JPS6243749A - セキユリテイキ− - Google Patents
セキユリテイキ−Info
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- JPS6243749A JPS6243749A JP60182899A JP18289985A JPS6243749A JP S6243749 A JPS6243749 A JP S6243749A JP 60182899 A JP60182899 A JP 60182899A JP 18289985 A JP18289985 A JP 18289985A JP S6243749 A JPS6243749 A JP S6243749A
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- JP
- Japan
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- key
- contact
- memory
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[発明の利用分呵コ
本発明は、セキュリティキーに関し、特に、コンビュー
タンステムのメモリ、外部記憶装置等に格納されたセン
シティブな(機密性のある)情報のアクセスを制限し、
制御する電r装置用安全/ステムに使用されるセキュリ
ティキーに関する。
タンステムのメモリ、外部記憶装置等に格納されたセン
シティブな(機密性のある)情報のアクセスを制限し、
制御する電r装置用安全/ステムに使用されるセキュリ
ティキーに関する。
[従来の技術]
電子装置に格納されたセンシテブな情報のアクセスを制
限し制御するために種々の安全装置が提案されている。
限し制御するために種々の安全装置が提案されている。
従来技術の 例として、キー口、り装置をイlするlu
f”A置があるが、かかる/ステl、は、口、りを解除
するのに必殻な情報が、イモリ、例えば装置内に配置−
没されたP ROM等に格納されていて、これと入力さ
れた暗椙=1−ド”71 、:を照合することでその口
、りが解除され、7殼な情報かアクセスできるというも
のである。
f”A置があるが、かかる/ステl、は、口、りを解除
するのに必殻な情報が、イモリ、例えば装置内に配置−
没されたP ROM等に格納されていて、これと入力さ
れた暗椙=1−ド”71 、:を照合することでその口
、りが解除され、7殼な情報かアクセスできるというも
のである。
また、他の+に置を備えるンステノ、では、ターゲット
/ステノ、によって+I、しいと認識されたとき、アク
セス命令4:、畳、を発生する。
/ステノ、によって+I、しいと認識されたとき、アク
セス命令4:、畳、を発生する。
さらに、プロセッサをイ「するメモリカード等にあって
は、それがターゲット/ステムに挿入される、と、ター
ゲット/ステノ、が動作して特定の情報がアクセスでき
るようになり、ターゲット/ステムからメモリカードを
除去すると、ターゲット/ステl、をJ1動作状態にす
るようなシステムを挙げることかできる。
は、それがターゲット/ステムに挿入される、と、ター
ゲット/ステノ、が動作して特定の情報がアクセスでき
るようになり、ターゲット/ステムからメモリカードを
除去すると、ターゲット/ステl、をJ1動作状態にす
るようなシステムを挙げることかできる。
[解決しようとする問題点コ
このような従来の/ス=Aにあっては、ターゲ、トノス
テムのメLす“9に格納された情報の安全を1−分に保
障できない。そこで、このような問題を解決するために
、プログラノ・情報とか、多くのフード情報とかを記憶
したメモリを内蔵するキー又はカードで構成されるセキ
ュリティキーを提案して、すでに出願済みである。
テムのメLす“9に格納された情報の安全を1−分に保
障できない。そこで、このような問題を解決するために
、プログラノ・情報とか、多くのフード情報とかを記憶
したメモリを内蔵するキー又はカードで構成されるセキ
ュリティキーを提案して、すでに出願済みである。
このセキュリティキーにあっては、それに内蔵されたメ
モリがターゲット/ステムのメモリの部をなすようなン
ステl、であって、セキュリティキーのメモリにプログ
ラム等を記憶することにより、セキュリティキーが挿着
されない限り、ターゲット/ステムが動作しないもので
ある。その結果として、機密情報専の安全性を保障し、
不当な機密情報のアクセスを禁市し、かつターゲット/
ステt、のメモリの・品が2’l弓された便用期間以外
ではル実1−除去されるようにして、ターゲット/ステ
ム側のメモリ又は外部記憶装置δに格納された情報の安
全をさらに保障する。
モリがターゲット/ステムのメモリの部をなすようなン
ステl、であって、セキュリティキーのメモリにプログ
ラム等を記憶することにより、セキュリティキーが挿着
されない限り、ターゲット/ステムが動作しないもので
ある。その結果として、機密情報専の安全性を保障し、
不当な機密情報のアクセスを禁市し、かつターゲット/
ステt、のメモリの・品が2’l弓された便用期間以外
ではル実1−除去されるようにして、ターゲット/ステ
ム側のメモリ又は外部記憶装置δに格納された情報の安
全をさらに保障する。
しかしながら、このようなシステムにあっては、キー又
はカードが数丁回動ヤは数万回抜き差しされた場合であ
ってもキー又はカード側とターゲット/ステl、側との
接続がl−分保障されることが実用l・必安きされる。
はカードが数丁回動ヤは数万回抜き差しされた場合であ
ってもキー又はカード側とターゲット/ステl、側との
接続がl−分保障されることが実用l・必安きされる。
そこで、数丁″回動子は数万回の抜き差しに対しても、
より確実にキー又はカード側とターゲット/ステム側止
の接続がなされるような接続方式が゛及請される。
より確実にキー又はカード側とターゲット/ステム側止
の接続がなされるような接続方式が゛及請される。
[発明の目的]
本発明は、前記のような従来技術の問題点を解決し、先
11″技術の安請に応えるものであって、通常のキー又
はカードとしての繰り返し使用においてターゲット/ス
テムとの接続を1−分保障できるようなセキュリティキ
ーを提供することにある。
11″技術の安請に応えるものであって、通常のキー又
はカードとしての繰り返し使用においてターゲット/ス
テムとの接続を1−分保障できるようなセキュリティキ
ーを提供することにある。
なお、この明細書において使用しているセキュリティキ
ーとは、その外観がキ一様のものに限定されるものでは
なく、通常のキーをはじめとして、その外観形状が棒状
のキー、そしてその外観形状がカード状のもの9・を含
むものとして使用している。
ーとは、その外観がキ一様のものに限定されるものでは
なく、通常のキーをはじめとして、その外観形状が棒状
のキー、そしてその外観形状がカード状のもの9・を含
むものとして使用している。
[問題点を解決するためのL段]
しかして、ll’l記の問題点を解決するためのこの発
明のセキュリティキーにおける1段は、メモリとこのメ
モリの端子に直接又は間接的に接続された接触端子とを
有するキー若しくはカードで構成されたセキュリティキ
ーにおいて、キー若しくはカードがターゲットシステム
に設けられたレセプタタルに挿着され、さらに接触端子
がこのレセプタクルに設けられた接触ビンに接触するこ
とにより、メモリがターゲット/ステムのメモリの一部
分となるものであって、接触端子にリング状の導体を設
けるというものである。
明のセキュリティキーにおける1段は、メモリとこのメ
モリの端子に直接又は間接的に接続された接触端子とを
有するキー若しくはカードで構成されたセキュリティキ
ーにおいて、キー若しくはカードがターゲットシステム
に設けられたレセプタタルに挿着され、さらに接触端子
がこのレセプタクルに設けられた接触ビンに接触するこ
とにより、メモリがターゲット/ステムのメモリの一部
分となるものであって、接触端子にリング状の導体を設
けるというものである。
[作用]
このように接触端子にリング状の導体を設けることによ
り、ターゲット/ステムのレセプタクル側の接触ピンが
リングの内側で案内されるので、これらの間の接続が確
実となる。しかも接触端子が導電性のリングであって、
この縁がバッファ作用を持つことから、数千回乃至は数
刀回の抜き差ししても、数1回乃至は数刀回の接触が行
われた結果レセプタクル側の1妾触ピ/側とか、キーの
接触端子側において摩耗が発生したり、位置すれか11
シたとしても、リングの周囲に接触することで(信nが
矯11:され、接触状態が確保され、さらには1と触面
のはがれの防市にも没\rつ。
り、ターゲット/ステムのレセプタクル側の接触ピンが
リングの内側で案内されるので、これらの間の接続が確
実となる。しかも接触端子が導電性のリングであって、
この縁がバッファ作用を持つことから、数千回乃至は数
刀回の抜き差ししても、数1回乃至は数刀回の接触が行
われた結果レセプタクル側の1妾触ピ/側とか、キーの
接触端子側において摩耗が発生したり、位置すれか11
シたとしても、リングの周囲に接触することで(信nが
矯11:され、接触状態が確保され、さらには1と触面
のはがれの防市にも没\rつ。
したがって、数T回動子は数万回の抜き差し使用に対し
てもその接続が確実なものとなる。
てもその接続が確実なものとなる。
[実施例コ
以ドこの発明の一実施例について図面を用いて詳細に説
明する。
明する。
第1図は、キーとレセプタクルを示す安全システムのブ
ロック図、第2図は、レセプタクルから分離したキーの
透視図、第3図(a)及び(b)は、それぞれキー側の
接触端子とレセプタクルのポゴピン(接触ピン)、l!
:の接続関係の説明図、第4図は、そのヘッド部分の拡
大断面図、第5図は、キーの積層前の各セラミックス層
を構成する基板の説明図である。
ロック図、第2図は、レセプタクルから分離したキーの
透視図、第3図(a)及び(b)は、それぞれキー側の
接触端子とレセプタクルのポゴピン(接触ピン)、l!
:の接続関係の説明図、第4図は、そのヘッド部分の拡
大断面図、第5図は、キーの積層前の各セラミックス層
を構成する基板の説明図である。
第1図及び第2図においては、キー10とレセプタクル
50とターゲットシステム100を全体的に示す。
50とターゲットシステム100を全体的に示す。
この実施例の特徴は、キー10が、電r的にプログマブ
ルであり、電r的に変更+1■能であり、電r的に読出
(−11f ’1−) ’+’+I能であり、そして不
揮発的な随時アクセスデジタルメモリ40 (E2 F
ROM)を備える点にある。
ルであり、電r的に変更+1■能であり、電r的に読出
(−11f ’1−) ’+’+I能であり、そして不
揮発的な随時アクセスデジタルメモリ40 (E2 F
ROM)を備える点にある。
そして、メモリ40が、レセプタクル50に挿入される
とターゲットシステム100のメモリの重要な部分を構
成する少なくとも一部となる。また、キー10が、レセ
プタタル50から抜かれると、ターゲットシステム10
0は、メモリの重要な部分又は大部分が事実上はずれる
ので、確実に動作しなくなる。
とターゲットシステム100のメモリの重要な部分を構
成する少なくとも一部となる。また、キー10が、レセ
プタタル50から抜かれると、ターゲットシステム10
0は、メモリの重要な部分又は大部分が事実上はずれる
ので、確実に動作しなくなる。
ここで、レセプタクル50は、ソケット51とシリンダ
52、リミットスイッチ53、そしてばね負荷のポゴピ
ン54.55からなる2列のポゴピン群54,54.
・・・、55.55.−・・とを自していて、これら
ポゴピンは、キー10に設けられた導電性の接触端f’
17.18からなる2列の接触端子群群17.17.
・東・18,18、・・・に対応して設けられている
。
52、リミットスイッチ53、そしてばね負荷のポゴピ
ン54.55からなる2列のポゴピン群54,54.
・・・、55.55.−・・とを自していて、これら
ポゴピンは、キー10に設けられた導電性の接触端f’
17.18からなる2列の接触端子群群17.17.
・東・18,18、・・・に対応して設けられている
。
第2図において、キー10は、ヘッド部12および/セ
フ8部13を自゛する酋通のキーの一般的形状をしたセ
ラミ、り基板からなる。キー10の接触端J’7ff1
7,17.−−−及び18,18゜e・・は、それぞれ
円形の接触端子であって、メモリ40を内蔵している而
と同一面側の表面側にそれぞれ所定間隔で配タリされて
設けられている。
フ8部13を自゛する酋通のキーの一般的形状をしたセ
ラミ、り基板からなる。キー10の接触端J’7ff1
7,17.−−−及び18,18゜e・・は、それぞれ
円形の接触端子であって、メモリ40を内蔵している而
と同一面側の表面側にそれぞれ所定間隔で配タリされて
設けられている。
接触端f’17,18は、それぞれ第3図(a)及び(
b)に見るように円形の金の接触面17a。
b)に見るように円形の金の接触面17a。
18aに対してその周囲を囲むようにその上に金属ワノ
/ヤ15,16がそれぞれ固定して形成されている。
/ヤ15,16がそれぞれ固定して形成されている。
方、キー10には、第2図に見るように、(ぼみ20が
、随時アクセスメモリ40を受は入れるために、へ、ド
部12に形成されている。そして配線14が、くぼみ2
0と接触端子J!H7,17、・・・及び18.18.
・・・との間に設けられ、このへ線14によりくぼ
み20に設けられたメモリ40の端子と接触端子RN7
.17. ・・・及び18,18. ・・・とがそ
れぞれ接続される。
、随時アクセスメモリ40を受は入れるために、へ、ド
部12に形成されている。そして配線14が、くぼみ2
0と接触端子J!H7,17、・・・及び18.18.
・・・との間に設けられ、このへ線14によりくぼ
み20に設けられたメモリ40の端子と接触端子RN7
.17. ・・・及び18,18. ・・・とがそ
れぞれ接続される。
また、第4図に見るように、メモリ40のチップ又はこ
のチップがボンディングされた基板がンエナーダイオー
ドの静電防市層42の[〕に載置されている そして、多層のセラミックス層が、セラミックス基板」
−に設けられていて、外側には金属板層30(裏面では
金属板層43aが対応、第4図参照)がセラミックス層
上に埋設され、通常の金属製キーの外観をキー10に対
して与えている。ここで金属板層30(金属板層43a
)は、付加的に静電気を最小に保持する。なお、その詳
細は、後述の第4図、第5図にて説明する。
のチップがボンディングされた基板がンエナーダイオー
ドの静電防市層42の[〕に載置されている そして、多層のセラミックス層が、セラミックス基板」
−に設けられていて、外側には金属板層30(裏面では
金属板層43aが対応、第4図参照)がセラミックス層
上に埋設され、通常の金属製キーの外観をキー10に対
して与えている。ここで金属板層30(金属板層43a
)は、付加的に静電気を最小に保持する。なお、その詳
細は、後述の第4図、第5図にて説明する。
ここで、キー10は、事実り容易に着脱でき、制御でき
及び持ち運べるデータ格納媒体として用いることができ
、通常のFROMまたはROM装置として使用できるも
のであって、しかも通常のキーと同じ機能ように機能す
るものである。
及び持ち運べるデータ格納媒体として用いることができ
、通常のFROMまたはROM装置として使用できるも
のであって、しかも通常のキーと同じ機能ように機能す
るものである。
さて、第3図(a)に見るように、レセプタクル50の
/す/ダ52内には、プレート56が1−ドに移動i+
J能に支承されていて、このプレート56には、2列に
配列されたポゴピンJ!T54.54゜・拳−,55,
55,・・・が接触端子群17゜17、・・・及び18
,18. ・・・に対応して植設されている。
/す/ダ52内には、プレート56が1−ドに移動i+
J能に支承されていて、このプレート56には、2列に
配列されたポゴピンJ!T54.54゜・拳−,55,
55,・・・が接触端子群17゜17、・・・及び18
,18. ・・・に対応して植設されている。
プレート56は、キー10が挿着されて、所定のセット
位置に来たときに、キー10に対して降ドしてポゴピン
群54,54. ・・・、55.55、・・・を接触
端子群17,17. ・・・及び18.18. ・
・・にそれぞれ接触させるものである。
位置に来たときに、キー10に対して降ドしてポゴピン
群54,54. ・・・、55.55、・・・を接触
端子群17,17. ・・・及び18.18. ・
・・にそれぞれ接触させるものである。
なお、プレート56は、通常、ばね57,57により降
ド方向に付勢されていて、図示しないカム溝にプレート
56に設けられた爪が落ちることに降下する。
ド方向に付勢されていて、図示しないカム溝にプレート
56に設けられた爪が落ちることに降下する。
さて、ポゴピン群54. 54.−・・、55゜55、
・・・と接触端子群17.17.−・・及びts、ts
、 ・・Oとの接触関係は、第3図(b)に見るよう
に、それぞれの接触端子に1役けられた金属ワ、ンヤ1
5.16の内側周面にt妾して円形の金の接触面17a
、18aに接触することによる。したがって、ポゴピン
1!T54,54. ・・・、55,55. ・争
・が摩耗しても、まlこ、金の接触面17a、18aが
へこんでもリング状の内周而に案内されて確実にこれら
の間の[触が確保される。しかも接触に際してリングの
周囲が力学的にバッファ作用を持つ。
・・・と接触端子群17.17.−・・及びts、ts
、 ・・Oとの接触関係は、第3図(b)に見るよう
に、それぞれの接触端子に1役けられた金属ワ、ンヤ1
5.16の内側周面にt妾して円形の金の接触面17a
、18aに接触することによる。したがって、ポゴピン
1!T54,54. ・・・、55,55. ・争
・が摩耗しても、まlこ、金の接触面17a、18aが
へこんでもリング状の内周而に案内されて確実にこれら
の間の[触が確保される。しかも接触に際してリングの
周囲が力学的にバッファ作用を持つ。
なお、この場合接触ピンであるポゴピン54゜55の先
端径は、金属ワッシャ15.lE3の内径よりも小さい
径となっている。ここに、接触ピン(ポゴピン群54.
54. ・・・、 55. 55゜・・・)は、
通常、その先端側の径は小さく、ドーナ、ツ状に内側に
孔をあけたワ、ンヤであれば通常、この先端径より大き
い関係となる。
端径は、金属ワッシャ15.lE3の内径よりも小さい
径となっている。ここに、接触ピン(ポゴピン群54.
54. ・・・、 55. 55゜・・・)は、
通常、その先端側の径は小さく、ドーナ、ツ状に内側に
孔をあけたワ、ンヤであれば通常、この先端径より大き
い関係となる。
したがって、ポゴピン54.55と接触端子群17.1
8との位置が相対的にづれた状態でも、ポゴピンの先端
側がリング状の内周而に案内されてより確実な接触状態
に入る。
8との位置が相対的にづれた状態でも、ポゴピンの先端
側がリング状の内周而に案内されてより確実な接触状態
に入る。
さらに、多くの場合、縁に当たることからこのリング状
の縁は、ポゴピンの先端が接触端子に接触する際にバッ
ファ効果を持っていて、リング内面の接触面17a (
18a)に対する圧力を和らげてそのはがれを防上する
役割も果たす。しかも仝属ワブンヤ15(1B)の縁で
接触した状態でもポゴピン(接触ピン)側との接触が採
れ、数千回、数万回の接触に耐え(する接触を確保し得
る。
の縁は、ポゴピンの先端が接触端子に接触する際にバッ
ファ効果を持っていて、リング内面の接触面17a (
18a)に対する圧力を和らげてそのはがれを防上する
役割も果たす。しかも仝属ワブンヤ15(1B)の縁で
接触した状態でもポゴピン(接触ピン)側との接触が採
れ、数千回、数万回の接触に耐え(する接触を確保し得
る。
また、このようにリングの内側に接触ピンが配置される
構造となることから、接触状態でのユーザーの不注意な
キーの引き抜きが不可能となり、ターゲラトンステムに
対して安全に接触状態が維持できる。
構造となることから、接触状態でのユーザーの不注意な
キーの引き抜きが不可能となり、ターゲラトンステムに
対して安全に接触状態が維持できる。
ところで、この場合はこり等を回避するために、キーl
Oとプレート56との位置関係を逆転させて、ポゴピン
群54.54. ・拳・、55,55゜・・−を)°
側に配置して、これらを上界させて、キー10の接触端
子JtH7,17,・・・及び18.18. ・・・
と接触させるようにしてもよい。
Oとプレート56との位置関係を逆転させて、ポゴピン
群54.54. ・拳・、55,55゜・・−を)°
側に配置して、これらを上界させて、キー10の接触端
子JtH7,17,・・・及び18.18. ・・・
と接触させるようにしてもよい。
このように下側から上へと移動させて接触させることに
より、接触端子JtH7,17,・・拳及び18,18
. ・・・に付着するほこり、ゴミ等を落下させて、
確実により安定した状態で接触させることが可能となる
。
より、接触端子JtH7,17,・・拳及び18,18
. ・・・に付着するほこり、ゴミ等を落下させて、
確実により安定した状態で接触させることが可能となる
。
次にこの静電破壊防IFに対するキー10の構造につい
て第2図、第4図に従って説明する。
て第2図、第4図に従って説明する。
先の第2図に見るように、キー10は、そのヘッド部1
2のくぼみ20にメモリ40が挿itされていて、メモ
リ40のチップ41は、第4図に見るようにツェナーダ
イオード基板層421−に載置されている。モしてチッ
プ41.!:ツェナーダイオード基板層42とは金メッ
キ層42aを介して相互に融召されており、ツェナーダ
イオード基板層42の融着面と反対側の而には、グラン
ドとして同様に金のメッキ層42bか設けられていて、
第1セラミックス層43に設けられたグランド配線と接
続している。
2のくぼみ20にメモリ40が挿itされていて、メモ
リ40のチップ41は、第4図に見るようにツェナーダ
イオード基板層421−に載置されている。モしてチッ
プ41.!:ツェナーダイオード基板層42とは金メッ
キ層42aを介して相互に融召されており、ツェナーダ
イオード基板層42の融着面と反対側の而には、グラン
ドとして同様に金のメッキ層42bか設けられていて、
第1セラミックス層43に設けられたグランド配線と接
続している。
ツェナーダイオード基板層42には、その周囲にボンデ
ング端子21,21. ・・φがチップ41のボンデ
ングパ、ソド41 a+ 41 a、・拳−(こ対応
するようにそれぞれ設けられていて、チ、プ41の各ボ
ンデングパノド41aに対する配線は、そのボンデング
パノド部分からこのボンデング端J”21,21.
・・・にワイヤ22,22. ・・・により−件1−
落とされてワイヤボンデングされ、このボンデング端J
’−21からそのそれぞれに対応して設けられた外部端
子23.23. ・・・へとワイヤ24,24.
・拳拳により再びワイヤボンデングされて、外部のリー
ド端子23とチップ41とがワイヤボンデングされるも
のである。
ング端子21,21. ・・φがチップ41のボンデ
ングパ、ソド41 a+ 41 a、・拳−(こ対応
するようにそれぞれ設けられていて、チ、プ41の各ボ
ンデングパノド41aに対する配線は、そのボンデング
パノド部分からこのボンデング端J”21,21.
・・・にワイヤ22,22. ・・・により−件1−
落とされてワイヤボンデングされ、このボンデング端J
’−21からそのそれぞれに対応して設けられた外部端
子23.23. ・・・へとワイヤ24,24.
・拳拳により再びワイヤボンデングされて、外部のリー
ド端子23とチップ41とがワイヤボンデングされるも
のである。
ところで、外部端子23,23. ・・・は、第3セ
ラミックス層45の端部に形成されていて、第1セラミ
ックス層43には、その裏面側に比較的厚い金属板層4
3aが埋設されていて、その上面側に信号の配線43b
がなされ、それがスルーホールヲ介して前記第3セラミ
ックス層45の対応する所定の外部端子23,23.
・・・へと接続されている。なお、金属板層43aは
、説明の都合状金属板層30と別のものとして説明して
いるが、金属板層43aとは、金属板層30に連続して
いて、これは、金属板層30に相当する裏面側部分であ
って、これらは、金属のメッキが表面に施されて一体的
なものとなっている。
ラミックス層45の端部に形成されていて、第1セラミ
ックス層43には、その裏面側に比較的厚い金属板層4
3aが埋設されていて、その上面側に信号の配線43b
がなされ、それがスルーホールヲ介して前記第3セラミ
ックス層45の対応する所定の外部端子23,23.
・・・へと接続されている。なお、金属板層43aは
、説明の都合状金属板層30と別のものとして説明して
いるが、金属板層43aとは、金属板層30に連続して
いて、これは、金属板層30に相当する裏面側部分であ
って、これらは、金属のメッキが表面に施されて一体的
なものとなっている。
−−方、第3セラミックス層45の1〕面には、アドレ
ス信号の配線45aがなされていて、これらも同様にそ
の対応する所定の外部端−f’23,23゜・拳・に接
続されている。
ス信号の配線45aがなされていて、これらも同様にそ
の対応する所定の外部端−f’23,23゜・拳・に接
続されている。
そして、第1及び第3のセラミックス層の間にある第2
のセラミックス層44のト面には、ノイズの影響を除去
するために、スルーホールR分を除きグランド而44a
が設けられている。さらに第4のセラミックス層46も
同様なグランド而46aがその上面に設けられていて、
第5セラミックス層47に電源ライン47aが走ってい
る。
のセラミックス層44のト面には、ノイズの影響を除去
するために、スルーホールR分を除きグランド而44a
が設けられている。さらに第4のセラミックス層46も
同様なグランド而46aがその上面に設けられていて、
第5セラミックス層47に電源ライン47aが走ってい
る。
最上部となる第6のセラミックス層48専には、グラン
ド層としての比較的厚い金属板層30が埋設されている
。
ド層としての比較的厚い金属板層30が埋設されている
。
第5図は、これら各層を積層する前の状態を各層に展開
したものであって、第1のセラミックス層43から第6
のセラミックス層48までは、それぞれセラミックス基
板43Sから48Sまでを順次積層して・体化されて形
成されたものであって、これらは個々に焼成されたもの
を積層してもよいし、同時に焼成処理して多層化されて
もよい。
したものであって、第1のセラミックス層43から第6
のセラミックス層48までは、それぞれセラミックス基
板43Sから48Sまでを順次積層して・体化されて形
成されたものであって、これらは個々に焼成されたもの
を積層してもよいし、同時に焼成処理して多層化されて
もよい。
また、各グランド而44a、46aは、それぞれ各セラ
ミックス基板488.448の表面の金属メッキ層とし
て形成されるものであって、金属プレー)43aS、3
08は、それぞれ補強と静電破壊防ll’、、そしてノ
イズの影響を回避するために最上層のセラミックス層4
3と最上層のセラミ、クス層48に一体的に埋め込まれ
、これらが金属板層30及び金属板層43aを構成する
ものである。そしてこれらとセラミックス基板とはセラ
ミックス基板に施された金属メッキ層で接合されて、さ
らにこれら金属プレート43aS、308は、その表面
トに金属メッキが施され、表裏一体内な補強兼静電破壊
防][・、ノイズ防止層となる。
ミックス基板488.448の表面の金属メッキ層とし
て形成されるものであって、金属プレー)43aS、3
08は、それぞれ補強と静電破壊防ll’、、そしてノ
イズの影響を回避するために最上層のセラミックス層4
3と最上層のセラミ、クス層48に一体的に埋め込まれ
、これらが金属板層30及び金属板層43aを構成する
ものである。そしてこれらとセラミックス基板とはセラ
ミックス基板に施された金属メッキ層で接合されて、さ
らにこれら金属プレート43aS、308は、その表面
トに金属メッキが施され、表裏一体内な補強兼静電破壊
防][・、ノイズ防止層となる。
また、各セラミックス基板における孔は、それぞれスル
ーホール又は接触端子を構成する部分であって、これら
の部分は、グランド而となる金属メッキ而から除外され
てメッキがなされる。そしてこれらは、各層に設けられ
た配線のうち必要なものと接続される。
ーホール又は接触端子を構成する部分であって、これら
の部分は、グランド而となる金属メッキ而から除外され
てメッキがなされる。そしてこれらは、各層に設けられ
た配線のうち必要なものと接続される。
ところで、以−Fのように、信号配線、アドレス配線、
そして電源ラインをグランド而配線でサンドウィッチし
た構造とすることで、静電破壊及びノイズに強い構造と
することができる。なお、前記信号線の配線43b、ア
ドレス線の配線45a。
そして電源ラインをグランド而配線でサンドウィッチし
た構造とすることで、静電破壊及びノイズに強い構造と
することができる。なお、前記信号線の配線43b、ア
ドレス線の配線45a。
そして電源ライン47a等の総称としてこれらが第1図
における配線14として現れている。
における配線14として現れている。
さて、このように構成することにより、キーを持った人
の体等から高圧静電気がキーに入っても、ツェナーダイ
オード層42が受けてこれがブレークダウンし、高圧静
電気は、その裏面側の金の層からグランドへと落ちる。
の体等から高圧静電気がキーに入っても、ツェナーダイ
オード層42が受けてこれがブレークダウンし、高圧静
電気は、その裏面側の金の層からグランドへと落ちる。
その結果、ROMチップには、高電圧が印加されること
はなく、静電気でROMを破壊するおそれがない。
はなく、静電気でROMを破壊するおそれがない。
したがって、通常の使用状態において、キーを持った人
の体から高圧静電気がキーに加わっても、また、キーに
帯電又は印加される静電気があっても内蔵されたメモリ
が破壊される危険性はほとんどなく、通常のキーき同様
に安易な使用ができる。
の体から高圧静電気がキーに加わっても、また、キーに
帯電又は印加される静電気があっても内蔵されたメモリ
が破壊される危険性はほとんどなく、通常のキーき同様
に安易な使用ができる。
なお、第4図において、(ぼみ20のに部において点線
で小めす部分は、くぼに20部分を封1)二するキ?7
ブ25である。
で小めす部分は、くぼに20部分を封1)二するキ?7
ブ25である。
次に、全体的な動作を説明すると、キー10がレセプタ
クル50に挿入されて、所定の回転がなされたとき、レ
セプタクル50の底部に配置されたスイッチ53が“O
N”してターゲット7ステム100のプロセッサ101
が起動をかけられ又は割込みが発生する。このとき同時
にカム溝にプレート56の爪か落ち込み、レセプタクル
50のポゴピン群54,54. 拳・−,55,55
,−・・が降トしてキー10の対応する接触端子群17
.17. ・φ・、18,18・φ・とそれぞれ接触
する。
クル50に挿入されて、所定の回転がなされたとき、レ
セプタクル50の底部に配置されたスイッチ53が“O
N”してターゲット7ステム100のプロセッサ101
が起動をかけられ又は割込みが発生する。このとき同時
にカム溝にプレート56の爪か落ち込み、レセプタクル
50のポゴピン群54,54. 拳・−,55,55
,−・・が降トしてキー10の対応する接触端子群17
.17. ・φ・、18,18・φ・とそれぞれ接触
する。
そこで、プロセッサlotは、バス104とレセプタク
ル50のポゴピン群54. 54. ・・・。
ル50のポゴピン群54. 54. ・・・。
55.55. ・・・のうち選択されたものと、キー
の接触端子群17,17. ・Φ・、そして接触端子
7!TI8,18. ・拳・のうち選択されたちのと
を介してキー10のメモリ40をアクセスする信シシを
キー10側に送る。このアクセスイ、7弓がメモリ40
に送出されて、メモリ40のアクセスされた番地から所
定のデータが読出される。
の接触端子群17,17. ・Φ・、そして接触端子
7!TI8,18. ・拳・のうち選択されたちのと
を介してキー10のメモリ40をアクセスする信シシを
キー10側に送る。このアクセスイ、7弓がメモリ40
に送出されて、メモリ40のアクセスされた番地から所
定のデータが読出される。
読み出されたデータは、キー10側の接触M+Ai、/
J!07,17. ・・・、18.18. ・・・
のうち選択されたもの、レセプタクル50側の接触11
群54. 54. ・・・、55.55のうち選択さ
れたもの、舎・・バス104を経てプロセッサlO1へ
と渡されて所定の処理がなされる。
J!07,17. ・・・、18.18. ・・・
のうち選択されたもの、レセプタクル50側の接触11
群54. 54. ・・・、55.55のうち選択さ
れたもの、舎・・バス104を経てプロセッサlO1へ
と渡されて所定の処理がなされる。
さて、ここで、キー10のメモリ40は、プロセッサ1
01の持つアドレス空間の一部に割り当てられていて、
ターゲットシステム100のンステム内のRAM 10
2とか、プログラムROM 103と同様にアクセスさ
れるものとなる。
01の持つアドレス空間の一部に割り当てられていて、
ターゲットシステム100のンステム内のRAM 10
2とか、プログラムROM 103と同様にアクセスさ
れるものとなる。
そして、メモリ40に格納された指令等のプログラムの
情報又はデータ情報を得て、プロセッサ101は、あら
かじめ定められた所定の動作をして、ターゲットシステ
ム100のメモリ又は外部記憶装置の特定の情報がアク
セスされることになる。
情報又はデータ情報を得て、プロセッサ101は、あら
かじめ定められた所定の動作をして、ターゲットシステ
ム100のメモリ又は外部記憶装置の特定の情報がアク
セスされることになる。
キー10のメモリ40にPROM、EPROM。
E2 PROM等を用いた場合には、プログラマ−で1
杯プログラムし得る。キーは、ハイブリッド技術を介し
て例えば16384ビツトの情報を含み得て、同様な他
のFROMを18384ビツトまでエミュレーションし
得る。
杯プログラムし得る。キーは、ハイブリッド技術を介し
て例えば16384ビツトの情報を含み得て、同様な他
のFROMを18384ビツトまでエミュレーションし
得る。
メモリ40に格納されたデータは、キー10がレセプタ
クル50に挿入されると全体または1軍分的に書込み、
読出しまたは!J[iされ得るものである。
クル50に挿入されると全体または1軍分的に書込み、
読出しまたは!J[iされ得るものである。
キー10におけるメモリ40の記憶情報は、主システム
にアクセスを許容する非常に多くの個人的な個別コード
(50〜100字)を含むんでもよい。キー10は、ま
たターミナル装置の、Tlな部分を含み、それなくして
ターミナルは適当に動作しないものとすることができる
。
にアクセスを許容する非常に多くの個人的な個別コード
(50〜100字)を含むんでもよい。キー10は、ま
たターミナル装置の、Tlな部分を含み、それなくして
ターミナルは適当に動作しないものとすることができる
。
以−に説明してきたが、実施例では、キーの接触端子と
して、円形の金の接触而を用いているが、これは金に限
定されるものではない。また、この接触而の周囲に固定
されたり、/ヤは、金属を使用しているが、これは、接
触而が金のときには、製造過程で金のワッシャを融着す
るとよく、これらを容易に一体化し1!Jる。また、全
以外の金属ワッシャを使用するときには、低融点はんだ
5を介在させて固定するとよい。
して、円形の金の接触而を用いているが、これは金に限
定されるものではない。また、この接触而の周囲に固定
されたり、/ヤは、金属を使用しているが、これは、接
触而が金のときには、製造過程で金のワッシャを融着す
るとよく、これらを容易に一体化し1!Jる。また、全
以外の金属ワッシャを使用するときには、低融点はんだ
5を介在させて固定するとよい。
なお、ワッシャは、リング状のものならば円形のものに
限定されるものではなく、四角リングであってもよい。
限定されるものではなく、四角リングであってもよい。
また、実施例では、接触端子、メモリを内蔵している面
と同一面側の表面側に設けているが、これは、裏面側若
しくは表裏側にそれぞれ設けてもよく、また、通常のキ
ーの山/谷溝を設ける而となる上又は下若しくは−L下
のサイドに設けてもよい。
と同一面側の表面側に設けているが、これは、裏面側若
しくは表裏側にそれぞれ設けてもよく、また、通常のキ
ーの山/谷溝を設ける而となる上又は下若しくは−L下
のサイドに設けてもよい。
さらに、実施例では、キーにメモリを内蔵して、いるが
、このメモリにRAMを用いて書込みできるようにする
場合には、キーに電池を内蔵させることができる。そし
て接触端子とメモリの端子との間に、増幅器等のバ、フ
ァ回路等を介してこれ、、か接続されてもよいことはも
ちろんである。
、このメモリにRAMを用いて書込みできるようにする
場合には、キーに電池を内蔵させることができる。そし
て接触端子とメモリの端子との間に、増幅器等のバ、フ
ァ回路等を介してこれ、、か接続されてもよいことはも
ちろんである。
赴1]1!1例では、キーにE2PROMのメモリを内
蔵しているか、これは、EPROM、FROM等を使用
できることはもちろんである。
蔵しているか、これは、EPROM、FROM等を使用
できることはもちろんである。
さJ、に、実施例ではキーにメモリを内蔵しているか、
メモ]!を内蔵するキーに変えてメモリを内蔵するカー
ドを用いてもよいこ乏はもちろんである。
メモ]!を内蔵するキーに変えてメモリを内蔵するカー
ドを用いてもよいこ乏はもちろんである。
[発明の効果]
以l、の説明から理解できるように、この発明によれば
、イモ11とこのメモリの端子に直接又は間接的に接続
された接触端子とをイ1″するキー若しくはカードで構
成されたセキュリティキーにおいて、キー7°、シ<は
カードがターゲット/ステムに設けられたレセプタクル
に挿着され、接触端子がこのレセプタクルに設けられた
接触ピンに接触することにより、メモリがターゲット/
ステムのメモリの一部分きなるものであって、接触端子
にリング状の導体を設けているので、ターゲット/ステ
ムのレセプタタル側の接触ピンをリングの内側で案内す
ることかできる。
、イモ11とこのメモリの端子に直接又は間接的に接続
された接触端子とをイ1″するキー若しくはカードで構
成されたセキュリティキーにおいて、キー7°、シ<は
カードがターゲット/ステムに設けられたレセプタクル
に挿着され、接触端子がこのレセプタクルに設けられた
接触ピンに接触することにより、メモリがターゲット/
ステムのメモリの一部分きなるものであって、接触端子
にリング状の導体を設けているので、ターゲット/ステ
ムのレセプタタル側の接触ピンをリングの内側で案内す
ることかできる。
その結果、これらの間の1i続が確′太となる。しかも
接触端γが導・h性のリングであって、その縁がバッフ
1作用を持つことから、数丁間乃至は数万回の抜き差し
しCも、数1回乃至は数力回の(X触が行われた結果レ
セプタクル側の接触ピン側とか、キーの接触端子 (i
llにおいて摩耗が発生したり、位置すれが生じたとし
ても、リングの周囲に接触することで位置が矯正され、
接触状態が確保され、さらには接触面のはがれの防11
にも役\γ−)。
接触端γが導・h性のリングであって、その縁がバッフ
1作用を持つことから、数丁間乃至は数万回の抜き差し
しCも、数1回乃至は数力回の(X触が行われた結果レ
セプタクル側の接触ピン側とか、キーの接触端子 (i
llにおいて摩耗が発生したり、位置すれが生じたとし
ても、リングの周囲に接触することで位置が矯正され、
接触状態が確保され、さらには接触面のはがれの防11
にも役\γ−)。
したがって、数丁・回乃至は数カ回の抜き差し使用に対
してもその接続が確実になされる。
してもその接続が確実になされる。
第1図は、キーとレセプタクルを示す安全/ステムのブ
ロック図、第2図は、レセプタタルから分離したキーの
透視図、第3図(a)及び(b )は、それぞれキー側
の接触端子とレセプタタルのポゴピン(接触ピン)との
接続関係の説明図、第4図は、そのヘッド部分の拡大断
面図、第5図は、キーの積層前の各セラミックス層を構
成する基板の説明図である。 10・・・キー、13・・・ンヤフト部、12・・・ヘ
ッド、L 15,16・・・ワノ/ヤ、17.18・
・・接触端子、20・・・くぼみ、21・・・ボンデン
グ端子1 24・・・セラミックス層、23・・・配線、30.4
3a・・・金属板層、40・・・メモリ、41・・・チ
lブ、42・・・ンエナーダイオード基板層、43・・
・第1セラミックス層、 44・・・第2セラミックス層、 45・・・第3セラミックス層、 46・・・第4セラミ、クス層、 47・・・第5セラミックス層、47・・・第6セラミ
ノクス層、50・・・レセプタタル、 51・・・ソケット、52・・・/リンダ、53・・・
スイlチ、54.55・・・ポゴピン。 特許j11願人 L1本電子材料株式会社代理人
弁理二)4 梶 山 拮 是第3図((1) 第4図 5図 43aS
ロック図、第2図は、レセプタタルから分離したキーの
透視図、第3図(a)及び(b )は、それぞれキー側
の接触端子とレセプタタルのポゴピン(接触ピン)との
接続関係の説明図、第4図は、そのヘッド部分の拡大断
面図、第5図は、キーの積層前の各セラミックス層を構
成する基板の説明図である。 10・・・キー、13・・・ンヤフト部、12・・・ヘ
ッド、L 15,16・・・ワノ/ヤ、17.18・
・・接触端子、20・・・くぼみ、21・・・ボンデン
グ端子1 24・・・セラミックス層、23・・・配線、30.4
3a・・・金属板層、40・・・メモリ、41・・・チ
lブ、42・・・ンエナーダイオード基板層、43・・
・第1セラミックス層、 44・・・第2セラミックス層、 45・・・第3セラミックス層、 46・・・第4セラミ、クス層、 47・・・第5セラミックス層、47・・・第6セラミ
ノクス層、50・・・レセプタタル、 51・・・ソケット、52・・・/リンダ、53・・・
スイlチ、54.55・・・ポゴピン。 特許j11願人 L1本電子材料株式会社代理人
弁理二)4 梶 山 拮 是第3図((1) 第4図 5図 43aS
Claims (3)
- (1)メモリとこのメモリの端子に直接又は間接的に接
続された接触端子とを有するキー若しくはカードで構成
されたセキュリティキーにおいて、前記キー若しくはカ
ードがターゲットシステムに設けられたレセプタクルに
挿着され、前記接触端子がこのレセプタクルに設けられ
た接触ピンに接触することにより、前記メモリがターゲ
ットシステムのメモリの一部分となるものであって、前
記接触端子にはリング状の導体が設けられていることを
特徴とするセキュリティキー。 - (2)キーは、そのヘッド部分にメモリが内蔵され、そ
のシャフト部分に複数の接触端子が配列されているもの
であり、接触ピンはポゴピンであって、前記接触端子は
このポゴピンに接触してターゲットシステムに接続され
ることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載のセキュ
リティキー。 - (3)キーは、積層されたセラミックス層からなる基板
を有していて、リング状の導体は導電性の金属ワッシャ
であり、接触端子は金のコンタクト上に前記金属ワッシ
ャを固定して形成され、かつ前記メモリを内蔵している
面と同一面側の表面側又は裏面側若しくは表裏側におい
てメモリの端子に対応してそれぞれ設けられ、前記メモ
リのチップ又はこのチップがボンディングされた基板が
ツェナーダイオードの静電防止層の上に載置されている
ことを特徴とする特許請求の範囲第2項記載のセキュリ
ティキー。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60182899A JPS6243749A (ja) | 1985-08-20 | 1985-08-20 | セキユリテイキ− |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60182899A JPS6243749A (ja) | 1985-08-20 | 1985-08-20 | セキユリテイキ− |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6243749A true JPS6243749A (ja) | 1987-02-25 |
Family
ID=16126326
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60182899A Pending JPS6243749A (ja) | 1985-08-20 | 1985-08-20 | セキユリテイキ− |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6243749A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04233480A (ja) * | 1990-09-14 | 1992-08-21 | Internatl Business Mach Corp <Ibm> | 電子デバイスの試験装置 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58221478A (ja) * | 1982-06-16 | 1983-12-23 | Kyodo Printing Co Ltd | Icカ−ド |
| JPS59123954A (ja) * | 1982-12-29 | 1984-07-17 | Fujitsu Ltd | 記憶デ−タの不正使用防止方式 |
-
1985
- 1985-08-20 JP JP60182899A patent/JPS6243749A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58221478A (ja) * | 1982-06-16 | 1983-12-23 | Kyodo Printing Co Ltd | Icカ−ド |
| JPS59123954A (ja) * | 1982-12-29 | 1984-07-17 | Fujitsu Ltd | 記憶デ−タの不正使用防止方式 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04233480A (ja) * | 1990-09-14 | 1992-08-21 | Internatl Business Mach Corp <Ibm> | 電子デバイスの試験装置 |
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