JPS6244601A - Mobile mounting table device - Google Patents

Mobile mounting table device

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Publication number
JPS6244601A
JPS6244601A JP18446585A JP18446585A JPS6244601A JP S6244601 A JPS6244601 A JP S6244601A JP 18446585 A JP18446585 A JP 18446585A JP 18446585 A JP18446585 A JP 18446585A JP S6244601 A JPS6244601 A JP S6244601A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
stage
axis
lens
light
hologram
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP18446585A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Kenjirou Hayafune
早船 健次郎
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Tokyo Optical Co Ltd
Original Assignee
Tokyo Optical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Tokyo Optical Co Ltd filed Critical Tokyo Optical Co Ltd
Priority to JP18446585A priority Critical patent/JPS6244601A/en
Publication of JPS6244601A publication Critical patent/JPS6244601A/en
Pending legal-status Critical Current

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  • A Measuring Device Byusing Mechanical Method (AREA)
  • Control Of Position Or Direction (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
(57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.

Description

【発明の詳細な説明】 崖1上例■里圀団 本発明は、半導体ウェハー露光装置の原板保持装置やホ
ログラフィック干渉計のホログラム原器保持装置のよう
に原板や原器を確実に保持し、かつこれらを微小空間位
置内に精密に移動させるための移動載置台装置に関する
[Detailed Description of the Invention] Cliff 1 Upper Example ■ Rikunidan The present invention provides a device for reliably holding an original plate or a prototype, such as a master holding device for a semiconductor wafer exposure device or a hologram standard holding device for a holographic interferometer. , and relates to a movable mounting table device for precisely moving these into a microscopic space position.

従来技術 従来の移動載置台装置としては、例えば4軸移動載置台
を考えれば、Z軸方向に移動する基台上にY軸方向に移
動する移動ステージを取り付け、そのY軸ステージ上に
X軸方向に移動するステージを取り付け、さらにこのX
軸ステージ上にθ方向の回転ステージを取付け、この回
転ステージ上に被載置物を載置し、一方、上記各々のス
テージにこれを送るための送りネジ機構を各々組込んだ
型式となっていた。
Prior Art As a conventional movable mounting table device, for example, if we consider a four-axis movable mounting table, a movable stage that moves in the Y-axis direction is mounted on a base that moves in the Z-axis direction, and an X-axis Attach a stage that moves in the direction, and then
A rotation stage in the θ direction was mounted on the axis stage, the object to be placed was placed on this rotation stage, and a feed screw mechanism was built in to feed the object to each of the above stages. .

1      このように従来の移動載置台は、被載置
物を移動すべき軸数だけの移動ステージと送りネジ機構
を必要としていた。また、各ステージ走り精度を高める
ためにガイドレールとして蟻溝構造を利用していた。
1 As described above, the conventional movable mounting table requires as many moving stages and feed screw mechanisms as the number of axes on which the object to be mounted is to be moved. In addition, a dovetail structure was used as a guide rail to improve the running accuracy of each stage.

なお、干渉計としては、例えば、第22図に示すフィゾ
ー型干渉針が知られている。すなわち、光源(レーザ)
LSからの光はコリメータレンズCで平行光束とされる
。その後、結像レンズL。
Note that as an interferometer, for example, a Fizeau type interference needle shown in FIG. 22 is known. i.e. light source (laser)
The light from the LS is made into a parallel beam by a collimator lens C. After that, the imaging lens L.

と発散レンズLtとの間に傾設されたハーフミラ−から
なるビームスプリッタBSで反射された光束は、その内
の一部が、発散レンズL2で発散された後参照球面Rで
反射され、入射光(11)と同一の光路を通ってビーム
スプリッタBS、ホログラム原器H1結像レンズL、を
介し了0次の参照光となって空間フィルターSFの開口
を通過する。
A part of the light beam reflected by the beam splitter BS, which is a half mirror tilted between the diverging lens Lt and the diverging lens L2, is reflected by the reference sphere R after being diverged by the diverging lens L2. It passes through the same optical path as in (11), passes through the beam splitter BS and the hologram prototype H1 imaging lens L, becomes a 0th-order reference light, and passes through the aperture of the spatial filter SF.

一方、参照球面Rを透過し、被検光学素子(非球面凹面
鏡)Tで反射された光すなわち物体光は、逆進してビー
ムスプリンタBSを透過する。ビームスプリッタBSを
透過してホログラム原器で回折されない0次光は空間フ
ィルターSFでカントされ、一方ホログラム原器で回折
された例えば−次の回折光は空間フィルターSFの開口
を通過し、上述の0次参照光と干渉スクリーンまたはフ
ィルム上で干渉縞を形成する。
On the other hand, the light that passes through the reference spherical surface R and is reflected by the optical element to be tested (aspherical concave mirror) T, that is, the object light, travels backwards and passes through the beam splinter BS. The 0th-order light that passes through the beam splitter BS and is not diffracted by the hologram prototype is canted by the spatial filter SF, while the -order diffracted light, for example, which is diffracted by the hologram prototype, passes through the aperture of the spatial filter SF and is then canted by the spatial filter SF. Interference fringes are formed on an interference screen or film with the zero-order reference light.

一部の7° しようとするIj  へ 上記従来の移動載置台は前述したように移動軸数分のス
テージを必要とするため構造が複雑で、大型化し、コス
ト高となり、また組立誤差もそれだけ累積して大きくな
り、高精度な移動載置台が得にくいという欠点があった
As mentioned above, the conventional movable mounting table requires stages for the number of moving axes, resulting in a complex structure, large size, high cost, and the accumulation of assembly errors. This has the disadvantage that it is difficult to obtain a highly accurate movable mounting table.

また、移動ステージの走り方向のガイドに上記したよう
に蟻溝構造を利用すると、その加工がむつかしく、部品
コストや製造コストが高くなる等の欠点があった。
Further, when the above-mentioned dovetail groove structure is used to guide the moving stage in the running direction, there are drawbacks such as difficult machining and high parts and manufacturing costs.

光皿皇旦煎 本発明は係る従来の移動載置台の欠点に鑑みなされたも
ので、−その目的は構成が簡単で、低コストで製作でき
、かつ高精度な新規有用な移動iI3!置台を提供する
ことにある。
The present invention has been made in view of the drawbacks of the conventional movable mounting table, and its purpose is to provide a new and useful movable iI3 that is simple in structure, can be manufactured at low cost, and has high precision! The purpose is to provide a stand.

1皿鬼璽底 上記目的を達成するための本発明の移動載置台装置の構
成上の特徴は、゛被載置物が載置される移動ステージと
、該移動ステージをX軸方向とY軸方向とに移動可能に
支持する基部ステージと、該基部ステージに取付けられ
前記移動ステージにY軸に沿って一方向から移動力を作
用させるための少なくとも1つのX軸送リネジと、該Y
軸に沿って反対方向から前記移動ステージに移動力を作
用させるための弾発手段と前記移動ステージに少なくと
も2本のY軸に沿って一方向から移動力を作用させるた
めの少なくとも2つのY軸送りネジと、前記2本のY軸
のそれぞれにそって反対方向から前記移動ステージに移
動力を作用させるための少なくとも2つの弾発手段とを
有することである。
The structural features of the movable mounting table device of the present invention for achieving the above object include: a movable stage on which an object is placed; a base stage that movably supports the base stage; at least one X-axis feed screw attached to the base stage for applying a moving force to the movable stage from one direction along the Y-axis;
an elastic means for applying a moving force to the moving stage from opposite directions along the axis; and at least two Y-axes for applying a moving force to the moving stage from one direction along at least two Y-axes. The present invention includes a feed screw and at least two resilient means for applying a moving force to the moving stage from opposite directions along each of the two Y axes.

光皿少四困 本発明によれば、1つの基部ステージ上に支持された移
動ステージは、Y軸、Y軸及びθ方向の回転移動が可能
で、そのための部分点数は極めて少なく、装置全体を小
型化でき、かつコストダウンもできる。
According to the present invention, the movement stage supported on one base stage is capable of rotational movement in the Y-axis, Y-axis, and θ directions, and the number of parts for this is extremely small, and the entire device can be moved. It can be miniaturized and costs can be reduced.

他方、送りネジの移動ステージへの移動力作用方向と弾
発手段の移動ステージへの移動力作用方向が正対してい
るため、送りネジのバックラッシュをキャンセルし、高
精度なステージの移動すなわち被載置物の高い移動精度
を保障できる。
On the other hand, since the direction in which the moving force of the feed screw acts on the moving stage and the direction in which the moving force acts on the moving stage of the elastic means are directly opposite, the backlash of the feed screw is canceled and the stage is moved with high precision, that is, the direction of the moving force acting on the moving stage is directly opposite. It can guarantee high movement accuracy of the placed items.

また、より限定された実施態様項の1つによれば、移動
ステージを基部ステージに鋼球を介してバネ手段で常時
引着するという極めて簡単な構成でありながら移動ステ
ージの走りに伴なうZ軸方向のブレをなくしている。
In addition, according to one of the more limited embodiments, although the movable stage is always attached to the base stage by a spring means via a steel ball, which is an extremely simple structure, Eliminates blurring in the Z-axis direction.

以下本発明の実施例をホログラフィック干渉計のホログ
ラム原器用ホルダーを例に詳述するが、本発明はこれに
限定されるものではない。
Embodiments of the present invention will be described in detail below using a hologram prototype holder for a holographic interferometer as an example, but the present invention is not limited thereto.

某Jl性 以下本発明に関するホログラフィック干渉計の実施例を
詳述する。
Embodiments of the holographic interferometer according to the present invention will be described in detail below.

ム倉迷煎友ヱ徂底 第1図に本発明に関するホログラフィック干渉計の光学
構成の全体図を示す。光源であるレーザ101からの光
は、ミラー102a、102bにより光路を変換された
後、集光レンズ103により集光される。この集光点近
傍にはピンホール104aを有するピンホールレチクル
板104が配置されている。このピンホール104aを
通過した発散光はピンホール104aを2次光源とする
ごとく作用する。なお、ミラー102aと102bの間
には1/4波長板105が配設されている。
FIG. 1 shows an overall diagram of the optical configuration of a holographic interferometer according to the present invention. Light from a laser 101 as a light source has its optical path changed by mirrors 102a and 102b, and then is condensed by a condenser lens 103. A pinhole reticle plate 104 having a pinhole 104a is arranged near this focal point. The diverging light passing through the pinhole 104a acts as if the pinhole 104a were a secondary light source. Note that a quarter wavelength plate 105 is disposed between the mirrors 102a and 102b.

コリメータレンズ106が、その焦点がピンホール10
4aに位置するように配設されている。
A collimator lens 106 has a focal point at the pinhole 10.
4a.

ピンホール104aを二次光源としてピンホール104
aから射出された光束は、コリメータレンズ106によ
り平行光束とされる。コリメータレンズ106の後方に
は参照平面板107が配置されている。この参照平面板
107は前側平面107aが装置光軸(コリメータ光軸
)OIに対し垂直になるよう配置されている。また、そ
の後側平面107bは前側平面107aに対し微小角度
傾斜しており、前側平面107aでの反射光と後側平面
107bでの反射光との互いの干渉光が測定に影響を与
えないようになっている。
The pinhole 104 uses the pinhole 104a as a secondary light source.
The light beam emitted from a is made into a parallel light beam by the collimator lens 106. A reference plane plate 107 is arranged behind the collimator lens 106. This reference plane plate 107 is arranged so that the front plane 107a is perpendicular to the apparatus optical axis (collimator optical axis) OI. Further, the rear plane 107b is inclined at a small angle with respect to the front plane 107a, so that interference light between the light reflected from the front plane 107a and the light reflected from the rear plane 107b does not affect the measurement. It has become.

被検物Tが例えば非球面凹面鏡のような凹面物体である
場合、参照平面板107の後方には、参照レンズ109
が装置鏡筒108に取付けられて配置される。参照平面
板107を透過した平行光束は集束光束となり、点Pで
一度点収束した後、再び発散光となって被検物例えば非
球面凹面鏡Tに入射する。
When the test object T is a concave object such as an aspherical concave mirror, a reference lens 109 is provided behind the reference plane plate 107.
is attached and arranged on the device lens barrel 108. The parallel light beam transmitted through the reference plane plate 107 becomes a convergent light beam, and after converging once at a point P, it becomes a divergent light beam again and enters the object to be inspected, for example, an aspherical concave mirror T.

被検物Tから反射された物体光と、参照平面板107の
前側平面107aから反射された参照光とは、ピンホー
ルレチクル板104とコリメータレンズ106との間に
そのハーフミラ−面110aを光軸01に対し傾設した
プリズム型ビームスプリッタ110に入射する。物体光
と参照光はともにハーフミラ−面110 a’で反射さ
れ、後述するホログラム原器ホルダー200に支持され
たホログラム原器300に入射する。
The object light reflected from the test object T and the reference light reflected from the front plane 107a of the reference plane plate 107 are arranged between the pinhole reticle plate 104 and the collimator lens 106 with the half mirror surface 110a as the optical axis. The beam enters a prism type beam splitter 110 which is tilted with respect to 01. Both the object beam and the reference beam are reflected by the half mirror surface 110a' and enter a hologram prototype 300 supported by a hologram prototype holder 200, which will be described later.

レーザ1.01.  ミラー102a、102b。Laser 1.01. Mirrors 102a, 102b.

1八波長板105.ピンホールレチクル104゜ズーム
スプリッタ110.コリメータレンズ106゜参照平面
板107.参照レンズ109.被検物T及びホログラム
原器ホルダー200は1つの共通光学ベンチ100上に
設置される。
18 wavelength plate 105. Pinhole reticle 104° zoom splitter 110. Collimator lens 106° reference plane plate 107. Reference lens 109. The test object T and the hologram prototype holder 200 are installed on one common optical bench 100.

ホログラム原器300を透過した光は、結像レンズ11
1.ハーフミラ−112を介して空間フィルター113
に結像される。この空間フィルター113は、参照光と
物体光の内、ホログラム原器300で回折された一方の
光と、ホログラム原器300で回折されなかった他方の
光のみを選択的に取り出すためのものである。より具体
的に述べるならば、第22図に示す従来のフィゾー型干
渉計のように、この空間フィルター113は、例えば参
照平面板107からの参照光でホログラム原器300に
より回折されなかった0次参照光と、被検物Tからの物
体光でホログラム原器300で回折された一次物体光の
みを選択的に取り出し、参照光、の回折光や物体光の0
次及び2次以上の高次回折光はカットするように作用す
る。
The light transmitted through the hologram prototype 300 passes through the imaging lens 11
1. Spatial filter 113 via half mirror 112
is imaged. This spatial filter 113 is for selectively extracting only one of the reference light and the object light that was diffracted by the hologram prototype 300 and the other light that was not diffracted by the hologram prototype 300. . To be more specific, as in the conventional Fizeau interferometer shown in FIG. Only the reference light and the primary object light diffracted by the hologram prototype 300 are extracted from the reference light and the object light from the test object T, and the diffracted light of the reference light and the object light are removed.
The second and higher order diffraction lights act to be cut.

空間フィルター113で選択された物体光と参照光は、
ズームレンズ114.ハーフミラ−115及び結像レン
ズ116を介してTVカメラ117の撮像面117a上
に参照光と物体光の干渉パターンを形成する。TVカメ
ラ117の揚影像はモニターテレビ118とパーソナル
コンピュータで構成される干渉パターン解析装置119
へ送られる。なお、ハーフミラ−115を透過した参照
光と物体光は、即時現像型カメラ120のフィルム12
0a上に盪像面117a上に形成されると同様の干渉パ
ターンを形成しこれをフィルム120aに記録させる。
The object light and reference light selected by the spatial filter 113 are
Zoom lens 114. An interference pattern between the reference light and the object light is formed on the imaging surface 117a of the TV camera 117 via the half mirror 115 and the imaging lens 116. The image captured by the TV camera 117 is captured by an interference pattern analysis device 119 consisting of a monitor television 118 and a personal computer.
sent to. Note that the reference light and object light transmitted through the half mirror 115 are transferred to the film 12 of the instant development type camera 120.
When the interference pattern is formed on the image plane 117a on the image plane 117a, a similar interference pattern is formed and recorded on the film 120a.

結像レンズ111を通った光の一部は、ハーフ1   
、う−1□28i3iML、ヤ、□、よ−ウ。1て配置
されたレチクル板121上に結像される。
A part of the light passing through the imaging lens 111 is half 1
, U-1□28i3iML, Ya, □, Yo-U. The image is formed on a reticle plate 121 arranged at the same time.

レチクル板121上の像は撮影レンズ122を介して′
r■カメラ123で撮像され、切換回路124を介して
モニタ、+ 118に写し出される。これらレチクル板
121.撮影レンズ122.TVカメラ123.モニタ
ー118は、被検物Tを測定光路中にセラI・するため
のアライメント光学系125を形成する。
The image on the reticle plate 121 is
The image is captured by the camera 123 and displayed on the monitor +118 via the switching circuit 124. These reticle plates 121. Photographing lens 122. TV camera 123. The monitor 118 forms an alignment optical system 125 for aligning the object T in the measurement optical path.

結像レンズ111,116.ハーフミラ−112゜11
5、空間フィルター113.ズームレンズ114、撮影
レンズ122.TVカメラ117゜123及びカメラ1
20は、光学ベンチ130上にi3I置される。この光
学ベンチ130は、後述するオフアクシス角調整のため
、コリメータレンズ107と参照レンズ109の合成光
学系の射出瞳EPと共役な点LCを中心に公知のマイク
ロ送り機構131の駆動により旋回するアーム131に
固設されている。なお、被検物が平面物体の場合は参照
レンズ109は不要であり、このときは旋回中心LCは
コリメータレンズ107の射出瞳中心と共役な位置にす
る。
Imaging lenses 111, 116. Half mirror-112°11
5. Spatial filter 113. Zoom lens 114, photographic lens 122. TV camera 117°123 and camera 1
20 is placed i3I on the optical bench 130. This optical bench 130 has an arm that rotates by driving a known micro-feeding mechanism 131 around a point LC that is conjugate with the exit pupil EP of a composite optical system of a collimator lens 107 and a reference lens 109 in order to adjust the off-axis angle described later. It is fixedly installed at 131. Note that if the object to be inspected is a flat object, the reference lens 109 is not necessary, and in this case, the center of rotation LC is set at a position conjugate with the center of the exit pupil of the collimator lens 107.

以上述べたように、本ホログラフィック干渉計の型式は
フィゾー型であるから、光学要素数をトワイマン・グリ
ーン型やマツハツエンダ−型よりも大幅に低減できる。
As described above, since the present holographic interferometer is of the Fizeau type, the number of optical elements can be significantly reduced compared to the Twyman-Green type and Matsuhatsu-Ender type.

また本干渉計は、従来のフィゾー型干渉計と異なり、そ
のビームスプリフタをコリメータレンズとピンホール1
04aの間の発散光束中に配置したため、コリメータレ
ンズによる平行光束中にビームスプリッタを設ける従来
のものに比してそのハーフミラ−面の面積を1/4程度
に小さくできる。
Also, unlike conventional Fizeau-type interferometers, this interferometer uses a beam splitter as a collimator lens and pinhole 1.
Since it is placed in the diverging beam between 04a and 04a, the area of the half mirror surface can be reduced to about 1/4 compared to a conventional beam splitter in which a beam splitter is provided in the parallel beam by the collimator lens.

さらに、このハーフミラ−面の狭小化によりビームスプ
リッタをプリズム型で構成でき、後述するように、ホロ
グラムパターン描画のための演算情報、描画情報の減少
化を実現できる。また、ビームスプリフタが小型になっ
たため、その製作精度を著しく高めることができ、また
その製作コストも低減できる。
Furthermore, by narrowing the half mirror surface, the beam splitter can be constructed in a prism type, and as will be described later, it is possible to reduce the calculation information and drawing information for drawing a hologram pattern. Furthermore, since the beam splitter has become smaller, its manufacturing accuracy can be significantly improved, and its manufacturing cost can also be reduced.

さらにまた、ホログラム原器もこのビームスプリフタに
よる収束反射光束内に配置する構成としたため、小型化
でき、コスト低減かつ高精密描画を可能にしている。こ
れにより、大口径の被検物や非球面度の大きい非様面被
検物をも高精度に測定できるホログラフィック干渉計が
実現できた。
Furthermore, since the hologram prototype is also placed within the convergence and reflection beam of the beam splitter, it is possible to downsize, reduce costs, and achieve high-precision drawing. This has made it possible to create a holographic interferometer that can measure with high precision even large-diameter test objects and non-shape test objects with a large degree of asphericity.

し主旦久旦ム里塁 第2図はホログラム原器の構成を示す平面図である。ホ
ログラム原器300は中央に計算機ホログラムよりなる
ホログラムパターン部301を有する。従来の干渉計は
参照光と物体光の分離合成にミラー型のビームスプリッ
タを利用していた。     ゛このミラー型ビームス
プリッタの場合、ミラー表面とミラー裏面(ハーフミラ
−面)が平行に形成されているとそれぞれの面で反射し
た光が互いに干渉して測定に悪影響を与えるため、従来
のミラー型ビームスプリンタはミラー表面とミラー裏面
を平行にせず微小角傾斜させていた。このため光軸に対
する対称性が(ずれるため、従来たとえオンアクシス型
のホログラム原器であっても、そのホログラムパターン
は、全象限について計算して描画データを得なければな
らなかった。しかし、本ホログラフィック干渉計では、
ビームスプリッタ110は前述したようにプリズム型ビ
ームスプリッタであるから、光軸に対する対称性が保存
されており、オンアクシス型ホログラム原器のホログラ
ムパターンは同心円パターンとなりかつ点対称となる。
Figure 2 is a plan view showing the configuration of the hologram prototype. The hologram prototype 300 has a hologram pattern section 301 made of a computer-generated hologram in the center. Conventional interferometers use mirror-type beam splitters to separate and combine the reference beam and object beam.゛In the case of this mirror type beam splitter, if the mirror surface and mirror back surface (half mirror surface) are formed in parallel, the light reflected from each surface will interfere with each other and adversely affect the measurement. In the beam splinter, the mirror surface and back surface were not parallel, but tilted at a slight angle. As a result, the symmetry with respect to the optical axis is shifted, so even with an on-axis hologram prototype, the hologram pattern had to be calculated for all quadrants to obtain drawing data. In a holographic interferometer,
Since the beam splitter 110 is a prismatic beam splitter as described above, symmetry with respect to the optical axis is preserved, and the hologram pattern of the on-axis hologram prototype is a concentric pattern and point-symmetric.

このため、そのパターン計算及び描画データの演算は、
第4図に示すように、(x、y)の第1象限についての
み行い、他の(−X、)’)、(−x、−y)、(X、
−y)の第2、第3、第4象限については第1象限のデ
ータを単純に座標変換すればよく、演算経費、演算時間
の短縮と、描画データの低減をすることができる。逆に
、従来と同程度の経費と時間をホログラムパターンの演
算と描画データの作成に費すならば、それらデータはよ
り高精度なものとなりうる。
Therefore, the pattern calculation and drawing data calculation are
As shown in Fig. 4, this is done only for the first quadrant of (x, y), and the other (-X,
Regarding the second, third, and fourth quadrants of -y), the data in the first quadrant may be simply subjected to coordinate transformation, and the calculation cost and calculation time can be shortened, and the amount of drawing data can be reduced. On the other hand, if the same amount of expense and time as in the past is spent on calculating hologram patterns and creating drawing data, those data can have higher precision.

ホログラムパターン部301の周囲には、ホログラムパ
ターンを電子ビームのスキャンニングで描画する行程で
同時に描画された十字型の歪検査パターン302が形成
されている。この歪検査パ)       ヶー7.よ
うあイ、成、わ、いおi*z−sヶー、おや。
A cross-shaped distortion test pattern 302 is formed around the hologram pattern section 301, which is drawn at the same time as the hologram pattern is drawn by electron beam scanning. This strain test Pa) 7. Yoai, nari, wa, ioi*z-ska, oh.

され、相互の位置ずれ量からホログラムパターンの歪量
を検査できるようになっている。
The amount of distortion in the hologram pattern can be inspected from the amount of mutual positional deviation.

また、歪検査パターンの外側2か所には白黒比検査パタ
ーン303が形成されている。この白黒比検査パターン
は、例えば第3図に示すような黒部304と白部305
を同面積で交互に平面的に配列してなる市松模様のパタ
ーンが利用される。
Further, a black-white ratio test pattern 303 is formed at two locations outside the distortion test pattern. This black-and-white ratio test pattern includes, for example, a black part 304 and a white part 305 as shown in FIG.
A checkerboard pattern is used in which the same area is alternately arranged in a plane.

この白黒比検査パターン303は、ホログラムパターン
301を電子ビーム描画する行程で同時に描画されるた
め、この白黒比検査パターン303の白黒比をデンシト
メーターで測定すれば、ホログラムパターン自体の白黒
比を間接的に知ることができる。
This black-and-white ratio test pattern 303 is drawn at the same time as the hologram pattern 301 is drawn with an electron beam, so if the black-and-white ratio of this black-and-white ratio test pattern 303 is measured with a densitometer, the black-and-white ratio of the hologram pattern itself can be indirectly determined. can be known in detail.

ホログラム原器300の四隅には、このホログラム原器
300をホログラム原器ホルダー200に取付けるとき
の位置合せ用の十字線型の位置合せマーク306が形成
されている。図中下側の二つの位置合せマークの下方に
はL字型の上下判別マーク307が形成されている。
At the four corners of the hologram prototype 300, cross-hair-shaped alignment marks 306 are formed for positioning when the hologram prototype 300 is attached to the hologram prototype holder 200. An L-shaped upper/lower discrimination mark 307 is formed below the two alignment marks on the lower side of the figure.

C,ホログラム原器ホルダー 第5図ないし第7図はホログラム原器ホルダー200を
示す図である。光学ベンチ100に載置された軸受20
1,202にはシャフト203が光軸02 (第1図参
照)方向に平行に摺動可能に支持されている。シャフト
203にはビス204゜204によりZ軸方向(光軸0
2方向)移動ステージ205が固着されている。軸受2
01にはシリンダー206が取付けられ、その中にバネ
207が嵌挿されている。一方軸受202にはZ軸送り
ネジ208が螺合されている。このZ輸送すネジ208
は鋼球209を介してバネ207と協働してZ軸方向移
動ステージ205を挟持し、その送りによりステージ2
05をZ軸方向にそって前後させる。
C. Hologram prototype holder FIGS. 5 to 7 are diagrams showing the hologram prototype holder 200. Bearing 20 placed on optical bench 100
1, 202, a shaft 203 is supported so as to be slidable in parallel to the optical axis 02 (see FIG. 1). The shaft 203 is connected to the Z-axis direction (optical axis 0
2 directions) A moving stage 205 is fixed. Bearing 2
A cylinder 206 is attached to 01, and a spring 207 is inserted into the cylinder 206. On the other hand, a Z-axis feed screw 208 is screwed into the bearing 202 . This Z transport screw 208
cooperates with the spring 207 via the steel ball 209 to clamp the Z-axis direction moving stage 205, and by its feeding, the stage 2
05 back and forth along the Z-axis direction.

Z軸方向移動ステージ205のステージ面205aには
鋼球210を介してX−Y方向移動ステージ211が載
置されている。このステージ211の裏面には、第6図
に示すように、ビス212が植設されており、Z軸方向
移動ステージ205に形成された開口213の後部に渡
された棒214との間にバネ215が掛けられている。
An X-Y direction movement stage 211 is placed on the stage surface 205a of the Z-axis direction movement stage 205 via a steel ball 210. As shown in FIG. 6, a screw 212 is installed on the back surface of this stage 211, and a spring is inserted between it and a rod 214 passed to the rear of an opening 213 formed in the Z-axis direction moving stage 205. It is multiplied by 215.

このバネ215の引張力によりX−Y方向移動ステージ
211はZ軸方向移動ステージ205のステージ面20
5a方向に引き付けられ、移動面の安定が図られる。
Due to the tensile force of this spring 215, the X-Y direction moving stage 211 moves to the stage surface 20 of the Z-axis direction moving stage 205.
It is attracted in the direction 5a, and the moving surface is stabilized.

またZ軸方向移動ステージ205には、第5図に示すよ
うに、2つのY軸送りネジ216.217と1つのX輸
送リネジ218とが取付けられている。X−Y方向移動
ステージ211の側面はヘアリング219を介してガイ
ド220を有しており、これらガイド220は鋼球22
1を介して送りネジ216,217,218により押圧
されている。
Further, as shown in FIG. 5, two Y-axis feed screws 216 and 217 and one X-transport screw 218 are attached to the Z-axis direction movement stage 205. The side surface of the X-Y direction moving stage 211 has guides 220 via hair rings 219, and these guides 220 are connected to steel balls 22.
1 by feed screws 216, 217, and 218.

X−Y方向移動ステージ211は、さらにX軸送りネジ
218の取付位置と対向側部に切欠部222を有してい
る。切欠部222の側面とZ軸方向移動ステージ205
の起立片224との間には弾圧体223が挿着されてい
る。
The X-Y direction moving stage 211 further has a notch 222 on the side opposite to the mounting position of the X-axis feed screw 218. Side surface of notch 222 and Z-axis direction movement stage 205
A resilient body 223 is inserted between the upright piece 224 and the upright piece 224 .

弾圧体223は、第6図に示すように、シリンダ225
と、そのシリンダ内に挿入されたピストン226と、こ
のピストン226に常時押圧力を与えるためにシリンダ
225内に嵌挿されたバネ227とから構成される装置 同様に、ステージ211は切欠部228,229がY輸
送リネジ216,217に対向して形成されており、ス
テージ205の起立片230.231とこれら切欠部の
側面との間に弾圧体232゜233を介在させている。
As shown in FIG.
, a piston 226 inserted into the cylinder, and a spring 227 fitted into the cylinder 225 to constantly apply a pressing force to the piston 226.Similarly, the stage 211 has a notch 228, 229 are formed to face the Y transport line screws 216 and 217, and elastic bodies 232 and 233 are interposed between the upright pieces 230 and 231 of the stage 205 and the sides of these notches.

弾圧体232.233の構成は前記弾圧体223と同様
である。
The configuration of the elastic bodies 232 and 233 is similar to that of the elastic body 223 described above.

上述のホログラム原器ホルダーの構成において、送りネ
ジ216,217の同方向、同量の送りによって、ステ
ージ211は、第10B図に示すように、移動量Yをう
る。また、送りネジ218の送りによって、ステージ2
’l lは、第10A図に示すように移動量Xを得る。
In the configuration of the hologram prototype holder described above, by feeding the feed screws 216 and 217 in the same direction and by the same amount, the stage 211 obtains a movement amount Y as shown in FIG. 10B. Also, by feeding the feed screw 218, the stage 2
'l l obtains the amount of movement X as shown in FIG. 10A.

さらに、送りネジ216.218を固定し、送りネジ2
17のみを送ることによって、第10C図に示すように
、ステージ211は回転角θの回動がなされる。
Furthermore, fix the feed screws 216 and 218, and
By sending only the rotation angle 17, the stage 211 is rotated by the rotation angle θ, as shown in FIG. 10C.

X−Y方向移動ステージ211は、その中央に略矩形の
開口部235を有し、左上隅と右下隅に゛      
円形開口236,237が形成されている。これら円形
開口236,237はZ軸方向移動ステージ205に形
成された開口238と対応している。
The X-Y direction moving stage 211 has a substantially rectangular opening 235 at its center, and an opening 235 at the upper left corner and the lower right corner.
Circular openings 236, 237 are formed. These circular openings 236 and 237 correspond to an opening 238 formed in the Z-axis direction movement stage 205.

開口238には、ボロクラム原器300上の位置合せマ
ーク304を観察するための顕微鏡用対物レンズ240
が挿着されている。
A microscope objective lens 240 is provided in the opening 238 for observing the alignment mark 304 on the Borochram prototype 300.
is inserted.

またステージ211の開口部235の周辺には円形の溝
241が形成されており、この溝には図示なき真空ポン
プのノズル242がパイプ243を介して連結されてい
る。さらにステージ211の外側面にはガイド片244
が固着されている。
Further, a circular groove 241 is formed around the opening 235 of the stage 211, and a nozzle 242 of a vacuum pump (not shown) is connected to this groove via a pipe 243. Furthermore, a guide piece 244 is provided on the outer surface of the stage 211.
is fixed.

これによりホログラム原器300はガイド片にそってス
テージ211上に載置され真空ポンプで溝241内の空
気を吸収することによりステージ211上に大気圧で密
着される。
Thereby, the hologram prototype 300 is placed on the stage 211 along the guide piece, and is brought into close contact with the stage 211 at atmospheric pressure by absorbing the air in the groove 241 with a vacuum pump.

シャフト203の先端及びステージ205に植設された
ポール245の先端にはアーム246゜247が取付け
られており、そのアーム246゜247の先端には、発
光ダイオード248と熱線吸収フィルター249とがそ
れぞれ収納されており、ステージ211上に載置された
ホログラム原器の位置合せマーク304の照明に利用さ
れる。
Arms 246° 247 are attached to the tip of the shaft 203 and the tip of the pole 245 installed on the stage 205, and a light emitting diode 248 and a heat ray absorption filter 249 are housed at the tips of the arms 246° 247, respectively. It is used to illuminate the alignment mark 304 of the hologram prototype placed on the stage 211.

第8図は、上述の構成をもつホログラム原器ホルダー2
00に取付けられたホログラム原器アライメント用光学
系250を模式的に示す斜視図である。アライメント用
光学系250は、上述した発光ダイオード248.熱線
吸収フィルター249゜対物レンズ240.ミラー25
1及びビームスプリッタ252からなる第1光路253
と、発光ダイオード248.熱線吸収フィルター249
.対物レンズ240.ミラー254及びビームスプリン
タ252からなる第2光路255と、第1光路253と
第2光路255のビームスプリッタ252で合成された
接眼光路256とから構成されている。
FIG. 8 shows the hologram prototype holder 2 having the above-mentioned configuration.
00 is a perspective view schematically showing a hologram prototype alignment optical system 250 attached to the hologram prototype alignment optical system 250. The alignment optical system 250 includes the above-mentioned light emitting diode 248. Heat ray absorption filter 249° Objective lens 240. mirror 25
1 and a beam splitter 252.
and a light emitting diode 248. Heat ray absorption filter 249
.. Objective lens 240. It is composed of a second optical path 255 consisting of a mirror 254 and a beam splitter 252, and an eyepiece optical path 256 which is composed of the first optical path 253 and the second optical path 255 by the beam splitter 252.

この接眼光路256は図示しない公知の移動手段で光軸
03と垂直な平面(x−y平面)内で移動するレチクル
板257.258と接眼レンズ259とを有し、レチク
ル板257.258には第9図に示すような円形指標2
60,2f31が形成されている。
This eyepiece optical path 256 has a reticle plate 257.258 and an eyepiece lens 259 that move in a plane perpendicular to the optical axis 03 (xy plane) by a known moving means (not shown). is a circular index 2 as shown in Figure 9.
60,2f31 are formed.

以上述べたように、本ホログラム原器ホルダーによれば
、従来のようにX方向移動ステージとY方向移動ステー
ジ及びθ回転用ステージの三重ステージ構造にすること
なく、これらX、Y、θに関する移動を1つのステージ
において行うことができる。またそのための構成も極め
て簡素で、かつ高精度の移動制御及び位置出しができる
利点を有する。
As described above, according to the present hologram prototype holder, it is possible to move these X, Y, and θ-related stages without using a triple stage structure of an X-direction moving stage, a Y-direction moving stage, and a θ rotation stage as in the past. can be performed in one stage. Further, the configuration thereof is extremely simple, and has the advantage of allowing highly accurate movement control and positioning.

D、オフアクシス の測 装置 干渉計による測定法には、通常オンアクシス型の測定法
とオフアクシス型の測定法がある。
D. Off-axis measurement Measurement methods using device interferometers generally include on-axis measurement methods and off-axis measurement methods.

オンアクシス型は被検物からの物体光と参照平面からの
参照光が同軸な測定型式を言い、測定に使用するホログ
ラム原器の空間周波数を低くできるため、非球面度の大
きな被検物も測定できるメリットを持つ。しかし反面、
ホログラム原器による0次から高次までの回折光が、そ
の焦点距離は異なるけれどもすべて光軸上に重畳され、
例えば−次回折光を取り出すためにその焦点位置に空間
フィルターを配置しても、そのフィルター内を0次や2
次以上の高次回折光の一部もこの空間フィルターを通過
する。そのため、光軸を含む中心部が測定不可能部とな
る欠点がある。
The on-axis type refers to a measurement type in which the object light from the test object and the reference light from the reference plane are coaxial, and because the spatial frequency of the hologram prototype used for measurement can be lowered, it can also be used for test objects with a large degree of asphericity. It has measurable benefits. But on the other hand,
The diffracted light from the 0th order to the higher order by the hologram prototype is all superimposed on the optical axis, although their focal lengths are different.
For example, even if a spatial filter is placed at the focal point to extract the -order diffracted light, the 0th and 2nd order
A portion of the higher order diffracted light is also passed through this spatial filter. Therefore, there is a drawback that the central part including the optical axis becomes an unmeasurable part.

一方、オフアクシス型は、上記オンアクシス型のような
測定不可能部は生じないが、オンアクシス型に比してホ
ログラム原器の空間周波数が高くなるため、ホログラム
原器の製作とアライメント上の制約から、例えば非球面
度の小さな非球面被検物しか測定できない。
On the other hand, with the off-axis type, unlike the on-axis type mentioned above, unmeasurable parts do not occur, but because the spatial frequency of the hologram prototype is higher than that with the on-axis type, it is difficult to manufacture and align the hologram prototype. Due to limitations, for example, only aspherical objects with small degrees of asphericity can be measured.

さらにオフアクシス角は、被検物の種類や非球面度の量
により異なるため、ホログラム原器を作成するときは予
め最適なオフアクシス角を決めて作成する。そこで、本
実施例のホログラフィック干渉計は、オンアクシス及び
オフアクシスの両型式の測定が可能でかつオフアクシス
角を可変にした干渉計として構成されている。
Furthermore, since the off-axis angle varies depending on the type of object and the amount of asphericity, when creating a hologram prototype, the optimal off-axis angle is determined in advance. Therefore, the holographic interferometer of this embodiment is configured as an interferometer that is capable of both on-axis and off-axis measurements and has a variable off-axis angle.

第11図は、オンアクシス測定とオフアクシス測定を模
式的に示す光学配置図である。オンアクシス測定の場合
は、参照平面板107はコリメー;      ターレ
ンズ106の光軸01に垂直に配位される。
FIG. 11 is an optical layout diagram schematically showing on-axis measurement and off-axis measurement. In the case of on-axis measurements, the reference plane plate 107 is arranged perpendicular to the optical axis 01 of the collimator lens 106.

物体光と参照光の干渉パターンを観察するための観察光
学系すなわち空間フィルター113.ズームレンズ11
4.結像レンズ116及び1最像管117は、光軸O3
と垂直に交わる光軸0□上に配列される。
An observation optical system, ie, a spatial filter 113, for observing the interference pattern between the object light and the reference light. zoom lens 11
4. The imaging lens 116 and the first image tube 117 have an optical axis O3.
They are arranged on the optical axis 0□, which intersects perpendicularly to .

物体光及び参照光のそれぞれのホログラム原器300に
よる回折光のうちの1次回折光の焦点位置には、空間フ
ィルター113が配置されており、物体光と参照光それ
ぞれの1次回折光どうしの干渉縞を描像管で受像しある
いは写真撮影することになる。
A spatial filter 113 is arranged at the focal position of the first-order diffracted light of the diffracted light by the hologram prototype 300 of each of the object light and reference light, and interference fringes between the first-order diffracted light of the object light and reference light are formed. This will be imaged with a picture tube or photographed.

他方、オフアクシス測定の場合は、破線で示す′ように
、参照平面107を角度α回転させる(この角度αをオ
フアクシス角という)。観察光学系は旋回中心LCを中
心に光学ベンチ130とともに角度β旋回される。ここ
で旋回角βは(ここでrはコリメーターレンズの焦点距
離)として定められる。
On the other hand, in the case of off-axis measurement, the reference plane 107 is rotated by an angle α (this angle α is referred to as an off-axis angle) as shown by a broken line. The observation optical system is rotated by an angle β together with the optical bench 130 about the rotation center LC. Here, the turning angle β is defined as (where r is the focal length of the collimator lens).

これにより、物体光のホログラム原器300による1次
回折光と参照光のO次回折光のみが空間フィルター11
3’  (オフアクシス時の空間フィルター113のこ
と)を通過し、両方の干渉縞を観察、撮影できるように
構成されている。
As a result, only the first-order diffracted light of the object light by the hologram prototype 300 and the O-th-order diffracted light of the reference light are passed through the spatial filter 11.
3' (referring to the spatial filter 113 during off-axis), and is configured so that both interference fringes can be observed and photographed.

オフアクシス角αは参照平面からの反射光(参照光)の
うちビームスプリッタ110のハーフミラ−面110a
を透過し、ピンホールレチクル104上に出来る像Sの
結像位置から知ることができる。すなわち、結像位置と
光軸0.とのずれ量は微小角のオフアクシス角αに比例
する。
The off-axis angle α is the half mirror surface 110a of the beam splitter 110 in the reflected light (reference light) from the reference plane.
can be determined from the imaging position of the image S formed on the pinhole reticle 104. That is, the imaging position and optical axis 0. The amount of deviation from the small off-axis angle α is proportional to the small off-axis angle α.

第12図はピンホールレチクル104の構造を示す平面
図である。レチクル104の一端にはピンホール104
aが形成され、そこから他端側へ長手方向にそってスケ
ール401が形成されている。スケール401はオフア
クシス角αに対応するスポットSの光軸01(ピンホー
ル104aの中2 心)からのずれ量に応じて目盛付け
され、それら目盛の下方にオフアクシス角の目盛数字4
02が印字しである。
FIG. 12 is a plan view showing the structure of the pinhole reticle 104. A pinhole 104 is provided at one end of the reticle 104.
a is formed, and a scale 401 is formed along the longitudinal direction from there to the other end side. The scale 401 is graduated according to the amount of deviation of the spot S corresponding to the off-axis angle α from the optical axis 01 (center 2 of the pinhole 104a).
02 is printed.

第13図は、オフアクシス角αをセントするときに利用
するオフアクシス角1[J用顕撒鏡410の光学配置を
示す図である。顕微鏡410は対物レンズ411を有し
、レチクル104上のスケール401及びオフアクシス
角の目盛数字402からの光を平行光にし、ミラー41
2で反射したのち結像レンズで絞り414上に結像する
。接眼レンズ415を介してスケール像とオフアクシス
角の目盛数字像とを観察する。
FIG. 13 is a diagram showing the optical arrangement of the off-axis angle 1[J microscope 410 used when setting the off-axis angle α. The microscope 410 has an objective lens 411 that converts the light from the scale 401 and off-axis angle scale numbers 402 on the reticle 104 into parallel light, and converts the light from the scale 401 on the reticle 104 into parallel light.
After being reflected by the lens 2, an image is formed on the aperture 414 by the imaging lens. A scale image and an off-axis scale numeral image are observed through the eyepiece 415.

第14図はオンアクシス用調整顕微鏡420の光学配置
を示している。前述のオフアクシス角調整用顕9J境4
10との構成上の相異は、ミラー412がハーフミラ−
421に変更され、かつ対物レンズ411がなく、干渉
計の集光レンズ103が結像レンズ413と協働して結
像作用をする点である。
FIG. 14 shows the optical arrangement of the on-axis adjustment microscope 420. The above-mentioned off-axis angle adjustment lens 9J boundary 4
The difference in configuration from No. 10 is that the mirror 412 is a half mirror.
421, and there is no objective lens 411, and the condensing lens 103 of the interferometer cooperates with the imaging lens 413 to form an image.

ピンホールレチクル104のスケール401の走り方向
を参照平面板107の回転方向と平行にしたことにより
、スポットSがスケール401から上下方向にずれて投
影された場合は、参照平面板107の面倒れや、光軸0
1回わりの回転が発生していると判別できるから、これ
らのチェソクもできる。
If the running direction of the scale 401 of the pinhole reticle 104 is made parallel to the rotating direction of the reference plane plate 107, and the spot S is projected with a vertical deviation from the scale 401, the surface of the reference plane plate 107 may be tilted or , optical axis 0
Since it can be determined that one rotation has occurred, these chaesok can also be done.

プ (測定光学系のオンアクシス型配列) a−1=  オンアクシス用調整顕微鏡420を第1図
に2点鎖線で示すように、コリメーターレンズ106の
光軸01上にセットする。
(On-axis arrangement of measurement optical system) a-1= The on-axis adjustment microscope 420 is set on the optical axis 01 of the collimator lens 106, as shown by the two-dot chain line in FIG.

a−2:  顕微鏡420のハーフミラ−421を透過
し集光レンズ103でピンホール104a上に集光され
た光束の参照平面板107による反射スポット像Sが再
びピンホール 104a上に結像されたかどうかを接眼レンズ415で
観察する。
a-2: Whether or not the reflected spot image S by the reference plane plate 107 of the light beam transmitted through the half mirror 421 of the microscope 420 and condensed onto the pinhole 104a by the condensing lens 103 is focused on the pinhole 104a again. is observed through the eyepiece 415.

スポットSがピンホール104aと一致したときのみス
ポット光は接眼レンズ415で観察される。接眼レンズ
415を通してスボッ+−Sが観察できるように参照平
面板107を調整する。スポットSが観察されたとき参
照平面板107は光軸OIと垂直になり、干渉計はオン
アクシス型配列となる。
The spot light is observed through the eyepiece lens 415 only when the spot S coincides with the pinhole 104a. The reference flat plate 107 is adjusted so that the sub-S can be observed through the eyepiece 415. When the spot S is observed, the reference plane plate 107 is perpendicular to the optical axis OI, and the interferometer is in an on-axis arrangement.

(調整用レンズのセツティング) a−3=  切換スイッチ124を切り換えてアライイ
メント光学系125のTVカメラ123からの映像がモ
ニターテレビ118に写し出されるようにセントする。
(Setting the adjustment lens) a-3 = Switch the changeover switch 124 so that the image from the TV camera 123 of the alignment optical system 125 is displayed on the monitor television 118.

モニターテレビ118には、参照平面板107からのピ
ンホール104aと共役なスポット像がレチクル板12
1の十字線の交点と合致している状況が写し出される。
On the monitor television 118, a spot image conjugate to the pinhole 104a from the reference plane plate 107 is shown on the reticle plate 12.
The situation matching the intersection of the crosshairs 1 is displayed.

a−4=  干渉計の装置鏡筒108に参照レンズ10
9を有する参照レンズホルダー109aをを図示せぬ公
知の保持手段で取付ける。
a-4= Reference lens 10 in the device lens barrel 108 of the interferometer
A reference lens holder 109a having a reference lens holder 9 is attached using a known holding means (not shown).

a−5:  調整用ミラー501を有するホルダー50
0の基準面502が、参照レンズホルダー109aの基
準面109b (第15A図参照)に当接するように、
ホルダー500を取付はネジ503で参照レンズホルダ
ー109aに取付ける。
a-5: Holder 50 with adjustment mirror 501
so that the reference surface 502 of the reference lens holder 109a contacts the reference surface 109b (see FIG. 15A) of the reference lens holder 109a.
The holder 500 is attached to the reference lens holder 109a with screws 503.

a−6:  光学ベンチ100上にオートコリメーター
510を載置し、第15B図に示すように、その十字線
ターゲット511がレチクル512の丸指示512aと
一致するよう、オートコリメーター510を調整用ミラ
ー501に正対させる。その後、このオートコリメータ
ー510が動かないように光学ベンチ100上に固定す
る。
a-6: Place the autocollimator 510 on the optical bench 100, and adjust the autocollimator 510 so that the crosshair target 511 matches the circle indication 512a of the reticle 512, as shown in FIG. 15B. Directly face the mirror 501. Thereafter, this autocollimator 510 is fixed on the optical bench 100 so that it does not move.

a−7:  調整用ミラー501をホルダー500ごと
参照レンズホルダー1093から取りはずす。
a-7: Remove the adjustment mirror 501 along with the holder 500 from the reference lens holder 1093.

a−8=  公知の図示なき5軸ホルダー(X% y、
2、φ4、φ、の5軸;φ4、φ8は横方向及び縦方向
の傾斜方向を示す)に保持された調整用レンズ520を
、参照レンズ109とオートコリメーター510の間に
配置する。このとき、調整用レンズ520は、第15A
図に示すように、調整用レンズ520の球面波520a
を発生するための球面521の曲率中心Q、が参照レン
ズ109の焦点Fと一致し、かつ調整用レンズの平面5
22がオートコリメーターの光軸0.と垂直になるよう
に配置される。
a-8 = known 5-axis holder (not shown) (X% y,
An adjustment lens 520 held along five axes of 2, φ4, and φ; φ4 and φ8 indicate horizontal and vertical inclination directions) is placed between the reference lens 109 and the autocollimator 510. At this time, the adjustment lens 520
As shown in the figure, the spherical wave 520a of the adjustment lens 520
The center of curvature Q of the spherical surface 521 for generating , coincides with the focal point F of the reference lens 109, and
22 is the optical axis 0. of the autocollimator. is placed perpendicular to.

この調整用レンズ520のセ・7テイングは、モニタテ
レビ118に写し出される参照平面板107からの参照
光と、調整用レンズ520の球面521からの物体光(
球面波)との干渉縞を一色状態にすることにより粗な位
置出しを行い、続いて、オートコリメーターの接眼視察
像によりターゲツト像511とレチクル像512aとを
一致させることにより精密位置出しを行う。
The adjustment lens 520 is configured so that the reference light from the reference plane plate 107 projected on the monitor television 118 and the object light (
Rough positioning is performed by making the interference fringes with a spherical wave one color, and then precise positioning is performed by matching the target image 511 and the reticle image 512a using the ocular observation image of the autocollimator. .

(整用ホログラム原器のセツティング)a−9;  調
整用レンズ520の非球面波523aを発生するための
非球面523が前述のセツティング完了位置に位置する
とき、この非球面523からの物体光と参照平面板10
7からの参照光とによる干渉で発生した干渉パターンか
ら成る調整用ホログラム原器、またはそのような干渉パ
ターンを計算機で演算により求め、その演算結果に基づ
いて電子ビーム描画法で作成した計算機ホログラムから
成る調整用ホログラム原器を、前述したホログラム原器
ホルダー200のX−Y方向移動用ステージ211上に
真空吸着させる。
(Setting the adjustment hologram prototype) a-9; When the aspheric surface 523 for generating the aspheric wave 523a of the adjustment lens 520 is located at the above-mentioned setting completion position, the object from this aspheric surface 523 Light and reference plane plate 10
An adjustment hologram prototype consisting of an interference pattern generated by interference with the reference light from 7, or a computer-generated hologram created by calculating such an interference pattern with a computer and using the electron beam writing method based on the calculation results. The hologram prototype for adjustment is vacuum-adsorbed onto the stage 211 for moving in the X-Y direction of the hologram prototype holder 200 described above.

a40:切換スイッチ124を切り換えて、干渉縞観察
光学系のTVカメラ117の映像がモニタテレビ118
に映し出されるようにする。
a40: Switch the changeover switch 124 to display the image from the TV camera 117 of the interference fringe observation optical system on the monitor TV 118.
so that it is displayed on the screen.

a−11:送りネジ208,216,217及び218
を調整して、調整用レンズ520の非球面523からの
物体光(非球面波)の調整用ホログラム原器による例え
ば1次回折光と、参照平面板107からの参照光の例え
ばO次回折光との空間フィルター113における干渉縞
が一色状態になるようにする。これにより調整用ホログ
ラム原器がX、Y、Z及びθ方向に関して調整されて位
置出しが完了した。
a-11: Feed screws 208, 216, 217 and 218
By adjusting, for example, the first-order diffracted light of the object light (aspherical wave) from the aspherical surface 523 of the adjustment lens 520 by the adjustment hologram prototype, and the O-th-order diffracted light of the reference light from the reference plane plate 107, for example. The interference fringes in the spatial filter 113 are made to be one color. As a result, the adjustment hologram prototype was adjusted in the X, Y, Z, and θ directions, and positioning was completed.

(測定用ホログラム原器のセツティング)a−12:図
示しないレチクル移動ノブを調整して、上記ステップ(
a−11)で位置出しされた調整用ホログラム原器の位
置合せマーク306に、第9図に示す接眼レンズ259
の観察視野例のように、レチクル板257゜258の円
形指標260,261を合致させる。
(Setting the hologram prototype for measurement) a-12: Adjust the reticle movement knob (not shown) and
The eyepiece lens 259 shown in FIG.
As shown in the observation field example, the circular indicators 260 and 261 of the reticle plates 257 and 258 are aligned.

a−13:念のため、オートコリメーター510を覗い
てターゲツト像511とレチクル指標512aとの合致
しているか否か、すなわち調整用レンズ520が位置出
しされた状態を正しく保っているか否かを再確認する。
a-13: Just to be sure, look through the autocollimator 510 and check whether the target image 511 and the reticle index 512a match, that is, whether the adjustment lens 520 is correctly positioned. Check again.

正しく位置出しされていればステップ (a−9)から(a −12)のセツティングは正しく
行なわれたと判定し、この後はオートコリメーター51
0と調整用レンズ520は不要なので取りはずす。
If the positioning is correct, it is determined that the settings from steps (a-9) to (a-12) have been performed correctly, and after this, the autocollimator 51
0 and adjustment lens 520 are unnecessary, so remove them.

a−14:調整用ホログラム原器をステージ211から
取りはずし、その代りに測定用水ログラム原器300を
ステージ211上に載置し、真空吸着する。
a-14: Remove the adjustment hologram prototype from the stage 211, place the measurement hydrogram prototype 300 on the stage 211 instead, and vacuum adsorb it.

a−15: ホログラム原器ホルダーの接眼レンズ25
9を覗きながら、前記ステップ(a −12)で位置出
しされたレチクル257.258の円形指標260,2
61とステップ(a−14)で載置された測定用ホログ
ラム原器300の位置合せマーク306とが合致するよ
うに送りネジ216,217゜218を調整し、ステー
ジ211ごとホログラム原器を移動させ位置出しする。
a-15: Hologram prototype holder eyepiece 25
9, look at the circular indicators 260, 2 of the reticle 257, 258 positioned in step (a-12).
61 and the alignment mark 306 of the measurement hologram prototype 300 placed in step (a-14), adjust the feed screws 216, 217° 218, and move the hologram prototype together with the stage 211. Position.

(被検物のセツティング) a−16:被検物Tを公知の6軸ホルダー(x、y、z
1φ1、φ8、θの6軸:θは光軸口わりの回転)にセ
ットする。
(Setting the test object) a-16: Place the test object T in a known 6-axis holder (x, y, z
1 Set 6 axes: φ1, φ8, and θ (θ is the rotation of the optical axis).

a−17:切換スイッチ124を切り換えてアライメン
ト光学系125のテレビカメラ123からの映像がモニ
タテレビ118に写し出されるようにする。モニタテレ
ビ118の画面上のレチクル板121の十字線像に被検
面からの一次回折スポット光(通常O次回折光より明る
い)が合致されかつ最小のスポットとなるように、被検
物Tを保持するホルダーを調整する。
a-17: Switch the changeover switch 124 so that the image from the television camera 123 of the alignment optical system 125 is displayed on the monitor television 118. The object T is held so that the first-order diffracted spot light (usually brighter than the O-th order diffracted light) from the test surface matches the crosshair image of the reticle plate 121 on the screen of the monitor television 118 and becomes the smallest spot. Adjust the holder.

a−18:次に、切換スイッチ124を切り換え、干渉
縞観察光学系のテレビカメラ117の映像をモニタテレ
ビ118に送るようにする。これによりモニタテレビ1
18に干渉縞を映し出し、ホルダーを微調整して干渉縞
の方向及びピッチが計測に適するようにする。
a-18: Next, the changeover switch 124 is switched to send the image of the television camera 117 of the interference fringe observation optical system to the monitor television 118. This allows monitor TV 1
The interference fringes are projected onto 18, and the holder is finely adjusted so that the direction and pitch of the interference fringes are suitable for measurement.

b) オフアクシス測定型式の場合のセットアンプ オフアクシス測定型式の場合は、上述のオンアクシス測
定の場合に、さらに参照平面板107の傾斜調整作業が
追加されるだけである。この参照平面板107の傾斜作
業は、前述のオンアクシスのセットアツプステップのス
テップ(a−15)とステップ(a−16)の間、すな
わち測定用ホログラム原器のセッティング完了後に行わ
れる。この参照平面板の傾斜作業は以下のステップで実
行される。
b) Set amplifier for off-axis measurement type In the case of off-axis measurement type, the work of adjusting the inclination of the reference flat plate 107 is simply added to the above-mentioned on-axis measurement. This tilting operation of the reference plane plate 107 is performed between step (a-15) and step (a-16) of the on-axis setup step described above, that is, after the setting of the measurement hologram prototype is completed. This work of tilting the reference flat plate is performed in the following steps.

b〜lエ オフアクシス調整用顕微鏡4−10を、第1
図に2点鎖線で示すようにピンホールレチクル104の
スケール401の前方で所望のオフアクシス角の目盛数
字に対応した位置付近に配置する。次に、接眼レンズ4
15を覗きながら所望のオフアクシス角の目盛線、例え
ば2.5°の目盛線が視野中央にくるように顕微鏡の位
置出しをする。
b~lE The off-axis adjustment microscope 4-10 is
As shown by the two-dot chain line in the figure, it is placed in front of the scale 401 of the pinhole reticle 104 near a position corresponding to the scale number of the desired off-axis angle. Next, eyepiece 4
15, position the microscope so that the scale line of the desired off-axis angle, for example, 2.5°, is in the center of the field of view.

b−2=  参照平面板107を傾けて、それによる反
射スボ7)Sが所望の目盛線(例えば2.5°の目盛線
)の交点と一致するようにする。参照平面板107の傾
斜調整が終了したら顕微鏡410を取りはずす。
b-2= Tilt the reference plane plate 107 so that the resulting reflection groove 7) S coincides with the intersection of a desired scale line (for example, a 2.5° scale line). When the tilt adjustment of the reference plane plate 107 is completed, the microscope 410 is removed.

b−3:  切換スイッチ124を切り換え、アライメ
ント光学系125のテレビカメラ123の映像がモニタ
テレビ118に映し出されるようにする。そしてこのモ
ニタテレビ118上に映し出されたレチクル121の十
字線の交点上に参照平面板107からの反射スポット像
が合致するように、マイクロ機構130を操作して光学
ベンチ130を旋回中心LDを中心に回転させる。
b-3: Switch the changeover switch 124 so that the image of the television camera 123 of the alignment optical system 125 is displayed on the monitor television 118. Then, the micro mechanism 130 is operated so that the reflected spot image from the reference plane plate 107 coincides with the intersection of the crosshairs of the reticle 121 displayed on the monitor television 118, and the optical bench 130 is rotated around the rotation center LD. Rotate it.

犬籐桝■聚皿 (1)  参照平面板107の代りに、参照レンズ10
9の最後面を利用してもよい。この場合、オフアクシス
測定を実行するには、この参照レンズを傾斜させるか又
は偏心させるかすればよい。
Inu Rattan Masu ■ Ju Plate (1) Instead of the reference plane plate 107, the reference lens 10
You may use the rearmost surface of 9. In this case, this reference lens can be tilted or decentered to perform off-axis measurements.

(2)  オフアクシス角のチェックのためのピンホー
ルレチクル104のスケール401の代りに、第16図
に示すよう、に、ラインセンサー601を利用し、スポ
ットSを直接受光し、その受光素子位置からオフアクシ
ス角を検出してオフアクシス角を調整するようにしても
よい。
(2) Instead of the scale 401 of the pinhole reticle 104 for checking the off-axis angle, as shown in FIG. The off-axis angle may be detected and adjusted.

(3)ホログラム原器300のセツティングのための位
置合せマーク306及びアライメント光学系250の変
形例は多数考えられるが、そのいくつかを以下に簡単に
述べる。
(3) There are many possible variations of the alignment mark 306 and alignment optical system 250 for setting the hologram prototype 300, some of which will be briefly described below.

(3−1)第17図に示す例は、位置合せマーク306
の対物レンズ240による像を直接エリアセンサー60
2で受像し、その位置を素子番地情報として記憶し、測
定用ホログラム原器の位置合せマークが同一素子番地に
位置するように調整する。
(3-1) In the example shown in FIG. 17, the alignment mark 306
The image from the objective lens 240 is directly transmitted to the area sensor 60.
2, the position is stored as element address information, and adjustment is made so that the alignment mark of the measurement hologram prototype is located at the same element address.

(3−2)第18図に示す例は、ホログラム原器300
の位置合せマークとして中抜き円形マーク606を利用
し、アライメント光学系250のレチクル手反257,
258に、この円形マーク606とネガ−ポジの関係に
ある黒丸マーク607を配し、その後に受光素子608
を配置する構成としている。
(3-2) In the example shown in FIG. 18, the hologram prototype 300
Using the hollow circular mark 606 as an alignment mark, the reticle side 257 of the alignment optical system 250,
258, a black circle mark 607 having a negative-positive relationship with this circular mark 606 is arranged, and then a light receiving element 608
The structure is such that the

これによりホログラム原器300の円形マーク606と
レチクル257,258の黒丸マーク607を合致させ
、受光素子608からの出力がゼロとなるように調整用
ホログラム原器をセツティング後、レチクル257.2
58を移動させる。その後の測定用ホログラム原器のセ
ツティングは、同様に受光素子608からの出力がゼロ
になるように測定用ホログラム原器を調整する。
As a result, the circular mark 606 of the hologram prototype 300 and the black circle mark 607 of the reticles 257, 258 are aligned, and the adjustment hologram prototype is set so that the output from the light receiving element 608 is zero, and then the reticle 257.2 is set.
Move 58. The subsequent setting of the measurement hologram prototype is similarly adjusted so that the output from the light receiving element 608 becomes zero.

(3−3)第19A図は、ホログラム原器300の位置
合せマーク306の代りに、細かい第1の同心円マーク
609を設け、またこの第1の同心円マーク609と同
一形状の第2の同心円マーク610を、例えばZ軸方向
移動ステージ205に対物レンズ240の前方でX−Y
方向移動ステージ211の極近傍に、対物レンズ240
の光軸と垂直な平面内で移動可能に設置した構成を示す
(3-3) In FIG. 19A, a fine first concentric circle mark 609 is provided in place of the alignment mark 306 of the hologram prototype 300, and a second concentric circle mark having the same shape as this first concentric circle mark 609 is provided. 610, for example, on the Z-axis moving stage 205 in front of the objective lens 240.
An objective lens 240 is located very close to the directional movement stage 211.
This shows a configuration in which the device is movable in a plane perpendicular to the optical axis of the device.

この第2同心円マーク610を有する基準板608は、
両マーク609.610により生ずるモアレ縞611(
第19B図参照)が消失するように移動させられる。こ
のときの基準板608の調整位置を基準として、測定用
ホログラム原器の第1の同心円マークと基準板の第2の
同心円マークとのモアレ縞が現われないように測定用ホ
ログラム原器を位置出しする。
The reference plate 608 having this second concentric circle mark 610 is
Moiré fringes 611 (
19B) is moved so that it disappears. Using the adjusted position of the reference plate 608 at this time as a reference, the measurement hologram prototype is positioned so that moire fringes between the first concentric circle mark on the measurement hologram prototype and the second concentric circle mark on the reference plate do not appear. do.

(3−4)第20図に示す例は、ホログラム原器300
の位置合せマークの代りに、それをフレネルレンズ62
0で構成する。すなわち、光源からの光を4分割ディテ
クタ621で受光し、各分割素子面からの出力が等しく
なる、すなわちディテクタ621の中心とフレネルレン
ズ620の光軸とが一致するように、ディテクタ621
を移動させ、その移動位置を基準位置として、測定用ホ
ログラム原器のセツティングをする。
(3-4) The example shown in FIG. 20 is a hologram prototype 300
In place of the alignment mark of the Fresnel lens 62
Consists of 0. That is, the light from the light source is received by the four-split detector 621, and the detector 621 is arranged so that the output from each split element surface is equal, that is, the center of the detector 621 and the optical axis of the Fresnel lens 620 coincide.
The hologram prototype for measurement is set using the moved position as the reference position.

なお、フレネルレンズ620に非点収差をもたせておく
とディテクタ621の各分割素子面からの出力差により
Z軸すなわち光軸方向のホログラム原器のずれも調整で
きる。
Note that if the Fresnel lens 620 has astigmatism, the deviation of the hologram prototype in the Z-axis, that is, the optical axis direction can also be adjusted by the output difference from each divided element surface of the detector 621.

(4)調整用ホログラム原器のセツティングにおいて、
球面521と非球面523とを有する調整用レンズ52
0を利用する代りに、第1       21A図、第
21B図に示すように、球面521のみを有する調整用
レンズ650を利用する。
(4) In setting the hologram prototype for adjustment,
Adjustment lens 52 having a spherical surface 521 and an aspherical surface 523
Instead of using 0, an adjustment lens 650 having only a spherical surface 521 is used, as shown in FIGS. 121A and 21B.

ずなわら、まず、前述のステップ(a −3)からステ
ップ(a = 8)を実行して、球面521の曲率中心
Q、と参照レンズ109の焦点Fとを一致させ、かつ平
面522がコリメーター光軸OSと垂直になるように調
整用レンズ650をセツティングする。次に、この調整
レンズ650を第21B図に示すように予め定めた距離
りだけ後退(または前進)させる。これにより球面52
2からの反射波面は完全な球面波でなく、収差を有する
、換言すれば非球面波となって射出される。調整用ホロ
グラム原器を、この非球面波と参照平面板からの参照光
とによる干渉パターンとして作成しておけば、第21B
図のように調整用レンズ650を移動させた後、前述の
ステップ(a−9)ないしステップ(a−11)をその
調整用ホログラム原器を使用して実行することにより、
その調整用ホログラム原器を正しくセツティングでき、
ひいてはステップ(a−12)ないしステップ(a−1
5)により測定用ホログラム原器を正しくセツティング
することができる。
First, step (a-3) to step (a = 8) described above are performed to align the center of curvature Q of the spherical surface 521 and the focal point F of the reference lens 109, and to ensure that the plane 522 is free from collisions. Adjustment lens 650 is set so that it is perpendicular to meter optical axis OS. Next, the adjustment lens 650 is moved backward (or advanced) by a predetermined distance as shown in FIG. 21B. As a result, the spherical surface 52
The reflected wavefront from 2 is not a perfect spherical wave but has an aberration, in other words, it is emitted as an aspherical wave. If the hologram prototype for adjustment is created as an interference pattern between this aspherical wave and the reference light from the reference plane plate, the 21st B.
After moving the adjustment lens 650 as shown in the figure, by performing the above-mentioned steps (a-9) to (a-11) using the adjustment hologram prototype,
The hologram prototype for adjustment can be set correctly,
Furthermore, step (a-12) or step (a-1
5) allows the hologram prototype for measurement to be set correctly.

(5)第2図及び第4図に基づいて詳述したホログラム
原器300のホログラムパターン301は振幅型のホロ
グラムパターンであるが、本発明はこれに限定されるも
のでなく位相型のホログラムパターンを利用してもよい
(5) Although the hologram pattern 301 of the hologram prototype 300 described in detail based on FIGS. 2 and 4 is an amplitude-type hologram pattern, the present invention is not limited to this, and the hologram pattern is a phase-type hologram pattern. You may also use

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は本発明に係るホログラフィック干渉計の全体を
示す光学配置図、第2図はホログラム原器の構成を示す
平面図、第3図はホログラム原器に施されている白黒比
検査パターンの構成を示す図、第4図はホログラムパタ
ーンの一例をその第1象現について示した図、第5図は
ホログラム原器ホルダーを示す正面図、第6図は第5図
のVl−■面断面図、第7図は第5図の■−■視断面断
面図8図はホログラム原器ホルダーのアライメント光学
系を示す斜視光学配置図、第9図はホログラム原器ホル
ダーのアライメント光学系の接眼視野の一例を示す図、
第10A図ないし第10C図はホログラム原器ホルダー
の作用を示す模式図、第11図はオンアクシス測定とオ
フアクシス測定の光学配置関係を示す部分図、第12図
はピンホールレチクルの一例を示す図、第13図はオフ
アクシス調整用顕微鏡の構成を示す光学配置図、第14
図はオンアクシス調整用顕微鏡の構成を示す光学配置図
、第15A図は本発明のホログラフィク干渉計のセツテ
ィング調整を説明するために参照レンズ、調整用ミラー
、調整用レンズ及びオートコリメーター〇四者の配置関
係を示す図、第15B図はオートコリメーターの接眼観
察視野の一例を示す図、第16図はピンホールレチクル
の変形例を示す光学配置図、第17図ないし第20図は
それぞれホログラム原器の位置合せマーク及びアライメ
ント光学系の変形例を示す図、第21A図及び第21B
図は調整用ホログラム原器の他のセツティング方法を示
す図、第22図は従来のフィゾー型干渉計の光学配置図
である。 101・・・・・・レーザー 104・・・・・・ビンホールレチクル106・・・・
・・コリメーターレンズ107・・・・・・参照平面板 109・・・・・・参照レンズ T・・・・・・被検物 110・・・・・・ビームスプリンタ 113・・・・・・空間フィルター 117.123・・・・・・テレビカメラ200・・・
・・・ホログラム原器ホルダー205・・・・・・Z軸
方向移動ステージ211・・・・・・X−Y方向移動ス
テージ208.216,217,218・・・・・・送
りネジ223.232,233・・・・・・弾性体21
5・・・・・・スプリング 240・・・・・・対物レンズ 300・・・・・・ホログラム原器 301・・・・・・ホログラムパターン302・・・・
・・歪検査パターン 306・・・・・・位置合せマーク 303・・・・・・白黒比検査パターン410・・・・
・・オフアクシス調整用顕微鏡420・・・・・・オン
アクシス調整用w4a 鏡501・・・・・・調整用ミ
ラー 520.650・・・・・・調整用レンズ510・・・
・・・オートコリメーター第2図 第3図 第4図 (ゞ 第5図 第12図 第13図      第14図 第20図
Fig. 1 is an optical layout diagram showing the entire holographic interferometer according to the present invention, Fig. 2 is a plan view showing the configuration of the hologram prototype, and Fig. 3 is a black-white ratio inspection pattern applied to the hologram prototype. FIG. 4 is a diagram showing an example of the hologram pattern in its first quadrant, FIG. 5 is a front view showing the hologram prototype holder, and FIG. 6 is the Vl-■ plane of FIG. 5. 7 is a cross-sectional view taken along ■--■ in FIG. 5; FIG. 8 is a perspective optical layout diagram showing the alignment optical system of the hologram prototype holder; and FIG. 9 is an eyepiece of the alignment optical system of the hologram prototype holder. A diagram showing an example of the field of view,
Figures 10A to 10C are schematic diagrams showing the function of the hologram prototype holder, Figure 11 is a partial diagram showing the optical arrangement relationship for on-axis measurement and off-axis measurement, and Figure 12 is an example of a pinhole reticle. 13 is an optical layout diagram showing the configuration of the microscope for off-axis adjustment, and FIG.
The figure is an optical layout diagram showing the configuration of a microscope for on-axis adjustment, and Figure 15A shows a reference lens, an adjustment mirror, an adjustment lens, and an autocollimator to explain the setting adjustment of the holographic interferometer of the present invention. Figure 15B is a diagram showing an example of the eyepiece observation field of the autocollimator, Figure 16 is an optical layout diagram showing a modified example of the pinhole reticle, and Figures 17 to 20 are diagrams showing the arrangement relationship of the four parts. Figures 21A and 21B are diagrams showing modified examples of the alignment mark and alignment optical system of the hologram prototype, respectively.
This figure shows another method of setting the hologram prototype for adjustment, and FIG. 22 is an optical layout diagram of a conventional Fizeau type interferometer. 101...Laser 104...Binhole reticle 106...
... Collimator lens 107 ... Reference plane plate 109 ... Reference lens T ... Test object 110 ... Beam splinter 113 ... Spatial filter 117.123...TV camera 200...
... Hologram prototype holder 205 ... Z-axis direction movement stage 211 ... X-Y direction movement stage 208, 216, 217, 218 ... ... Feed screw 223, 232 , 233...Elastic body 21
5... Spring 240... Objective lens 300... Hologram prototype 301... Hologram pattern 302...
... Distortion test pattern 306 ... Alignment mark 303 ... Black-white ratio test pattern 410 ...
...Microscope 420 for off-axis adjustment...W4a for on-axis adjustment Mirror 501...Adjustment mirror 520.650...Adjustment lens 510...
...Autocollimator Fig. 2 Fig. 3 Fig. 4 (Fig. 5 Fig. 12 Fig. 13 Fig. 14 Fig. 20

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)被載置物が載置される移動ステージと、該移動ス
テージをX軸方向とY軸方向とに移動可能に支持する基
部ステージと、該基部ステージに取付けられ前記移動ス
テージにX軸に沿って一方向から移動力を作用させるた
めの少なくとも1つのX軸送りネジと、該X軸に沿って
反対方向から前記移動ステージに移動力を作用させるた
めの弾発手段と、前記移動ステージに少なくとも2本の
Y軸に沿って一方向から移動力を作用させるための少な
くとも2つのY軸送りネジと前記2本のY軸のそれぞれ
にそって反対方向から前記移動ステージに移動力を作用
させるための少なくとも2つの弾発手段とを有すること
を特徴とする移動載置台装置。
(1) A movable stage on which an object is placed, a base stage that supports the movable stage movably in the X-axis direction and the Y-axis direction, and a base stage that is attached to the base stage and is attached to the movable stage in the X-axis direction. at least one X-axis feed screw for applying a moving force from one direction along the X-axis; a resilient means for applying a moving force to the moving stage from an opposite direction along the X-axis; at least two Y-axis feed screws for applying a moving force from one direction along at least two Y-axes; and applying a moving force to the moving stage from opposite directions along each of the two Y-axes. A movable mounting table device characterized in that it has at least two springing means for.
(2)前記移動ステージが、その側面にベアリングを内
在したガイドレールを配設され、該ガイドレールが鋼球
を介して前記送りネジに当接させられていることを特徴
とする特許請求の範囲第1項記載の移動載置台装置。
(2) Claims characterized in that the moving stage is provided with a guide rail that includes a bearing on its side surface, and the guide rail is brought into contact with the feed screw via a steel ball. The movable mounting table device according to item 1.
(3)前記移動ステージと前記基部ステージが、それら
の間に鋼球を介在させ、かつ前記移動ステージが一端を
前記移動ステージに固着され、他端を前記基部ステージ
に固着されたバネ部材により常時前記基部ステージ方向
に引きつけられていることを特徴とする特許請求の範囲
第1項または第2項記載の移動載置台装置。
(3) The movable stage and the base stage are always connected by a spring member with a steel ball interposed between them, and the movable stage has one end fixed to the movable stage and the other end fixed to the base stage. 3. The movable stage device according to claim 1, wherein the movable stage device is attracted toward the base stage.
(4)前記基部ステージが、それをZ軸方向に移動可能
に支持する支持手段に取付けられていることを特徴とす
る特許請求の範囲第1項ないし第3項いずれかに記載の
移動載置台装置。
(4) The movable mounting table according to any one of claims 1 to 3, wherein the base stage is attached to support means that supports the base stage so as to be movable in the Z-axis direction. Device.
(5)前記移動ステージが被載置物を真空吸着するため
の吸着手段を設けられていることを特徴とする特許請求
の範囲第1項ないし第4項いずれかに記載の移動載置台
装置。
(5) The movable stage device according to any one of claims 1 to 4, wherein the movable stage is provided with suction means for vacuum suctioning the object.
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