。)で表わされるスルホンアミド
    を次式IV: OCN−A(IV) (式中、 Aは下記式 I で定義する意味を表わす。) で表わされるイソシアネートと反応させ、そして所望に
    より下記式 I で表わされる化合物をそれらの塩に変換
    することよりなる次式 I :▲数式、化学式、表等があ
    ります▼( I ) 〔式中、 R^1及びR^2は互いに独立して水素原子または炭素
    原子数1もしくは2のアルキル基を表わし、 R^3は水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、炭素原子
    数1ないし4のアルキル基、炭素原子数1ないし4のハ
    ロアルキル基、炭素原子数1ないし4のアルコキシ基、
    炭素原子数1ないし4のハロアルコキシ基、炭素原子数
    1ないし4のアルコキシカルボニル基、炭素原子数1な
    いし4のアルキルチオ基、炭素原子数1ないし4のアル
    キルスルフィニル基、炭素原子数1ないし4のアルキル
    スルホニル基もしくは炭素原子数2ないし5のアルコキ
    シアルコキシ基または式−SO_2NR^4R^5(式
    中、R^4は水素原子、炭素原子数1もしくは2のアル
    コキシ基または炭素原子数1ないし4のアルキル基を表
    わし、 R^5は水素原子、メチル基もしくはエチル基を表わす
    。)で表わされる基を表わし、 R^6及びR^7はそれぞれ水素原子、メチル基もしく
    はエチル基を表わし、 Wは酸素原子、イオウ原子、スルフィニル 基及びスルホニル橋を表わし、 Aは次式: ¥A1¥▲数式、化学式、表等があります▼、¥A2¥
    ▲数式、化学式、表等があります▼、¥A3¥▲数式、
    化学式、表等があります▼、¥A4¥▲数式、化学式、
    表等があります▼、¥A5¥▲数式、化学式、表等があ
    ります▼、 ¥A6¥▲数式、化学式、表等があります▼、¥A7¥
    ▲数式、化学式、表等があります▼及び ¥A8¥▲数式、化学式、表等があります▼、 (式中、X^1、X^2、X^3、X^4、X^5、X
    ^6、X^7、X^8及びY^1はそれぞれ独立してハ
    ロゲン原子、炭素原子数1ないし4のハロアルコキシ基
    、炭素原子数1ないし4のハロアルキル基、炭素原子数
    1ないし4のアルコキシ基、炭素原子数1ないし4のア
    ルキル基、ジメチルアミノ基、メチルアミノ基、エチル
    アミノ基、アミノ基もしくは炭素原子数2ないし4のア
    ルコキシアルキル基を表わし、 E^1は窒素原子もしくはメチン橋を表わし、E^2は
    酸素原子もしくはメチレン橋を表わし、Y^2はY^1
    と同様の意味を表わすかまたはシクロプロピル基、ジメ
    トキシメチル基、ジエトキシメチル基、基▲数式、化学
    式、表等があります▼もしくは基 ▲数式、化学式、表等があります▼を表わし、 Y^3はメチル基、メトキシ基、エチル基、エトキシ基
    、炭素原子数1もしくは2のハロアルキル基または炭素
    原子数1もしくは2のハロアルコキシ基を表わし、 Y^4は水素原子、メトキシ基、エトキシ基、ハロゲン
    原子もしくは炭素原子数1ないし4のアルキル基を表わ
    し、 Y^6及びY^6^1は互いに独立して水素原子、炭素
    原子数1ないし4のアルキル基、ハロゲン原子、メトキ
    シ基もしくはメチルチオ基を表わし、 Y^8及びY^8^1は互いに独立して水素原子もしく
    はメチル基を表わし、 nは1もしくは2を表わし、 Z^3は水素原子、メチル基、エチル基、メトキシ基、
    エトキシ基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニ
    ル基、ハロゲン原子、シアン基、ニトロ基、メチルチオ
    基、メチルスルフィニル基もしくはメチルスルホニル基
    を表わし、 Z^3及びY^3は一緒になって炭素原子数2ないし4
    のアルキレン橋を表わし、並びに Z^5はメチル基もしくはエチル基を表わす。)で表わ
    される基から選択された基を表わす。〕で表わされるフ
    ェニルスルホニル尿素の製造方法。
  14. (14)次式 I : ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) 〔式中、 R^1及びR^2は互いに独立して水素原子または炭素
    原子数1もしくは2のアルキル基を表わし、R^2は水
    素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、炭素原子数1ないし
    4のアルキル基、炭素原子数1ないし4のハロアルキル
    基、炭素原子数1ないし4のアルコキシ基、炭素原子数
    1ないし4のハロアルコキシ基、炭素原子数1ないし4
    のアルコキシカルボニル基、炭素原子数1ないし4のア
    ルキルチオ基、炭素原子数1ないし4のアルキルスルフ
    ィニル基炭素原子数1ないし4のアルキルスルホニル基
    もしくは炭素原子数2ないし5のアルコキシアルコキシ
    基または式 −SO_2NR^4R^5(式中、R^4は水素原子、
    炭素原子数1もしくは2のアルコキシ基または炭素原子
    数1ないし4のアルキル基を表わし、 R^5は水素原子、メチル基もしくはエチル基を表わす
    。)で表われる基を表わし、 R^6及びR^7はそれぞれ水素原子、メチル基もしく
    はエチル基を表わし、 Wは酸素原子、イオウ原子、スルフィニル基及びスルホ
    ニル橋を表わし、 Aは次式: ¥A1¥▲数式、化学式、表等があります▼、¥A2¥
    ▲数式、化学式、表等があります▼、¥A3¥▲数式、
    化学式、表等があります▼¥A4¥▲数式、化学式、表
    等があります▼、¥A5¥▲数式、化学式、表等があり
    ます▼、 ¥A6¥▲数式、化学式、表等があります▼、¥A7¥
    ▲数式、化学式、表等があります▼及び ¥A8¥▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、X^1、X^2、X^3、X^4、X^5、X
    ^6、X^7、X^8及びY^1はそれぞれ独立してハ
    ロゲン原子、炭素原子数1ないし4のハロアルコキシ基
    、炭素原子数1ないし4のハロアルキル基、炭素原子数
    1ないし4のアルコキシ基、炭素原子数1ないし4のア
    ルキル基、ジメチルアミノ基、メチルアミノ基、エチル
    アミノ基、アミノ基もしくは炭素原子数2ないし4のア
    ルコキシアルキル基を表わし、 E^1は窒素原子もしくはメチン橋を表わし、E^2は
    酸素原子もしくはメチレン橋を表わし、Y^2はY^1
    と同様の意味を表わすかまたはシクロプロピル基、ジメ
    トキシメチル基、ジエトキシメチル基、基▲数式、化学
    式、表等があります▼もしくは基▲数式、化学式、表等
    があります▼を表 わし、 Y^3はメチル基、メトキシ基、エチル基、エトキシ基
    、炭素原子数1もしくは2のハロアルキル基または炭素
    原子数1もしくは2のハロアルコキシ基を表わし、 Y^4は水素原子、メトキシ基、エトキシ基、ハロゲン
    原子もしくは炭素原子数1ないし4のアルキル基を表わ
    し、 Y^8及びY^8^1は互いに独立して水素原子、炭素
    原子数1ないし4のアルキル基、ハロゲン原子、メトキ
    シ基もしくはメチルチオ基を表わし、Y^8及びY^8
    ^1は互いに独立して水素原子もしくはメチル基を表わ
    し、 nは1もしくは2を表わし、 Z^3は水素原子、メチル基、エチル基、メトキシ基、
    エトキシ基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニ
    ル基、ハロゲン原子、シアン基、ニトロ基、メチルチオ
    基、メチルスルフィニル基もしくはメチルスルホニル基
    を表わし、 Z^3及びY^3は一緒になって炭素原子数2ないし4
    のアルキレン橋を表わし、並びに Z^5はメチル基もしくはエチル基を表わす。)で表わ
    される基から選択された基を表わす。〕で表わされるス
    ルホニル尿素とアミン、水酸化アルカリ金属、水酸化ア
    ルカリ土類金属もしくは第四アンモニウム塩基と反応さ
    せることよりなる式 I の化合物の付加塩の製造方法。
  15. (15)担体及び/または他の補助剤に加えて、有効成
    分として次式 I : ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) 〔式中、 R^1及びR^2は互いに独立して水素原子または炭素
    原子数1もしくは2のアルキル基を表わし、R^3は水
    素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、炭素原子数1ないし
    4のアルキル基、炭素原子数1ないし4のハロアルキル
    基、炭素原子数1ないし4のアルコキシ基、炭素原子数
    1ないし4のハロアルコキシ基、炭素原子数1ないし4
    のアルコキシカルボニル基、炭素原子数1ないし4のア
    ルキチオ基、炭素原子数1ないし4のアルキルスルフィ
    ニル基炭素原子数1ないし4のアルキルスルホニル基も
    しくは炭素原子数2ないし5のアルコキシアルコキシ基
    または式 −SO_3NR^4R^5(式中、R^4は水素原子、
    炭素原子数1もしくは2のアルコキシ基または炭素原子
    数1ないし4のアルキル基を表わし、 R^6は水素原子、メチル基もしくはエチル基を表わす
    。)で表われる基を表わし、 R^6及びR^7はそれぞれ水素原子、メチル基もしく
    はエチル基を表わし、 Wは酸素原子、イオウ原子、スルフィニル基及びスルホ
    ニル橋を表わし、 Aは次式: ¥A1¥▲数式、化学式、表等があります▼¥A2¥▲
    数式、化学式、表等があります▼¥A3¥▲数式、化学
    式、表等があります▼¥A4¥▲数式、化学式、表等が
    あります▼¥A5¥▲数式、化学式、表等があります▼ ¥A6¥▲数式、化学式、表等があります▼¥¥A7▲
    数式、化学式、表等があります▼及び ¥A8¥▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、X^1、X^2、X^3、X^4、X^5、X
    ^6、X^7、X^8及びY^1はそれぞれ独立してハ
    ロゲン原子、炭素原子数1ないし4のハロアルコキシ基
    、炭素原子数1ないし4のハロアルキル基、炭素原子数
    1ないし4のアルコキシ基、炭素原子数1ないし4のア
    ルキル基、ジメチルアミノ基、メチルアミノ基、エチル
    アミノ基、アミノ基もしくは炭素原子数2ないし4のア
    ルコキシアルキル基を表わし、E^1は窒素原子もしく
    はメチン橋を表わし、E^2は酸素原子もしくはメチレ
    ン橋を表わし、Y^2はY^1と同様の意味を表わすか
    またはシクロプロピル基、ジメトキシメチル基、ジエト
    キシメチル基、基▲数式、化学式、表等があります▼も
    しくは基▲数式、化学式、表等があります▼を表わし、 Y^3はメチル基、メトキシ基、エチル基、エトキシ基
    、炭素原子数1もしくは2のハロアルキル基または炭素
    原子数1もしくは2のハロアルコキシ基を表わし、 Y^4は水素原子、メトキシ基、エトキシ基、ハロゲン
    原子もしくは炭素原子数1ないし4のアルキル基を表わ
    し、 Y^6及びY^6^1は互いに独立して水素原子、炭素
    原子数1ないし4のアルキル基、ハロゲン原子、メトキ
    シ基もしくはメチルチオ基を表わし、Y^3及びY^5
    ^1は互いに独立して水素原子もしくはメチル基を表わ
    し、 nは1もしくは2を表わし、 Z^3は水素原子、メチル基、エチル基、メトキシ基、
    エトキシ基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニ
    ル基、ハロゲン原子、シアン基、ニトロ基、メチルチオ
    基、メチルスルフィニル基もしくはメチルスルホニル基
    を表わし、 Z^2及びY^3は一緒になって炭素原子数2ないし4
    のアルキレン橋を表わし、並びに Z^3はメチル基もしくはエチル基を表わす。)で表わ
    される基から選択された基を表わす。〕で表わされるフ
    ェニルスルホニル尿素を含有する除草及び植物生長調節
    組成物。
  16. (16)植物体及びそれらの生育地に式 I で表わされ
    る化合物または該化合物を含有する組成物を有効量施用
    して望ましくない植物の生長を防除するための特許請求
    の範囲第15項記載の組成物。
  17. (17)植物体及びそれらの生育地に式 I で表わされ
    る化合物もしくは該化合物を含有する組成物を有効量施
    用して植物の生長を抑制するための特許請求の範囲第1
    5項記載の組成物。
  18. (18)植物体もしくはそれらの生育地に式 I で表わ
    される化合物または該化合物を含有する組成物を有効量
    施用して収穫を増加させる目的で植物の成長を調節する
    ための特許請求の範囲第15項記載の組成物。
  19. (19)有用植物の耕作地における発芽前もしくは発芽
    後の雑草を選択的に防除するための特許請求の範囲第1
    5項記載の組成物。
  20. (20)有効成分を発芽前に施用して双子葉段階を越え
    る植物の生長を抑制するための特許請求の範囲第15項
    記載の組成物。
JP62140737A 1986-06-05 1987-06-04 N−フェニルスルホニル尿素、その製造方法並びに該化合物を含有する除草及び植物生長調節剤 Pending JPS62286974A (ja)

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