JPS6235214B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPS6235214B2 JPS6235214B2 JP3620879A JP3620879A JPS6235214B2 JP S6235214 B2 JPS6235214 B2 JP S6235214B2 JP 3620879 A JP3620879 A JP 3620879A JP 3620879 A JP3620879 A JP 3620879A JP S6235214 B2 JPS6235214 B2 JP S6235214B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- fuse element
- weight
- temperature
- present
- fuse
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
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Description
産業上の利用分野
本発明はヒユーズエレメントに関し、特に温度
特性と溶断特性を改善したフイラメント型ヒユー
ズエレメントに関する。 従来技術及びその問題点 従来のポリアクリロニトリル系のフイラメント
の単糸表面に化学メツキ、あるいは化学メツキ
後、電解メツキを施した導電性フイラメント型ヒ
ユーズは公知である。しかし、この種のヒユーズ
の欠点の一つは、ヒユーズエレメントの金属被膜
が比較的低温で溶融する点にある。これは単糸表
面の金属被膜の溶融温度が支持体であるアクリロ
ニトリル樹脂の軟化温度(125℃又はそれ以下)
によつて制約される為である。実際上、周囲温度
がヒユーズエレメントとして使われる金属の物性
に大なり小なりの影響を及ぼすことは避けられな
いが、溶融点が比較的高い金属ほどヒユーズとし
て周囲温度に影響される割合が少なくヒユーズ材
料として性能を安定させる。 一般的に金属の物性が変化する再結晶温度
(T)は金属の融点にほぼ比例して高くなり、そ
してこの温度(T)が周囲温度よりはるかに高い
程、周囲温度からの影響を受けることが少ないか
らである。このように考えると、ヒユーズエレメ
ントとしては、銀又は銀合金が、比較的融点も高
く周囲温度の影響を受けにくく、その他、いくつ
かのヒユーズとしての周知の優れた特性を有する
ため、使用上望ましい金属である。 しかし従来の銀又は銀合金被膜には温度特性が
不安定であり、そのため溶断特性にもバラツキが
でるという欠点がある。 本発明は、上述の問題点に鑑み、温度特性およ
び溶断特性に優れかつ経年使用に耐えるヒユーズ
エレメントを提供するものである。 問題点を解決するための手段 本発明によるヒユーズエレメントは、石英ガラ
スフアイバの単糸を基体とし、該基体外周に
Ag、Cu、Sn及びSbからなりそれぞれの含有率が
70乃至73重量%、22乃至24重量%、2乃至4重量
%及び1乃至3重量%である銀合金被膜を形成し
てなることを特徴とする。本発明にしたがつて特
定含有率のSbを含む銀合金被膜は従来の銀合金
被膜に比して格段に安定した温度特性と溶断特性
をもたらす。典型的には、上記銀合金被膜は、
Ag72.3重量%、Cu23.2重量%、Sn2.7重量%及び
Sb1.8重量%からなる。本発明のヒユーズエレメ
ントは、特に1mA−250mAの低容量電流を定
格とする電気機器に使用される。 本発明によるヒユーズエレメントの特性上の第
一の特色としては経年の使用に対して安定してい
ることである。これは本発明によるヒユーズエレ
メントの融点及び再結晶温度がそれぞれ872℃及
び245℃と非常に高いことによる。これらの温度
は低融点金属よりも高い。事実、金属の再結晶温
度は大体において融点に比例する。実際、150℃
又はそれ以下で溶融する低融点金属の再結晶温度
は20℃又はそれ以下であるが、この20℃という温
度は充分に通常周囲温度の範囲内である。だか
ら、低融点(150℃)の金属でできたヒユーズエ
レメントでは再結晶効果は室温においても起るか
もしれない。このように低温において再結晶が起
ることは望ましくない。なぜならば、それにより
金属の物性を変化させ、本来意図したものとは異
なる溶断特性をもたらすことになる。このような
ことはヒユーズとして決定的な欠点である。しか
るに、本発明によるヒユーズエレメントはヒユー
ズが使用される時の温度サイクル、或は245℃と
いう周囲温度よりはるかに高い温度で長い時間使
用されてもその物性により大きな安定性を維持し
得るものである。 本発明の第二の特色は、ヒユーズエレメントの
低過負荷時に於ての溶断特性が安定していること
である。これは金属被膜の成分に3%またはそれ
以下(好適には約2%)の割合で添加されたSb
がヒユーズエレメントの温度係数を引下げて低過
負荷時に於ける溶断に周囲温度が及ぼす影響を減
少させ、溶断時間のバラツキを少なくさせる。 本発明の第三の特色は、ヒユーズエレメントの
基体となる石英ガラス繊維の耐熱性が大きいこと
である。それは1000℃又はそれ以下の連続使用に
耐え、温度1500℃においても、4.6x107ポアズ
(poise)の粘度を維持している。これは本発明に
よるヒユーズエレメントの銀合金の融点875℃に
比しなお相当の余裕を残す高温である。従つて、
基体の融点がその表面に施された金属皮膜の融点
より低い樹脂性の基体とは異なり、本発明のヒユ
ーズエレメントでは溶断は専ら銀合金被膜の特性
により行われ、石英ガラスフアイバ製の基体の温
度により影響を受けることはなく、遮断が完了す
る。本発明の第四の特色は、ヒユーズエレメント
が極めて正確で優れた溶断特性を有する点にあ
る。
特性と溶断特性を改善したフイラメント型ヒユー
ズエレメントに関する。 従来技術及びその問題点 従来のポリアクリロニトリル系のフイラメント
の単糸表面に化学メツキ、あるいは化学メツキ
後、電解メツキを施した導電性フイラメント型ヒ
ユーズは公知である。しかし、この種のヒユーズ
の欠点の一つは、ヒユーズエレメントの金属被膜
が比較的低温で溶融する点にある。これは単糸表
面の金属被膜の溶融温度が支持体であるアクリロ
ニトリル樹脂の軟化温度(125℃又はそれ以下)
によつて制約される為である。実際上、周囲温度
がヒユーズエレメントとして使われる金属の物性
に大なり小なりの影響を及ぼすことは避けられな
いが、溶融点が比較的高い金属ほどヒユーズとし
て周囲温度に影響される割合が少なくヒユーズ材
料として性能を安定させる。 一般的に金属の物性が変化する再結晶温度
(T)は金属の融点にほぼ比例して高くなり、そ
してこの温度(T)が周囲温度よりはるかに高い
程、周囲温度からの影響を受けることが少ないか
らである。このように考えると、ヒユーズエレメ
ントとしては、銀又は銀合金が、比較的融点も高
く周囲温度の影響を受けにくく、その他、いくつ
かのヒユーズとしての周知の優れた特性を有する
ため、使用上望ましい金属である。 しかし従来の銀又は銀合金被膜には温度特性が
不安定であり、そのため溶断特性にもバラツキが
でるという欠点がある。 本発明は、上述の問題点に鑑み、温度特性およ
び溶断特性に優れかつ経年使用に耐えるヒユーズ
エレメントを提供するものである。 問題点を解決するための手段 本発明によるヒユーズエレメントは、石英ガラ
スフアイバの単糸を基体とし、該基体外周に
Ag、Cu、Sn及びSbからなりそれぞれの含有率が
70乃至73重量%、22乃至24重量%、2乃至4重量
%及び1乃至3重量%である銀合金被膜を形成し
てなることを特徴とする。本発明にしたがつて特
定含有率のSbを含む銀合金被膜は従来の銀合金
被膜に比して格段に安定した温度特性と溶断特性
をもたらす。典型的には、上記銀合金被膜は、
Ag72.3重量%、Cu23.2重量%、Sn2.7重量%及び
Sb1.8重量%からなる。本発明のヒユーズエレメ
ントは、特に1mA−250mAの低容量電流を定
格とする電気機器に使用される。 本発明によるヒユーズエレメントの特性上の第
一の特色としては経年の使用に対して安定してい
ることである。これは本発明によるヒユーズエレ
メントの融点及び再結晶温度がそれぞれ872℃及
び245℃と非常に高いことによる。これらの温度
は低融点金属よりも高い。事実、金属の再結晶温
度は大体において融点に比例する。実際、150℃
又はそれ以下で溶融する低融点金属の再結晶温度
は20℃又はそれ以下であるが、この20℃という温
度は充分に通常周囲温度の範囲内である。だか
ら、低融点(150℃)の金属でできたヒユーズエ
レメントでは再結晶効果は室温においても起るか
もしれない。このように低温において再結晶が起
ることは望ましくない。なぜならば、それにより
金属の物性を変化させ、本来意図したものとは異
なる溶断特性をもたらすことになる。このような
ことはヒユーズとして決定的な欠点である。しか
るに、本発明によるヒユーズエレメントはヒユー
ズが使用される時の温度サイクル、或は245℃と
いう周囲温度よりはるかに高い温度で長い時間使
用されてもその物性により大きな安定性を維持し
得るものである。 本発明の第二の特色は、ヒユーズエレメントの
低過負荷時に於ての溶断特性が安定していること
である。これは金属被膜の成分に3%またはそれ
以下(好適には約2%)の割合で添加されたSb
がヒユーズエレメントの温度係数を引下げて低過
負荷時に於ける溶断に周囲温度が及ぼす影響を減
少させ、溶断時間のバラツキを少なくさせる。 本発明の第三の特色は、ヒユーズエレメントの
基体となる石英ガラス繊維の耐熱性が大きいこと
である。それは1000℃又はそれ以下の連続使用に
耐え、温度1500℃においても、4.6x107ポアズ
(poise)の粘度を維持している。これは本発明に
よるヒユーズエレメントの銀合金の融点875℃に
比しなお相当の余裕を残す高温である。従つて、
基体の融点がその表面に施された金属皮膜の融点
より低い樹脂性の基体とは異なり、本発明のヒユ
ーズエレメントでは溶断は専ら銀合金被膜の特性
により行われ、石英ガラスフアイバ製の基体の温
度により影響を受けることはなく、遮断が完了す
る。本発明の第四の特色は、ヒユーズエレメント
が極めて正確で優れた溶断特性を有する点にあ
る。
【表】
第一表に示す如く、ヒユーズエレメントの支持
体を構成するガラスフアイバは、樹脂材料(5−
20x10-5deg-1)や金属材料(4〜60x10-6deg-1)よ
りも熱膨張係数がはるかに小さいのでジユール熱
発生による熱膨張は電流が流れる時にもほとんど
起らない。従つて極めて正確な溶断特性が期待さ
れる。(事実、どのヒユーズエレメントでも構造
的に導電性端子の両端間に結ばれ固定されている
ので、通電時にジユール熱の発生によりヒユーズ
エレメントは線膨張してたるみを作る。一般に、
ヒユーズエレメントは容器内に格納されているの
で、上記のようにたるみを作つた部分は容器の内
壁の方に近づき、或は内壁に接触することすら起
る。これは、発生したジユール熱を伝導すること
により溶断時間のバラツキを起す原因の一つであ
る。) 実施例 本発明のヒユーズエレメントの実施例を図面に
より説明する。 第1図において横軸は温度変化(℃)を縦軸は
抵抗温度変化(%)を示す。 第1図の線1,2,3,4,5は銀合金被膜
(その組成は、Agの含有率が70乃至73重量%、
Cuの含有率が22乃至24重量%、Soの含有率が2
乃至4重量%.Sbの含有率が0乃至6重量%で
ある)において、Sbの含有率がそれぞれ1重量
%、2重量%、3重量%、6重量%、0重量%の
場合の抵抗温度係数特性を示したもので、図から
明らかなように、Sbの含有率が1重量%では−
75ppm/℃、2重量%では−150ppm/℃、3重
量%でも−300ppm/℃にすぎなく、従来の銀合
金被膜(Sbを含まない、すなわち含有率が0重
量%であるときの特性線図5)の−2000ppm/
℃Cと比較して顕著な差(改善)である。(ここ
で、ppmは100万分の1(10-6)を意味する。)こ
のことは、ヒユーズエレメントの温度特性が極め
て安定していることを示す。即ち周囲温度の変化
に対して抵抗値が安定し、従つて溶断特性が安定
することを示している。 なお第1図から判るように、Sbの含有率が3
重量%を越えると、例えば6重量%では、抵抗温
度係数が比較的大きくなつて実用的な改善が得ら
れない。 第2図は、本発明によるヒユーズエレメントと
従来技術によるヒユーズエレメントとの温度特性
の差を示す。横軸は周囲温度変化(℃)を、縦軸
は定格電流値の変化(%)を示す。 図の6は従来技術によるヒユーズエレメント
(即ち、ポリアクリロニトリル系、ポリエステル
系、又はポリエチレン系等の絶縁性樹脂製の基体
の上にAgとCuとの合金(その組成は、Agの含有
率が72重量%、Cuの含有率が28重量%である)
製の被膜をしたもの)の温度特性を示し、図の7
は本発明のヒユーズエレメントの温度特性を示
す。直径80ミクロン(μm)の石英ガラスフアイ
バ単糸製の支持体の上に厚さ1μmの銀合金皮膜
(この実施例では、Ag72.3重量%、Cu23.2重量
%、Sn2.7重量%及びSb1.8重量%)を施したヒユ
ーズエレメントを使つたテストにおいて63mAの
定格電流値を得た。この図に示されているように
6(従来技術のヒユーズエレメント)は周囲温度
150℃において最大限70%の変化を受けるが、7
(本発明によるヒユーズエレメント)は5%程度
の変化しか受けない。これは、本発明によるヒユ
ーズエレメントが絶縁性基体に石英ガラス単糸体
を使用していることと、上記のような組成の銀合
金被膜を施したヒユーズエレメントを使用してい
ることとの複合効果であるが、第1図に示したよ
うにSbを添加したことによる影響が大きいこと
から、この第2図に示した効果の主役はヒユーズ
エレメントに施した金属材料であると考えられ
る。 第3図は、横軸に溶断時間(秒)を縦軸に定格
電流に対する変化(%)を示した図で、8は従来
技術によるヒユーズエレメント(その金属材料は
上記第2図の説明に於けるものと同じ組成の銀合
金である)、9は本発明による銀合金被膜(この
実施例ではAg72.3重量%、Cu23.2重量%、Sn2.7
重量%及びSb1.8重量%)を施したヒユーズエレ
メントの溶断特性である。従来技術によるヒユー
ズエレメントが、ある場合には8、他の場合には
8′のカーブを示すのに対して、本発明によるヒ
ユーズエレメントでは9と9′のような狭い幅の
範囲を維持している。これは本発明のヒユーズエ
レメントの溶断特性がバラツキが少ないことを表
している。 発明の効果 以上の如く、本発明によるヒユーズエレメント
は、温度特性と溶断特性に優れ、その上、長時間
使用に耐えることができる。
体を構成するガラスフアイバは、樹脂材料(5−
20x10-5deg-1)や金属材料(4〜60x10-6deg-1)よ
りも熱膨張係数がはるかに小さいのでジユール熱
発生による熱膨張は電流が流れる時にもほとんど
起らない。従つて極めて正確な溶断特性が期待さ
れる。(事実、どのヒユーズエレメントでも構造
的に導電性端子の両端間に結ばれ固定されている
ので、通電時にジユール熱の発生によりヒユーズ
エレメントは線膨張してたるみを作る。一般に、
ヒユーズエレメントは容器内に格納されているの
で、上記のようにたるみを作つた部分は容器の内
壁の方に近づき、或は内壁に接触することすら起
る。これは、発生したジユール熱を伝導すること
により溶断時間のバラツキを起す原因の一つであ
る。) 実施例 本発明のヒユーズエレメントの実施例を図面に
より説明する。 第1図において横軸は温度変化(℃)を縦軸は
抵抗温度変化(%)を示す。 第1図の線1,2,3,4,5は銀合金被膜
(その組成は、Agの含有率が70乃至73重量%、
Cuの含有率が22乃至24重量%、Soの含有率が2
乃至4重量%.Sbの含有率が0乃至6重量%で
ある)において、Sbの含有率がそれぞれ1重量
%、2重量%、3重量%、6重量%、0重量%の
場合の抵抗温度係数特性を示したもので、図から
明らかなように、Sbの含有率が1重量%では−
75ppm/℃、2重量%では−150ppm/℃、3重
量%でも−300ppm/℃にすぎなく、従来の銀合
金被膜(Sbを含まない、すなわち含有率が0重
量%であるときの特性線図5)の−2000ppm/
℃Cと比較して顕著な差(改善)である。(ここ
で、ppmは100万分の1(10-6)を意味する。)こ
のことは、ヒユーズエレメントの温度特性が極め
て安定していることを示す。即ち周囲温度の変化
に対して抵抗値が安定し、従つて溶断特性が安定
することを示している。 なお第1図から判るように、Sbの含有率が3
重量%を越えると、例えば6重量%では、抵抗温
度係数が比較的大きくなつて実用的な改善が得ら
れない。 第2図は、本発明によるヒユーズエレメントと
従来技術によるヒユーズエレメントとの温度特性
の差を示す。横軸は周囲温度変化(℃)を、縦軸
は定格電流値の変化(%)を示す。 図の6は従来技術によるヒユーズエレメント
(即ち、ポリアクリロニトリル系、ポリエステル
系、又はポリエチレン系等の絶縁性樹脂製の基体
の上にAgとCuとの合金(その組成は、Agの含有
率が72重量%、Cuの含有率が28重量%である)
製の被膜をしたもの)の温度特性を示し、図の7
は本発明のヒユーズエレメントの温度特性を示
す。直径80ミクロン(μm)の石英ガラスフアイ
バ単糸製の支持体の上に厚さ1μmの銀合金皮膜
(この実施例では、Ag72.3重量%、Cu23.2重量
%、Sn2.7重量%及びSb1.8重量%)を施したヒユ
ーズエレメントを使つたテストにおいて63mAの
定格電流値を得た。この図に示されているように
6(従来技術のヒユーズエレメント)は周囲温度
150℃において最大限70%の変化を受けるが、7
(本発明によるヒユーズエレメント)は5%程度
の変化しか受けない。これは、本発明によるヒユ
ーズエレメントが絶縁性基体に石英ガラス単糸体
を使用していることと、上記のような組成の銀合
金被膜を施したヒユーズエレメントを使用してい
ることとの複合効果であるが、第1図に示したよ
うにSbを添加したことによる影響が大きいこと
から、この第2図に示した効果の主役はヒユーズ
エレメントに施した金属材料であると考えられ
る。 第3図は、横軸に溶断時間(秒)を縦軸に定格
電流に対する変化(%)を示した図で、8は従来
技術によるヒユーズエレメント(その金属材料は
上記第2図の説明に於けるものと同じ組成の銀合
金である)、9は本発明による銀合金被膜(この
実施例ではAg72.3重量%、Cu23.2重量%、Sn2.7
重量%及びSb1.8重量%)を施したヒユーズエレ
メントの溶断特性である。従来技術によるヒユー
ズエレメントが、ある場合には8、他の場合には
8′のカーブを示すのに対して、本発明によるヒ
ユーズエレメントでは9と9′のような狭い幅の
範囲を維持している。これは本発明のヒユーズエ
レメントの溶断特性がバラツキが少ないことを表
している。 発明の効果 以上の如く、本発明によるヒユーズエレメント
は、温度特性と溶断特性に優れ、その上、長時間
使用に耐えることができる。
第1図は、銀合金被膜に添加されたSbが抵抗
温度変化にどのような影響を与えるかを示す図で
あり、第2図は、本発明のヒユーズエレメントの
温度特性を示す図であり、第3図は、本発明のヒ
ユーズエレメントの溶断特性を示す図である。 1,2,3,4,5……銀合金皮膜に添加され
たSbの含有率が1重量%、2重量%、3重量
%、6重量%、0重量%のもの、6,8,8′…
…従来技術によるヒユーズエレメント、7,9,
9′……本発明のヒユーズエレメント。
温度変化にどのような影響を与えるかを示す図で
あり、第2図は、本発明のヒユーズエレメントの
温度特性を示す図であり、第3図は、本発明のヒ
ユーズエレメントの溶断特性を示す図である。 1,2,3,4,5……銀合金皮膜に添加され
たSbの含有率が1重量%、2重量%、3重量
%、6重量%、0重量%のもの、6,8,8′…
…従来技術によるヒユーズエレメント、7,9,
9′……本発明のヒユーズエレメント。
Claims (1)
- 1 石英ガラスフアイバの単糸を基体とし、該基
体外周にAg、Cu、Sn及びSbからなりそれぞれの
含有率が70乃至73重量%、22乃至24重量%、2乃
至4重量%である銀合金皮膜を形成してなるヒユ
ーズエレメント。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3620879A JPS55130036A (en) | 1979-03-29 | 1979-03-29 | Fuse element |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3620879A JPS55130036A (en) | 1979-03-29 | 1979-03-29 | Fuse element |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS55130036A JPS55130036A (en) | 1980-10-08 |
| JPS6235214B2 true JPS6235214B2 (ja) | 1987-07-31 |
Family
ID=12463317
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3620879A Granted JPS55130036A (en) | 1979-03-29 | 1979-03-29 | Fuse element |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS55130036A (ja) |
-
1979
- 1979-03-29 JP JP3620879A patent/JPS55130036A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS55130036A (en) | 1980-10-08 |
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