JPS62293792A - 半導体レ−ザおよび半導体レ−ザ光源装置 - Google Patents
半導体レ−ザおよび半導体レ−ザ光源装置Info
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- JPS62293792A JPS62293792A JP61137665A JP13766586A JPS62293792A JP S62293792 A JPS62293792 A JP S62293792A JP 61137665 A JP61137665 A JP 61137665A JP 13766586 A JP13766586 A JP 13766586A JP S62293792 A JPS62293792 A JP S62293792A
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- electric heating
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Landscapes
- Semiconductor Lasers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
3、発明の詳細な説明
(産業上の利用分野)
本発明は半導体レーザおよび半導体レーザを用いた光源
装置、特に詳細にはレーザダイオードチップの駆動時の
発熱による光出力変動を防止できるようにした半導体レ
ーザおよび半導体レーザ光源装置に関するものである。
装置、特に詳細にはレーザダイオードチップの駆動時の
発熱による光出力変動を防止できるようにした半導体レ
ーザおよび半導体レーザ光源装置に関するものである。
(従来の技術)
従来より、光ビームを光偏向器により偏向して感光性記
録材料上を走査させ、該記録材料に記録を行なう光走査
記録装置が広く実用に供されている。また、光信号を光
ファイバーによって伝送する光通信装置も実用化されて
いる。このような光走査記録装置や光通信装置において
光ビームを発生する光源の1つとして、半導体レーザが
従来から用いられている。この半導体レーザは、ガスレ
ーザ等に比べれば小型、安価で消費電力も少なく、また
駆動電流を変えることによって直接変調が可能である等
、数々の長所を有している。
録材料上を走査させ、該記録材料に記録を行なう光走査
記録装置が広く実用に供されている。また、光信号を光
ファイバーによって伝送する光通信装置も実用化されて
いる。このような光走査記録装置や光通信装置において
光ビームを発生する光源の1つとして、半導体レーザが
従来から用いられている。この半導体レーザは、ガスレ
ーザ等に比べれば小型、安価で消費電力も少なく、また
駆動電流を変えることによって直接変調が可能である等
、数々の長所を有している。
(発明が解決しようとする問題点)
しかしながら、その反面この半導体レーザは、第7図に
示すように駆動電流に対する光出力特性が、レーザダイ
オードチップ温度に応じて変動してしまうという問題を
有している。したがって、−例として第8図の(1)に
示すように半導体レーザにステップ状に駆動電流を印加
した際には、レーザダイオードチップの温度が第8因の
(2)のように次第に上昇し、そのため半導体レーザの
光出力が結局第8図(3)に示すように次第に低下して
しまうことになる。これは従来より、半導体レーザのド
ループ特性として知られているものである。
示すように駆動電流に対する光出力特性が、レーザダイ
オードチップ温度に応じて変動してしまうという問題を
有している。したがって、−例として第8図の(1)に
示すように半導体レーザにステップ状に駆動電流を印加
した際には、レーザダイオードチップの温度が第8因の
(2)のように次第に上昇し、そのため半導体レーザの
光出力が結局第8図(3)に示すように次第に低下して
しまうことになる。これは従来より、半導体レーザのド
ループ特性として知られているものである。
上記のような光出力の変動を防止するため従来より、半
導体レーザのケース温度をサーミスタ等で測定し、その
測定温度に応じてケース外の加熱冷却手段を作動制御す
ることにより、半導体レーザのケース温度を一定に維持
することが行なわれてきた。2値画像の記録や光通信に
よる画像伝送等においては、2値の画像信号に対して半
導体レーザの光出力がそれぞれ所定の閾値の上、下の値
をとっさえすれば良いから、上述のような光出力安定化
のための制御は効果的であり、広く実行されている。
導体レーザのケース温度をサーミスタ等で測定し、その
測定温度に応じてケース外の加熱冷却手段を作動制御す
ることにより、半導体レーザのケース温度を一定に維持
することが行なわれてきた。2値画像の記録や光通信に
よる画像伝送等においては、2値の画像信号に対して半
導体レーザの光出力がそれぞれ所定の閾値の上、下の値
をとっさえすれば良いから、上述のような光出力安定化
のための制御は効果的であり、広く実行されている。
ところが最近では、半導体レーザからのレーザビームを
パルス数変調、パルス幅、変調あるいは強度変調丈る等
により、感光材料上に高M調画像を記録する試みもなさ
れており、このような場合には上述の制御を行なっても
、記録画像の濃度がレーザダイオードチップ温度に応じ
て変動して、画質が損なわれてしまう。すなわち上記の
ような高階調画像の記録にあっては、通常半導体レーザ
は周波数1 M HZ以上程度の高速で0N−OFFす
るように駆動されるので、レーザダイオードチップが過
渡的に温度変化している間もレーザ光は実際の記録に利
用され、その間の光出力変動がそのまま画像11度変動
につながるのである。先に述べたケース温度一定化制御
においては、このようなレーザダイオードチップの過渡
的温度変化をも制御できるほどに応答性を高めることは
不可能である。このような問題は高階調画像の記録にお
いてのみならず、前述の光通信による高階調画像の伝送
においても同様に発生する。
パルス数変調、パルス幅、変調あるいは強度変調丈る等
により、感光材料上に高M調画像を記録する試みもなさ
れており、このような場合には上述の制御を行なっても
、記録画像の濃度がレーザダイオードチップ温度に応じ
て変動して、画質が損なわれてしまう。すなわち上記の
ような高階調画像の記録にあっては、通常半導体レーザ
は周波数1 M HZ以上程度の高速で0N−OFFす
るように駆動されるので、レーザダイオードチップが過
渡的に温度変化している間もレーザ光は実際の記録に利
用され、その間の光出力変動がそのまま画像11度変動
につながるのである。先に述べたケース温度一定化制御
においては、このようなレーザダイオードチップの過渡
的温度変化をも制御できるほどに応答性を高めることは
不可能である。このような問題は高階調画像の記録にお
いてのみならず、前述の光通信による高階調画像の伝送
においても同様に発生する。
そこで本発明は、レーザダイオードチップそのものの温
度を応答性良く制御できる半導体レーザを提供し、また
この半導体レーザを利用して、レーザダイオードチップ
の温度変動による先出ノJ変動を防止できる半導体レー
ザ光源装置を提供することを目的とするものである。
度を応答性良く制御できる半導体レーザを提供し、また
この半導体レーザを利用して、レーザダイオードチップ
の温度変動による先出ノJ変動を防止できる半導体レー
ザ光源装置を提供することを目的とするものである。
(問題点を解決するための手段)
本発明の半導体レーザは、ケース内に固定されたレーザ
ダイオードチップに電気絶縁習を介して電熱体を近接あ
るいは密接配置したことを特徴とするものである。
ダイオードチップに電気絶縁習を介して電熱体を近接あ
るいは密接配置したことを特徴とするものである。
また本発明の半導体レーザ光源装置は、上記のように構
成された半導体レーザを光源として用いた上でさらに、 レーザダイオードチップに駆動電流を供給するとともに
、単位時間当り該レーザダイオードチップから発せられ
る熱量と上記電熱体から発せられる熱量との和が一定と
なるように該電熱体に発熱用電流を供給する駆動回路を
設けたことを特徴とするものである。
成された半導体レーザを光源として用いた上でさらに、 レーザダイオードチップに駆動電流を供給するとともに
、単位時間当り該レーザダイオードチップから発せられ
る熱量と上記電熱体から発せられる熱量との和が一定と
なるように該電熱体に発熱用電流を供給する駆動回路を
設けたことを特徴とするものである。
(作 用)
上述のように、レーザダイオードチップに電熱体が近接
あるいは密接配置されていれば、該電熱体の発熱量を制
御することにより、レーザダイオードチップそのものの
温度を極めて応答性良く制御することが可能となる。
あるいは密接配置されていれば、該電熱体の発熱量を制
御することにより、レーザダイオードチップそのものの
温度を極めて応答性良く制御することが可能となる。
また、レーザダイオードチップに近接あるいは密接配置
された電熱体が単位時間に発する熱屋と、該レーザダイ
オードチップが単位時間に発する熱mとの和が一定とな
っていれば、レーザダイオードチップの温度上昇、下降
が電熱体の温度下降、上昇によって補償され、結局レー
ザダイオードチップの温度が略一定に維持される。それ
により、ドループ特性による光出力の変化を小さく抑え
ることができる。
された電熱体が単位時間に発する熱屋と、該レーザダイ
オードチップが単位時間に発する熱mとの和が一定とな
っていれば、レーザダイオードチップの温度上昇、下降
が電熱体の温度下降、上昇によって補償され、結局レー
ザダイオードチップの温度が略一定に維持される。それ
により、ドループ特性による光出力の変化を小さく抑え
ることができる。
(実 旋 例)
以下、図面に示す実施例に基づいて本発明の詳細な説明
する。
する。
第1図は本発明の第1実施例による半導体レーザの構造
を示すものであり、また第2図はこの半導体レーザを用
いた光源装置の電気回路を示している。第1図に示され
るように半導体レーザ10のケースを構成するステム1
1上にはチップマウント12が形成されており、該チッ
プマウント12には公知のレーザダイオードチップ13
が固定されている。
を示すものであり、また第2図はこの半導体レーザを用
いた光源装置の電気回路を示している。第1図に示され
るように半導体レーザ10のケースを構成するステム1
1上にはチップマウント12が形成されており、該チッ
プマウント12には公知のレーザダイオードチップ13
が固定されている。
このレーザダイオードチップ13は、pn接合面13a
が上記ステム11に対して垂直となるように配されてお
り、発光点13bから発せられたレーザ光14が、キャ
ップ15の中央部に設けられた窓16を通ってケース外
に出射するようになっている。上記レーザダイオードチ
ップ13の図中下側においてチップマウント12には、
光量モニタ用のフォトダイオード17が固定されている
。このフォトダイオード17は、上記発光点13bの反
対側の発光点(図示せず)から発せられるレーザ光14
′を受光し、その光量を示す出力を生じる。周知の通り
レーザ光14とレーザ光14′の光量は互いに比例して
いるので、上記出力は結局レーザ光14の光量を示すも
のとなり、実際に光走査記録等に利用されるレーザ光1
4の光量制御のために用いられる・ 上記レーザダイオードチップ13の側方には、電気絶縁
層18を介して、該レーザダイオードチップ13と同じ
構成のレーザダイオードチップ19が密接配置されてい
る。このレーザダイオードチップ19はレーザダイオー
ドチップ13とともにチップマウント12に固定されて
いるが、その発光点に遮光部材20が貼着される等して
、該レーザダイオードチップ19からのレーザ光がケー
ス外に出射したり。
が上記ステム11に対して垂直となるように配されてお
り、発光点13bから発せられたレーザ光14が、キャ
ップ15の中央部に設けられた窓16を通ってケース外
に出射するようになっている。上記レーザダイオードチ
ップ13の図中下側においてチップマウント12には、
光量モニタ用のフォトダイオード17が固定されている
。このフォトダイオード17は、上記発光点13bの反
対側の発光点(図示せず)から発せられるレーザ光14
′を受光し、その光量を示す出力を生じる。周知の通り
レーザ光14とレーザ光14′の光量は互いに比例して
いるので、上記出力は結局レーザ光14の光量を示すも
のとなり、実際に光走査記録等に利用されるレーザ光1
4の光量制御のために用いられる・ 上記レーザダイオードチップ13の側方には、電気絶縁
層18を介して、該レーザダイオードチップ13と同じ
構成のレーザダイオードチップ19が密接配置されてい
る。このレーザダイオードチップ19はレーザダイオー
ドチップ13とともにチップマウント12に固定されて
いるが、その発光点に遮光部材20が貼着される等して
、該レーザダイオードチップ19からのレーザ光がケー
ス外に出射したり。
あるいはフォトダイオード17に受光されたりしないよ
うになっている。チップマウント12、レーザダイオー
ドチップ13、フォトダイオード17およびレーザダイ
オードチップ19はそれぞれリード21.22.23お
よび24に接続されている。
うになっている。チップマウント12、レーザダイオー
ドチップ13、フォトダイオード17およびレーザダイ
オードチップ19はそれぞれリード21.22.23お
よび24に接続されている。
第2図に示されるように上記リード21は接地され、リ
ード22.23および24は駆動回r825に接続され
ている。リード23を介して得られるフォトダイオード
11の出力は、この駆動回路25内の公知のAPC(△
utomatic power Cont r o
’l )回路に送られ、前述したような光量制御に利用
される。またこの光源装置を用いて前述のような高階調
画像を記録したり伝送する際、駆動回路25には、画像
信号に塁づいて変調されたパルス状の駆動信号S1が入
力される。駆動回路25はこの駆動信号S1を受け、第
3図の(1)に示すようなパルス状の駆DI!流■1を
レーザダイオードチップ13に供給する。それによりレ
ーデダイオードチップ13は、該駆動Ml流■1に対応
してパルス状にレーザ光14を発する。高階調画像を記
録あるいは伝送するためにパルス数変調を行なう11合
、上記パルスの周波数は例えば数M FI 2−数十M
H2程度に設定され、1画素当りのパルス数によって階
調が表わされる。すなわち例えば感光材料への画他記録
にあっては、1画素当りの露光量がこのパルス数に比例
するので、各画素の画像濃度が該、パルス数に対応して
制御される。またパルス幅変調を行なう場合には、最も
短いパルス幅が上記周波数のパルスの幅程度とされる。
ード22.23および24は駆動回r825に接続され
ている。リード23を介して得られるフォトダイオード
11の出力は、この駆動回路25内の公知のAPC(△
utomatic power Cont r o
’l )回路に送られ、前述したような光量制御に利用
される。またこの光源装置を用いて前述のような高階調
画像を記録したり伝送する際、駆動回路25には、画像
信号に塁づいて変調されたパルス状の駆動信号S1が入
力される。駆動回路25はこの駆動信号S1を受け、第
3図の(1)に示すようなパルス状の駆DI!流■1を
レーザダイオードチップ13に供給する。それによりレ
ーデダイオードチップ13は、該駆動Ml流■1に対応
してパルス状にレーザ光14を発する。高階調画像を記
録あるいは伝送するためにパルス数変調を行なう11合
、上記パルスの周波数は例えば数M FI 2−数十M
H2程度に設定され、1画素当りのパルス数によって階
調が表わされる。すなわち例えば感光材料への画他記録
にあっては、1画素当りの露光量がこのパルス数に比例
するので、各画素の画像濃度が該、パルス数に対応して
制御される。またパルス幅変調を行なう場合には、最も
短いパルス幅が上記周波数のパルスの幅程度とされる。
先に述べた通り、半導体レーザ10が駆動されている際
にはレーザダイオードチップ13が発熱するが、上述の
ような高速で半導体レーザ10の0N−OFFが繰り返
される場合には、前述のケース温度一定化制御を行なっ
ても、レーザダイオードチップ13の過渡的温度変化を
抑えられない。したがってこの過渡的温度変化による光
出力変化がそのまま記録光あるいは伝送光の光m変動と
なり、画質劣下を招いてしまう。以下、このような不具
合を解潰する点について説明する。駆動回路25は前述
したパルス状の駆動信号S1を受けると、リード24を
介してパルス状の発熱用電流I2をレーザダイオードチ
ップ19に供給する。このパルス状の発熱用電流I2は
、第3図の(2)に示すように、レーザダイオードチッ
プ13に供給される駆動電流I!とパルス位相が反転し
たものとされる。そして本実施例においては特に、駆動
電流■1と発熱用電流I2は互いに等しい大きさとされ
る。前述した通り本実施例においては、レーザダイオー
ドチップ13と19は互いに同じ構成のものが用いられ
ているので、両者の電熱特性は等しくなっている。
にはレーザダイオードチップ13が発熱するが、上述の
ような高速で半導体レーザ10の0N−OFFが繰り返
される場合には、前述のケース温度一定化制御を行なっ
ても、レーザダイオードチップ13の過渡的温度変化を
抑えられない。したがってこの過渡的温度変化による光
出力変化がそのまま記録光あるいは伝送光の光m変動と
なり、画質劣下を招いてしまう。以下、このような不具
合を解潰する点について説明する。駆動回路25は前述
したパルス状の駆動信号S1を受けると、リード24を
介してパルス状の発熱用電流I2をレーザダイオードチ
ップ19に供給する。このパルス状の発熱用電流I2は
、第3図の(2)に示すように、レーザダイオードチッ
プ13に供給される駆動電流I!とパルス位相が反転し
たものとされる。そして本実施例においては特に、駆動
電流■1と発熱用電流I2は互いに等しい大きさとされ
る。前述した通り本実施例においては、レーザダイオー
ドチップ13と19は互いに同じ構成のものが用いられ
ているので、両者の電熱特性は等しくなっている。
したがってレーザダイオードチップ13と19それぞれ
の単位時間当り発熱ff1J1、Jzは、それぞれ第3
図の(3)、(4)に示すようなものとなる。
の単位時間当り発熱ff1J1、Jzは、それぞれ第3
図の(3)、(4)に示すようなものとなる。
つまりレーザダイオードチップ13が駆動されて発熱し
ている間はレーザダイオードチップ19が停止され、レ
ーザダイオードチップ13が停止されている間はレーザ
ダイオードチップ19が駆動され、両者から生じる単位
時間当りの熱量の和は一定に維持されている。そしてレ
ーザダイオードチップ13.19は電気絶縁WJ18を
介して密接されているので、雨音間で熱が授受され、結
局両者は一定温度に保たれる。こうしてレーザダイオー
ドチップ13が一定温度に保たれれば、該レーザダイオ
ードチップ13の光出力は所定部[を流に対して一定に
保たれ、記録画像や伝送画像のa度が変動してしまうこ
とがない。
ている間はレーザダイオードチップ19が停止され、レ
ーザダイオードチップ13が停止されている間はレーザ
ダイオードチップ19が駆動され、両者から生じる単位
時間当りの熱量の和は一定に維持されている。そしてレ
ーザダイオードチップ13.19は電気絶縁WJ18を
介して密接されているので、雨音間で熱が授受され、結
局両者は一定温度に保たれる。こうしてレーザダイオー
ドチップ13が一定温度に保たれれば、該レーザダイオ
ードチップ13の光出力は所定部[を流に対して一定に
保たれ、記録画像や伝送画像のa度が変動してしまうこ
とがない。
以上、説明のように本光源装置においては、本質的にレ
ーザダイオードチップ13そのものの温度を一定に維持
するようにしているので、前記ケース温度一定化制御に
おけるような応答遅れの問題がなく、レーザダイオード
チップ13の光出力は所定駆動電流に対して常に一定に
保たれる。
ーザダイオードチップ13そのものの温度を一定に維持
するようにしているので、前記ケース温度一定化制御に
おけるような応答遅れの問題がなく、レーザダイオード
チップ13の光出力は所定駆動電流に対して常に一定に
保たれる。
なお上記のようにレーザダイオードチップ13そのもの
の温度を一定に維持させるためには、該レーザダイオー
ドチップ13からレーザダイオードチップ19に、また
その反対の方向に熱が良好に伝導する必要がある。その
ために、これら両者間に介設される電気絶縁層18は熱
伝導率の高い材料、例えば酸化アルミニウム等から形成
するのが好ましい。
の温度を一定に維持させるためには、該レーザダイオー
ドチップ13からレーザダイオードチップ19に、また
その反対の方向に熱が良好に伝導する必要がある。その
ために、これら両者間に介設される電気絶縁層18は熱
伝導率の高い材料、例えば酸化アルミニウム等から形成
するのが好ましい。
また上記実施例においては、レーザダイオードチップ1
3と発熱用レーザダイオードチップ19にそれぞれ、互
いにパルス波形が逆相で大きさが等しい電流1t、I2
を供給するようにしているが、レーザダイオードチップ
19への印加電流と発熱mとが比例する場合には、特に
このようにせず、双方に供給される電流1+ 、12の
和が一定となるようにするだけでもよい。例えばレーザ
駆!JJm流■1がOmAと60mAの値をとるように
制御される場合には、発熱用電流I2を、電流■1=0
mA、60mAのときそれぞれ70mA、1QrnAの
値をとるように制御してもよい。
3と発熱用レーザダイオードチップ19にそれぞれ、互
いにパルス波形が逆相で大きさが等しい電流1t、I2
を供給するようにしているが、レーザダイオードチップ
19への印加電流と発熱mとが比例する場合には、特に
このようにせず、双方に供給される電流1+ 、12の
和が一定となるようにするだけでもよい。例えばレーザ
駆!JJm流■1がOmAと60mAの値をとるように
制御される場合には、発熱用電流I2を、電流■1=0
mA、60mAのときそれぞれ70mA、1QrnAの
値をとるように制御してもよい。
次に第4図を省熱して本発明の第2実施例について説明
する。なおこの第4図において、前記第1図中の要素と
同等の要素には同番号を付し、それらについての説明は
省略する(以下同様)。この第2実施例においては、前
述した発熱用レーザダイオードチップ19に代えて、抵
抗体31がチップマウント12に取り付けられている。
する。なおこの第4図において、前記第1図中の要素と
同等の要素には同番号を付し、それらについての説明は
省略する(以下同様)。この第2実施例においては、前
述した発熱用レーザダイオードチップ19に代えて、抵
抗体31がチップマウント12に取り付けられている。
この抵抗体31は、例えば半導体用RnH形成プロセス
によって作成される。この第2実施例の半導体レーザも
第2図図示のように駆動回路25に接続されて使用され
、上記抵抗体31にはレーザダイオードチップ13の駆
@電流■1とパルス波形が逆相の発熱用電流12が供給
される。本実施例においては、抵抗体31とし、てレー
ザダイオードチップ13よりも電熱特性の高いもの、す
なわち同一電流値に対してより高い熱量を放出するもの
が使用されている。したがってこの場合は第5図の(1
)、(2)に示すように、発熱用電流■2を駆動電流1
1より小さな値としでも、第5図(3)、(4)から分
かるように、単位時間当りのレーザダイオードチップ1
3の発熱量と抵抗体31の発熱量の和が等しくなる。
によって作成される。この第2実施例の半導体レーザも
第2図図示のように駆動回路25に接続されて使用され
、上記抵抗体31にはレーザダイオードチップ13の駆
@電流■1とパルス波形が逆相の発熱用電流12が供給
される。本実施例においては、抵抗体31とし、てレー
ザダイオードチップ13よりも電熱特性の高いもの、す
なわち同一電流値に対してより高い熱量を放出するもの
が使用されている。したがってこの場合は第5図の(1
)、(2)に示すように、発熱用電流■2を駆動電流1
1より小さな値としでも、第5図(3)、(4)から分
かるように、単位時間当りのレーザダイオードチップ1
3の発熱量と抵抗体31の発熱量の和が等しくなる。
以上説明した2つの実施例においては、レーザダイオー
ドチップ13と電熱体(レーザダイオードチップ19あ
るいは抵抗体31)が電気絶縁層18を介して密接配置
されているが、第6図に示す第3実施例におけるように
、電気絶縁層を空気層として、レーザダイオードチップ
13と電熱体(抵抗体)41とを僅かに離して配置して
もよい。この場合はレーザダイオードチップ13と抵抗
体41との間の熱伝導性が、両者の間に熱伝導性の^い
電気絶縁層を介在させた場合よりも劣るので、該第6図
に示されるように、レーザダイオードチップ13を取り
囲むように抵抗体41を配置して熱伝導性を高めるのが
好ましい。
ドチップ13と電熱体(レーザダイオードチップ19あ
るいは抵抗体31)が電気絶縁層18を介して密接配置
されているが、第6図に示す第3実施例におけるように
、電気絶縁層を空気層として、レーザダイオードチップ
13と電熱体(抵抗体)41とを僅かに離して配置して
もよい。この場合はレーザダイオードチップ13と抵抗
体41との間の熱伝導性が、両者の間に熱伝導性の^い
電気絶縁層を介在させた場合よりも劣るので、該第6図
に示されるように、レーザダイオードチップ13を取り
囲むように抵抗体41を配置して熱伝導性を高めるのが
好ましい。
(発明の効果)
以上詳細に説明した通り本発明の半導体レーザにおいて
は、レーザダイオードチップそのものの温度を応答性良
く制御することが可能になる。また本発明の半導体レー
ザ光源装置においては、レーザダイオードチップそのも
のの温度が過渡的変化も抑えて実質的に一定に保たれる
ので、レーザダイオードチップの温度変動による光出力
変動が防止される。したがってこの光源装置によれば、
′a度変動による画質劣下を沼くことなく高階調の画像
を光走査記録したり光伝送することが可能となる。
は、レーザダイオードチップそのものの温度を応答性良
く制御することが可能になる。また本発明の半導体レー
ザ光源装置においては、レーザダイオードチップそのも
のの温度が過渡的変化も抑えて実質的に一定に保たれる
ので、レーザダイオードチップの温度変動による光出力
変動が防止される。したがってこの光源装置によれば、
′a度変動による画質劣下を沼くことなく高階調の画像
を光走査記録したり光伝送することが可能となる。
第1図は本発明の半導体レーザの第1実施例を示す一部
破断斜視図、 第2図は本発明の半導体レーザ光源装置の電気回路を示
す回路図、 第3図は上記半導体レーザ光源装置におけるレーザ駆動
電流と発熱用電流とレーザダイオードチップからの発熱
量と電熱体からの発熱Mの変化の様子を−示すグラフ、 第4図は本発明の半導体レーザの第2実施例を示す部分
斜視図、 第5図は上記第2実施例の半導体レーザにおけるレーザ
駆動電流と発熱用電流とレーザダイオードチップからの
発熱量と電熱体からの発熱層の変化の様子を示すグラフ
、 第6図は本発明の半導体レーザの第3実施例を示す部分
斜視図、 第7図は本発明に係る半導体レーザの駆動電流と光出力
の関係を示すグラフ、 第8図は本発明に係る半導体レーザのドループ特性を説
明するグラフである。 10・・・半導体レーザ 11・・・ステム12・
・・チップマウント 13・・・レーザダイオードチップ 14・・・レーザ
光15・・・キャップ 18・・・電気絶縁層
19・・・発熱用レーザダイオードチップ20・・・遮
光部材 21.22.23.24・・・リード
25・・・駆動回路 31.41・・・抵抗体
11・・・レーザ駆動電流 I2・・・発熱用電流J1
・・・レーザダイオードチップの単位時間当り発熱量 J2・・・tu電熱体単位時間当り発熱n第1図 拉 第2図 第3図 (1) 、yyfrH組Lh J=十−「十−「1−−
−0L−”i’ (社−IgJ2− ]1丁下ロー−〇 (3)當マ1°;−」]」上fL−6 (4ン 」立94藺ゴリ − 11−ニニn二二n
二ニニ」−−−。 ミλt−gLJ2 第4図 L−T −−[L「L「L− (1) Az動電也I+
−。 (2)発熟軸3LI2− −− − −− −0(3)
#&詩vトゴリ −−−−[U二UL−
−化熱を山−−0 (自 発)手続ネ市正書 特許庁長官 殿 昭和61年7月
18日j 1、事件の表示 特願昭61−137665号 2、発明の名称 半導体レーザおよび半導体レーザ光源装置3、補正をす
る者 事件との関係 特許出願人 柱 所 神奈川県南足柄市中沼210番地名 称
富士写真フィルム株式会社4、代理人 東京都港区六木木5丁目2番1月 9、添付書類
破断斜視図、 第2図は本発明の半導体レーザ光源装置の電気回路を示
す回路図、 第3図は上記半導体レーザ光源装置におけるレーザ駆動
電流と発熱用電流とレーザダイオードチップからの発熱
量と電熱体からの発熱Mの変化の様子を−示すグラフ、 第4図は本発明の半導体レーザの第2実施例を示す部分
斜視図、 第5図は上記第2実施例の半導体レーザにおけるレーザ
駆動電流と発熱用電流とレーザダイオードチップからの
発熱量と電熱体からの発熱層の変化の様子を示すグラフ
、 第6図は本発明の半導体レーザの第3実施例を示す部分
斜視図、 第7図は本発明に係る半導体レーザの駆動電流と光出力
の関係を示すグラフ、 第8図は本発明に係る半導体レーザのドループ特性を説
明するグラフである。 10・・・半導体レーザ 11・・・ステム12・
・・チップマウント 13・・・レーザダイオードチップ 14・・・レーザ
光15・・・キャップ 18・・・電気絶縁層
19・・・発熱用レーザダイオードチップ20・・・遮
光部材 21.22.23.24・・・リード
25・・・駆動回路 31.41・・・抵抗体
11・・・レーザ駆動電流 I2・・・発熱用電流J1
・・・レーザダイオードチップの単位時間当り発熱量 J2・・・tu電熱体単位時間当り発熱n第1図 拉 第2図 第3図 (1) 、yyfrH組Lh J=十−「十−「1−−
−0L−”i’ (社−IgJ2− ]1丁下ロー−〇 (3)當マ1°;−」]」上fL−6 (4ン 」立94藺ゴリ − 11−ニニn二二n
二ニニ」−−−。 ミλt−gLJ2 第4図 L−T −−[L「L「L− (1) Az動電也I+
−。 (2)発熟軸3LI2− −− − −− −0(3)
#&詩vトゴリ −−−−[U二UL−
−化熱を山−−0 (自 発)手続ネ市正書 特許庁長官 殿 昭和61年7月
18日j 1、事件の表示 特願昭61−137665号 2、発明の名称 半導体レーザおよび半導体レーザ光源装置3、補正をす
る者 事件との関係 特許出願人 柱 所 神奈川県南足柄市中沼210番地名 称
富士写真フィルム株式会社4、代理人 東京都港区六木木5丁目2番1月 9、添付書類
Claims (4)
- (1)ケース内に固定されたレーザダイオードチップ、
および電気絶縁層を介してこのレーザダイオードチップ
に近接あるいは密接配置された電熱体を有する半導体レ
ーザ。 - (2)前記電熱体が前記レーザダイオードチップと等し
い電熱特性を備えるものであることを特徴とする特許請
求の範囲第1項記載の半導体レーザ。 - (3)ケース内に固定されたレーザダイオードチップ、
および電気絶縁層を介してこのレーザダイオードチップ
に近接あるいは密接配置された電熱体を有する半導体レ
ーザと、 前記レーザダイオードチップに駆動電流を供給するとと
もに、単位時間当り該レーザダイオードチップから発せ
られる熱量と前記電熱体から発せられる熱量との和が一
定となるように該電熱体に発熱用電流を供給する駆動回
路とからなる半導体レーザ光源装置。 - (4)前記電熱体が前記レーザダイオードチップと等し
い電熱特性を備えるものであり、 前記駆動回路が、前記駆動電流のON、OFF時にそれ
ぞれFF、ONする、該駆動電流と同じ大きさの発熱用
電流を供給するものであることを特徴とする特許請求の
範囲第3項記載の半導体レーザ光源装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61137665A JPS62293792A (ja) | 1986-06-13 | 1986-06-13 | 半導体レ−ザおよび半導体レ−ザ光源装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61137665A JPS62293792A (ja) | 1986-06-13 | 1986-06-13 | 半導体レ−ザおよび半導体レ−ザ光源装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62293792A true JPS62293792A (ja) | 1987-12-21 |
Family
ID=15203953
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61137665A Pending JPS62293792A (ja) | 1986-06-13 | 1986-06-13 | 半導体レ−ザおよび半導体レ−ザ光源装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62293792A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01205588A (ja) * | 1988-02-12 | 1989-08-17 | Mitsubishi Electric Corp | レーザプリンタ用半導体レーザ装置の駆動方法 |
| JP2001326418A (ja) * | 2000-05-16 | 2001-11-22 | Yokogawa Electric Corp | 半導体レーザ光源及び半導体レーザ光源の変調方法 |
| JP2005244242A (ja) * | 2004-02-25 | 2005-09-08 | Osram Opto Semiconductors Gmbh | 少なくとも1つのビーム放射型の半導体素子を備えた装置およびビーム放射型の半導体素子の動作温度を安定させる方法 |
| JP2008205259A (ja) * | 2007-02-21 | 2008-09-04 | Mitsubishi Electric Corp | 光モジュール |
| JP2019502268A (ja) * | 2016-01-04 | 2019-01-24 | オートモーティブ・コーリション・フォー・トラフィック・セーフティ,インコーポレーテッド | ヒータ・オン・ヒートスプレッダ |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4843053Y1 (ja) * | 1970-08-27 | 1973-12-13 | ||
| JPS602440A (ja) * | 1983-06-13 | 1985-01-08 | 株式会社アイビ−化粧品 | 化粧品用容器 |
-
1986
- 1986-06-13 JP JP61137665A patent/JPS62293792A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4843053Y1 (ja) * | 1970-08-27 | 1973-12-13 | ||
| JPS602440A (ja) * | 1983-06-13 | 1985-01-08 | 株式会社アイビ−化粧品 | 化粧品用容器 |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01205588A (ja) * | 1988-02-12 | 1989-08-17 | Mitsubishi Electric Corp | レーザプリンタ用半導体レーザ装置の駆動方法 |
| JP2001326418A (ja) * | 2000-05-16 | 2001-11-22 | Yokogawa Electric Corp | 半導体レーザ光源及び半導体レーザ光源の変調方法 |
| JP2005244242A (ja) * | 2004-02-25 | 2005-09-08 | Osram Opto Semiconductors Gmbh | 少なくとも1つのビーム放射型の半導体素子を備えた装置およびビーム放射型の半導体素子の動作温度を安定させる方法 |
| JP2008205259A (ja) * | 2007-02-21 | 2008-09-04 | Mitsubishi Electric Corp | 光モジュール |
| JP2019502268A (ja) * | 2016-01-04 | 2019-01-24 | オートモーティブ・コーリション・フォー・トラフィック・セーフティ,インコーポレーテッド | ヒータ・オン・ヒートスプレッダ |
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