JPS6231834A - シヤツタ−制御装置 - Google Patents

シヤツタ−制御装置

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Publication number
JPS6231834A
JPS6231834A JP60169854A JP16985485A JPS6231834A JP S6231834 A JPS6231834 A JP S6231834A JP 60169854 A JP60169854 A JP 60169854A JP 16985485 A JP16985485 A JP 16985485A JP S6231834 A JPS6231834 A JP S6231834A
Authority
JP
Japan
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light
shutter
motor
section
light passing
Prior art date
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Pending
Application number
JP60169854A
Other languages
English (en)
Inventor
Tsutomu Saitou
斎藤 ▲つとむ▼
Shigemi Ishii
石井 重実
Ken Fujii
憲 藤井
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Ltd
Priority to JP60169854A priority Critical patent/JPS6231834A/ja
Publication of JPS6231834A publication Critical patent/JPS6231834A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70483Information management; Active and passive control; Testing; Wafer monitoring, e.g. pattern monitoring
    • G03F7/7055Exposure light control in all parts of the microlithographic apparatus, e.g. pulse length control or light interruption

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Shutters For Cameras (AREA)
  • Projection-Type Copiers In General (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の利用分野〕 本発明はシャッター制御装置に係り、特に縮小投影露光
装置のシャッターのように、露光時間を微小な分解能か
つ高い精度で設定することが要求される場合や極めて高
温の周囲条件下で使用される場合に好適なシャッター制
御装置に関する。
〔発明の背景〕
縮小投影露光装置のシャッターは、露光時間を微小な分
解能かつ高い精度で設定することが要求され、また照明
光源による極めて高温の下で使用され−ることがら、シ
ャッターをステッピングモーターや直流電動機で回転さ
せる簡単な構成のものが使用されている。
縮小投影露光装置のスループット向上策の一つに露光時
間の短縮がある。そのためには高速度のシャッターが必
要である。
シャッター高速化の方策としては、従来、参考文献[ス
テッパにおける機構と制御 高橋−雄昭和60年度精機
学会春季大会シンポジウムテキスト」に見られるように
、シャッターの形状や材質を考慮することにより、その
慣性を小さくする方法がとられて来ている。
しかし、さらに高速化をはかるためには、駆動モーター
として、より高速化に適した直流モーターを使用し、し
かもその能力を最大限に発揮させる制御を行なう必要が
ある。
また、シャッターの構造上、直流モーター、速度を検出
するための速度計発電機、回転角度を検出するためのパ
ルスエンコーダー等、制御に必要な器具や部品は光路を
妨害する障害物となるので。
可能な限り省いて簡素化しなければならない。
〔発明の目的〕
本発明の目的はシャッターの高速化を図ったシャッター
制御装置を提供することにある。
〔発明の概要〕
本発明の特徴は円周に沿って光通過部と光遮断部を設け
たシャッターと、前記光通過部および光遮断部を選択的
に光束位置に切換えるように前記シャッターを回転する
モーターと、前記光束位置に前記光通過部および光遮断
部のうちの一方が切換えられている状態から他方が切換
えられるまでの期間の前半部分においては前記モーター
を等加速度的に増速し、後半部分においては前記モータ
ーを等加速度的に減速するように前記モーターの回転を
制御する手段とを備えているシャッター制御装置にある
〔発明の実施例〕
第1図は本発明の一実施例を示す図である。1は円板状
のシャッターを示す1図はシャッターが、その円周に沿
って4個の切欠き部すなわち光通過部を備える場合の例
を示す、11の点線で示した円は光束の断面であり、図
はシャッターが光を遮断した場合を示している。シャッ
ターが図の角度θだけ回転すると、切欠き部が光束の位
置に来るので、シャッターは開状態になる。
1′はシャッターを側面から見た図であり、これ直流モ
ーター2によって駆動されることを示している。3は増
巾器で直流モーター2を駆動する。
4は方形波信号発生器で、その出力は増巾器3の入力と
なる。5はシャッターの開閉指令信号で方形波信号発生
器4の入力となる。6は電流検出器であり、本例では抵
抗器を使用している。この抵抗器の両端の間に、直流モ
ーター2の電流に比例した電圧が得られるので、これを
前記増巾器3の入力に帰還している。7はシャッターに
設けられた孔であり、閉および開に対応する位置に各2
個ずつ設けられている。8は発光器、9は受光器であり
、シャッター1′を挟んで2対を設ける。
10は演算増巾器であり、2個の受光器のうちの一方の
受光器の出力信号を、極性を逆にして増巾器3に加える
働きをする。
第2図は本発明の詳細な説明するための図である。本例
のように、シャッター1が4個の切欠き部を持つ場合に
は、閉から開、開から閉に至る回転角は45度である。
この45度を駆動する全時間taの前半1/2を、直流
モーター2に許される最大の加速度で加速し、後半1/
2を同じく最大の加速度で減速すれば、最短時間での4
5度回転が行なわれる。この時の直流モーター2の速度
、電流と時間tの関係を、第2図(a)、(b)に示す
第2図(a)は、直流モーター2の速度が、前半の1/
2を直流モーター2に許される最大の加速度で加速して
N m a xに達し、後半の1/2を同じく最大の加
速度で減速してOにもどることを示している。
第2図(b)は、前半の1/2の期間、直流モーター2
に許される瞬時最大電流I m&Xを流し、後半の1/
2の期間、同じ<I−a、lを逆向きに流さなければな
らないことを示す。
最短の駆動時間taは、直流モーター2の仕様、シャッ
ター1の慣性能率等からあらかじめ正確に知り得る。方
形波信号発生器4は、シャッターの開閉指令信号5を受
けると、最初のta /2の期間に正、後のt&/2の
期間に負、の方形波を発生するように構成する。この出
力波形を第2図(c)に示す。
この方形波信号は、増巾器3、直流モーター2、電流検
出器6で構成される電流制御ループの指令値となるから
、直流モーター電流はこの方形波信号と相似になるよう
に制御され、結局シャッター1は所期の駆動が行なわれ
る。シャッター1に設けられた孔は終点位置に設けられ
ているので、回転の始点から終点付近までの途中の動作
には影響を与えない。
第3図は、終点位置検出の原理を説明するための図であ
る。第3図(a)はシャッター1に設けた孔の1対をと
り出して示した図である。直線7′はシャッター1の停
止位置である。1対の孔は図のように停止位置を中心と
して位相をずらして設けられる。
シャッター1を挟んで、発光器−受光器の組を2対設け
、番孔を通過する光の量が第3図(b)のようになるよ
うにする、Aは孔Aを通過する光量、Bは孔Bを通過す
る光量である。つまり、閉または開の状態から円板がず
れると、一方の孔を通過する光はその量を増し、他方の
孔を通過する光はその量を減するように構成する。
各受光器は光量に比例した電圧を発生するようにし、一
方の受光器(図の例ではB側)の出力信号の極性を演算
増巾器10により逆にして加算すると停止位置を中心に
して正負に振れる電圧信号が得られるので、これを増巾
器3に帰還する。これを第3図(c)に示す。
シャッター1が停止位置に達すると、方形波信   1
号発生器4からの信号はOになり、増巾器3への入力は
2個の受光器からの位置偏差信号のみとなり、この信号
によりシャッター1が正しい位置に切換え停止されるよ
うにその位置決め制御が行われる。
第4図(a)はシャッター1の回転角θと時間tの関係
を示す、これは第2図(a)を時間tで積分して得られ
る関数である。第4図(b)はシャッター1を通過する
光量Sとθの関係で、(イ)は閉→開、(ロ)は開→閉
に対する図である。これは光束とこれを遮断するシャッ
ター1との幾何学的関係から得られる関数である。
第4図(a)、(b)は図示のようにt1→θ、→S1
の順に読み取ることにより各時刻t1における光量Sl
が求められる。第4図(c)は、このようにして求めた
、シャッター1を開き始めてから閉じるまでのSとtの
関係を示す図である。
第4図(c)の(イ)、(ロ)はシャッター1を駆動中
の期間であり、(イ)は閉→開、(ロ)は開→閉に対応
する。(ハ)は開状態で停止している期間であり、露光
時間の長さはこの期間の長さをtaを加減することによ
り設定される。
露光時間は、光量の立上りで50%を切る時刻から、立
下りで50%で切る時刻までの時間で定義されるが、図
から明らかなようにtz+tzより短かくすることはで
きない、従って、シャッターを高速化することはtx 
+t!を小さくすることであり、これは閉→開、開→閉
に必要な時間を小さくすることによって実現される。
なお、本発明の実施例によれば、速度計発電機やパルス
エンコーダなど、光路の障害となる器具や部品を不要と
するコンパクトなシャッター制御装置が得られる。
〔発明の効果〕
以上の説明から明らかなように、本発明によれば、モー
ターの能力を最大限に使用してシャッター駆動の高速化
を図ることができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例を示すシャッター制御装置の
概念図、第2図は本発明の実施例の動作原理の説明図、
第3図は終点位置検出の原理説明図、第4図は回転角度
θ、シャッターを通過する光量Sと時間tの関係を示す
図である。 1,1′・・・シャッター、2・・・直流モーター、3
・・・増巾器、4・・・方形波信号発生器、5・・・シ
ャッター開閉指令信号、6・・・電流検出器、7・・・
停止位置検出用孔、7′・・・停止位置、8・・・発光
器、9・・・受光器、10・・・演算増幅器、11・・
・光芒の断面。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、円周に沿つて光通過部と光遮断部を設けたシャッタ
    ーと、前記光通過部および光遮断部を選択的に光束位置
    に切換えるように前記シャッターを回転するモーターと
    、前記光束位置に前記光通過部および光遮断部のうちの
    一方が切換えられている状態から他方が切換えられるま
    での期間の前半部分においては前記モーターを等加速度
    的に増速し、後半部分においては前記モーターを等加速
    度的に減速するように前記モーターの回転を制御する手
    段とを備えているシャッター制御装置。 2、円周に沿つて光通過部と光遮断部を設けたシャッタ
    ーと、前記光通過部および光遮断部を選択的に光束位置
    に切換えるように前記シャッターを回転するモーターと
    、前記光束位置に前記光通過部および光遮断部のうちの
    一方が切換えられている状態から他方が切換えられるま
    での期間の前半部分においては前記モーターを等加速度
    的に増速し、後半部分においては前記モーターを等加速
    度的に減速するように前記モーターの回転を制御する手
    段と、前記シャッターの切換え停止位置ずれを補正する
    手段とを備え、該補正手段は前記光通過部および光遮断
    部の各々が前記光束位置に正しく切換え停止されたとき
    は互いに実質的に等しい第1および第2の光信号を発生
    するが、前記光束位置からずれたときは前記第1の光信
    号は増大し、前記第2の光信号は減少するように構成さ
    れているとともに、前記第1および第2の光信号にもと
    づいて前記光通過部および光遮断部の各々の前記光束位
    置に対する切換え停止位置制御を行うように構成されて
    いるシャッター制御装置。
JP60169854A 1985-08-02 1985-08-02 シヤツタ−制御装置 Pending JPS6231834A (ja)

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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6445176A (en) * 1987-08-14 1989-02-17 Hitachi Ltd Manufacture of solar cell element
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