JPS6232938A - Ｘ線ｃｔ断層像の表示方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、Ｘ線ＣＴ　（Ｃｏｍｐｕｔｅｄ　Ｔｏｍｏ
ｇｒａｐｈｙ）の断層像を立体表示するためのＸ＠ＣＴ
断層像の表示方法に関し、医療用および一般産業用に用
いられるものである。

〔従来の技術〕

従来、ＣＴ断層像の立体表示は、一度各断面のＣＴ断層
写真を作り、これらの断層写真を元の撮影位置に合わせ
て並べ、これを背後から照明し、光学的手法により一枚
のホログラムに多重記録し、これを現像してコヒーレン
ト光で再生する多重記録ホログラム方式によって行なわ
れている。

〔発明が解決しようとする問題点〕

しかしながらこのような従来の装置は、写真の現像後で
ないと像を再生できないので、迅速な診断が行なえない
という欠点を有していた。

〔問題点を解決するための手段〕

このような欠点を解決するためにこの発明は、Ｘ＠ＣＴ
の断層撮影データをもとに演算によって立体像を求める
ようにしたものである。

〔作　用〕

立体像が従来より早い時間で得られる。

〔実施例〕

第１図はこの発明の一実施例を示すフローチャートであ
る。同図において、ステップ１００に示すように断層撮
影位置の設定が行なわれ、ステンブＮ）１においてＸ線
照射角度θにの設定が行なわれる。このθには第２図に
示すように、検査対象１の座標ｘ、ｙに対する角度であ
る。

次にステップ１０２において、ｇｋ（Ｘｓθｋ）の測定
、すなわち角度θｋにおけるＸ軸上におけるＸ線ＣＴデ
ータの測定を行なう。そしてステップ１０３における演
算を行なう。ステップ１０３は次の（１）式に示す演算
によって実行する。

Ｆ％Ｃ（ω可θに、ω廊θｋ） ＝ｆ　ｇｌ（（Ｘ、ｅｋ）　・ｅｘｐ（−２πｊωＸ）
ｄＸ・・・・・・・・（１） 以上ステップ１０１〜１０３の処理をに＝１からＮまで
繰返して行なう。ここでＮは角度の設定数である。

ステップ１０１〜１０３の繰返し演算を行なうと、ステ
ップ１０４に示すサンプルデータが第３図に示すような
空間周波ｔξ、η（ω、θｋ）として得られる、図中、
ω１〜ω３は検査対象の中心からの距離に対応し友それ
ぞれの部分の空間周波数である。このようにして得られ
たデータはステップ１０５に示すように、　Ｆｉ（ξ、
η）系への内挿針＄を行なう。この結果、極座標系で得
られたデータは第４図に示すように、（ω。、ｅｋ）ｙ
（ω。＋１．ｅｋ）、（ω１．θに＋ｔ）、（ω。＋１
．θに＋１）の４つのデータをもとにそのデータで囲む
直交座標系の座標（ξｔ、ηｍ）に内挿される。

このデータはステップ１０６によって吸収系数分布ｔｆ
ｉ（ｘｌ　＊ｙｓ’）が演算され、ステップ１０７によ
って透過率分布Ｏ１（Ｘｉ＊ｙｌ　）が演算される。

ステップ１０６の演算は次の（２）式、ステップ１０７
の演算は（３）式によって実行される。

ｅｘｐ［２ｙｒｊ（ξＸ＋ηｙ）］　ｄｘｄｙ　　　＝
　（２）■ ０ｌ−Ｈｏ−ｅＸｐ［−／−ｆ（Ｘｃｍｅ−Ｙｓｔｏθ
、Ｘ５ｌｎθ十Ｙａｙｓθ）ａｙ）　　＠−・・・・０
９）これらのステップ１００〜ステツプ１０１までのデ
ータは１枚の断面データであるから、必要な枚数分だけ
ステップ１００〜１０７の処理を繰返して行なう。この
ようにして得られた結果に対し。

ステップ１０８，１０９によって擬似三次元像ホログラ
ムの解析を行なう。このステップ１０８゜１０９の処理
１２′２次回折波および１次回折波遮蔽の影響を考慮し
、多数の透過あるいは反射物体を並べ、これにコヒーレ
ント光を照射した場合の計算ホログラム（バイナリ）を
解析していることになる。なお、ステップ１０８におい
て各記号は次の意味を有する。

Ｆ：フーリエ変換 Ｆ　、フーリエ逆変換 Ｓｚｉ　（ｖｚ　＊　νｙ　）−ｅｘｐ　Ｎｘｚ３　（
ｒ：＋ｖｙ　）　）Ｍ（０１）：０１　面での光反射、
吸収を考慮した透過率分布の修正 Ｈ（ν８．ν、）：空間周波数領域での光の透過率分布 また、ステップ１０８）’！Ｍ＝３．すなわち断面３枚
の場合の処理であるが、断面の数が任意の場合は同様の
操作を順次繰返せばよい。

なおステップ１０Ｂは物理的には第５図に示す処理を行
なっている。すなわち、ステップ１０Ｂは第５図に示す
ように、各断面データｏ１ｓ　０２　ｔＯ３を並べ、こ
れにコヒーレント光を照射した時。

レンズ２前側焦平面にできる回折像を結ぶようなホログ
ラム３すなわちＨ（シ８．シｙ）を求めている。

このようにして得られたデータはステップ１１０に示す
ようにＭＴ（磁気テープ）に記憶される。

このＭＴは電子ビーム描画装置に移され、ステップ１１
１においてフォーマット変換が行なわれる。

そしステップ１１２〜１１４の処理が行なわれて擬似立
体偉が再生される。ステップ１１２において、　ＥＢＭ
Ｔとは電子ビーム描画装置用にフォーマット変換された
磁気テープのことである。ステップ１１１〜１１４は物
理的には第６図に示す処理を行なっている。すなわち、
ＸＯｐｓら球面波を照射した時、レンズ２の焦点面に現
われる再生像４を求めていることになる。

〔発明の効果〕

以上説明したようにこの発明は、ＸａＣＴデーメを高速
計算機処理して再生像を求めるようにしているので、従
来のようにホログラム撮影装置によって撮影したものを
現像し、それを並べて照明していたものが、全て計算処
理に置換えられるので、従来の方式よりも早い時間で診
断が行なえるという効果を有する。

【図面の簡単な説明】

第１図）２この発明の一実施例を示すフローチャート、
第２図は検査対象の座標と、その座標を回転した座標の
関係を示す図、第３図は空間周波数の概念を表わす図、
第４図は得られた空間周波数データと内挿データとの関
係を示す図、第５図および＠６図は計算機の処理過程を
物理的な状態で説明するための図である。 １・・・・検査対象、２・・・・レンズ。 ３・・・・ホログラム、４・φ・・再生像。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 検査対象の一つの断層像撮影位置において各照射角度方
   向のＸ線投影データからその位置でのＣＴ断面像データ
   を演算し、同様の作業を断層像撮影位置を変えて実施し
   、このようにして得られた複数枚の断層像を元の撮影位
   置に置き、２次回折波および１次回折波遮蔽の影響を考
   慮して断層像群にコヒーレント光を照射した時予想され
   る回折像を生ずる様なホログラムを演算で求め、その演
   算結果を表示するＸ線ＣＴ断層像の表示方法。