JPS6234440Y2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPS6234440Y2 JPS6234440Y2 JP1982045003U JP4500382U JPS6234440Y2 JP S6234440 Y2 JPS6234440 Y2 JP S6234440Y2 JP 1982045003 U JP1982045003 U JP 1982045003U JP 4500382 U JP4500382 U JP 4500382U JP S6234440 Y2 JPS6234440 Y2 JP S6234440Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- liquid
- substrate
- transport path
- transport
- conveyance path
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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Landscapes
- Pusher Or Impeller Conveyors (AREA)
- Delivering By Means Of Belts And Rollers (AREA)
- Feeding Of Articles By Means Other Than Belts Or Rollers (AREA)
- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
(1) 考案の技術分野
本考案はホトマスク基板、半導体ウエハー等を
液体を搬送媒体とし洗浄しつつ搬送する基板の液
体搬送装置に関する。
液体を搬送媒体とし洗浄しつつ搬送する基板の液
体搬送装置に関する。
(2) 技術の背景
ホトマスクや半導体ウエハーの製造を自動化す
るにあたつて、それら基板に液体を噴射して搬送
する装置が提案されている。この搬送装置によれ
ばエツチング等の後において洗浄しつつ搬送でき
るという点で自動搬送装置として適している。
るにあたつて、それら基板に液体を噴射して搬送
する装置が提案されている。この搬送装置によれ
ばエツチング等の後において洗浄しつつ搬送でき
るという点で自動搬送装置として適している。
(3) 従来技術と問題点
しかしながら上記の様な液体搬送では、傾斜し
た搬送路に多数のノズルから噴射させた液体を流
し、その液体の上又は中にて基板を洗浄しつつ搬
送しているが、搬送路の下の方においては、上側
から洗浄に使用された液体が流れてくるので、洗
浄効果が低下するという問題がある。特に基板を
上側から下側に搬送する場合には、基板の進行方
向に向つて液体の汚染度が大となり、洗浄工程と
しては好ましくない。
た搬送路に多数のノズルから噴射させた液体を流
し、その液体の上又は中にて基板を洗浄しつつ搬
送しているが、搬送路の下の方においては、上側
から洗浄に使用された液体が流れてくるので、洗
浄効果が低下するという問題がある。特に基板を
上側から下側に搬送する場合には、基板の進行方
向に向つて液体の汚染度が大となり、洗浄工程と
しては好ましくない。
(4) 考案の目的
本考案は上記問題に鑑み、洗浄効果を上げた液
体搬送装置を提供することにある。
体搬送装置を提供することにある。
(5) 考案の構成
本考案の液体搬送装置は、所定の傾斜を有する
溝状の搬送路２と、該搬送路の底面に設けられ該
搬送路上を移動する基板１の下面に液体を噴射す
る複数のノズル３を具備し、さらに該搬送路の下
側より上側に向つて該基板を押し上げる押上げ機
構５を具備することを特徴とする。
溝状の搬送路２と、該搬送路の底面に設けられ該
搬送路上を移動する基板１の下面に液体を噴射す
る複数のノズル３を具備し、さらに該搬送路の下
側より上側に向つて該基板を押し上げる押上げ機
構５を具備することを特徴とする。
(6) 考案の実施例
第１図は本考案の一実施例の部分配断斜視図
で、第２図は同断面図である。
で、第２図は同断面図である。
本実施例では、その両傍に側壁４を有する溝状
の搬送路２に、図面の左側から右側に向かつて上
昇するように傾斜がつけられ、搬送路には清浄な
水等の液体が噴射される多数のノズル３が設けら
れている。このノズル３は斜面の上側方向に液体
を噴射するように設けられ、搬送路２上の基板１
の押上げを助長するようになつている。基板１
は、例えばホトマスク等のガラス基板や半導体装
置用のウエハ等で、ノズル３より噴射する液体に
より基板１は浮き上る。基板１は液体の上でも又
第２図の如く中にあつても良い。５は基板１を押
上げる押上げ機構で、ベルト６に固定されプーリ
７の矢印８の如き回転により移動する。
の搬送路２に、図面の左側から右側に向かつて上
昇するように傾斜がつけられ、搬送路には清浄な
水等の液体が噴射される多数のノズル３が設けら
れている。このノズル３は斜面の上側方向に液体
を噴射するように設けられ、搬送路２上の基板１
の押上げを助長するようになつている。基板１
は、例えばホトマスク等のガラス基板や半導体装
置用のウエハ等で、ノズル３より噴射する液体に
より基板１は浮き上る。基板１は液体の上でも又
第２図の如く中にあつても良い。５は基板１を押
上げる押上げ機構で、ベルト６に固定されプーリ
７の矢印８の如き回転により移動する。
搬送路２は傾斜しているため、ノズル３より噴
出する液体は高部より低部に向つて流れ、その流
れに逆らつて基板１が移動するので、洗浄効率が
非常に向上する。さらに、基板１が上側に移動す
るにつれて液体の汚染度が低下していくので、洗
浄工程の後半においてより洗浄な液体が使用さ
れ、前半において他の基板に使用した後の液体を
再利用することになるため、洗浄効率は理想的な
ものとなる。
出する液体は高部より低部に向つて流れ、その流
れに逆らつて基板１が移動するので、洗浄効率が
非常に向上する。さらに、基板１が上側に移動す
るにつれて液体の汚染度が低下していくので、洗
浄工程の後半においてより洗浄な液体が使用さ
れ、前半において他の基板に使用した後の液体を
再利用することになるため、洗浄効率は理想的な
ものとなる。
さらに本実施例では、搬送路２の最後端部に
て、移動してきた基板１を保持し液体中より引き
上げるホルダ９と、その引き上げに伴い液体をき
るためのエアシヤワー１０とを具備する。こうす
ることにより効率よく乾燥させることができる。
て、移動してきた基板１を保持し液体中より引き
上げるホルダ９と、その引き上げに伴い液体をき
るためのエアシヤワー１０とを具備する。こうす
ることにより効率よく乾燥させることができる。
なお押上げ機構として本実施例では図中５の如
く直接基板を押上げる構成をとつたが、他の手段
としては、水或いはN2ガス等を浮上させた基板
１の後から噴き付け、その噴き付けノズルを移動
するようにすることもできる。こうすることによ
り、非接触で基板を搬送することができるので、
接触による汚染の機会が少なくなり洗浄効率がよ
り一層向上する、という効果がある。
く直接基板を押上げる構成をとつたが、他の手段
としては、水或いはN2ガス等を浮上させた基板
１の後から噴き付け、その噴き付けノズルを移動
するようにすることもできる。こうすることによ
り、非接触で基板を搬送することができるので、
接触による汚染の機会が少なくなり洗浄効率がよ
り一層向上する、という効果がある。
(7) 考案の効果
以上説明した様に本考案によれば洗染効率の高
い液体搬送路を提供することができる。
い液体搬送路を提供することができる。
第１図は本考案の一実施例を示す部分断面斜視
図、第２図は同断面図である。 図中、１は基板、２は搬送路、３はノズル、５
は押上げ機構である。
図、第２図は同断面図である。 図中、１は基板、２は搬送路、３はノズル、５
は押上げ機構である。
Claims (1)
- 所定の傾斜を有する溝状の搬送路と、該搬送路
の底面に設けられ該搬送路上を移動する基板の下
面に液体を噴射し該基板を浮上させる複数のノズ
ルを具備し、さらに、浮上させた基板を前記の搬
送路を流れる液体の流れに逆らつて該搬送路の下
側より上側に向かつて押し上げる押し上げ機構を
具備することを特徴とする基板の液体搬送装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4500382U JPS58147246U (ja) | 1982-03-30 | 1982-03-30 | 基板の液体搬送装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4500382U JPS58147246U (ja) | 1982-03-30 | 1982-03-30 | 基板の液体搬送装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58147246U JPS58147246U (ja) | 1983-10-03 |
| JPS6234440Y2 true JPS6234440Y2 (ja) | 1987-09-02 |
Family
ID=30056044
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4500382U Granted JPS58147246U (ja) | 1982-03-30 | 1982-03-30 | 基板の液体搬送装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58147246U (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH079897B2 (ja) * | 1988-05-17 | 1995-02-01 | 信越半導体株式会社 | ウェーハ自動洗浄装置 |
| JP2504916B2 (ja) * | 1993-09-20 | 1996-06-05 | 株式会社芝浦製作所 | 基板洗浄装置 |
| JP4510241B2 (ja) * | 2000-06-30 | 2010-07-21 | 不二越機械工業株式会社 | ウェーハの収納装置 |
| JP4594241B2 (ja) * | 2006-01-06 | 2010-12-08 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板搬送装置、基板搬送方法及びコンピュータプログラム |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5285461A (en) * | 1976-01-09 | 1977-07-15 | Hitachi Ltd | Continuous treating apparatus for plate form objects |
| JPS5588888A (en) * | 1978-12-27 | 1980-07-04 | Hitachi Ltd | Treating device |
-
1982
- 1982-03-30 JP JP4500382U patent/JPS58147246U/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS58147246U (ja) | 1983-10-03 |
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