JPS6235469B2 - - Google Patents
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- JPS6235469B2 JPS6235469B2 JP19003582A JP19003582A JPS6235469B2 JP S6235469 B2 JPS6235469 B2 JP S6235469B2 JP 19003582 A JP19003582 A JP 19003582A JP 19003582 A JP19003582 A JP 19003582A JP S6235469 B2 JPS6235469 B2 JP S6235469B2
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- coil
- bottom chamber
- base plate
- temperature
- furnace body
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C21—METALLURGY OF IRON
- C21D—MODIFYING THE PHYSICAL STRUCTURE OF FERROUS METALS; GENERAL DEVICES FOR HEAT TREATMENT OF FERROUS OR NON-FERROUS METALS OR ALLOYS; MAKING METAL MALLEABLE, e.g. BY DECARBURISATION OR TEMPERING
- C21D9/00—Heat treatment, e.g. annealing, hardening, quenching or tempering, adapted for particular articles; Furnaces therefor
- C21D9/52—Heat treatment, e.g. annealing, hardening, quenching or tempering, adapted for particular articles; Furnaces therefor for wires; for strips ; for rods of unlimited length
- C21D9/54—Furnaces for treating strips or wire
- C21D9/663—Bell-type furnaces
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C21—METALLURGY OF IRON
- C21D—MODIFYING THE PHYSICAL STRUCTURE OF FERROUS METALS; GENERAL DEVICES FOR HEAT TREATMENT OF FERROUS OR NON-FERROUS METALS OR ALLOYS; MAKING METAL MALLEABLE, e.g. BY DECARBURISATION OR TEMPERING
- C21D2281/00—Making use of special physico-chemical means
- C21D2281/02—Making use of special physico-chemical means temperature gradient
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- Organic Chemistry (AREA)
- Heat Treatment Of Strip Materials And Filament Materials (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は金属コイルのバツチ焼鈍装置、特に
金属コイルの幅または長さ方向にわたる各部位が
特定の温度勾配で特定温度域を通過するようにし
て金属コイルを加熱するバツチ焼鈍装置に関す
る。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a batch annealing apparatus for metal coils, and particularly to a batch annealing apparatus for heating metal coils such that each part of the metal coil in the width or length direction passes through a specific temperature range with a specific temperature gradient. Regarding an annealing device.
従来、一般に用いられる金属コイルの焼鈍炉は
金属コイルをベースプレート上に載せ、金属コイ
ルを静止させた状態で所定のヒートパターンを与
えて焼鈍していた。たとえば、一方向性電磁鋼板
の製造工程において、最終仕上焼鈍(二次再結晶
焼鈍)は第1図に示すようなバツチ焼鈍炉により
広く行われていた。 Conventionally, in a commonly used annealing furnace for metal coils, the metal coil is placed on a base plate, and the metal coil is held stationary while being annealed by applying a predetermined heat pattern. For example, in the manufacturing process of unidirectional electrical steel sheets, final annealing (secondary recrystallization annealing) has been widely performed in a batch annealing furnace as shown in FIG.
すなわち、第1図に示すように電磁鋼板コイル
Cをコイル軸を垂直にしてベースプレート3上に
載置し、インナカバー2をこれに被ぶせる。そし
て、更にインナカバー2をベル形炉体1により覆
い、インナカバー2内に給気管4によりN2、
AX、H2ガスなどの雰囲気ガスを供給する。そし
て、炉体1内側に取り付けられた電熱ヒーター5
およびベースプレート3下方に配置された電熱ヒ
ーター6によりコイルC全体を同時に、比較的均
一に加熱、昇温する。コイルCを所定温度(1150
〜1200℃)まで昇温し、均熱保持したのち、炉体
1内にこれの頂部に接続された冷却ガス吹込管7
から冷却ガスを吹き込み、所定温度まで冷却し、
焼鈍を完了する。昇温した冷却ガスは冷却装置8
で冷却されたのち再び炉体1内に吹き込まれる。 That is, as shown in FIG. 1, the electromagnetic steel coil C is placed on the base plate 3 with the coil axis perpendicular, and the inner cover 2 is placed over it. Then, the inner cover 2 is further covered with the bell-shaped furnace body 1, and N 2 is supplied into the inner cover 2 through the air supply pipe 4.
Supply atmospheric gas such as AX, H2 gas. Then, an electric heater 5 installed inside the furnace body 1
An electric heater 6 disposed below the base plate 3 heats and raises the temperature of the entire coil C at the same time and relatively uniformly. Coil C is heated to a predetermined temperature (1150
After raising the temperature to 1200°C) and maintaining the temperature, a cooling gas blowing pipe 7 connected to the top of the furnace body 1 is inserted into the furnace body 1.
Cooling gas is blown into the tank to cool it to a specified temperature.
Complete annealing. The heated cooling gas is transferred to the cooling device 8.
After being cooled down, it is blown into the furnace body 1 again.
ところで、最近、一方向性電磁鋼板を使用した
変圧器等の電気機器の小型化が重要な問題となり
つつある。これら電気機器の鉄心重量の軽減化の
ためには励磁特性(B8特性)および鉄損特性が
更に改良された一方向性電磁鋼板が必要となつて
来た。 By the way, miniaturization of electrical equipment such as transformers using unidirectional electromagnetic steel sheets has recently become an important issue. In order to reduce the core weight of these electrical devices, unidirectional electrical steel sheets with further improved excitation characteristics ( B8 characteristics) and iron loss characteristics have become necessary.
本出願人が先に出願した熱処理方法(特開昭57
−2839号公報、特開昭57−134519号公報、特開昭
58−100627号公報、特開昭58−1019号公報)は、
一次再結晶領域と二次再結晶領域との境界領域に
おいて電磁鋼板コイルに所定の温度勾配を与えな
がら二次再結晶を進行させる。すなわち、一次再
結晶焼鈍の終つた電磁鋼板コイルの一端から他端
に向つて加熱を進めて行き、コイル全幅にわたり
二次再結晶させる。このとき、930〜1050℃の温
度範囲内において一次再結晶領域と二次再結晶領
域との境界領域に0.5℃/cm以上の温度勾配を与
えるように加熱する。この方法によれば、従来得
られなかつた、画期的に優れたB8特性および鉄
損特性をもつた電磁鋼板を製造できるようになつ
た。 The heat treatment method previously applied for by the present applicant (Japanese Unexamined Patent Publication No. 57
-2839 Publication, JP-A-57-134519, JP-A-Sho
58-100627, Japanese Patent Application Laid-open No. 58-1019),
Secondary recrystallization is progressed while applying a predetermined temperature gradient to the electromagnetic steel sheet coil in the boundary region between the primary recrystallization region and the secondary recrystallization region. That is, heating is continued from one end of the electromagnetic steel sheet coil that has undergone primary recrystallization annealing toward the other end to cause secondary recrystallization over the entire width of the coil. At this time, heating is performed within a temperature range of 930 to 1050°C so as to give a temperature gradient of 0.5°C/cm or more to the boundary area between the primary recrystallization region and the secondary recrystallization region. According to this method, it has become possible to produce an electrical steel sheet with groundbreakingly excellent B8 properties and iron loss properties, which were previously unobtainable.
しかし、従来のバツチ焼鈍炉では前述のように
コイル全体をほぼ均一に加熱しながら昇温して行
く。したがつて、上記境界領域において金属コイ
ルに所要の温度勾配を与えることはできない。 However, in the conventional batch annealing furnace, the temperature is increased while heating the entire coil almost uniformly as described above. Therefore, it is not possible to provide the required temperature gradient to the metal coil in the boundary area.
そこで、この発明は金属コイルの焼鈍におい
て、特定の領域に所定の温度勾配を与えながら金
属コイルを加熱、昇温することができるバツチ焼
鈍装置を提供しようとするものである。 Therefore, an object of the present invention is to provide a batch annealing apparatus that can heat and raise the temperature of a metal coil while applying a predetermined temperature gradient to a specific region during annealing of the metal coil.
この発明のバツチ焼鈍装置ではベル形炉体、ベ
ースプレートおよびインナカバーを備えた装置に
おいて、上方に向つて開口し、内径が金属コイル
の外径よりやや大きく、金属コイルの収納可能な
ボトムチヤンバーが炉体の下方に設けられてい
る。ボトムチヤンバー内にはこれと同軸に、ボト
ムチヤンバー底部から上方に延びる柱状の固定ベ
ースが設けられている。固定ベースは外径が金属
コイルの内径よりやや小さく、ボトムチヤンバー
の開口部に位置する仕切部をもつている。また、
前記ベースプレートは環状をしており、冷却手段
を備えている。そして、ベースプレートはボトム
チヤンバーの底部を貫通し昇降自在な支持部材に
支持されている。支持部材の下端部は昇降駆動装
置に連結されている。 The batch annealing apparatus of the present invention is equipped with a bell-shaped furnace body, a base plate, and an inner cover, and has a bottom chamber that opens upward, has an inner diameter slightly larger than the outer diameter of the metal coil, and can accommodate the metal coil. It is located below the furnace body. A columnar fixed base is provided coaxially within the bottom chamber and extends upward from the bottom of the bottom chamber. The fixed base has an outer diameter slightly smaller than the inner diameter of the metal coil, and has a partition located at the opening of the bottom chamber. Also,
The base plate has an annular shape and is provided with cooling means. The base plate is supported by a support member that passes through the bottom of the bottom chamber and is movable up and down. The lower end of the support member is connected to a lifting drive.
上記のように構成されたバツチ焼鈍装置におい
て、特定の領域で所定の温度勾配を与えながら金
属コイルを加熱するには、まず金属コイルを載置
したベースプレートを下降させて、金属コイルを
ボトムチヤンバー内に収納する。ついで、ベース
プレートを徐々に上昇させる。このとき、金属コ
イルのボトムチヤンバーから上方に突出した部
分、すなわちインナカバー内に入つた部分は上記
加熱手段により加熱され二次再結晶が進む。金属
コイルのボトムチヤンバー内の部分は一次再結晶
のままの状態である。この二次再結晶領域と一次
再結晶領域との境界領域、すなわち金属コイルの
ボトムチヤンバー開口部付近に位置する部分が所
定の温度勾配となるように上記加熱手段、金属コ
イルの上昇速度、さらにこれらに加えてベースプ
レートの冷却手段をそれぞれ調整する。 In the batch annealing apparatus configured as described above, in order to heat the metal coil while giving a predetermined temperature gradient in a specific region, first lower the base plate on which the metal coil is placed, and then move the metal coil into the bottom chamber. Store inside. Then, the base plate is gradually raised. At this time, the portion of the metal coil that protrudes upward from the bottom chamber, that is, the portion that enters the inner cover, is heated by the heating means and secondary recrystallization progresses. The portion within the bottom chamber of the metal coil remains in the state of primary recrystallization. The heating means, the rising speed of the metal coil, and In addition to these, adjust the cooling means for the base plate.
この発明のバツチ焼鈍装置は上記のようにボト
ムチヤンバーを設け、ボトムチヤンバーの内径を
金属コイルの外径よりやや大きくすると共に、外
径が金属コイル内径よりやや小さい仕切部をもつ
た円柱状固定ベースをボトムチヤンバー内に設け
ている。したがつて、ボトムチヤンバーは高温の
インナカバーとは金属コイルおよび固定ベースの
仕切部によつて仕切られることになるので、ボト
ムチヤンバー内はインナカバー内に比べてかなり
低温に保持することができる。これより、金属コ
イルをボトムチヤンバーからインナカバー内に送
り出すとき、前記境界領域に所要の温度勾配を与
えることができる。 The batch annealing apparatus of the present invention is provided with a bottom chamber as described above, and the inner diameter of the bottom chamber is slightly larger than the outer diameter of the metal coil, and the batch annealing apparatus has a cylindrical shape having a partition portion whose outer diameter is slightly smaller than the inner diameter of the metal coil. A fixed base is provided within the bottom chamber. Therefore, the bottom chamber is separated from the high-temperature inner cover by the metal coil and fixed base partition, so it is possible to maintain the inside of the bottom chamber at a much lower temperature than the inside of the inner cover. can. Thereby, when the metal coil is sent out from the bottom chamber into the inner cover, a required temperature gradient can be given to the boundary area.
また、この発明の装置ではベースプレートに冷
却手段を設けているので、ボトムチヤンバー内に
とどまつている金属コイルの部分を低い温度に保
持することができる。この結果、上記境界領域に
大きな温度勾配を与えることができる。さらに、
冷却を制御することにより温度勾配を所要の値に
調節することもできる。 Furthermore, in the device of the present invention, since the base plate is provided with cooling means, the portion of the metal coil that remains within the bottom chamber can be maintained at a low temperature. As a result, a large temperature gradient can be applied to the boundary area. moreover,
By controlling the cooling, the temperature gradient can also be adjusted to the desired value.
以下、この発明の実施例について説明する。 Examples of the present invention will be described below.
第2図はこの発明のバツチ焼鈍装置の一例を示
す縦断面図である。なお、第2図において第1図
に示す従来装置の部材と同一の部材には同一の参
照符号を付け、以下これら部材の説明は省略す
る。 FIG. 2 is a longitudinal sectional view showing an example of the batch annealing apparatus of the present invention. In FIG. 2, the same members as those of the conventional device shown in FIG. 1 are given the same reference numerals, and the explanation of these members will be omitted below.
ボトムチヤンバー11は上端にフランジ13を
有する円筒状胴体12と底部材14よりなつてお
り、耐火レンガにより構築されている。胴体12
と底部材14とは分解、組立が容易なように分割
されており、両者の間にサンドシール15を設け
てボトムチヤンバー11内への大気の侵入を防い
でいる。また、胴体12内周面には柔軟で弾力性
をもつた断熱材16(たとえばセラミツクフアイ
バーブロツク)で内張りされている。断熱材16
で内張りされた胴体12の内径は金属コイルCの
外径より僅かに小さく、コイルC外周面が断熱材
16に摺動するようにしている。このように構成
されたボトムチヤンバー11はフランジ13にお
いて支柱21により床23上に支持されている。 The bottom chamber 11 consists of a cylindrical body 12 having a flange 13 at the upper end and a bottom member 14, and is constructed of firebrick. fuselage 12
and the bottom member 14 are separated for easy disassembly and assembly, and a sand seal 15 is provided between the two to prevent atmospheric air from entering the bottom chamber 11. Further, the inner peripheral surface of the body 12 is lined with a flexible and elastic heat insulating material 16 (eg, ceramic fiber block). Insulation material 16
The inner diameter of the body 12 lined with is slightly smaller than the outer diameter of the metal coil C, so that the outer peripheral surface of the coil C slides on the heat insulating material 16. The bottom chamber 11 configured in this manner is supported on the floor 23 at the flange 13 by supports 21.
なお、炉体1はフランジ13上に載置され、炉
体1とボトムチヤンバー11との間はサンドシー
ル25および液体シール26により気密が保たれ
る。また、インナカバー2もフランジ13上に載
置され、サンドシール28によりシールされる。 The furnace body 1 is placed on a flange 13, and the space between the furnace body 1 and the bottom chamber 11 is kept airtight by a sand seal 25 and a liquid seal 26. Further, the inner cover 2 is also placed on the flange 13 and sealed with a sand seal 28.
ボトムチヤンバー11内には胴体12と同軸に
して底部材14より上方に突出するようにして円
柱状の固定ベース31が設けられている。固定ベ
ース31は耐火レンガ製であつて、中心に雰囲気
ガス供給孔32が貫通している。固定ベース31
の、ボトムチヤンバー11の開口部17に位置す
る部分は仕切部33となつている。仕切部の外周
面には胴体12内周面に内張りされた断熱材16
と同じ断熱材34が張り付けられている。仕切部
33の外径はコイルCの内径より僅かに小さく、
コイルC内周面が仕切部33外周面を摺動するよ
うになつている。また、仕切部33の上端はボト
ムチヤンバー11の上面と同じ高さに位置してい
る。仕切部33の上、下はそれぞれ若干直径が小
さく、それぞれ第1加熱部35および第2加熱部
37となつている。各加熱部35,37には電熱
ヒーター36,38が取り付けられている。第2
加熱部37の下端から底部材14の間は基部39
であり、上記仕切部33と同径であり、断熱材4
0が張り付けられている。 A cylindrical fixed base 31 is provided within the bottom chamber 11 so as to be coaxial with the body 12 and protrude upward from the bottom member 14. The fixed base 31 is made of firebrick, and has an atmospheric gas supply hole 32 penetrating through the center. Fixed base 31
The portion located at the opening 17 of the bottom chamber 11 serves as a partition portion 33. A heat insulating material 16 lined on the inner circumferential surface of the body 12 is placed on the outer circumferential surface of the partition.
The same heat insulating material 34 is attached. The outer diameter of the partition portion 33 is slightly smaller than the inner diameter of the coil C.
The inner circumferential surface of the coil C slides on the outer circumferential surface of the partition portion 33. Further, the upper end of the partition portion 33 is located at the same height as the upper surface of the bottom chamber 11. The upper and lower parts of the partition part 33 each have a slightly smaller diameter, and serve as a first heating part 35 and a second heating part 37, respectively. Electric heaters 36 and 38 are attached to each heating section 35 and 37. Second
A base 39 is located between the lower end of the heating section 37 and the bottom member 14.
It has the same diameter as the partition part 33, and the heat insulating material 4
0 is pasted.
ベースプレート41は環状をしており、内径は
コイルC内径と等しいか、これよりやや小さく、
外径はコイルC外径と等しいか、これよりやや大
きい。ベースプレート41内部には円周に沿つて
冷却ガス流路42が設けられている。冷却ガス流
路42には冷却ガス供給管45およびこれより円
周方向に180゜離れた位置にある冷却ガス排出管
(第3図に符号46として示す)が連通してい
る。両管45,46はボトムチヤンバー11の底
部材14を貫通し、たわみ管47を介して次に述
べる冷却ガス循環装置51に接続されている。な
お、両管45,46がボトムチヤンバー11の底
部材14を貫通する部分にはダイナミツクベロー
ズ48が取り付けられており、ボトムチヤンバー
11内の気密を図つている。また、両管45,4
6の途中にベローズ49を設け、装置運転中に生
ずる熱膨脹を吸収するようにしている。 The base plate 41 has an annular shape, and the inner diameter is equal to or slightly smaller than the inner diameter of the coil C.
The outer diameter is equal to or slightly larger than the outer diameter of coil C. A cooling gas flow path 42 is provided inside the base plate 41 along the circumference. The cooling gas flow path 42 communicates with a cooling gas supply pipe 45 and a cooling gas discharge pipe (indicated by reference numeral 46 in FIG. 3) located 180 degrees away from the cooling gas supply pipe in the circumferential direction. Both tubes 45 and 46 pass through the bottom member 14 of the bottom chamber 11 and are connected via a flexible tube 47 to a cooling gas circulation device 51, which will be described below. A dynamic bellows 48 is attached to the portion where both the tubes 45 and 46 pass through the bottom member 14 of the bottom chamber 11 to ensure airtightness within the bottom chamber 11. Also, both pipes 45, 4
A bellows 49 is provided in the middle of 6 to absorb thermal expansion that occurs during operation of the device.
第3図は上記冷却ガス循環装置51の系統図で
ある。 FIG. 3 is a system diagram of the cooling gas circulation device 51.
冷却ガス循環装置51は冷却ガス溜52に供給
元弁53および遮断弁54を介してブロアー55
が接続されている。ブロアー55は温度調節弁5
6を介して上記冷却ガス供給管45に接続されて
いる。一方、冷却ガス排出管46は冷却器57を
介してブロアー55入側に接続されている。 A cooling gas circulation device 51 supplies a cooling gas reservoir 52 with a blower 55 via a supply source valve 53 and a cutoff valve 54.
is connected. Blower 55 is temperature control valve 5
6 to the cooling gas supply pipe 45. On the other hand, the cooling gas exhaust pipe 46 is connected to the inlet side of the blower 55 via a cooler 57.
前記ベースプレート41は環状の断熱材61お
よび中間部材63を介して支柱67により支持さ
れている。熱膨脹を吸収するために、中間部材6
3に設けられたピン孔64および支柱67頂部に
設けられたピン孔(図示しない)に挿入されたピ
ン65を介して中間部材63と支柱67とが連結
されている。支柱67の下部はボトムチヤンバー
11の底部材14を貫通している。この貫通部分
にはダイナミツクベローズ69が取り付けられて
おり、ボトムチヤンバー11内の気密を保つてい
る。 The base plate 41 is supported by a support 67 via an annular heat insulator 61 and an intermediate member 63. Intermediate member 6 to absorb thermal expansion
The intermediate member 63 and the support column 67 are connected through a pin hole 64 provided at the top of the support column 67 and a pin 65 inserted into a pin hole (not shown) provided at the top of the support support 67. The lower part of the strut 67 passes through the bottom member 14 of the bottom chamber 11. A dynamic bellows 69 is attached to this penetrating portion to keep the inside of the bottom chamber 11 airtight.
上記支柱67の基部は昇降駆動装置71に連結
されている。昇降駆動装置71は減速機付きモー
ター72およびこれに駆動されるスクリユージヤ
ツキ73を備えている。スクリユージヤツキ73
は垂直に延びる連結棒74を介してガイドバー7
6に連結されている。ガイドバー76の両端は床
23に固定されたガイドポスト77に案内されて
いる。そして、ガイドバー76は前記支柱67の
基部を支持している。 The base of the support column 67 is connected to a lifting drive device 71. The elevating drive device 71 includes a motor 72 with a speed reducer and a screw jack 73 driven by the motor 72. Screw Jatsuki 73
is connected to the guide bar 7 via a vertically extending connecting rod 74.
6. Both ends of the guide bar 76 are guided by guide posts 77 fixed to the floor 23. The guide bar 76 supports the base of the support column 67.
なお、前記ボトムチヤンバー11の底部14に
はパージガス給気管81およびパージガス排気管
82が取り付けられている。 Note that a purge gas supply pipe 81 and a purge gas exhaust pipe 82 are attached to the bottom portion 14 of the bottom chamber 11.
つぎに、以上のように構成されたバツチ焼鈍装
置によりけい素鋼板コイルを二次再結晶焼鈍する
方法について説明する。 Next, a method for secondary recrystallization annealing of a silicon steel sheet coil using the batch annealing apparatus configured as described above will be described.
まず、炉体1およびインナカバー2を取り除い
た状態でベースプレート41を第2図に示す上限
位置にセツトする。そして、ベースプレート41
上に一次再結晶焼鈍を終えた素鋼板コイルCを載
置する。続いて、コイルCをインナカバー2で覆
い、更にインナカバー2を炉体1で覆う。炉体1
内は冷却ガス吹込み管7から、またインナカバー
2内は雰囲気ガス供給孔32からそれぞれN2ガ
スを供給し、これらの内部をパージする。ボトム
チヤンバー11内はパージガス給気管81および
排気管82によりN2ガスを給、排気してパージ
される。 First, with the furnace body 1 and inner cover 2 removed, the base plate 41 is set at the upper limit position shown in FIG. And base plate 41
A raw steel plate coil C that has undergone primary recrystallization annealing is placed on top. Subsequently, the coil C is covered with an inner cover 2, and the inner cover 2 is further covered with the furnace body 1. Furnace body 1
N 2 gas is supplied to the inside from the cooling gas blowing pipe 7 and to the inside of the inner cover 2 from the atmospheric gas supply hole 32 to purge these insides. The inside of the bottom chamber 11 is purged by supplying and exhausting N 2 gas through a purge gas supply pipe 81 and an exhaust pipe 82 .
上記パージが終つたならば、炉体1内側に取り
付けた電熱ヒーター5により、たとえば10〜70
℃/Hの加熱速度でインナカバー2内の雰囲気ガ
スN2を加熱する。このとき固定ベース31の第
1電熱ヒーター36を併用してもよい。インナカ
バー2内の雰囲気ガスの温度が第4図に示すよう
に室温T0から所定温度T1(600〜650℃)まで上
昇したならば、期間A(10〜20時間)の間、炉内
を均熱保持する。炉内均熱開始時に雰囲気ガス
N2をAXガスに切換える。この炉内均熱により雰
囲気ガスは所定の露点(−5〜−10℃以下)に保
持され、コイルCに塗布された焼鈍分離剤から放
出される水分がコイルCの冷却時に結露すること
はない。 After the above purge is completed, the electric heater 5 attached to the inside of the furnace body 1 will cause a
The atmospheric gas N 2 inside the inner cover 2 is heated at a heating rate of °C/H. At this time, the first electric heater 36 of the fixed base 31 may be used in combination. When the temperature of the atmospheric gas inside the inner cover 2 rises from the room temperature T 0 to the predetermined temperature T 1 (600 to 650°C) as shown in Fig. Maintain uniform heat. Atmospheric gas at the start of soaking in the furnace
Switch N2 to AX gas. This soaking in the furnace keeps the atmospheric gas at a predetermined dew point (below -5 to -10°C), and the moisture released from the annealing separator applied to coil C does not condense when coil C is cooled. .
炉内均熱が終つたならば、昇降駆動装置71に
よりコイルCを下限まで下げ、ボトムチヤンバー
11内に収納する。このとき、コイルCの上端は
ボトムチヤンバー11の上端および固定ベース3
1の仕切部33の上端と同じ高さに並んでいる。
そして、コイルCはこれの上端部の温度が930℃
以上になるまで期間B、ボトムチヤンバー11内
で待機される。この間、炉内温度およびコイルC
上端部の温度は上昇するが、コイルCと仕切部3
3とによりインナカバー2と仕切られたボトムチ
ヤンバー11内は温度が低いためコイルCの下部
は若干温度が下る。 When the soaking in the furnace is completed, the coil C is lowered to the lower limit by the lifting drive device 71 and housed in the bottom chamber 11. At this time, the upper end of the coil C is connected to the upper end of the bottom chamber 11 and the fixed base 3.
They are lined up at the same height as the upper end of the partition section 33 of No. 1.
And the temperature of the upper end of coil C is 930℃
Until the above conditions are reached, the device is kept on standby within the bottom chamber 11 for a period B. During this time, the temperature inside the furnace and the coil C
Although the temperature at the upper end increases, the coil C and partition 3
Since the temperature inside the bottom chamber 11, which is partitioned from the inner cover 2 by 3, is low, the temperature at the bottom of the coil C drops slightly.
待機期間Bが経過してコイルC上端の温度が
930℃以上になると、再び昇降駆動装置71を駆
動して20〜600mm/Hの速度でコイルCを上昇す
る。コイルCは徐々にボトムチヤンバー11から
インナカバー2内に送り出され、コイルCのイン
ナカバー2内に露出する部分とボトムチヤンバー
11内にある部分との境界領域に温度勾配が生じ
る。炉内加熱速度およびコイル上昇速度は上記温
度勾配が2℃/cm以上となるように調整される。
コイルCがある程度インナカバー2内に入り込む
と、コイルCのボトムチヤンバー11内にある部
分もかなり昇温し、所定の温度勾配がとれなくな
る。この時点より若干前の時点aよりベースプレ
ート41の冷却を開始する。 After waiting period B has elapsed, the temperature at the upper end of coil C has increased.
When the temperature reaches 930° C. or higher, the lifting drive device 71 is driven again to raise the coil C at a speed of 20 to 600 mm/H. The coil C is gradually fed out from the bottom chamber 11 into the inner cover 2, and a temperature gradient is generated in the boundary region between the portion of the coil C exposed inside the inner cover 2 and the portion inside the bottom chamber 11. The heating rate in the furnace and the coil rising rate are adjusted so that the temperature gradient is 2° C./cm or more.
When the coil C enters the inner cover 2 to some extent, the temperature of the portion of the coil C inside the bottom chamber 11 also rises considerably, making it impossible to maintain a predetermined temperature gradient. Cooling of the base plate 41 is started at time a, which is slightly before this time.
ベースプレート41の冷却は冷却ガス供給管4
5を介して冷却ガス循環装置51よりインナカバ
ー2内の雰囲気ガスと同じガスをベースプレート
41内の冷却ガス流路42に供給する。(N2ガス
でもよい。)冷却ガス流路42に送られたガスは
ベースプレート41を冷却して昇温し、冷却ガス
排出管46を経て、冷却器57に至る。冷却器5
7で冷却された冷却ガスはブロアー55により再
びベースプレート41に圧送される。冷却ガス流
量は前記温度勾配に応じて温度調節弁56により
調節される。 The base plate 41 is cooled by the cooling gas supply pipe 4
The same gas as the atmospheric gas in the inner cover 2 is supplied from the cooling gas circulation device 51 to the cooling gas passage 42 in the base plate 41 via the cooling gas circulation device 51 . (N 2 gas may also be used.) The gas sent to the cooling gas passage 42 cools the base plate 41 and rises in temperature, and reaches the cooler 57 via the cooling gas exhaust pipe 46 . Cooler 5
The cooling gas cooled in step 7 is again forced to be sent to the base plate 41 by the blower 55. The cooling gas flow rate is adjusted by a temperature control valve 56 according to the temperature gradient.
このようにして、コイルCを上端から徐々に下
端に向つて加熱して行き、コイルCの下端がボト
ムチヤンバー11を出た時点bでベースプレート
41の上昇を停止する。このとき、コイルCの上
端部はほぼ所定温度T2(1150〜1200℃)に達し
ている。また、ベースプレート41の冷却はコイ
ルC下端部の温度が930℃以上になるまで(期間
C)続けられる。なお、炉内温度が所定温度T2
に達したとき、インナカバー2内の雰囲気ガスは
AXガスからH2ガスに切り換えられる。 In this way, the coil C is heated gradually from the upper end toward the lower end, and at the time b when the lower end of the coil C exits the bottom chamber 11, the base plate 41 stops rising. At this time, the upper end of the coil C has almost reached the predetermined temperature T 2 (1150 to 1200°C). Furthermore, cooling of the base plate 41 is continued until the temperature at the lower end of the coil C reaches 930° C. or higher (period C). Note that the temperature inside the furnace is the predetermined temperature T 2
When the atmospheric gas inside the inner cover 2 reaches
Can be switched from AX gas to H2 gas.
コイルCは下端部が1150℃以上になるまで均熱
保持される。この均熱が終了(時点C)すると炉
体1内に冷却ガス吹込管7から冷却ガスを吹き込
み、インナカバー2と共にコイルCを冷却する。
コイルCが所定温度まで下ると、炉体1を取り去
り、更にインナカバー2とコイルCとを大気中で
冷却する。そして、冷却完了後、インナカバー2
を取り去つて一連の焼鈍作業が完了する。 The coil C is kept uniformly heated until the lower end reaches 1150°C or higher. When this soaking is completed (time point C), cooling gas is blown into the furnace body 1 from the cooling gas blowing pipe 7 to cool the coil C together with the inner cover 2.
When the temperature of the coil C drops to a predetermined temperature, the furnace body 1 is removed, and the inner cover 2 and the coil C are further cooled in the atmosphere. After cooling is completed, inner cover 2
is removed to complete a series of annealing operations.
なお、コイルCの寸法が大きい場合、炉体1の
内側に設けた電熱ヒーター5のみでは、コイルC
のインナカバー2内に入り込んだ部分を十分に加
熱できず、所要の温度勾配が得られないことがあ
る。この場合、固定ベース31の第1電熱ヒータ
ー36で補助加熱する。また、コイルC全体を
1150℃以上の温度で均熱保持する際、コイルC下
端部からベースプレート41を経て熱が放散され
る。このとき、ベースプレート41は冷却されて
おらず、また断熱材61によつて熱の放出が防止
されている。しかし、コイルCのサイズによつて
は熱の放散によりコイルC下端部の温度保持が困
難なことがある。この場合、固定ベース31の第
2電熱ヒーター38により補助加熱を行う。 In addition, when the size of the coil C is large, the coil C cannot be
The part that has entered the inner cover 2 may not be sufficiently heated, and the required temperature gradient may not be obtained. In this case, the first electric heater 36 of the fixed base 31 performs auxiliary heating. Also, the entire coil C
When soaking is maintained at a temperature of 1150° C. or higher, heat is dissipated from the lower end of the coil C through the base plate 41. At this time, the base plate 41 is not cooled, and the heat insulating material 61 prevents heat from being released. However, depending on the size of the coil C, it may be difficult to maintain the temperature at the lower end of the coil C due to heat dissipation. In this case, auxiliary heating is performed by the second electric heater 38 of the fixed base 31.
この発明は上記実施例に限られるものではな
い。 This invention is not limited to the above embodiments.
たとえば、加熱手段として電熱ヒーター5に代
えて直火式バーナーを用いてもよく、炉体1の周
壁のみならず天井にも加熱手段を配設してもよ
い。ベースプレート41の冷却手段としては冷却
ガス流路42の代りに断熱材61の上面に配設さ
れた冷却管であつてもよい。また、ボトムチヤン
バー11および固定ベース31にそれぞれ張り付
けられた断熱材16,34,40あるいは固定ベ
ース31に取り付けられた電熱ヒーター36,3
8は必須のものではない。断熱材16,34を設
けない場合には、ボトムチヤンバー11内周面と
コイルC外周面との間の間隙および仕切部33外
周面とコイルC内周面との間の間隙は、インナカ
バー2内の高温雰囲気ガスがボトムチヤンバー1
1内に流入してボトムチヤンバー11内を許容温
度以上としない程度(たとえば1〜5mm)にとら
れる。さらに、昇降駆動装置71の減速機付モー
ター72およびスクリユージヤツキ73に代えて
油圧ジヤツキを用いてもよい。 For example, a direct burner may be used instead of the electric heater 5 as the heating means, and the heating means may be provided not only on the peripheral wall of the furnace body 1 but also on the ceiling. The cooling means for the base plate 41 may be a cooling pipe arranged on the upper surface of the heat insulating material 61 instead of the cooling gas flow path 42. Further, the heat insulating materials 16, 34, 40 attached to the bottom chamber 11 and the fixed base 31, respectively, or the electric heaters 36, 3 attached to the fixed base 31,
8 is not required. When the heat insulating materials 16 and 34 are not provided, the gap between the inner circumferential surface of the bottom chamber 11 and the outer circumferential surface of the coil C and the gap between the outer circumferential surface of the partition part 33 and the inner circumferential surface of the coil C are The high temperature atmospheric gas in the bottom chamber 1
The temperature is set to such an extent (for example, 1 to 5 mm) that it does not flow into the bottom chamber 11 and cause the temperature inside the bottom chamber 11 to exceed the allowable temperature. Furthermore, a hydraulic jack may be used in place of the reduction gear motor 72 and the screw jack 73 of the lifting drive device 71.
第1図は従来のバツチ焼鈍装置の一例を示す縦
断面図、第2図はこの発明のバツチ焼鈍装置の一
例を示す縦断面図、第3図は第2図に示す装置に
用いられる冷却ガス循環装置の系統図および第4
図は炉内温度、コイル温度、コイル位置の時間に
よる変化を示す線図である。
1…炉体、2…インナカバー、3…ベースプレ
ート、11…ボトムチヤンバー、12…チヤンバ
ー周壁、14…チヤンバー底部材、31…固定ベ
ース、33…仕切部、41…ベースプレート、4
2…冷却ガス流路、51…冷却ガス循環装置、7
1…昇降駆動装置。
FIG. 1 is a vertical cross-sectional view showing an example of a conventional batch annealing device, FIG. 2 is a vertical cross-sectional view showing an example of a batch annealing device of the present invention, and FIG. 3 is a cooling gas used in the device shown in FIG. System diagram of circulation device and 4th
The figure is a diagram showing changes in furnace temperature, coil temperature, and coil position over time. DESCRIPTION OF SYMBOLS 1... Furnace body, 2... Inner cover, 3... Base plate, 11... Bottom chamber, 12... Chamber peripheral wall, 14... Chamber bottom member, 31... Fixed base, 33... Partition part, 41... Base plate, 4
2... Cooling gas flow path, 51... Cooling gas circulation device, 7
1... Lifting drive device.
Claims (1)
体、炉体内に設けられたベースプレート、および
ベースプレート上にコイル軸を垂直にして載置さ
れた金属コイルを覆う着脱自在なインナカバーを
備えた装置において、上方に向つて開口し、内径
が金属コイルの外径よりやや大きく、金属コイル
の収納可能なボトムチヤンバーが前記炉体の下方
に設けられており、ボトムチヤンバー内にはこれ
と同軸に、ボトムチヤンバー底部から上方に延び
る柱状の固定ベースが設けられており、固定ベー
スは外径が金属コイルの内径よりやや小さく、ボ
トムチヤンバーの開口部に位置する仕切部を有
し、前記ベースプレートは環状をなし、冷却手段
を備えており、前記ボトムチヤンバーの底部を貫
通し昇降自在な支持部材に支持されており、支持
部材の下端部は昇降駆動装置に連結されているこ
とを特徴とするバツチ焼鈍装置。1 Equipped with a removable bell-shaped furnace body equipped with heating means inside, a base plate provided inside the furnace body, and a removable inner cover that covers a metal coil placed on the base plate with the coil axis perpendicular. In the apparatus, a bottom chamber is provided below the furnace body, the bottom chamber is open upward, the inner diameter is slightly larger than the outer diameter of the metal coil, and the metal coil can be accommodated. Coaxially, a columnar fixed base is provided extending upward from the bottom of the bottom chamber, the fixed base has an outer diameter slightly smaller than the inner diameter of the metal coil, and has a partition located at the opening of the bottom chamber; The base plate has an annular shape and is equipped with a cooling means, and is supported by a support member that passes through the bottom of the bottom chamber and is movable up and down, and the lower end of the support member is connected to an elevating drive device. Characteristic batch annealing equipment.
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19003582A JPS5980732A (en) | 1982-10-30 | 1982-10-30 | Batch annealing device |
| US06/542,193 US4502671A (en) | 1982-10-30 | 1983-10-14 | Batch annealing apparatus |
| EP83110817A EP0108357B1 (en) | 1982-10-30 | 1983-10-28 | Batch annealing apparatus |
| DE8383110817T DE3369703D1 (en) | 1982-10-30 | 1983-10-28 | Batch annealing apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19003582A JPS5980732A (en) | 1982-10-30 | 1982-10-30 | Batch annealing device |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5980732A JPS5980732A (en) | 1984-05-10 |
| JPS6235469B2 true JPS6235469B2 (en) | 1987-08-01 |
Family
ID=16251274
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19003582A Granted JPS5980732A (en) | 1982-10-30 | 1982-10-30 | Batch annealing device |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5980732A (en) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100560809B1 (en) * | 2001-09-11 | 2006-03-14 | 주식회사 포스코 | External cover support device of annealing furnace |
| CN115323146B (en) * | 2021-11-10 | 2023-12-26 | 大丰科鑫热技术有限公司 | Horizontal multi-hearth multi-purpose tempering furnace |
-
1982
- 1982-10-30 JP JP19003582A patent/JPS5980732A/en active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5980732A (en) | 1984-05-10 |
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