JPS62290861A - 被膜密着性および耐摩耗性に優れたチタン化合物被覆材 - Google Patents
被膜密着性および耐摩耗性に優れたチタン化合物被覆材Info
- Publication number
- JPS62290861A JPS62290861A JP13107986A JP13107986A JPS62290861A JP S62290861 A JPS62290861 A JP S62290861A JP 13107986 A JP13107986 A JP 13107986A JP 13107986 A JP13107986 A JP 13107986A JP S62290861 A JPS62290861 A JP S62290861A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- coating
- adhesion
- layer
- wear resistance
- film
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Cutting Tools, Boring Holders, And Turrets (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
３、発明の詳細な説明
（産業上の利用分野）
この発明（ま、被膜密着性および耐摩耗性に侵れたチタ
ン化合物被覆材に関し、とくにスローアウェイチップや
金型などの工具にチタン化合物を密着性良く被覆させる
ことによって耐摩耗性の向上を図ったものである。
ン化合物被覆材に関し、とくにスローアウェイチップや
金型などの工具にチタン化合物を密着性良く被覆させる
ことによって耐摩耗性の向上を図ったものである。
（従来の技術）
従来から、金属材料に耐食性や耐摩耗性などの性質を付
与するために、窒化チタン、炭化チタンなどのセラミッ
ク膜を物理蒸着法や化学蒸着法によって被覆することが
行われている。
与するために、窒化チタン、炭化チタンなどのセラミッ
ク膜を物理蒸着法や化学蒸着法によって被覆することが
行われている。
しかしながら、従来法で得られた被膜は、基材との密着
性が不充分で、特に膜厚が５μｍ以上の厚膜になると、
基材との熱膨張率の差によって生じる熱的応力や薄膜内
の結晶のひずみによる残留応力が犬となって、膜のは（
離が生じ易くなる欠点があった。
性が不充分で、特に膜厚が５μｍ以上の厚膜になると、
基材との熱膨張率の差によって生じる熱的応力や薄膜内
の結晶のひずみによる残留応力が犬となって、膜のは（
離が生じ易くなる欠点があった。
この点を解決するものとして、基材への印加電圧を堆積
される膜厚に応じて制御する方法（特開昭６０−９６７
５４号公報）や、同様に膜厚に応じて基板温度を制御す
る方法（特開昭５７−１０４６６１号公報）などが提案
されている。
される膜厚に応じて制御する方法（特開昭６０−９６７
５４号公報）や、同様に膜厚に応じて基板温度を制御す
る方法（特開昭５７−１０４６６１号公報）などが提案
されている。
上述の方法によれば密着性が向上し、３０μｍ程度の厚
膜被覆が可能となったが、いずれの手法においても通常
法と比較すると、被膜の表面近傍の結晶組織が緻密でな
くなるために硬度が低下し、耐摩耗性の点で問題があっ
た。
膜被覆が可能となったが、いずれの手法においても通常
法と比較すると、被膜の表面近傍の結晶組織が緻密でな
くなるために硬度が低下し、耐摩耗性の点で問題があっ
た。
その池基材に予め高融点金属めっきを行ってからＰＶＤ
を行う手法も公開されている（特開昭５９−１７８１２
２号公報）。しかしながらこの手法では中間層の形成手
段として湿式めっきという工程が新たに加わるために、
経済的な面や廃液処理等の環境（ＩＦ生上の面で著しく
不利となるだけでなく、新たな工程の増加のほどには密
着性向上の実効は得られないところに問題を残していた
。
を行う手法も公開されている（特開昭５９−１７８１２
２号公報）。しかしながらこの手法では中間層の形成手
段として湿式めっきという工程が新たに加わるために、
経済的な面や廃液処理等の環境（ＩＦ生上の面で著しく
不利となるだけでなく、新たな工程の増加のほどには密
着性向上の実効は得られないところに問題を残していた
。
（発明が解決しようとする問題点）
上述したように、現在までのところ、被膜密着性および
耐摩耗性とも充分に満足のいく程のセラミック被覆工具
は存在せず、その開発が要望されていた。
耐摩耗性とも充分に満足のいく程のセラミック被覆工具
は存在せず、その開発が要望されていた。
この発明は、上述した現状に鑑みて開発されたもので、
被膜硬度の低下ひいては耐摩耗性の劣化を招く不利なし
に、被膜密着性を向上させた新規なセラミック被覆材を
提案することを目的とする。
被膜硬度の低下ひいては耐摩耗性の劣化を招く不利なし
に、被膜密着性を向上させた新規なセラミック被覆材を
提案することを目的とする。
（問題点を解決するための手段）
すなわちこの発明は、基体表面に、内層として厚み：
０．０５μｍ以上の金属チタン層と、外層として該金属
チタン層に重ねて被成したＴｉＮ、 ＴｉＣないしＴｉ
（Ｃ，Ｎ）の少なくとも一種よりなるチタン化合物の被
覆層とをそなえることを特（敦とする、被膜密着性およ
び耐摩耗性に浸れたチタン化合物被覆相である。
０．０５μｍ以上の金属チタン層と、外層として該金属
チタン層に重ねて被成したＴｉＮ、 ＴｉＣないしＴｉ
（Ｃ，Ｎ）の少なくとも一種よりなるチタン化合物の被
覆層とをそなえることを特（敦とする、被膜密着性およ
び耐摩耗性に浸れたチタン化合物被覆相である。
この発明において、内層の金属チタンの層の厚みが０．
０５μｍに満たないとこの発明で所期した程の良好な被
覆密着性が得られないので、金属チタン被膜厚は０．０
５μｍ以上より好ましくは０．２ μｍ以上の範囲量こ
限定した。なおその上限は２μｍ程度とするのが好まし
い。
０５μｍに満たないとこの発明で所期した程の良好な被
覆密着性が得られないので、金属チタン被膜厚は０．０
５μｍ以上より好ましくは０．２ μｍ以上の範囲量こ
限定した。なおその上限は２μｍ程度とするのが好まし
い。
また、外層であるチタン化合物被膜の膜厚は、１．０〜
２０μｍ程度が好適である。
２０μｍ程度が好適である。
さて薄膜の密着性は、薄膜と基材との結晶整合性や、薄
膜内の内部応力、そして被覆時の基材への印加電圧に依
存すると考えられるが、内層として金属チタン（以下Ｔ
１で示す）を利用した場合、このＴ１被膜は、基材並び
に外層のチタン化合物それぞれに対し結晶整合性が良く
チタン原子はそれぞれに拡散し、しかも密着性を劣化さ
せる金属間化合物を生成することもない。さらに外層の
チタン化合物内の内部応力を緩和させる段溝も併せもつ
ことが判明した。
膜内の内部応力、そして被覆時の基材への印加電圧に依
存すると考えられるが、内層として金属チタン（以下Ｔ
１で示す）を利用した場合、このＴ１被膜は、基材並び
に外層のチタン化合物それぞれに対し結晶整合性が良く
チタン原子はそれぞれに拡散し、しかも密着性を劣化さ
せる金属間化合物を生成することもない。さらに外層の
チタン化合物内の内部応力を緩和させる段溝も併せもつ
ことが判明した。
また、一般に基材への印加電圧が高いほど、薄膜の基は
への付着力は向上し、硬度も増加する。
への付着力は向上し、硬度も増加する。
しかし同時に薄膜内の結晶格子歪が増大して内部応力が
増し、はく離し易くなる。そのため基材への印加電圧に
は、それぞれの膜厚、膜質に応じた適正電圧が存在する
。
増し、はく離し易くなる。そのため基材への印加電圧に
は、それぞれの膜厚、膜質に応じた適正電圧が存在する
。
以下、この発明を由来するに至った実験結果について説
明する。実験は、イオンブレーティング法として、ホロ
ーカソード放電を利用した反応性イオンブレーティング
法を代表例として採用し、５ＵＳ３０４鋼を基材として
内層にＴｉ並びに外層に、窒化チタン（ＴｉＮ）を被覆
することによって行った。
明する。実験は、イオンブレーティング法として、ホロ
ーカソード放電を利用した反応性イオンブレーティング
法を代表例として採用し、５ＵＳ３０４鋼を基材として
内層にＴｉ並びに外層に、窒化チタン（ＴｉＮ）を被覆
することによって行った。
まずアルゴンガスを導入してホローカソード放電を生じ
させ、ホローカソードから低電圧大電流の電子ビームを
蒸発源に導入してＴ１を蒸発させた。
させ、ホローカソードから低電圧大電流の電子ビームを
蒸発源に導入してＴ１を蒸発させた。
その時に不活性ガスあるいは反応性窒素ガスを導入して
ガスや蒸気をイオン化して基材にＴ１やＴ ＋ Ｎを析
出させた。
ガスや蒸気をイオン化して基材にＴ１やＴ ＋ Ｎを析
出させた。
第１図に、基材印加電圧：マイナス１００ｖにて内層Ｔ
ｉを被覆し、引き続いて反応性窒素ガスを導入し、印加
電圧：マイナス２０ＶにてＴｉＮを１０μｍ厚に被覆し
た際の、内層Ｔ１の膜厚と被膜密着性との関係について
調べた結果を示す。なお内層Ｔｉ被膜厚並びに外層Ｔｉ
Ｎ被膜厚は予め較正された膜厚モニターによって被覆処
理中に測定した。また密着性は、液体窒素中に５分間浸
漬し、その時の表面の単位面積当たりのはく離数によっ
て評価した。
ｉを被覆し、引き続いて反応性窒素ガスを導入し、印加
電圧：マイナス２０ＶにてＴｉＮを１０μｍ厚に被覆し
た際の、内層Ｔ１の膜厚と被膜密着性との関係について
調べた結果を示す。なお内層Ｔｉ被膜厚並びに外層Ｔｉ
Ｎ被膜厚は予め較正された膜厚モニターによって被覆処
理中に測定した。また密着性は、液体窒素中に５分間浸
漬し、その時の表面の単位面積当たりのはく離数によっ
て評価した。
同図より明らかなように、内層Ｔ１被膜厚が０．０５μ
ｍ以上の場合に良好な密着性が得られた。
ｍ以上の場合に良好な密着性が得られた。
第２図に、内層Ｔ１を０．５ μｍ厚に被覆し、引続い
てＴｉＮを印加電圧マイナス２０で１０μｍ厚に被覆し
た際の、内層ＴＩ被被覆−おける印加電圧と密着性との
関係について調べた結果を示す。
てＴｉＮを印加電圧マイナス２０で１０μｍ厚に被覆し
た際の、内層ＴＩ被被覆−おける印加電圧と密着性との
関係について調べた結果を示す。
同図より明らかなように印加電圧がマイナス２０■から
マイナス１０００ Ｖの範囲において良好な被膜密着性
が得られた。
マイナス１０００ Ｖの範囲において良好な被膜密着性
が得られた。
次に第３図に、印加電圧をマイナス１００■にして内層
Ｔｉを０．５ μｍ厚に被覆し、引続き種々の印加電圧
で外層ＴｉＮを１０μｍ厚に被覆した際の、外層ＴｉＮ
被覆時における印加電圧と密着性および被膜硬度との関
係について調べた結果を示す。
Ｔｉを０．５ μｍ厚に被覆し、引続き種々の印加電圧
で外層ＴｉＮを１０μｍ厚に被覆した際の、外層ＴｉＮ
被覆時における印加電圧と密着性および被膜硬度との関
係について調べた結果を示す。
被膜硬度はヌープ圧子（荷重２５ｇ）を用い測定した。
同図より明らかなように、印加電圧の絶対値が大になる
につれて、密着性は劣化する。一方被膜硬度は印加電圧
の絶対値が大きいほど大である。
につれて、密着性は劣化する。一方被膜硬度は印加電圧
の絶対値が大きいほど大である。
この理由は、印加電圧が大になるにつれて被膜内圧縮内
部応力が増加するためと考えろれる。従って印加電圧は
マイナス５■からマイナス５００■までの間より好まし
くはマイナスＩＯＶからマイナス３０Ｖまで程度とする
のが好適である。
部応力が増加するためと考えろれる。従って印加電圧は
マイナス５■からマイナス５００■までの間より好まし
くはマイナスＩＯＶからマイナス３０Ｖまで程度とする
のが好適である。
以上の実験より、この発明に従って基材表面にＴＩつい
でＴｉＮを被覆する場合、まず内層Ｔｉ被膜の被覆に際
しては、その膜厚は０．０５μｍ以上望ましくは０．２
μｍ以上で、印加電圧が−２０Ｖから−１０００■望ま
しくは−９０Ｖから一１３０■までの間、一方外層Ｔｉ
Ｎの被覆に際しては、印加電圧は一５Ｖから−５００Ｖ
望ましくは−１０Ｖから−３０Ｖまでの範囲で行うこと
がとりわけ有利であることが判明した。
でＴｉＮを被覆する場合、まず内層Ｔｉ被膜の被覆に際
しては、その膜厚は０．０５μｍ以上望ましくは０．２
μｍ以上で、印加電圧が−２０Ｖから−１０００■望ま
しくは−９０Ｖから一１３０■までの間、一方外層Ｔｉ
Ｎの被覆に際しては、印加電圧は一５Ｖから−５００Ｖ
望ましくは−１０Ｖから−３０Ｖまでの範囲で行うこと
がとりわけ有利であることが判明した。
なお上記の実験では、Ｔ１被膜を被覆後、反応性Ｎ２ガ
スのみを導入してＴｉＮの被覆を施す場合について主に
説明したが、反応ガスとしては、Ｃ２Ｈ２ガスやＣ２Ｈ
２とＮ２との混合ガスを用いることもてき、かくして外
層被膜としては、ＴｉＮの他炭化チタン（ＴｉＣ）や、
炭窒化チタン〔Ｔｉ （Ｃ，Ｎ＞ Ｅを１吏用すること
もできる。その際の内ＮＴ１の好適膜厚や、内層Ｔ１１
外層チタン化合物蒸着時の印加電圧の好適範囲は上記の
ＴｉＮの場合とほぼ同様である。
スのみを導入してＴｉＮの被覆を施す場合について主に
説明したが、反応ガスとしては、Ｃ２Ｈ２ガスやＣ２Ｈ
２とＮ２との混合ガスを用いることもてき、かくして外
層被膜としては、ＴｉＮの他炭化チタン（ＴｉＣ）や、
炭窒化チタン〔Ｔｉ （Ｃ，Ｎ＞ Ｅを１吏用すること
もできる。その際の内ＮＴ１の好適膜厚や、内層Ｔ１１
外層チタン化合物蒸着時の印加電圧の好適範囲は上記の
ＴｉＮの場合とほぼ同様である。
さらに上記の実験では、イオンブレーティング法として
、ホローカソード放電を利用した反応性イオンブレーテ
ィング法（Ｈ９Ｃ，Ｄ、 法）を用いた場合について
主に説明したが、内層Ｔ１被膜および外層チタン化合物
被膜の被覆法は、Ｈ，Ｃ，Ｄ、法に限られるものではな
く、たとえば高周波励起イオンブレーティング法やフル
ティアーク法などを利用することもてきる。
、ホローカソード放電を利用した反応性イオンブレーテ
ィング法（Ｈ９Ｃ，Ｄ、 法）を用いた場合について
主に説明したが、内層Ｔ１被膜および外層チタン化合物
被膜の被覆法は、Ｈ，Ｃ，Ｄ、法に限られるものではな
く、たとえば高周波励起イオンブレーティング法やフル
ティアーク法などを利用することもてきる。
ちなみに高周波イオンブレーティング法を利用したとき
の、内層Ｔ１被被膜覆時における印加電圧の好適範囲は
−５００〜−１０００Ｖ、まだ外層膜被覆時における好
適印加電圧は−２００〜−５００（７度である。
の、内層Ｔ１被被膜覆時における印加電圧の好適範囲は
−５００〜−１０００Ｖ、まだ外層膜被覆時における好
適印加電圧は−２００〜−５００（７度である。
（作 用）
この発明に従いチタン化合物の被覆に先立って、Ｔ１被
膜を被成することによって、耐摩耗性を劣化させること
なしに密着性の向上が達成できるのに次の理由によるも
のと推察される。
膜を被成することによって、耐摩耗性を劣化させること
なしに密着性の向上が達成できるのに次の理由によるも
のと推察される。
それは、Ｔ１の下地被＋＋ｑが通常の硬度を有する外層
のチタン化合物（ｔｌｖ・３０００以上）及び母財にそ
れぞれ密着性良く接合し、しかも外型の被膜内内祁応力
を緩和させる機構をもつことによるものと推察される。
のチタン化合物（ｔｌｖ・３０００以上）及び母財にそ
れぞれ密着性良く接合し、しかも外型の被膜内内祁応力
を緩和させる機構をもつことによるものと推察される。
（実施例）
実施例１
ホローカソード放電を用いた活性化反応イオンブレーテ
ィング法により、高速度鋼５ＫＩＩ−ｌｌのスローアウ
ェイチップの表面にＴＩついでＴｉＮを被覆した。被覆
条件は表１に示したとおりである。
ィング法により、高速度鋼５ＫＩＩ−ｌｌのスローアウ
ェイチップの表面にＴＩついでＴｉＮを被覆した。被覆
条件は表１に示したとおりである。
得られた各スローアウェイチップを用いて、直径？Ｏｎ
＋ｍの５４５Ｃ焼ならし材（Ｈｖｌ、６７）を被切削財
として、切り込み：１．５ｍｍ、送り： ０．１５ｍ１
Ｔｌ／ｒｅｖ、切削速度： ３０ｍ／ｍｉｎの条件で切
削試験を行った。
＋ｍの５４５Ｃ焼ならし材（Ｈｖｌ、６７）を被切削財
として、切り込み：１．５ｍｍ、送り： ０．１５ｍ１
Ｔｌ／ｒｅｖ、切削速度： ３０ｍ／ｍｉｎの条件で切
削試験を行った。
かような連続切削試験を行った時の横逃げ面摩耗幅およ
びクレータ−摩耗深さについて調べた結果を、第４図お
よび第５図に示す。
びクレータ−摩耗深さについて調べた結果を、第４図お
よび第５図に示す。
第４．５図より明らかなように、この発明に従うチタン
化合物被覆材（記号Δ〜Ｄ）はいずれも、比較例と比べ
て大きな耐摩耗性を呈し、また無処理材と比較すると同
じ摩耗量では２〜３倍の寿命時間を示した。
化合物被覆材（記号Δ〜Ｄ）はいずれも、比較例と比べ
て大きな耐摩耗性を呈し、また無処理材と比較すると同
じ摩耗量では２〜３倍の寿命時間を示した。
さらに表１に示したように摩耗状態もすべて正常摩耗で
比較例に見られるようなはく離は認められなかった。
比較例に見られるようなはく離は認められなかった。
実施例２
高周波励起イオンブレーティング法により、表２に示し
た条件で、Ｐ４０グレードの切削用スローアウェイチッ
プにＴｉついでＴｉ（Ｃ，Ｎ） （ＴｉｃＯ，ｓＮｏ、
４）の被覆を刃径した。
た条件で、Ｐ４０グレードの切削用スローアウェイチッ
プにＴｉついでＴｉ（Ｃ，Ｎ） （ＴｉｃＯ，ｓＮｏ、
４）の被覆を刃径した。
かくして得られた各被膜付きスローアウェイチップを用
いて、被切削は：ＪＩＳ −Ｆｅ１２ （硬さ Ｈ３
：１８０） 、切削速度： ２００ｍ／ｍｉｎ、切り込
み：２ｍｍ、送り：４５ｍｍ／ｒｅｖ、チップ形状：
ＳＮＭＮ４３２の条件下に切削試験を行い、その寿命時
間を測定した。その結果を表２に併せて示す。
いて、被切削は：ＪＩＳ −Ｆｅ１２ （硬さ Ｈ３
：１８０） 、切削速度： ２００ｍ／ｍｉｎ、切り込
み：２ｍｍ、送り：４５ｍｍ／ｒｅｖ、チップ形状：
ＳＮＭＮ４３２の条件下に切削試験を行い、その寿命時
間を測定した。その結果を表２に併せて示す。
この発明に従う被覆チップ（記号Ａ−Ｄ）はいずれも、
比較材Ｘ−Ｚに比べて長寿命を示し、かつはく離は認め
られずすべて正常摩耗であった。
比較材Ｘ−Ｚに比べて長寿命を示し、かつはく離は認め
られずすべて正常摩耗であった。
（発明の効果）
かくしてこの発明によれば、耐摩耗性および被膜密着性
とも浸れたチタン化合物被覆材をｆＧることができ、と
くに切削工具や金型などの用途に適用して偉効を奏する
。
とも浸れたチタン化合物被覆材をｆＧることができ、と
くに切削工具や金型などの用途に適用して偉効を奏する
。
第１図は、内層Ｔｉ被膜厚と密着性との関係を示したグ
ラフ、 第２図は、内層Ｔｉ被膜被覆時における印加電圧と密着
性との関係を示したグラフ、 第３図は、外層ＴＡＮ被膜被覆時における印加電圧と密
着性および被膜硬度との関係を示したグラフ、 第４図は、切削時間とフランク摩耗との関係を示したグ
ラフ、 第５図は、切削時間とクレータ−摩耗との関係を示した
グラフである。 特許出願人 川崎・製鉄株式会社 １よ＜離数（個／ｃｒｎ’） 纏 昶 〜 Ｉｆ＜ ｌｋ
敦（肴１／とｍ′） −碇 ６口 瑛 ≧
ラフ、 第２図は、内層Ｔｉ被膜被覆時における印加電圧と密着
性との関係を示したグラフ、 第３図は、外層ＴＡＮ被膜被覆時における印加電圧と密
着性および被膜硬度との関係を示したグラフ、 第４図は、切削時間とフランク摩耗との関係を示したグ
ラフ、 第５図は、切削時間とクレータ−摩耗との関係を示した
グラフである。 特許出願人 川崎・製鉄株式会社 １よ＜離数（個／ｃｒｎ’） 纏 昶 〜 Ｉｆ＜ ｌｋ
敦（肴１／とｍ′） −碇 ６口 瑛 ≧
Claims (1)
- １、基体表面に、内層として厚み：０．０５μｍ以上の
金属チタン層と、外層として該金属チタン層に重ねて被
成したＴｉＮ、ＴｉＣないしＴｉ（Ｃ、Ｎ）の少なくと
も一種よりなるチタン化合物の被覆層とをそなえること
を特徴とする、被膜密着性および耐摩耗性に優れたチタ
ン化合物被覆材。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13107986A JPS62290861A (ja) | 1986-06-07 | 1986-06-07 | 被膜密着性および耐摩耗性に優れたチタン化合物被覆材 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13107986A JPS62290861A (ja) | 1986-06-07 | 1986-06-07 | 被膜密着性および耐摩耗性に優れたチタン化合物被覆材 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62290861A true JPS62290861A (ja) | 1987-12-17 |
Family
ID=15049495
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13107986A Pending JPS62290861A (ja) | 1986-06-07 | 1986-06-07 | 被膜密着性および耐摩耗性に優れたチタン化合物被覆材 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62290861A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2020104224A (ja) * | 2018-12-27 | 2020-07-09 | 三菱マテリアル株式会社 | 表面被覆切削工具 |
-
1986
- 1986-06-07 JP JP13107986A patent/JPS62290861A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2020104224A (ja) * | 2018-12-27 | 2020-07-09 | 三菱マテリアル株式会社 | 表面被覆切削工具 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US6210726B1 (en) | PVD Al2O3 coated cutting tool | |
| US5679448A (en) | Method of coating the surface of a substrate and a coating material | |
| US5447804A (en) | Hard coating; a workpiece coated by such hard coating and a method of coating such workpiece by such hard coating | |
| JP2644710B2 (ja) | 耐摩耗性皮膜被覆部材 | |
| EP2276874B1 (en) | A coated cutting tool and a method of making thereof | |
| JP5416206B2 (ja) | 金属酸化物コーティングを有する工具 | |
| EP1749118B1 (en) | A hard, wear-resistant aluminum nitride based coating | |
| EP2201154B1 (en) | Method of producing a layer by arc-evaporation from ceramic cathodes | |
| JP5662680B2 (ja) | 表面被覆切削工具 | |
| KR930010710B1 (ko) | 절삭공구 또는 내마모성공구용 표면피복 경질부재 | |
| CN110945156A (zh) | 涂层切削工具及其制造方法 | |
| JP4155641B2 (ja) | 耐摩耗性被膜およびその製造方法ならびに耐摩耗部材 | |
| EP3394312B1 (en) | A coated cutting tool and method | |
| KR20100034013A (ko) | 다층 금속 산화물 코팅을 구비한 공구 및 코팅된 공구의 제조 방법 | |
| JP4171099B2 (ja) | 耐摩耗性に優れる硬質皮膜 | |
| CN114945708B (zh) | 具有改善的涂层粘附力的pvd涂覆硬质合金切削工具 | |
| JP3572728B2 (ja) | 硬質層被覆切削工具 | |
| CN116583618A (zh) | 由至少两种不同的AlCr基靶材制造的耐磨涂层 | |
| JP2009072838A (ja) | 高速ミーリング加工で硬質被覆層がすぐれた耐摩耗性を発揮する表面被覆切削工具およびその製造方法 | |
| JPH04297568A (ja) | 耐摩耗性のすぐれた表面被覆部材及び皮膜形成方法 | |
| JP3638332B2 (ja) | 被覆硬質合金 | |
| KR930010709B1 (ko) | 우수한 내마모성을 갖는 표면 피복 경질 부재 | |
| JP3572732B2 (ja) | 硬質層被覆切削工具 | |
| JPH08281502A (ja) | 結晶配向性被覆工具 | |
| JPH11246961A (ja) | 積層被覆工具及びその製造法 |