JPS624291A - セフアロスポリン誘導体 - Google Patents
セフアロスポリン誘導体Info
- Publication number
- JPS624291A JPS624291A JP60142587A JP14258785A JPS624291A JP S624291 A JPS624291 A JP S624291A JP 60142587 A JP60142587 A JP 60142587A JP 14258785 A JP14258785 A JP 14258785A JP S624291 A JPS624291 A JP S624291A
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- JP
- Japan
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- salt
- compound
- formulas
- salts
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- Pending
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- Nitrogen And Oxygen Or Sulfur-Condensed Heterocyclic Ring Systems (AREA)
- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の目的〕
本発明は抗菌剤として有用な新規なセファロスポリン誘
導体に関するものである。
導体に関するものである。
本発明化合物はセフェム骨格の7位に置換チアジアゾリ
ルアセトアミド基または置換チアゾリルアセトアミド基
を有しているが、これらの基を有するセフェム誘導体と
しては1例えば、特開昭55−11600号、特開昭5
5−105689号、特開昭57−24389号、特開
昭57−81493号、特開昭58−4789号、特開
昭58−41887号、特開昭58−59992号、特
開昭51−149296号、特開昭52−102293
号、特開昭52−116492号、特開昭52−125
190号、特開昭54−154786号、特開昭57−
192394号等の公報記載の化合物が知られている。
ルアセトアミド基または置換チアゾリルアセトアミド基
を有しているが、これらの基を有するセフェム誘導体と
しては1例えば、特開昭55−11600号、特開昭5
5−105689号、特開昭57−24389号、特開
昭57−81493号、特開昭58−4789号、特開
昭58−41887号、特開昭58−59992号、特
開昭51−149296号、特開昭52−102293
号、特開昭52−116492号、特開昭52−125
190号、特開昭54−154786号、特開昭57−
192394号等の公報記載の化合物が知られている。
しかし、そのセフェム骨格の3位に(1−チオモルホリ
ノ[4,3−bコピラゾリオ)メチル基を有する化合物
は知られていない。本発明者等は、この3位に上記の基
を有する化合物が優れた抗菌力を有することを見い出し
9本発明を完成したものである。
ノ[4,3−bコピラゾリオ)メチル基を有する化合物
は知られていない。本発明者等は、この3位に上記の基
を有する化合物が優れた抗菌力を有することを見い出し
9本発明を完成したものである。
したがって本発明の目的は、抗菌剤として有用な新規化
合物、その製造方法およびその抗菌剤としての用途を提
供することにある。
合物、その製造方法およびその抗菌剤としての用途を提
供することにある。
本発明化合物は一般式:
〔式中、Yは=CH−または窒素原子、Rは低級アルキ
ル基を示す〕で表わされるセファロスポリン誘導体およ
びその非毒性塩である。
ル基を示す〕で表わされるセファロスポリン誘導体およ
びその非毒性塩である。
上記一般式(IlのRの低級アルキル基としては。
メチル、エチル、n−プロピル、i−プロピル。
n−ブチル、t−ブチル、 5ec−ブチルなどがあげ
られる。
られる。
また、一般式(Ilの化合物の非毒性塩としては。
医薬上許容される塩類1例えば塩酸塩、臭化水素酸塩、
沃化水素酸塩、硫酸塩、炭酸塩9重炭酸塩などの無機酸
塩;マレイン酸塩、乳酸塩、酒石酸塩などの有機カルボ
ン酸塩;メタンスルホン酸塩。
沃化水素酸塩、硫酸塩、炭酸塩9重炭酸塩などの無機酸
塩;マレイン酸塩、乳酸塩、酒石酸塩などの有機カルボ
ン酸塩;メタンスルホン酸塩。
ベンゼンスルホン酸!、)レニンスルホン酸塩などの有
機スルホン酸塩;アスパラギン酸塩、グルタミン酸塩な
どのアミノ酸塩などがあげられる。
機スルホン酸塩;アスパラギン酸塩、グルタミン酸塩な
どのアミノ酸塩などがあげられる。
一般式(Ilの本発明化合物の次の部分の立体配位に関
し。
し。
C−
N−〇−R
シン異性体(Z)とアンチ異性体(E)が存在する。
本発明には両異性体とも含まれるが、抗菌力の点からは
シン異性体が舅ましい。
シン異性体が舅ましい。
本発明化合物は次に示す方法により製造することができ
る。
る。
一般式
〔式中、YおよびRは前記の定義に同じ〕で表わされる
化合物、その官能基が保護基で保護された化合物、また
はその塩に式: で表わされる化合物またはその塩を反応させて前記一般
式fI+の化合物またはその非毒性塩を得ることができ
る。
化合物、その官能基が保護基で保護された化合物、また
はその塩に式: で表わされる化合物またはその塩を反応させて前記一般
式fI+の化合物またはその非毒性塩を得ることができ
る。
上記反応は常法により行うことができる。例えば、アル
カリ金属塩の存在下で行うことができる。
カリ金属塩の存在下で行うことができる。
アルカリ金属塩としては、ヨウ化ナトリウム、ヨウ化カ
リウム、臭化ナトリウム、臭化カリウム。
リウム、臭化ナトリウム、臭化カリウム。
チオシアン酸ナトリウム、チオシアン酸カリウム。
硝酸ナトリウムなどがあげられる。その際の反応溶媒と
しては、水、緩衝液などの水性溶媒、ホルムアミド、N
、N−ジメチルホルムアミド、テトラハイドロフラン、
ジオキサン、アセトニトリル。
しては、水、緩衝液などの水性溶媒、ホルムアミド、N
、N−ジメチルホルムアミド、テトラハイドロフラン、
ジオキサン、アセトニトリル。
プロピオニトリル、メタノールなどの親水性溶媒あるい
はこれらの混合溶媒を用いることができる。
はこれらの混合溶媒を用いることができる。
反応温度は30°C〜90℃が適当である。
また他の方法として、前記反応はハロゲン化剤。
例えばヨードトリメチルシランの存在下で行うことがで
きる。本反応はまず、一般式(mの化合物。
きる。本反応はまず、一般式(mの化合物。
その官能基が保護基で保護された化合物、またはその塩
をハロゲン化剤で処理し9次いで式圓の化合物またはそ
の塩を反応させる。反応溶媒としては、アセトニトリル
、プロピオニトリルなどの低級アルキルニトリル;塩化
メタン、塩化メチレン。
をハロゲン化剤で処理し9次いで式圓の化合物またはそ
の塩を反応させる。反応溶媒としては、アセトニトリル
、プロピオニトリルなどの低級アルキルニトリル;塩化
メタン、塩化メチレン。
クロロホルムなどのハロゲン化低級アルキル;テトラハ
イドロフラン、ジオキサンなどのエーテル;N、N−ジ
メチルホルムアミドなどのアミド;酢酸エチルなどのエ
ステル;アセトンなどのケトン;ベンゼンなどの炭化水
素等あるいはこれらの混合溶媒があげられる。反応温度
は一40℃〜60℃が適当である。
イドロフラン、ジオキサンなどのエーテル;N、N−ジ
メチルホルムアミドなどのアミド;酢酸エチルなどのエ
ステル;アセトンなどのケトン;ベンゼンなどの炭化水
素等あるいはこれらの混合溶媒があげられる。反応温度
は一40℃〜60℃が適当である。
一般式(mlおよび式圓の化合物の塩、官能基における
保護基としては、上記反応を妨げないものであれば9通
常用いられるものを使用することができる。
保護基としては、上記反応を妨げないものであれば9通
常用いられるものを使用することができる。
例えば、アミノ基の保護基としては、ホルミル。
ジクロルアセチル、t−ブトキシカルボニル、ベンジル
オキシカルボニル、トリチル、p−メトキシベンジル、
ベンズヒドリルなど;カルボキシル基の保護基としては
、p−メトキシベンジル、p−ニトロベンジル、t−ブ
チル、メチル、2,2.2−トリクロロエチル、ベンズ
ヒドリル、ヒバロイルオキシメチルなどがあげられる。
オキシカルボニル、トリチル、p−メトキシベンジル、
ベンズヒドリルなど;カルボキシル基の保護基としては
、p−メトキシベンジル、p−ニトロベンジル、t−ブ
チル、メチル、2,2.2−トリクロロエチル、ベンズ
ヒドリル、ヒバロイルオキシメチルなどがあげられる。
また、ビス(トリメチルシリル)アセトアミド、N−メ
チル−N−トリメチルシリル−アセトアミド、N−メチ
ル−N−トリメチルシリル−トリフルオロアセトアミド
などのシリル化剤を使用すれば、アミノ基およびカルボ
キシル基を同時に保護できる。
チル−N−トリメチルシリル−アセトアミド、N−メチ
ル−N−トリメチルシリル−トリフルオロアセトアミド
などのシリル化剤を使用すれば、アミノ基およびカルボ
キシル基を同時に保護できる。
また、一般式(I[lおよび式圃の化合物の塩としては
2例えばナトリウム塩、カリウム塩などのアルカリ金属
塩;カルシウム塩、マグネシウム塩などのアルカリ土類
金属塩;アンモニウム塩;塩酸塩。
2例えばナトリウム塩、カリウム塩などのアルカリ金属
塩;カルシウム塩、マグネシウム塩などのアルカリ土類
金属塩;アンモニウム塩;塩酸塩。
臭化水素酸塩、硫酸塩、炭酸塩、ヨウ化水素酸塩。
重炭酸塩などの無機酸塩;酢酸塩、トリフルオロ酢酸塩
、トリクロロ酢酸塩、マレイン酸塩、乳酸塩、酒石酸塩
などの有機カルボン酸塩;メタンスルホン酸塩、ベンゼ
ンスルホン酸塩、 )レニンスルホン酸塩ナトの11
スルホン酸塩;トリメチルアミン塩、トリエチルアミン
塩、ピリジン塩、プロカイン塩、ピコリン塩、ジシクロ
ヘキシルアミン塩、N、N’−ジベンジルエチレンジア
ミン塩、トリエタノールアミン塩、トリス(ヒドロキシ
メチルアミノ)メタン塩、フェネチルベンジルアミン塩
などのアミン塩;アルギニン塩、アスパラギン酸塩。
、トリクロロ酢酸塩、マレイン酸塩、乳酸塩、酒石酸塩
などの有機カルボン酸塩;メタンスルホン酸塩、ベンゼ
ンスルホン酸塩、 )レニンスルホン酸塩ナトの11
スルホン酸塩;トリメチルアミン塩、トリエチルアミン
塩、ピリジン塩、プロカイン塩、ピコリン塩、ジシクロ
ヘキシルアミン塩、N、N’−ジベンジルエチレンジア
ミン塩、トリエタノールアミン塩、トリス(ヒドロキシ
メチルアミノ)メタン塩、フェネチルベンジルアミン塩
などのアミン塩;アルギニン塩、アスパラギン酸塩。
リジン塩、グルタミン酸塩、セリン塩などのアミノ酸塩
等があげられる。
等があげられる。
本発明化合物はダラム陽性菌およびダラム陰性菌に対し
1強い抗菌活性を示す。また、急性毒性値(LD60
(?ウス、静注)〕は次の化合物では3g/k。
1強い抗菌活性を示す。また、急性毒性値(LD60
(?ウス、静注)〕は次の化合物では3g/k。
以上であった。
7β−(2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2
−(Zl−メトキシイミノアセトアミド)−3−(1−
チオモルホリノ[4,3−b ]ピラゾリオ)メチル−
3−セフェム−4−カルボキシレート7β−(2−(5
−アミノ−1,2,4−チアジアゾール−3−イル)−
2−fZl−メトキシイミノアセトアミド:)−3−(
1−チオモルホリノ[4,3−b ]ピラゾリオ)メチ
ル−3−セフェム−4−カルボキシレート 本発明化合物を抗菌剤として使用する際の投与量は、
2〜300 rILg/kg/日、好ましくは10〜
100 ma/kg /日である。
−(Zl−メトキシイミノアセトアミド)−3−(1−
チオモルホリノ[4,3−b ]ピラゾリオ)メチル−
3−セフェム−4−カルボキシレート7β−(2−(5
−アミノ−1,2,4−チアジアゾール−3−イル)−
2−fZl−メトキシイミノアセトアミド:)−3−(
1−チオモルホリノ[4,3−b ]ピラゾリオ)メチ
ル−3−セフェム−4−カルボキシレート 本発明化合物を抗菌剤として使用する際の投与量は、
2〜300 rILg/kg/日、好ましくは10〜
100 ma/kg /日である。
本抗菌剤は、散剤、顆粒剤、カプセル剤9錠剤などのか
たちで経口的に、あるいは注射剤、半割などのかたちで
非経口的に投与される。これらの製剤は、医薬上許容さ
れる担体を用い、常法により製造することができる。
たちで経口的に、あるいは注射剤、半割などのかたちで
非経口的に投与される。これらの製剤は、医薬上許容さ
れる担体を用い、常法により製造することができる。
次に実施例を示し9本発明をさらに詳しく説明する。
実施例1
7β−(2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2
−tZl−メトキシイミノアセトアミド)−3−(1−
チオモルホリノ[4,3−bコピラゾリオ)メチル−3
−セフェム−4−カルボキシレート7β−(2−(2−
アミノチアゾール−4−イル)−2−(Zl−メトキシ
イミノアセトアミド〕−3−アセトキシメチル−3−セ
フェム−4−カルボン酸1.200■、チオモルホリノ
[4,3−b ]ピピラジ−6600mg ヨウ化ナ
トリウム4.8gおよび水2.4mlからなる混合物を
60℃で3時間撹拌した。反応液にアセトン100mL
を加え、生じた沈殿を枦取し、逆相シリカゲルクロマト
グラフィーにて精製して目的物31.を得た。
−tZl−メトキシイミノアセトアミド)−3−(1−
チオモルホリノ[4,3−bコピラゾリオ)メチル−3
−セフェム−4−カルボキシレート7β−(2−(2−
アミノチアゾール−4−イル)−2−(Zl−メトキシ
イミノアセトアミド〕−3−アセトキシメチル−3−セ
フェム−4−カルボン酸1.200■、チオモルホリノ
[4,3−b ]ピピラジ−6600mg ヨウ化ナ
トリウム4.8gおよび水2.4mlからなる混合物を
60℃で3時間撹拌した。反応液にアセトン100mL
を加え、生じた沈殿を枦取し、逆相シリカゲルクロマト
グラフィーにて精製して目的物31.を得た。
赤外線吸収スペクトル(C11−’、ヌジョール):1
770、 1670. 161O NMRスペクトル(δ、D、O): 3.24 (IH,d、 J =18Hz)、 3.2
9 (2H,d、 J=5…り、3.49 (IH,d
、J=18出)。
770、 1670. 161O NMRスペクトル(δ、D、O): 3.24 (IH,d、 J =18Hz)、 3.2
9 (2H,d、 J=5…り、3.49 (IH,d
、J=18出)。
3.98 (3H,S)、 4.08 (2H,S)
。
。
4.45〜4.55 (2H,m)、 5.25 (I
H,d、 J=5Hz)5.25 (LH,d、 J=
15Hz)、 5.44 (IH,d。
H,d、 J=5Hz)5.25 (LH,d、 J=
15Hz)、 5.44 (IH,d。
J=15±)、5.84 (IH,d、J=5七)。
6.71 (IH,d、 J=2.5Hz)、 7.
01 (IH,S)。
01 (IH,S)。
8.18 (IH,d 、 J−2,5出)実施例2
7β−(2−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾー
ル−3−イル)−2−(Zl−メトキシイミノアセトア
ミド)−3−(1−チオモルホリノ[4,3−b ]ピ
ラゾリオ)メチル−3−セフェム−4−カルボキシレー
ト 7β−(2−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾー
ル−3−イル)−2−IZl−メトキシイミノアセトア
ミド〕−3−アセトキシメチル−3−セフェム−4−カ
ルボン酸600 mg s チオモルホリノ[4゜3
−b]ピラゾール300mg、 ヨウ化ナトリウム2
.4 y e水1.2 tnLからなる混合物を60℃
で2時間撹拌した。反応液にアセトン50 mLを加え
て生じた沈殿を戸数した。これを逆相シリカゲルクロマ
トグラフィーにて精製して目的物105mgを得た。赤
外線吸収スペクトル(C!l−’、ヌジョール):17
70、 1660. 161O NMRスペクトル(δ、 DzO) :3.21 (I
H,d、 J=18Hz)、 3.28 (2H,t
。
ル−3−イル)−2−(Zl−メトキシイミノアセトア
ミド)−3−(1−チオモルホリノ[4,3−b ]ピ
ラゾリオ)メチル−3−セフェム−4−カルボキシレー
ト 7β−(2−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾー
ル−3−イル)−2−IZl−メトキシイミノアセトア
ミド〕−3−アセトキシメチル−3−セフェム−4−カ
ルボン酸600 mg s チオモルホリノ[4゜3
−b]ピラゾール300mg、 ヨウ化ナトリウム2
.4 y e水1.2 tnLからなる混合物を60℃
で2時間撹拌した。反応液にアセトン50 mLを加え
て生じた沈殿を戸数した。これを逆相シリカゲルクロマ
トグラフィーにて精製して目的物105mgを得た。赤
外線吸収スペクトル(C!l−’、ヌジョール):17
70、 1660. 161O NMRスペクトル(δ、 DzO) :3.21 (I
H,d、 J=18Hz)、 3.28 (2H,t
。
J=6七)t 3.47 (’IH,d、 J=18
比)。
比)。
4.45〜4.7 (2H,m)、 4.75 (5
H,S)。
H,S)。
5.24 (IH,d、J=5七)、 5.25 (
IH,d。
IH,d。
J=16±)、 5.87 (IH,d、 J=5H
z)。
z)。
6.70 (IH,d、 J=3Hz)、 8.18
(IH,d。
(IH,d。
J=3Hz)
〔発明の効果〕
表1.(抗菌力表)
*β−ラクタマーゼ産生菌
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Yは=CH−または窒素原子、Rは低級アルキ
ル基を示す〕で表わされるセファロスポリン誘導体およ
びその非毒性塩。 2)Rがメチル基である化合物およびその非毒性塩であ
る、特許請求の範囲第1項記載の化合物。 3)式 ▲数式、化学式、表等があります▼ で表わされる化合物およびその非毒性塩である、特許請
求の範囲第1項記載の化合物。 4)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Yは=CH−または窒素原子、Rは低級アルキ
ル基を示す〕で表わされる化合物、その官能基が保護さ
れた化合物、またはその塩に式 ▲数式、化学式、表等があります▼ で表わされる化合物またはその塩を反応させることを特
徴とする一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、YおよびRは前記の定義に同じ〕で表わされる
化合物またはその非毒性塩の製造方法。 5)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Yは=CH−または窒素原子、Rは低級アルキ
ル基を示す〕で表わされる化合物またはその非毒性塩か
らなる抗菌剤。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60142587A JPS624291A (ja) | 1985-07-01 | 1985-07-01 | セフアロスポリン誘導体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60142587A JPS624291A (ja) | 1985-07-01 | 1985-07-01 | セフアロスポリン誘導体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS624291A true JPS624291A (ja) | 1987-01-10 |
Family
ID=15318774
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60142587A Pending JPS624291A (ja) | 1985-07-01 | 1985-07-01 | セフアロスポリン誘導体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS624291A (ja) |
-
1985
- 1985-07-01 JP JP60142587A patent/JPS624291A/ja active Pending
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