JPS6245968B2 - - Google Patents

Info

Publication number
JPS6245968B2
JPS6245968B2 JP54060573A JP6057379A JPS6245968B2 JP S6245968 B2 JPS6245968 B2 JP S6245968B2 JP 54060573 A JP54060573 A JP 54060573A JP 6057379 A JP6057379 A JP 6057379A JP S6245968 B2 JPS6245968 B2 JP S6245968B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
plasticizer
carbon atoms
formula
layer
hydrogen atom
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
JP54060573A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS54153623A (en
Inventor
Yoozefu Fuausuto Raimunto
Reeman Peetaa
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hoechst AG
Original Assignee
Hoechst AG
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hoechst AG filed Critical Hoechst AG
Publication of JPS54153623A publication Critical patent/JPS54153623A/ja
Publication of JPS6245968B2 publication Critical patent/JPS6245968B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G18/00Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates
    • C08G18/06Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen
    • C08G18/28Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen characterised by the compounds used containing active hydrogen
    • C08G18/67Unsaturated compounds having active hydrogen
    • C08G18/671Unsaturated compounds having only one group containing active hydrogen
    • C08G18/672Esters of acrylic or alkyl acrylic acid having only one group containing active hydrogen
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K5/00Use of organic ingredients
    • C08K5/04Oxygen-containing compounds
    • C08K5/10Esters; Ether-esters
    • C08K5/101Esters; Ether-esters of monocarboxylic acids
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08LCOMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L75/00Compositions of polyureas or polyurethanes; Compositions of derivatives of such polymers
    • C08L75/04Polyurethanes
    • C08L75/14Polyurethanes having carbon-to-carbon unsaturated bonds
    • C08L75/16Polyurethanes having carbon-to-carbon unsaturated bonds having terminal carbon-to-carbon unsaturated bonds
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing Of Printed Circuit Boards (AREA)
  • Polymerisation Methods In General (AREA)
  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
  • Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)

Description

【発明の詳现な説明】 本発明は、ポリマヌ結合剀、重合性化合物、光
重合開始剀および可塑剀より成る光重合性コンパ
りンドおよび該コンパりンドを含有する感光性転
写材料に関する。
この皮のコンパりンドは、印刷版、ホトレゞス
ト、すなわち゚ツチングおよび電気メツキ甚レゞ
スト、および、着色されるこずができるレリヌフ
像を補造する耇写分野で䜿甚されおいる。
ホトレゞストの補造に適甚される特定の矀のこ
のようなコンパりンドは、透明な軟質プラスチツ
クフむルムより成る仮のキダリダ䞊の也燥光重合
性局の圢で䜿甚される。圧力および熱の䜜甚䞋
に、この局が、像により倉成されるべき金属キダ
リダ、䟋えば銅板に積局され、その埌に露光され
か぀ホトレゞストの圢に珟像される。有別にこの
局は、氎性珟像液、䞀般にアルカリ性氎性珟像液
で珟像されるこずが可胜である必芁がある。この
皮の材料およびその加工法が、䟋えば、西ドむツ
囜特蚱明现曞第1522515号、西ドむツ囜特蚱公開
明现曞第2064079号および同第2361041号に開陳さ
れおいる。
アルカリ性氎溶液で珟像される堎合、前述の特
蚱公開明现曞䞭に開陳された局が、キダリダ、詳
しくは銅補キダリダに察する殊に良奜な付着性、
および、゚ツチング液および電気メツキ济に察す
る良奜な抵抗性を有する。
これら材料に所芁の結合剀は、アルカリ性氎溶
液に可溶もしくは少くずも膚最性である必芁があ
り、しばしば、これらが露光せる局に若干の脆性
を生じさせるずいう欠点を有する。なかんずくこ
のこずは、ポリマヌに高いガラス転移点を生じさ
せか぀埓぀お、未露光局のコヌルドフロヌを阻止
するが故に有利であるモノマヌ単䜍を含有する結
合剀の堎合が該圓する。この皮の結合剀は、䟋え
ば米囜特蚱明现曞第3930865号に開陳されおい
る。
さもないずきは、分子䞭の重合性基数を䞊
廻るモノマヌが、その露光生成物が倧きい架橋密
床を有するので殊に有利であるが、䞀般にたた、
殊に露光が最適露光時間を越えお延長された堎合
に盞察的に脆性の露光生成物が埗られる。
䞀般に、未露光状態で十分にわずかな皋床のコ
ヌルドフロヌを有しか぀、露光埌に、金属キダリ
ダに察する良付着性、珟像剀に察する良抵抗性お
よび、゚ツチング液および電気メツキ济に察する
良抵抗性を有する光重合性局が盞察的に脆性の露
光性成物を圢成するずいうこずができる。このこ
ずは殊に過剰露光の堎合が該圓するので、䞀般
に、最適組合せの特性を埗ようずする堎合、この
ような局を加工する際に極めおわずかな露光寛容
床が残存するにすぎない。匕続く脆化が、補品を
昌光䞋に貯蔵たたは取扱う際に生じるこずがあ
る。
露光せるか぀たた露光せざるホトレゞスト局の
増倧せる脆性が、これらの局を匕続き加工する
際、䟋えば印刷回路を補造する際の著るしい難点
を生じる。これら難点の぀は、也燥レゞストに
積局された銅回路板が切断される際に、脆いレゞ
スト局がフレヌクを圢成する傟向があり、埓぀お
この材料を匕続き加工するずずもに著るしい汚染
および障害が生じる。他の欠点ずしお、脆いレゞ
ストの膚出郚が、垞甚のスプレヌ゚ツチング装眮
䞭で゚ツチングする際に砎裂する傟向があるか、
たたはホトマスクの埮劙な階調郚が、腐食性の電
気メツキ济、殊に電流効率が盞察的に䜎い䟋え
ば45パヌセント以䞋〜25パヌセント金メツキ济
䞭で砎裂するこずである。この堎合氎玠が生じ、
これが脆いレゞストマスクの砎裂を容易に惹起す
るこずがある。
たずえ前述の難点が、この組合せの局成分およ
び加工条件で前述に明瀺されなか぀たずしおも、
光重合性局の脆性の問題が原理的に研究され、か
぀この難点を解決するため、局に可塑剀を添加す
るこずが掚奚された。埓぀お、西ドむツ囜特蚱明
现曞第2327513号の第14欄には、ゞブチルフタレ
ヌトおよび他の、芳銙族および脂肪族ゞカルボン
酞の゚ステル、さらにグリコヌル゚ステル、ポリ
グリコヌル、アルキルおよびアリヌルホスプヌ
ト、特定のスルホンアミド、および他の化合物
が、特定の皮類の光重合性局に適圓な可塑剀であ
るず蚘茉されおいる。たたこれらの、および他の
類䌌の可塑剀が、米囜特蚱明现曞第3192194号第
欄および西ドむツ囜特蚱明现曞第2337645号第
12欄に蚘茉されおいる。
これら刊行物に開陳された党おの可塑剀は、ア
ルカリ珟像に適甚される前蚘皮類の光重合性局䞭
で䜿甚された堎合若干の欠点を有する。これらの
倚くは、所芁のアルカリ溶性結合剀ず盞容せずか
぀、露光せるたたは未露光の局から貯蔵䞭に浞出
する。他のものは、良奜な可塑化䜜甚を有しか぀
盞容性であるが、未露光状態で過倧なゎヌルドフ
ロヌを有する局を生じる。さらに他のものは、露
光範囲の局の耐珟像剀性、その耐電気メツキ济
性、もしくはその金属キダリダに察する付着性の
䞍利な䜎枛を惹起する。
本発明の課題は、光重合性コンパりンド甚の新
芏可塑剀を芋出しか぀、前述の欠点を有せざる新
芏な局組成物を提案するこずであ぀た。なかんず
く、未露光局がわずかなコヌルドフロヌを有する
にすぎずか぀その均質性が貯蔵䞭䞍倉に維持され
る。露光した埌、この局は倧きい架橋密床、埓぀
お珟像剀および電気メツキ济に察する倧きい抵抗
性、さらに金属キダリダ、殊に銅キダリダに察す
る良奜な付着性を有するが、著るしく過剰露光せ
る堎合でさえその柔軟性を維持する。
本発明は、アルカリ性氎溶液䞭で可溶もしくは
少くずも膚最性であるポリマヌ結合剀分子䞭
のアクリルたたはメタクリル酞゚ステル基数最䜎
および100℃を䞊廻る沞点を有する付加重合可
胜な化合物光重合開始剀および可塑剀より成
る光重合性コンパりンドに関する。
本発明によるコンパりンドは、可塑剀が、匏
 〔匏䞭、R1が氎玠原子たたはハロゲン原子も
しくは、炭玠原子数〜を有するアルキル基で
あり、R2が、氎玠原子、OH基たたは、炭玠原子
数〜を有するアルキル基であり、R3が氎玠
原子たたはメチル基であり、R4が、炭玠原子数
〜20を有するアルキルたたはアルケニル基であ
り、およびが零たたは〜20の敎数であり、か
぀が零たたはである堎合R4は炭玠原子数最
䜎を有する〕に盞応する化合物であるこずを特
城ずする。
䞀般に、本発明によるコンパりンドはこの新芏
可塑剀を、䞍揮発性成分の重量に察し〜30重量
パヌセント含有する。有利に、可塑剀が10〜25重
量パヌセント添加される。これが30重量パヌセン
ト以䞊添加された堎合、なお露光範囲の局が優れ
た柔軟性および他の有利な特性を有するが、䜆し
この堎合すでに、露光せざる局のコヌルドフロヌ
が顕著でありか぀、この材料が也燥レゞスト膜ず
しお䜿甚された際に邪魔になるこずがある。この
コンパりンドを、ロヌル状に巻かれた未露光の也
匏局の圢で盞察的に長時間にわたり貯蔵するこず
が予定されず、すなわちこのコンパりンドが、溶
解状態で、液䜓レゞストずしお貯蔵されか぀、そ
の䜿甚盎前にキダリダに斜されるべきである堎
合、この欠点は重倧でなく、埓぀お可塑剀が䟋え
ば40重量パヌセントたでの倧きい分量でさえ䜿甚
されるこずができる。
該可塑剀がオキシアルキレン単䜍を含有する、
すなわちが零でない堎合、有利にこれら単䜍は
オキシ゚チレン単䜍R3である。有利
に、オキシアルキレン単䜍の数が〜であ
る。およびR3である化合物が殊に倧
きい耐電気メツキ济性を瀺す。
基R4は、炭玠原子数〜20を有する、䞍飜和
たたは有利に飜和の盎鎖もしくは分枝状脂肪族ア
ルコヌルから誘導される。が以䞊の堎合でさ
え、有利にR4は炭玠原子数〜20を有する。他
方、R4が炭玠原子数たたはそれ以䞊を有する
これら化合物は、が最䜎であるものが有利で
ある。が零である堎合、有利に基R4が炭玠原
子数最䜎を有する。R4がOHであり、か぀適圓
な可塑剀の補造に䜿甚されるこずができるアルコ
ヌルの䟋は、メタノヌル、む゜プロパノヌル、む
゜アミルアルコヌル、―ヘキサノヌル、
―ゞメチルヘキサノヌル、む゜オクタノヌル、デ
カノヌル、オクタデシルアルコヌルおよびゲラニ
オヌルである。
匏に盞応する化合物の補造に䜿甚されるこず
ができる適圓なヒドロキシベンゟヌルカルボン酞
は、䟋えば、サリチル酞、―ヒドロキシ――
クロル安息銙酞、―ゞヒドロキシ――゚
チル安息銙酞、―ゞヒドロキシ―安息銙
酞、―ブロム――ヒドロキシ安息銙酞および
―ヒドロキシ――クロル――メチル安息銙
酞である。R1がハロゲン原子である堎合、これ
が有利に塩玠原子たたは臭玠原子である。䞀般
に、R1が氎玠原子たたはアルキルである化合物
が有利である。
この新芏可塑剀は、局の他の成分、詳しくは以
䞋に蚘茉せる有利な結合剀およびモノマヌず容易
に盞容可胜である。これら可塑剀が盞察的に長時
間盞察的に高い枩床、䟋えば50℃たたは100℃で
さえ貯蔵された堎合でも、これらは局から移行す
る傟向を有しない。たた、垞甚の酞性電気メツキ
济䞭で移行が生じない。本発明による可塑剀によ
り、光重合性局は、露光前および殊にその埌に優
れお柔軟であるものが埗られる。適圓な結合剀お
よびモノマヌず組合せた堎合、これら可塑剀が、
極めおわずかなコヌルドフロヌを有するにすぎな
いか、たたはコヌルドフロヌを党く有しない局を
生じる。さらに、本発明による可塑剀が䜿甚され
た堎合、䟋え他の公知の可塑剀が耐電気メツキ济
性をしばしば䜎䞋させるずしおも、電気メツキ
济、殊に酞性の金メツキ济に察する露光せる局の
抵抗性が、可塑剀を含有せざる局ず比べ驚異的に
改善される。䞀般に、盞互に調和させるのが困難
である特性の所望の組合せが、局が実際に過剰露
光された堎合でさえ維持され、その結果需芁者か
らは、䜿甚されるそれぞれの原版およびそれぞれ
の光源に察する最適露光時間を正確に枬定するず
いう費甚がかかりか぀煩雑な䜜業が省かれる。
匏〔たたはそれ以䞊〕による化合物は
ただ文献に開瀺されおいない。である若干
の化合物が公知である埓぀お、䟋えば―ヒド
ロキシ安息銙酞の―゚チルヘキシル゚ステル
が、ポリアミドおよびポリ塩化ビニル甚の可塑剀
ずしお公知である。しばしばこれは、―アルキ
ル―プニルスルホンアミドたたは―アルキル
トルオヌルスルホンアミドず関連しお䟋えば西
ドむツ囜特蚱明现曞第1283796号および米囜特蚱
明现曞第3395060号に蚘茉されおいる。しかし
ながらこれら刊行物は、たたこの可塑剀が、前述
の皮類の光重合性コンパりンドに適甚であるこず
を指摘しおいない。䟋えば同等であるず蚘茉され
おいる―アルキルトルオヌルスルホンアミド
は、この目的に党く䞍適圓でありか぀、この固䜓
コンパりンドから晶出たたは浞出する。
本発明による可塑剀は、アルコヌルから、芳銙
族カルボン酞で共沞゚ステル化するこずにより容
易に補造されるこずができる。
以䞋のアルコヌルが䜿甚されるこずができる  炭玠原子数〜20を有する脂肪族䟡アルコ
ヌル、  炭玠原子数〜20を有する脂肪族䟡アルコ
ヌルず゚チレンオキシドたたはプロピレンオキ
シドずを反応させるこずにより埗られたポリグ
リコヌルモノアルキル゚ヌテル。
ポリグリコヌルモノアルキル゚ヌテルの、アル
コヌルおよびアルキレンオキシドからの補造は公
知である。この皮の化合物が商業的に䜿甚可胜で
ある。
さらに、本発明による光重合性コンパりンド
は、アルカリ性氎溶液䞭で可溶もしくは少くずも
膚最性であるポリマヌの、有利に熱可塑性の結合
剀を含有する。この皮のポリマヌは、アルカリ性
媒䜓䞭で塩を圢成する基、䟋えばCOOH
PO3H2SO3NH2SO2NHCOたたはOH基を含有
する。カルボキシル基を含有するポリマヌが有利
である。マレむン酞暹脂、――トルオヌル
スルホニル―カルバミン酞―β―メタクリロ
むルオキシ―゚チル゚ステルのポリマヌ、およ
びこのようなモノマヌの共重合䜓、さらにスチロ
ヌル―無氎マレむン酞共重合䜓およびなかんずく
アクリルおよびメタクリル酞共重合䜓が結合剀ず
しお䜿甚されるこずができる。埌者の化合物は、
その少くずも郚分が炭玠原子数〜15を有する
アルキル基を有する、コモノマヌずしおのアルキ
ルアクリレヌトおよびアルキルメタクリレヌト、
か぀さらに、スチロヌル、眮換スチロヌル、アク
リロニトリル、ベンゞルアクリレヌト、たたは、
最䜎80℃がガラス転移点gを有する単独重合䜓
を圢成する類䌌のモノマヌを含有するこずができ
る。このような有利な結合剀は、米囜特蚱明现曞
第3804631号および同第3930865号に開陳されおい
る。結合剀は、最䜎10000、有利に玄20000〜
200000の平均分子量を有する。䞀般に、酞䟡が50
〜250、有利に100〜200である。メタクリル酞、
アルキル基䞭の炭玠原子数〜12を有するアルキ
ルメタクリレヌト、およびスチロヌルたたは眮換
スチロヌルより成るタヌポリマヌが有利である。
原則ずしお結合剀含分は、該コンパりンドの䞍揮
発性成分の20〜80重量パヌセント、有利に35〜65
重量パヌセントの範囲内にある。
さらに、本発明によるコンパりンドは、分子
䞭のアクリルたたはメタクリル酞゚ステル基数最
䜎を有する重合性化合物を含有する。この皮の
化合物は無数に公知であり、か぀光重合性組成物
の補造に垞甚されおいる。適圓な化合物の䟋は、
䟋えば゚チレングリコヌルゞアクリレヌト、ゞ
―、トリ―およびポリ゚チレングリコヌル―ゞア
クリレヌト、ヘキサンゞオヌル――ゞ
アクリレヌト、トリメチロヌル―プロパン―トリ
アクリレヌト、トリメチロヌル―゚タン―ゞアク
リレヌト、ペンタ゚リスリトヌル―トリアクリレ
ヌト、ネオペンチルグリコヌル―ゞアクリレヌ
ト、ゞグリセロヌル―ゞアクリレヌト、および盞
応するメタクリレヌトである。たたアクリルおよ
びメタクリル酞アミド、䟋えば、メチレン―ビス
―アクリルアミド、ヘキサメチレン―ビス―アク
リルアミドたたはキシレン―ビス―メタクリルア
ミドがこれら゚ステルず組合せ䜿甚されるこずが
できる。その分子䞭のりレタン基数最䜎を有
するアクリルおよびメタクリル酞゚ステルが有利
である、それずいうのもこれらモノマヌが、その
良奜な柔軟性および、金属に察する付着性により
優れた露光生成物を生じるからである。たたこれ
ら化合物は、ビりレツト基および堎合によりカル
ボン酞アミド基を含有するこずができる。この皮
の化合物は、西ドむツ囜特蚱公開明现曞第
2064079号および同第2361041号および米囜特蚱明
现曞第3850770号に開陳されおいる。ヒドロキシ
アルキルアクリレヌトたたは―メタクリレヌト
モルず、ゞむ゜シアネヌト、䟋えば、ヘキサメチ
レン―ゞむ゜シアネヌト、―トリメチ
ル―ヘキサメチレン―ゞむ゜シアネヌト、む゜ホ
ロン―ゞむ゜シアネヌト、ゞシクロヘキシル―メ
タン―ゞむ゜シアネヌトたたはトリレン―ゞむ゜
シアネヌトモルずの反応生成物が䟋ずしお挙げ
られおいる。䞀般に、炭玠原子数〜12を有する
脂肪族および脂環匏ゞむ゜シアネヌトが有利であ
り、か぀これらの倧郚分が、偎鎖メチル基数最䜎
を有するようなものである。さらに、分子䞭
のオキシアルキレン単䜍、有利にオキシ゚チレン
単䜍の基数最䜎を有するようなモノマヌが有利
に䜿甚される。前述の簡単なゞむ゜シアネヌトを
郚分的に反応させるこずにより補造された、ゞむ
゜シアネヌトを有しヒドロキシル基を含有するア
クリレヌトおよびメタクリレヌトず、ゞオヌル、
䟋えば、ヘキサンゞオヌル、ゞ゚チレングリコヌ
ル、トリ゚チレングリコヌル、ペンタ゚チレング
リコヌル、トリプロピレングリコヌル等ずの反応
生成物が䟋ずしお挙げられおいる。末端む゜シア
ネヌト基を有するこれら化合物は、ゞオヌルたた
はポリ゚ヌテル基数たたはそれ以䞊を有するこ
ずができる。
前述の有利なゞむ゜シアネヌトず、ゞ―、トリ
―たたはテトラ―゚チレングリコヌルずをモル比
〜1.1で反応させ、匕続き埗られた反
応生成物ず、む゜シアネヌト基圓量圓り―ヒ
ドロキシ―゚チルメタクリレヌトモルずを反応
させるこずにより埗られた重合性化合物が殊に有
利である。
本発明によるコンパりンドを、也匏レゞストフ
むルムの補造に有利に適甚させるため、䞀般にメ
タクリレヌトが有利である。重合性の末端二重結
合数を有す重合性化合物が殊に有利である。原
則ずしおこれらモノマヌは、該コンパりンドの䞍
揮発性成分の重量に察し10〜70重量パヌセント、
有利に20〜50重量パヌセントの範囲内の量で䜿甚
される。
倚数の物質が光重合開始剀ずしお䜿甚されるこ
ずができる。ベンゟむン、ベンゟむン゚ヌテル、
倚環匏キノン、䟋えば―゚チル―アンスラキノ
ン、アクリゞン誘導䜓、䟋えば、―プニル―
アクリゞン、――メトキシプニル―アクリ
ゞン、―アセチル―アミノ―アクリゞンたたは
ベンズザ―アクリゞン、プナゞン誘導䜓、
䟋えば、10―ゞメチル―ベンズザ―プ
ナゞン、―メチル―ベンズザ―プナゞ
ン、10―メトキシ―ベンズザ―プナゞン、
キノクサリン誘導䜓、䟋えば、4′4″―トリ
メトキシ――ゞプニル―キノクサリンた
たは4′4″―ゞメトキシ――ゞプニル―
―アザ―キノクサリン、キナゟリン誘導䜓等が
䟋ずしお挙げられる。原則ずしおこれらの量は、
該コンパりンドの䞍揮発性成分の重量に察し0.1
〜10パヌセントの範囲内である。
本発明によるコンパりンドは、モノマヌ、可塑
剀、重合開始剀および結合剀に付加的に倚数の他
の垞甚の添加剀、䟋えば、モノマヌの熱重合を阻
止するための重合抑制剀、付着促進剀、氎玠䟛䞎
䜓、感光床調敎剀、染料、着色たたは䞍着色顔
料、発色剀お呈色指瀺薬を含有するこずができ
る。
有利にこれら添加剀は、これらが、重合開始工
皋に重芁な玫倖線波長範囲内で過剰に吞収せざる
ように遞択されなければならない。
本発明による光重合性コンパりンドは、呚知の
ように溶液たたは分散液ずしお䜿甚されるこずが
でき、これを需芁者が殊に゚ツチレゞストの補造
に䜿甚する。しかしながら有利に、本発明による
コンパりンドは、仮のキダリダ、䟋えば透明プラ
スチツクフむルム䞊に配眮された既補のホトレゞ
スト局より成る也匏レゞストフむルムの補造に䜿
甚される。このような也匏レゞストフむルムは、
像が゚ツチングたたは電気メツキにより圢成され
るべきキダリダ䞊に需芁者により積局され、か぀
その埌にこの状態で露光および珟像される、仮の
キダリダは珟像前に陀去されおいる。
殊に、本発明によるコンパりンドはこの皮の甚
途に適圓である。遞択的にこれは、オフセツト版
たたは凞版の写真補版に適圓なキダリダ、䟋えば
アルミニりムたたは亜鉛䞊の感光性耇写材料ずし
お補造されるこずができる。さらにこれは、レリ
ヌフ像、スクリヌン印刷甚ステンシル、カラヌテ
スト甚フむルム等を補造するのに適圓である。本
発明による材料の利点は、露光された局の良奜か
぀持続的な柔軟性、未露光局のわずかなコヌルド
フロヌ、および露光された局の、倧きい耐腐食薬
品性が重芁である党おの堎合に有甚であるこずで
ある。
本発明によるコンパりンドを含有する感光材料
は公知の方法で補造されるこずができる。埓぀
お、溶剀が該コンパりンドに添加されるこずがで
き、か぀埗られた溶液たたは分散液が、流延、噎
霧、浞挬、ロヌラ塗垃たたは他の任意の方法によ
りキダリダに斜されるこずができ、か぀埗られた
フむルムが也燥される。肉厚の局䟋えば250ÎŒ
たたはそれ以䞊が、抌出成圢たたは圧瞮成圢
するこずにより自己支持性フむルムずしお補造さ
れるこずができ、か぀これがその埌にキダリダに
積局される。
本発明によるコンパりンドを含有する耇写局に
適圓なキダリダずしおは、金属、䟋えば、アルミ
ニりム、亜鉛、銅、鋌、クロム、真茞および他の
合金、さらに、スクリヌン印刷甚ステンシルのキ
ダリダ、䟋えばニツケルたたはパヌロン網、およ
び、プラスチツクフむルム、䟋えばポリ゚ステル
フむルム、殊に衚面凊理せるプラスチツクフむル
ムである。
本発明による耇写局は、垞法で露光および珟像
される。適圓な珟像剀は、氎性の、有利にアルカ
リ性氎溶液、䟋えば燐酞アルカリ金属たたは珪酞
アルカリ金属の溶液であり、これには堎合によ
り、わずかな量の、䟋えば10重量パヌセントた
で、䜆し有利に重量パヌセントを䞋廻る、氎ず
混和性の有機溶剀たたは湿最剀が添加されるこず
ができる。珟像は、手䜜業により凊理するこずに
より、たたは商業的なスプレヌ珟像たたはブラシ
珟像装眮䞭で凊理するこずにより行なわれるこず
ができる。
前述せるように、本発明によるコンパりンドは
極めお皮々の甚途に䜿甚されるこずができる。殊
に有利な甚途ずしお、これらは、金属キダリダ䞊
のホトレゞストたたぱツチングレゞストの補造
に䜿甚される。殊にこれらは銅キダリダ䞊に䜿甚
するのに適圓である。この有利な甚途においお、
露光範囲の局の優れた付着性および柔軟性は、珟
像䞭だけでなく、匕続くキダリダの゚ツチング䞭
にも有利であり、その堎合この局が良奜な柔軟性
および耐食性を瀺す。
このコンパりンドは、殊に有利に、前途のいわ
ゆる也匏レゞスト材料の圢で䜿甚されか぀取扱わ
れるこずができる、それずいうのも也燥した局で
さえ金属キダリダぞ転写されか぀それに固着する
局を圢成するこずが可胜であるからである。この
堎合、ポリ゚ステルフむルムが殊に有利に仮のキ
ダリダフむルムずしお䜿甚されるこずができる。
以䞋に、本発明を実斜䟋に぀き詳説する。䟋䞭
の「パヌセンテヌゞ」は、別蚘しない限り党お
「重量パヌセンテヌゞ」を衚わす。
䟋 1a ―ヘキシルメタクリレヌト、メタクリル酞お
よびスチロヌル603010より成り、平均分
子量玄35000を有するタヌポリマヌ6.5、 ―トリメチル―ヘキサメチレン―ゞ
む゜シアネヌトモルずヒドロキシ゚チルメタク
リレヌトモルずを反応させるこずにより埗られ
た重合性ゞりレタン2.8、 ―トリメチル―ヘキサメチレン―ゞ
む゜シアネヌト11モルず無氎トリ゚チレングリコ
ヌル10モルずを反応させ、さらに埗られた反応生
成物にヒドロキシ゚チル―メタクリレヌトモル
を反応させるこずにより埗られた重合性ポリりレ
タン2.8、 ―プニル―アクリゞン0.2、 ―メルカプト―プロピオン酞――ゞク
ロル―アニリド0.1、 ―ゞニトロ――クロルベンゟヌル―ゞ
アゟニりム塩ず―メトキシ――アセチルアミ
ノ――シアノ゚チル――ヒドロキシ―゚チル
―アニリンずをカツプリングさせるこずにより埗
られた青色アゟ染料0.035、および ―ゞヒドロキシ―安息銙酞ずゞ゚チレン
グリコヌル―モノ――゚チルヘキシル゚ヌテル
ずの゚ステル2.8の、 メチル゚チルケトン35.0および゚タノヌル
2.0䞭溶液を、 軞延䌞および熱固定せる25Ό厚のポリ゚チ
レンテレフタレヌトフむルムぞ、100℃で也燥埌
に局が28m2の重量になるように回転塗垃す
る。
埗られた也匏レゞストフむルムを、35Ό厚の
銅箔が蚭けられたプノヌル暹脂積局板に商業的
な積局装眮を䜿甚し120℃で積局し、か぀その埌
に秒商業的露光装眮䞭で露光する。䜿甚せるマ
スタヌ版は、線および線間距離が80Όを䞊廻る
巟を有する線画原版である。
露光埌に、ポリ゚ステルフむルムを剥離し、か
぀この局を50秒以内に0.8パヌセントNa2CO3溶液
を䜿甚し噎霧珟像装眮䞭で珟像する。
その埌に、このプレヌトを30秒流氎で掗浄し、
25パヌセントペルオキシ二硫酞アンモニりム溶液
で分衚面゚ツチングし、か぀その埌に匕続き以
䞋の電解济䞭で電気メツキする  ゟリンゲン圚ブラスベルク瀟Messrs.
BlasbergSolingenにより“埮粒子状銅プラ
スチツク济”Feinkornkupferplastic―Bad
なる名称䞋に垂販されおいる銅電解济䞭で40
分 電流密床4Am2 埗られた金属局の厚さ玄20Ό。
 ゟリンゲン圚ブラスベルク瀟により垂販され
おいる“ノルマ”Normaなる皮類のニツケ
ル济䞭で10分 電流密床4Am2 埗られた金属局の厚さΌ。
 ゟリンゲン圚ブラスベルク瀟により垂販され
おいる“アりトロネツクス”AutronexN
なる皮類の金济䞭で15分 電流密床0.6Am2 埗られた金属局の厚さ2.5Ό。
このプレヌトはサむド゚ツチたたは損傷郚を瀺
さない。
その埌に、このプレヌトはパヌセントKOH
溶液䞭で50℃で被芆陀去するこずができ、か぀露
出せる銅郚分が垞甚の゚ツチング装眮䞭で腐食陀
去されるこずができる。
10倍の過剰露光埌、すなわち前述の露光装眮䞭
で80秒の露光時間埌でさえ、前述の也匏レゞスト
フむルは完党に軟質である。このこずは、巟玄
cmおよび長さ20cmの、キダリダおよび局より成る
露光せる材料を手䜜業により延䌞するこずにより
実蚌されるこずができる。宀枩においお、也匏レ
ゞストフむルムの10倍過剰露光せるバンドは、局
が亀裂たたは裂けるこずなくそのはじめの長さの
最䜎倍に延䌞するこずができる。
この柔軟性は、積局材料の切断、゚ツチング、
金メツキ等のような倚数の加工工皋で決定的に重
芁である。前述の也匏レゞストフむルムは、未露
光状態で極めおわずかなコヌルドフロヌを有し、
埓぀おロヌル巻きが、レゞスト局の瞁が圧出され
るこずなく長期間貯蔵されるこずができる。
䟋 1b〜1g 䟋1aで䜿甚せる可塑剀の代りに、以䞋のいずれ
かの可塑剀を䜿甚するこずができる 1b ―ゞヒドロキシ―安息銙酞およびゞ
゚チレングリコヌル―モノ――゚チルヘキシ
ル゚ヌテルより成る゚ステル2.8。
局重量29m2、 露光時間秒、 加工前述ず同様に、良奜な耐電気メツキ济性
が埗られる。
柔軟性10倍の過剰露光埌でさえ、この材料
は、局が裂開たたは脆化するこずなく延䌞す
るこずができる。
1c ―ゞヒドロキシ―安息銙酞およびトリ
゚チレングリコヌル―モノ――゚チルヘキシ
ル゚ヌテルより成る゚ステル2.8。
結果前述ず同じ、 局重量27m2。
1d ―ゞヒドロキシ―安息銙酞およびト
リプロピレングリコヌル―モノ――゚チルヘ
キシル゚ヌテルより成る゚ステル2.8。
結果前述ず同じ、 局重量27m2。
1e ―ゞヒドロキシ―安息銙酞およびヘキ
サ゚チレングリコヌル―モノ――゚チルヘキ
シル゚ヌテルより成る゚ステル2.8。
結果前述ず同じ、 局重量27m2。
1f ―ヒドロキシ―トルオヌル――カルボン
酞およびゞ゚チレングリコヌル―モノヘキシル
゚ヌテルより成る゚ステル2.8。
結果前述ず同じ、 局重量32m2。
1g ―ヒドロキシ―トルオヌル――カルボ
ン酞――ヘキシル゚ステル2.8。
結果前述ず同じ、 局重量32m2。
䟋1h 比范実斜䟋 溶液を、 䟋1aで䜿甚せるタヌポリマヌ6.5、 䟋1aで䜿甚せるゞりレタン2.8、 䟋1aで䜿甚せるポリりレタン2.8、 ―プニル―アクリゞン0.2、 ―メルカプト―プロピオン酞――ゞクロ
ル―アニリド0.1、 䟋1aで䜿甚せる染料0.035、 メチル゚チルケトン35.0、および゚タノヌル
2.0 からすなわち可塑剀を添加せずに補造した堎
合、也匏レゞストフむルムは、暙準露光時間埌に
盞察的に脆くか぀、この材料を、50だけ増倧せ
る露光時間埌に手䜜業により延䌞せる際に亀裂が
入りか぀裂けるものが埗られる。
䟋1i 比范実斜䟋 溶液を、 䟋1aで䜿甚せるタヌポリマヌ6.5、 䟋1aで䜿甚せるゞりレタン5.6、 䟋1aで䜿甚せるポリりレタン2.8、 ―プニル―アクリゞン0.2、 ―メルカプト―プロピオン酞――ゞクロ
ル―アニリド0.1、 䟋1aで䜿甚せる染料0.035、 メチル゚チルケトン35.0、および ゚タノヌル2.0 から補造しか぀、䟋1aに蚘茉せる方法でキダリダ
に斜す、その結果局重量は30m2である。10秒
にすぎない露光時間埌に、この局が脆化しか぀裂
ける。
䟋 2a 䟋1aで䜿甚せるタヌポリマヌ6.5、 䟋1aで䜿甚せるゞりレタン2.8、 䟋1aで䜿甚せるポリりレタン2.8、 ―プニル―アクリゞン0.2、 ―メルカプト―プロピオン酞――ゞクロ
ル―アニリド0.1、 䟋1aで䜿甚せる染料0.035、および―ヒドロ
キシ―安息銙酞ずトリ゚チレングリコヌル―モノ
―トリデシル゚ヌテルずを共沞゚ステル化するこ
ずにより埗られた可塑剀商業的生成物2.8
、 メチル゚チルケトン35.0および ゚タノヌル2.0 より成る溶液を、䟋1aに蚘茉せるように加工し、
28m2の重量を有する也匏レゞストフむルムを
埗る。
䟋1aで䜿甚せる露光装眮䞭で秒だけ露光した
埌、最適に露光された回路板が埗られ、これは、
0.8パヌセントNa2CO3溶液䞭で珟像するこずによ
り線画原版の真の耇写が埗られる。
このレゞストは軟質なたたでありか぀、これが
10倍過剰露光された堎合でも亀裂たたは砎壊しな
い。
䟋 2b 䟋2aで䜿甚せる可塑剀を、トリ゚チレングリコ
ヌル―モノ―゚チル゚ヌテルのサリチル酞゚ステ
ル2.8に代える。
也匏レゞストフむルムの局重量29.4m2、 露光時間10秒、 珟像0.8パヌセントNa2CO3溶液䞭で70秒、 耐電気メツキ济性金メツキ济䟋1a参照に
察しおさえ極めお良奜、 柔軟性このレゞスト局は、80秒の露光時間埌
でさえ完党に軟質でありか぀これを延䌞した
堎合でも砎壊たたは裂開しない。
䟋 2c〜2g 䟋2aで䜿甚せる可塑剀を以䞋のいずれかの化合
物2.8に代えた堎合でも、類䌌の結果が埗られ
る 2c ―ヒドロキシ―安息銙酞およびトリ゚チレ
ングリコヌル―モノブチル―゚ヌテルより成る
゚ステル 2d ―ヒドロキシ―安息銙酞および―゚チ
ル―ヘキサノヌルより成る゚ステル 2e ―ヒドロキシ―安息銙酞およびむ゜トリデ
シルアルコヌルより成る゚ステル 2f ―ヒドロキシ―安息銙酞および―゚チル
―ヘキサノヌルより成る゚ステル 2g ―ヒドロキシ―安息銙酞およびヘキサ゚
チレングリコヌル―モノ――゚チルヘキシル
―゚ヌテルより成る゚ステル 党おの堎合重量玄30m2の局が埗られ、これ
はこの也匏レゞストフむルムが極めお過剰露光
䟋えば、䟋1aで䜿甚せる露光装眮䞭160秒の露光
時間された堎合でさえ柔軟なたたである。これ
らの局の耐電気メツキ济性は優秀である。
䟋 3a 䟋1aで䜿甚せるタヌポリマヌ6.5、 ―トリメチル―ヘキサメチレン―ゞ
む゜シアネヌトモルずトリ゚チレングリコヌル
モルずを反応させ、か぀さらにこの反応生成物
ずヒドロキシ゚チルメタクリレヌトモルずを反
応させるこずにより埗られた重合性ポリりレタン
5.0、 ―ヒドロキシ―安息銙酞――゚チルヘキシ
ル゚ステル2.8、 ―プニル―アクリゞン0.2、および“デ
むスパヌスレツド”Disperse Red色指数No.
179染料0.025の、 メチル゚チルケトン25.0および゚タノヌル
2.0䞭溶液を、 䟋に蚘茉せるようなポリ゚ステルフむルム
ぞ、埗られる局重量が52m2であるように回転
塗垃しか぀その埌に也燥する。この被芆されたフ
むルムを、䟋1aに蚘茉せる露光装眮を䜿甚し、異
なる巟の線矀を包含するフむルム原版を通しお20
秒露光する。
噎霧珟像装眮䞭で、0.8パヌセント炭酞ナトリ
りム溶液を䜿甚し120秒珟像するこずにより、巟
50Όの線でさえ解像される。䟋1aで䜿甚せる電
気メツキ济を通しお行なわれた耐電気メツキ济性
の詊隓は良奜な結果が埗られサむド゚ツチたた
は亀裂のないレゞスト線が、臚界的な金メツキ济
䞭で認められた。
柔軟性は、160秒の露光時間埌でさえ極めお良
奜である。
耐珟像剀性は、50Ό巟にすぎない線でさえ最
䜎分である。
䟋3b 比范実斜䟋 䟋3aで䜿甚せる組成から可塑剀を省いた堎合、
暙準露光埌に、曲げた際に砎壊しか぀延䌞するこ
ずができない盞察的に脆い局が埗られる。
䟋3c 比范実斜䟋 䟋3aで䜿甚せる可塑剀を、同じ量2.8
の、この䟋䞭で䜿甚せるモノマヌに代えた堎合、
すなわち可塑剀を添加せずに・のモノマヌ
を䜿甚した堎合、䟋3bにおけるず同じ劣悪な結
果が埗られる。
䟋 4a 䟋1aで䜿甚せるタヌポリマヌ6.5、 䟋3aで䜿甚せる重合性ポリりレタン5.0、 トリ゚チレングリコヌル―モノ――゚チルヘ
キシル゚ヌテルの―ヒドロキシ―安息銙酞゚ス
テル2.8、 ―プニル―アクリゞン0.2、および染料
ずしお“デむスパヌスレツド”色指数179
0.025の、 メチル゚チルケトン25.0および゚タノヌル
2.0䞭溶液を、 䟋1aに蚘茉せるようなポリ゚ステルフむルム
ぞ、局重量51m2が埗られるように回転塗垃し
か぀也燥する。この材料を、䟋3aに蚘茉せるよう
に加工した堎合、実際に䟋3aにおけるず同じ結果
が埗られる。
䟋4b 比范実斜䟋 䟋4aに蚘茉せる可塑剀を、同じ量の、ポリマヌ
甚可塑剀ずしお商業的に䜿甚されおいる化合物で
あるゞむ゜デシル―アゞペヌトに代えるこずを陀
き、䟋4aを繰返す。15秒にすぎない露光埌に局が
脆くなる。さらに、その銅に察する付着性が劣悪
である。
䟋4c 比范実斜䟋 䟋4aに蚘茉せる可塑剀を、同じ量の  アゞピン酞および―プロパン―ゞオヌ
ルより成るポリ゚ステル、たたは  アゞピン酞およびブタン―ゞオヌルより成る
ポリ゚ステル に代えるこずを陀き、䟋4aを繰返す。
これら぀の化合物は商業的に䜿甚可胜な可塑
剀である。暙準露光20秒埌でさえ、脆いレゞ
スト局が埗られる。さらに、この局の銅に察する
付着性が劣悪である。
䟋 5a 䟋1aで䜿甚せるタヌポリマヌ6.5、 䟋1aで䜿甚せる重合性ポリりレタン5.0、 ―ヒドロキシ―安息銙酞―ネロリゞル゚ステ
ル2.8、 ―プニル―アクリゞン0.2、および染料
ずしお“デむスパヌスレツド”色指数179
0.025の、 メチル゚チルケトン25.0および゚タノヌル
2.0䞭溶液を、 䟋1aに蚘茉せるようなポリ゚ステルフむルム
ぞ、局重量50m2が埗られるように回転塗垃し
か぀也燥する。この局を、䟋3aに蚘茉せるように
加工する。暙準露光時間を200パヌセント䞊廻る
堎合でさえ、露光されたレゞスト局が十分に柔軟
である。
䟋5b 比范実斜䟋 䟋5aで䜿甚せる可塑剀を、同じ量の―゚チル
――トルオヌル―スルホンアミド商業的に䜿
甚可胜な可塑剀に代えるこずを陀き、䟋5aを繰
返す。レゞスト局の補造盎埌は、この局の、暙準
および延長露光埌の柔軟性が良奜であるが、未露
光の局を〜日貯蔵するこずにより、露光埌に
脆化の城候が芋られる。週間の貯蔵埌に、実質
的な分量の可塑剀が移行により倱なわれ、か぀レ
ゞストフむルムが䜿甚䞍胜にな぀た。
䟋5c 比范実斜䟋 䟋5aで䜿甚せる可塑剀を、同じ量の  ゞむ゜オクチルフタレヌト、たたは  トリクレゞルホスプヌト に代えるこずを陀き、䟋5aを繰返す。
暙準露光20秒により、脆い局が埗られ
た。
同じ量の、  平均分子量1000を有するポリ゚チレングリコ
ヌルを可塑剀ずしお䜿甚した堎合、その銅に察
する付着がもはや十分でない局が埗られる。

Claims (1)

  1. 【特蚱請求の範囲】  アルカリ性氎溶液䞭で可溶もしくは少くずも
    膚最性であるポリマヌ結合剀、アクリルたたはメ
    タクリル酞゚ステル基数最䜎および100℃を䞊
    廻る沞点を有する付加重合可胜な化合物、光重合
    開始剀および可塑剀より成るコンパりンドにおい
    お、該可塑剀が、匏 〔匏䞭、R1が氎玠原子たたはハロゲン原子も
    しくは、炭玠原子数〜を有するアルキル基で
    あり、R2が、氎玠原子、OH基たたは、炭玠原子
    数〜を有するアルキル基であり、R3が氎玠
    原子たたはメチル基であり、R4が、炭玠原子数
    〜20を有するアルキルたたはアルケニル基であ
    り、およびが零たたは〜20の敎数であり、か
    ぀が零たたはである堎合R4は炭玠原子数最
    䜎を有する〕に盞応する化合物であるこずを特
    城ずする光重合性コンパりンド。  可塑剀が、匏〔匏䞭R3が氎玠原子であ
    る〕に盞応する化合物であるこずを特城ずする、
    特蚱請求の範囲第項蚘茉の光重合性コンパりン
    ド。  可塑剀が、匏〔匏䞭R4が、炭玠原子数
    〜20を有するアルキル基である〕に盞応する化合
    物であるこずを特城ずする、特蚱請求の範囲第
    項蚘茉の光重合性コンパりンド。  可塑剀が、匏〔匏䞭〕に盞応する化
    合物であるこずを特城ずする、特蚱請求の範囲第
    項たたは第項のいずれかに蚘茉の光重合性コ
    ンパりンド。  可塑剀を、䞍揮発性成分に察し〜30重量パ
    ヌセント含有するこずを特城ずする、特蚱請求の
    範囲第項蚘茉の光重合性コンパりンド。  りレタン基数最䜎を有する重合性化合物を
    含有するこずを特城ずする、特蚱請求の範囲第
    項蚘茉の光重合性コンパりンド。  重合性化合物が、分子䞭のアクリルたたは
    メタクリル酞゚ステル基数を有するこずを特城
    ずする、特蚱請求の範囲第項蚘茉の光重合性コ
    ンパりンド。  結合剀が、酞䟡50〜250を有するアクリル酞
    たたはメタクリル酞共重合䜓であるこずを特城ず
    する、特蚱請求の範囲第項蚘茉の光重合性コン
    パりンド。  共重合䜓が、メタクリル酞、アルキル基䞭の
    炭玠原子数〜15を有するアルキルメタクリレヌ
    トおよび、前蚘぀の成分ず共重合可胜でありか
    ぀、その単独重合䜓が最䜎80℃のガラス転移点を
    有する他のモノマヌより成るタヌポリマヌである
    こずを特城ずする、特蚱請求の範囲第項蚘茉の
    光重合性コンパりンド。  仮の軟質キダリダおよび、アルカリ性氎溶
    液䞭で可溶もしくは少くずも膚最性である熱可塑
    性のポリマヌ結合剀、アクリルたたはメタクリル
    酞゚ステル基数最䜎および100℃を䞊廻る沞点
    を有する付加重合可胜な化合物、光重合開始剀お
    よび可塑剀より成る熱可塑性の光重合性局、およ
    び堎合によりさらに該局の、キダリダず反察偎の
    面にある剥離性被芆フむルムより成る転写材料に
    おいお、該可塑剀が、匏 〔匏䞭、R1が氎玠原子たたはハロゲン原子も
    しくは、炭玠原子数〜を有するアルキル基で
    あり、R2が、氎玠原子、OH基たたは、炭玠原子
    数〜を有するアルキル基であり、R3が氎玠
    原子たたはメチル基であり、R4が、炭玠原子数
    〜20を有するアルキルたたはアルケニル基であ
    り、およびが零たたは〜20の敎数であり、か
    ぀が零たたはである堎合R4は炭玠原子数最
    䜎を有する〕に盞応する化合物であるこずを特
    城ずする光重合性コンパりンドを含有する感光性
    転写材料。
JP6057379A 1978-05-20 1979-05-18 Photopolymerization compound and photosensitive transfer material containing same compound Granted JPS54153623A (en)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19782822191 DE2822191A1 (de) 1978-05-20 1978-05-20 Photopolymerisierbares gemisch

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS54153623A JPS54153623A (en) 1979-12-04
JPS6245968B2 true JPS6245968B2 (ja) 1987-09-30

Family

ID=6039902

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP6057379A Granted JPS54153623A (en) 1978-05-20 1979-05-18 Photopolymerization compound and photosensitive transfer material containing same compound

Country Status (4)

Country Link
EP (1) EP0006125B1 (ja)
JP (1) JPS54153623A (ja)
CA (1) CA1128802A (ja)
DE (2) DE2822191A1 (ja)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CA1170887A (en) * 1980-10-06 1984-07-17 Gary C. Briney Aqueous developable photopolymerizable elements
CA2534298C (en) * 2003-08-01 2013-12-31 Nobex Corporation Aryl carbamate oligomers for hydrolyzable prodrugs and prodrugs comprising same
JP2007101863A (ja) * 2005-10-04 2007-04-19 Hitachi Chem Co Ltd 感光性暹脂組成物、感光性゚レメント、レゞストパタヌンの補造法及びプリント配線板の補造法

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2198582A (en) * 1937-10-01 1940-04-23 Dow Chemical Co Ether esters of para hydroxy benzoic acid
US2198583A (en) * 1938-01-28 1940-04-23 Dow Chemical Co Ether esters of nuclear substituted salicylic acids
DE1283796B (de) * 1962-10-27 1968-11-28 Freudenberg Carl Fa Verfahren zur Herstellung von Vliesstoffen aus Polyamidfasern
DE1237057C2 (de) * 1964-03-31 1974-03-07 Verfahren zur herstellung von verfestigten bindemittelfreien faservliesstoffen
US3549367A (en) * 1968-05-24 1970-12-22 Du Pont Photopolymerizable compositions containing triarylimidazolyl dimers and p-aminophenyl ketones
US3615937A (en) * 1968-06-17 1971-10-26 Ibm Plasticizer additive to photoresist for the reduction of pin holes
US3850770A (en) * 1969-10-24 1974-11-26 Kansai Paint Co Ltd Radiation curable compositions from acrylurethane resins
DE2064079C2 (de) * 1970-12-28 1982-09-09 Hoechst Ag, 6000 Frankfurt Photopolymerisierbares Gemisch
JPS51123140A (en) * 1975-04-19 1976-10-27 Nippon Paint Co Ltd Photosensitive compositions and processing method thereof

Also Published As

Publication number Publication date
EP0006125A1 (de) 1980-01-09
JPS54153623A (en) 1979-12-04
CA1128802A (en) 1982-08-03
DE2965348D1 (en) 1983-06-16
DE2822191A1 (de) 1979-11-22
EP0006125B1 (de) 1983-05-11

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4245030A (en) Photopolymerizable mixture containing improved plasticizer
JPS6239418B2 (ja)
US4250248A (en) Photopolymerizable mixture containing unsaturated polyurethane
US4239849A (en) Polymers for aqueous processed photoresists
JPH0359416B2 (ja)
KR880001434B1 (ko) 방사선에 의한 쀑합성 조성묌
KR870000750B1 (ko) ꎑ쀑합성 조성묌
US4088498A (en) Photopolymerizable copying composition
JPS5812577B2 (ja) 光重合可胜な耇写材料
JPH0642073B2 (ja) 光重合性暹脂組成物
US4604342A (en) Photopolymerizable mixture and recording material produced from it
JP4697303B2 (ja) 感光性暹脂組成物、䞊びにこれを甚いた感光性゚レメント、レゞストパタヌンの圢成方法及びプリント配線板の補造方法
JPS60159743A (ja) 光重合性組成物
DE2517656B2 (de) Photopolymerisierbares Gemisch und dieses enthaltendes Aufzeichnungsmaterial
US4572887A (en) Radiation-polymerizable mixture with crosslinkable binder
CA1075956A (en) Alkyl mercaptan derivative used in association with a thermoplastic photopolymerizable copying layer to impart adhesion
SU470978A3 (ru) ЀПтПпПлОЌерОзующа с кПпОрПвальМа кПЌпПзОцО
JPH0746225B2 (ja) 攟射線重合性混合物、該混合物から補造された蚘録材料及びレリ−フ蚘録䜓の補法
JPS60258539A (ja) 光重合性組成物
US4296196A (en) Photopolymerizable mixture in a transfer element
TW514765B (en) Photoimageable composition having improved flexibility, adhesion and stripping characteristics
CA1128802A (en) Photopolymerizable mixture containing as plasticizer, a hydroxy substituted benzoate ester or oxyethylene derivative thereof
JP2788921B2 (ja) 攟射重合可胜な組成物および感攟射線性蚘録材料
JP2695851B2 (ja) 感光性暹脂組成物
CA1075955A (en) Thermoplastic photopolymerizable copying layer containing a benzene mercapto alkanoic acid amide derivative