JPS6233757B2 - - Google Patents
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- JPS6233757B2 JPS6233757B2 JP56198937A JP19893781A JPS6233757B2 JP S6233757 B2 JPS6233757 B2 JP S6233757B2 JP 56198937 A JP56198937 A JP 56198937A JP 19893781 A JP19893781 A JP 19893781A JP S6233757 B2 JPS6233757 B2 JP S6233757B2
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- thin film
- electrode
- semiconductor layer
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- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10F—INORGANIC SEMICONDUCTOR DEVICES SENSITIVE TO INFRARED RADIATION, LIGHT, ELECTROMAGNETIC RADIATION OF SHORTER WAVELENGTH OR CORPUSCULAR RADIATION
- H10F10/00—Individual photovoltaic cells, e.g. solar cells
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E10/00—Energy generation through renewable energy sources
- Y02E10/50—Photovoltaic [PV] energy
Landscapes
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Description
【発明の詳細な説明】 この発明は太陽光電池に関するものである。[Detailed description of the invention] This invention relates to solar cells.
従来の太陽光電池においては、光導電性薄膜の
素材として、水素化アモルフアスシリコンなどの
アモルフアス材料やシリコン多結晶材料を用い、
コストの低減化および大面積化をはかつている。 In conventional solar cells, amorphous materials such as hydrogenated amorphous silicon or polycrystalline silicon materials are used as materials for photoconductive thin films.
We are trying to reduce costs and increase the area.
しかしながら、一般にこれらの材料ではキヤリ
ヤの易動度とライフタイムが小さく、したがつて
拡散長が結晶に比して極端に短くなり、薄膜の光
吸収長以下となる場合が多く、また接合電界によ
るドリフト・レンジも光吸収長以下となる場合が
多い。そのため、十分なエネルギ変換効率が得ら
れないという欠点を有する。 However, in general, these materials have small carrier mobility and lifetime, and therefore the diffusion length is extremely short compared to crystals, often less than the light absorption length of thin films, and the junction electric field The drift range is also often less than the optical absorption length. Therefore, it has the disadvantage that sufficient energy conversion efficiency cannot be obtained.
したがつて、この発明の目的は、エネルギ変換
効率の高い太陽光電池を提供することである。 Therefore, an object of the present invention is to provide a solar cell with high energy conversion efficiency.
この発明の第1の実施例を、第1図AおよびB
にそれぞれ示す断面図およびこれに対応させたエ
ネルギバンドダイヤグラムにしたがつて以下に詳
述する。 A first embodiment of the invention is shown in FIGS. 1A and B.
A detailed description will be given below with reference to the cross-sectional views shown in and the energy band diagrams corresponding thereto.
すなわち、この太陽光電池は、半導体または絶
縁体からなる光導電性薄膜1と、前記光導電性薄
膜1の一面に順次接合形成されそれぞれ透光性を
有する網目状第1出力電極2,第1絶縁膜3およ
び第1パルス印加電極4と、前記光導電性薄膜1
の他面に順次接合形成した網目状第2出力電極
2′,第2絶縁膜3′および第2パルス印加電極
4′とを備え、前記第1パルス印加電極4と第1
出力電極2間および第2パルス印加電極4′と第
2出力電極2′間に対し外部よりそれぞれ正のパ
ルス電圧P1および負のパルス電圧P2を印加するこ
とにより、前記光導電性薄膜1内にそれぞれ正,
負の分極電荷6,5を誘起させて光導電性薄膜1
の内部に電界を設定し、これによつて光励起キヤ
リヤ7,8に対する加速電界を得て、エネルギ変
換効率を高めるようにしたものである。 That is, this solar cell includes a photoconductive thin film 1 made of a semiconductor or an insulator, a mesh-like first output electrode 2 and a first insulating film each having a light-transmitting property and which are bonded to one surface of the photoconductive thin film 1 in sequence. A film 3 and a first pulse applying electrode 4, and the photoconductive thin film 1
A mesh-like second output electrode 2', a second insulating film 3', and a second pulse application electrode 4' are successively bonded to the other surface, and the first pulse application electrode 4 and the first pulse application electrode 4' are connected to each other.
By applying a positive pulse voltage P 1 and a negative pulse voltage P 2 from the outside between the output electrodes 2 and between the second pulse applying electrode 4' and the second output electrode 2 ', the photoconductive thin film 1 is Each is correct within,
Photoconductive thin film 1 is formed by inducing negative polarization charges 6, 5.
An electric field is set inside the optical excitation carriers 7 and 8 to thereby obtain an accelerating electric field for the optically excited carriers 7 and 8, thereby increasing energy conversion efficiency.
その動作を、第1図Bのエネルギバンドダイヤ
グラムにしたがつて以下に説明する。 The operation will be explained below with reference to the energy band diagram shown in FIG. 1B.
前記第1パルス印加電極4に接続した第1入力
端子9と第1出力電極2に接続した第1出力端子
10の間および前記第2パルス印加電極4′に接
続した第2入力端子9′と第2出力電極2′に接続
した第2出力端子10′の間にそれぞれ正および
負のパルス電圧P1,P2を印加することにより、第
1絶縁膜3には正電荷,第2絶縁膜3′には負電
荷がそれぞれ蓄積され、これらの蓄積電荷によつ
て前記光導電性薄膜1内に負および正の分極電荷
6,5が誘起されて、光導電性薄膜1の中心部に
おいてエネルギバンドダイヤグラムの伝導帯エツ
ジ11と価電子帯エツジ12に傾斜が付与され
る。 between the first input terminal 9 connected to the first pulse application electrode 4 and the first output terminal 10 connected to the first output electrode 2, and between the second input terminal 9' connected to the second pulse application electrode 4'; By applying positive and negative pulse voltages P 1 and P 2 respectively between the second output terminal 10' connected to the second output electrode 2', a positive charge is generated in the first insulating film 3, and a positive charge is generated in the second insulating film 3. 3', negative charges are accumulated respectively, and these accumulated charges induce negative and positive polarized charges 6, 5 in the photoconductive thin film 1, and energy is generated in the center of the photoconductive thin film 1. A slope is given to the conduction band edge 11 and the valence band edge 12 of the band diagram.
それぞれ透光性を有する第1パルス印加電極
4,第1絶縁膜3および第1出力電極2を付設し
た側からの入射光13によつて、前記光導電性薄
膜1内に励起された光励起電子7および光励起ホ
ール8は、前記エネルギバンドの傾斜によつても
たらされる内部電界Eによつて、それぞれ第1図
Bのエネルギバンドダイヤグラムの14および1
5の位置に蓄積され、それぞれの蓄積電荷が
V1,V2の電位に達すると、前記第1出力電極2
および第2出力電極2′を経てこれら各出力電極
2,2′に接続された第1出力端子10,第2出
力端子10′より取り出される。 Photoexcited electrons are excited in the photoconductive thin film 1 by the incident light 13 from the side to which the first pulse applying electrode 4, the first insulating film 3, and the first output electrode 2, each of which has a light-transmitting property, are attached. 7 and photoexcited hole 8, respectively 14 and 1 in the energy band diagram of FIG.
5, and each accumulated charge is
When the potentials of V 1 and V 2 are reached, the first output electrode 2
It is then taken out from the first output terminal 10 and second output terminal 10' connected to each of these output electrodes 2, 2' via the second output electrode 2'.
前記動作において、光励起キヤリヤ7,8の易
動度をμ,ライフタイムをτとすると、光励起キ
ヤリヤ7,8のドリフトレンジLdとの間には
Ld=Eμτ
の関係が成立するので、前記内部電界Eを増大す
ることにより、ドリフトレンジLdを光導電性薄
膜1の光吸収長以上に設定することができ、エネ
ルギ変換効率の向上をはかることができる。 In the above operation, if the mobility of the optically excited carriers 7 and 8 is μ and the lifetime is τ, the relationship L d =Eμτ holds between the drift range L d of the optically excited carriers 7 and 8. By increasing the internal electric field E, the drift range L d can be set to be greater than the light absorption length of the photoconductive thin film 1, and the energy conversion efficiency can be improved.
この発明の第2の実施例を、第2図AおよびB
にそれぞれ示す断面図およびこれに対応させたエ
ネルギバンドダイヤグラムにしたがつて以下に詳
述する。 A second embodiment of the invention is shown in FIGS. 2A and B.
A detailed description will be given below with reference to the cross-sectional views shown in and the energy band diagrams corresponding thereto.
すなわち、この太陽光電池は、前記第1の実施
例における光導電性薄膜1′の層構造を、P型半
導体層1′aとN型半導体層1′bでI型半導体層
1′cを挾むPIN構造としたものであり、第1出
力電極2側にP型半導体層1′a,第2出力電極
2′側にN型半導体層1′bを配置させている。 That is, in this solar cell, the layer structure of the photoconductive thin film 1' in the first embodiment is modified such that an I-type semiconductor layer 1'c is sandwiched between a P-type semiconductor layer 1'a and an N-type semiconductor layer 1'b. A P-type semiconductor layer 1'a is arranged on the first output electrode 2 side, and an N-type semiconductor layer 1'b is arranged on the second output electrode 2' side.
このように構成したため、第1の実施例におい
ては、正,負のパルス電圧P1,P2の印加によつて
光導電性薄膜1内に分極電荷5,6が誘起される
のに替つて、この実施例では、P型半導体層1′
aにアクセプタによる負イオン空間電荷14,N
型半導体層1′bにドナーによる正イオン空間電
荷15が生起することになり、第2図Bに示すエ
ネルギバンドダイヤグラムのように、前記第1の
実施例とほぼ同一の動作が行われ、同様にエネル
ギ変換効率の向上をはかることができる。 Because of this configuration, in the first embodiment, instead of the polarized charges 5 and 6 being induced in the photoconductive thin film 1 by applying the positive and negative pulse voltages P 1 and P 2 , , in this embodiment, the P-type semiconductor layer 1'
Negative ion space charge due to acceptor in a 14,N
A positive ion space charge 15 is generated by the donor in the type semiconductor layer 1'b, and as shown in the energy band diagram shown in FIG. 2B, almost the same operation as in the first embodiment is performed, and the same It is possible to improve energy conversion efficiency.
この発明の第3の実施例を、第3図AおよびB
にそれぞれ示す断面図およびそれに対応させたエ
ネルギバンドダイヤグラムにしたがつて以下に詳
述する。 A third embodiment of the invention is shown in FIGS. 3A and 3B.
A detailed description will be given below with reference to the cross-sectional views shown in and the corresponding energy band diagrams.
すなわち、この太陽光電池は、前記第1の実例
における光導電性薄膜1″の層構造を、前記第1
出力電極2が付設される一面側をI型半導体層
1″a,前記第2出力電極2′が付設される他面側
をN型半導体層1″bとしたIN構造とするととも
に、前記第1出力電極2と前記I型半導体層1″
aとの接合をシヨツトキ接合としたものであり、
そのほかの構成は前記第1の実施例と同様であ
る。 That is, in this solar cell, the layer structure of the photoconductive thin film 1'' in the first example is changed to the layer structure of the photoconductive thin film 1'' in the first example.
The IN structure has an I-type semiconductor layer 1''a on one side where the output electrode 2 is attached, and an N-type semiconductor layer 1''b on the other side where the second output electrode 2' is attached, and 1 output electrode 2 and the I-type semiconductor layer 1''
The connection with a is a shot connection,
The rest of the structure is the same as that of the first embodiment.
したがつて、その動作において、前記第1の実
施例では正,負のパルス電圧P1,P2の印加により
光導電性薄膜1内に分極電荷5,6が誘起されて
いたのに替り、この実施例では、N型半導体層
1″bでドナーによる正イオン空間電荷16が生
起することになり、第3図Bに示すエネルギバン
ドダイヤグラムのように、前記第1の実施例とほ
ぼ同一の動作が行われ、同様にエネルギ変換効率
の向上をはかることができる。 Therefore, in its operation, instead of the polarized charges 5 and 6 being induced in the photoconductive thin film 1 by the application of positive and negative pulse voltages P 1 and P 2 in the first embodiment, In this embodiment, a positive ion space charge 16 is generated by the donor in the N-type semiconductor layer 1''b, and the energy band diagram shown in FIG. 3B is almost the same as that in the first embodiment. The operation is performed and the energy conversion efficiency can be improved as well.
前記第3の実施例におけるI型半導体層1″a
として、水素化アモルフアスシリコンの弱N型層
を採用した具体例について以下に詳述する。 I-type semiconductor layer 1″a in the third embodiment
A specific example employing a weak N-type layer of hydrogenated amorphous silicon will be described in detail below.
水素化アモルフアスシリコン薄膜では正孔の易
動度が小さいため、出力は正孔電流値によつて規
制されることになり、正孔の寿命をτ,膜厚をL
としたとき
L≦Eμτ
の関係を満足する必要があり、この例では
μ=10-3〜10-2cm2/V・sec
τ=10-6sec
L=Iμm
としている。 In hydrogenated amorphous silicon thin films, the mobility of holes is small, so the output is regulated by the hole current value, and the hole lifetime is τ and the film thickness is L.
It is necessary to satisfy the relationship L≦Eμτ, and in this example, μ=10 −3 to 10 −2 cm 2 /V·sec τ=10 −6 sec L=Iμm.
したがつて、E=104〜105V/cmに相当する電
界を印加すればよい。 Therefore, it is sufficient to apply an electric field corresponding to E=10 4 to 10 5 V/cm.
この電界は、絶縁膜3,3′として1000Å程度
のSi3N4の薄膜を使用し、電荷蓄積時に第1入力
端子9と第1出力端子10の間および第2入力端
子9′と第2出力端子10′の間に、10V程度の振
幅のパルス電圧を印加することにより得ることが
できる。 This electric field is applied between the first input terminal 9 and the first output terminal 10 and between the second input terminal 9' and the second This can be obtained by applying a pulse voltage with an amplitude of about 10 V between the output terminals 10'.
そのほかの領域の製膜およびSi3N4以外の材料
の選定については、従来の水素化アモルフアスシ
リコンを用いた太陽光電池と同様である。 Film formation in other areas and selection of materials other than Si 3 N 4 are the same as in conventional solar cells using hydrogenated amorphous silicon.
なお、この例では、I型半導体層1″aとして
水素化アモルフアスシリコンの弱N型層を用いて
いるが、これに限らず弱P型層を用いてもよい。 In this example, a weak N-type layer of hydrogenated amorphous silicon is used as the I-type semiconductor layer 1''a, but the present invention is not limited thereto, and a weak P-type layer may also be used.
このようにして得た太陽光電池の太陽光照射強
度AMIに対するエネルギ変換効率は、通常の水
素化アモルフアスシリコン太陽光電池の数倍とな
り高いエネルギ変換効率が得られることが確かめ
られた。 It was confirmed that the energy conversion efficiency of the thus obtained solar cell with respect to the sunlight irradiation intensity AMI was several times that of a normal hydrogenated amorphous silicon solar cell, resulting in high energy conversion efficiency.
以上のように、この発明の太陽光電池は、光導
電性薄膜と、前記光導電性薄膜の一面に順次接合
されそれぞれ透光性を有する第1出力電極,第1
絶縁膜および第1入力電極と、前記光導電性薄膜
の他面に順次接合した第2出力電極,第2絶縁膜
および第2入力電極とを備え、前記第1入力電極
と第1出力電極間および前記第2入力電極と第2
出力電極間にそれぞれ互に逆極性のパルス電圧を
印加して前記第1絶縁膜および第2絶縁膜内に互
に逆極性の電荷を蓄積し、この蓄積電荷により前
記光導電性薄膜内に光励起キヤリヤに対する加速
電界を生起させ、前記第1出力電極,第2出力電
極間より起電力を得るようにしたものであるた
め、外部からのパルス電圧の印加により絶縁膜内
に電荷を蓄積して、この蓄積電荷により光導電性
薄膜内に光励起キヤリヤに対する加速電界を付与
し、エネルギ変換効率の大幅な向上をはかること
ができるという効果を有する。 As described above, the solar cell of the present invention includes a photoconductive thin film, a first output electrode that is sequentially bonded to one surface of the photoconductive thin film, and has a light-transmitting property, and a first output electrode that has translucency.
an insulating film, a first input electrode, and a second output electrode, a second insulating film, and a second input electrode sequentially bonded to the other surface of the photoconductive thin film, and between the first input electrode and the first output electrode. and the second input electrode and the second input electrode.
Pulse voltages of opposite polarity are applied between the output electrodes to accumulate charges of opposite polarity in the first insulating film and the second insulating film, and the accumulated charges cause photoexcitation in the photoconductive thin film. Since an accelerating electric field is generated for the carrier and an electromotive force is obtained between the first output electrode and the second output electrode, charges are accumulated in the insulating film by applying a pulse voltage from the outside. This accumulated charge provides an accelerating electric field for photoexcited carriers within the photoconductive thin film, thereby providing the effect of significantly improving energy conversion efficiency.
第1図AおよびBはそれぞれこの発明の第1の
実施例を示す断面図およびこれに対応させたエネ
ルギバンドダイヤグラム、第2図AおよびBはそ
れぞれこの発明の第2の実施例を示す断面図およ
びこれに対応させたエネルギバンドダイヤグラ
ム、第3図AおよびBはそれぞれこの発明の第3
の実施例を示す断面図およびこれに対応させたエ
ネルギバンドダイヤグラムである。
1,1′,1″…光導電性薄膜、1′a…P型半
導体層、1′b…N型半導体層、1′c…I型半導
体層、1″a…I型半導体層、1″b…N型半導体
層、2…第1出力電極、2′…第2出力電極、3
…第1絶縁膜、3′…第2絶縁膜、4…第1パル
ス印加電極(第1入力電極)、4′…第2パルス印
加電極(第2入力電極)、5,6…分極電極、
7,8…光励起キヤリヤ、9…第1入力端子、
9′…第2入力端子、10…第1出力端子、1
0′…第2出力端子、11,11′,11″…伝導
帯エツジ、12,12′,12″…価電子帯エツ
ジ、P1,P2…パルス電圧。
FIGS. 1A and B are sectional views and energy band diagrams corresponding to the first embodiment of the present invention, and FIGS. 2A and B are sectional views of the second embodiment of the invention, respectively. and the corresponding energy band diagrams, FIGS. 3A and 3B, are the third embodiment of this invention.
2 is a cross-sectional view showing an example of the present invention and an energy band diagram corresponding to the cross-sectional view. 1, 1', 1''...Photoconductive thin film, 1'a...P type semiconductor layer, 1'b...N type semiconductor layer, 1'c...I type semiconductor layer, 1''a...I type semiconductor layer, 1 "b... N-type semiconductor layer, 2... First output electrode, 2'... Second output electrode, 3
...first insulating film, 3'...second insulating film, 4...first pulse application electrode (first input electrode), 4'...second pulse application electrode (second input electrode), 5, 6...polarization electrode,
7, 8... Optical excitation carrier, 9... First input terminal,
9'...Second input terminal, 10...First output terminal, 1
0'...Second output terminal, 11, 11', 11''...Conduction band edge, 12, 12', 12''...Valence band edge, P1 , P2 ...Pulse voltage.
Claims (1)
順次接合されそれぞれ透光性を有する第1出力電
極,第1絶縁膜および第1入力電極と、前記光導
電性薄膜の他面に順次接合した第2出力電極,第
2絶縁膜および第2入力電極とを備え、前記第1
入力電極と第1出力電極間および前記第2入力電
極と第2出力電極間にそれぞれ互に逆極性のパル
ス電圧を印加して前記第1絶縁膜および第2絶縁
膜内に互に逆極性の電荷を蓄積し、この蓄積電荷
により前記光導電性薄膜内に光励起キヤリヤに対
する加速電界を生起させ、前記第1出力電極,第
2出力電極間より起電力を得るようにした太陽光
電池。 2 前記光導電性薄膜は、前記第1出力電極の接
合面側をP型半導体層としたPIN構造である特許
請求の範囲第1項記載の太陽光電池。 3 前記光導電性薄膜は、前記第1出力電極の接
合面側をI型半導体層としたIN構造であり、か
つ前記第1出力電極と前記I型半導体層とがシヨ
ツトキ接合を形成するものである特許請求の範囲
第1項記載の太陽光電池。[Scope of Claims] 1. A photoconductive thin film, a first output electrode, a first insulating film, and a first input electrode that are sequentially bonded to one surface of the photoconductive thin film and each have a translucent property; a second output electrode, a second insulating film, and a second input electrode sequentially bonded to the other surface of the thin film;
Pulse voltages of opposite polarity are applied between the input electrode and the first output electrode and between the second input electrode and the second output electrode, respectively, to create a voltage of opposite polarity in the first insulating film and the second insulating film. A solar cell which accumulates electric charges, generates an accelerating electric field for a photoexcited carrier in the photoconductive thin film by the accumulated electric charges, and obtains an electromotive force between the first output electrode and the second output electrode. 2. The solar cell according to claim 1, wherein the photoconductive thin film has a PIN structure in which the bonding surface side of the first output electrode is a P-type semiconductor layer. 3. The photoconductive thin film has an IN structure in which the bonding surface side of the first output electrode is an I-type semiconductor layer, and the first output electrode and the I-type semiconductor layer form a shot junction. A solar cell according to claim 1.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56198937A JPS5898987A (en) | 1981-12-08 | 1981-12-08 | solar cell |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56198937A JPS5898987A (en) | 1981-12-08 | 1981-12-08 | solar cell |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5898987A JPS5898987A (en) | 1983-06-13 |
| JPS6233757B2 true JPS6233757B2 (en) | 1987-07-22 |
Family
ID=16399444
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP56198937A Granted JPS5898987A (en) | 1981-12-08 | 1981-12-08 | solar cell |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5898987A (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02243129A (en) * | 1989-03-17 | 1990-09-27 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | floor polishing machine |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| US5215599A (en) * | 1991-05-03 | 1993-06-01 | Electric Power Research Institute | Advanced solar cell |
| US9006931B2 (en) * | 2009-12-02 | 2015-04-14 | Versatilis Llc | Static-electrical-field-enhanced semiconductor-based devices and methods of enhancing semiconductor-based device performance |
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-
1981
- 1981-12-08 JP JP56198937A patent/JPS5898987A/en active Granted
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| JPH02243129A (en) * | 1989-03-17 | 1990-09-27 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | floor polishing machine |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5898987A (en) | 1983-06-13 |
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