JPS6249991A - 薬液中の金属塩除去方法 - Google Patents
薬液中の金属塩除去方法Info
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- JPS6249991A JPS6249991A JP60190296A JP19029685A JPS6249991A JP S6249991 A JPS6249991 A JP S6249991A JP 60190296 A JP60190296 A JP 60190296A JP 19029685 A JP19029685 A JP 19029685A JP S6249991 A JPS6249991 A JP S6249991A
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- Japan
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- chemical liquid
- chemical solution
- chemical
- metallic salt
- metal
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- Pending
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-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P10/00—Technologies related to metal processing
- Y02P10/20—Recycling
Landscapes
- Water Treatment By Electricity Or Magnetism (AREA)
- Electrolytic Production Of Metals (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は薬液中の金属塩除去方法に関するものである。
金属表面処理工程における酸洗浄液、メッキ液、電解研
磨液などの薬液（酸液）は被処理物を介して金属イオン
が溶は込むため使用の経過と共に次第に劣化し、被処理
物表面の異物除去効率が低下する。また、薬液中の金属
イオン濃度が高くなると被処理物の異種金属成分に再付
着が生じ、被処理物表面が汚損される。
磨液などの薬液（酸液）は被処理物を介して金属イオン
が溶は込むため使用の経過と共に次第に劣化し、被処理
物表面の異物除去効率が低下する。また、薬液中の金属
イオン濃度が高くなると被処理物の異種金属成分に再付
着が生じ、被処理物表面が汚損される。
この薬液中の金属イオンの除去方法として、従来では一
般にイオン交換樹脂が使用されている。
般にイオン交換樹脂が使用されている。
この場合、十分に金属イオンを吸着したイオン交換樹脂
は、酸、アルカリで再生する方法が取られるが、再生時
に酸、アルカリおよび吸着物の排水が流出し、排水処理
設備で処理する必要があるため、ランニングコストが高
価になるという問題があった。
は、酸、アルカリで再生する方法が取られるが、再生時
に酸、アルカリおよび吸着物の排水が流出し、排水処理
設備で処理する必要があるため、ランニングコストが高
価になるという問題があった。
また、イオン交換樹脂を使用せず、薬液を適時収容槽か
らオーバーフローさせたり、処理量が一定量に達する毎
に薬液を更新する方法も取られているが、この方法もや
はり排水処理上の問題があるとともに、薬剤の消費斌が
多くなり、ランニングコストが高くなる問題があった。
らオーバーフローさせたり、処理量が一定量に達する毎
に薬液を更新する方法も取られているが、この方法もや
はり排水処理上の問題があるとともに、薬剤の消費斌が
多くなり、ランニングコストが高くなる問題があった。
本発明は前記のような問題点を解決するために研究を重
わて創案されたもので、その目的とするところは、薬液
中の金属塩を効率良く除去することができるとともに、
排水処理量および薬剤使用量を大幅に節減することがで
きる薬液中の金属塩除去方法を堤供することにある。
わて創案されたもので、その目的とするところは、薬液
中の金属塩を効率良く除去することができるとともに、
排水処理量および薬剤使用量を大幅に節減することがで
きる薬液中の金属塩除去方法を堤供することにある。
この目的を達成するため本発明者らは研究と実験を重ね
、従来のように薬液中の金属イオΣ（雑イオン）の除去
にイオン交換樹脂を使用したり、オーバーフローにより
金属イオンを一定にするのでなく、薬液中の金属イオン
を電解析出することで除去する方法を試みた。
、従来のように薬液中の金属イオΣ（雑イオン）の除去
にイオン交換樹脂を使用したり、オーバーフローにより
金属イオンを一定にするのでなく、薬液中の金属イオン
を電解析出することで除去する方法を試みた。
その結果、Ｃｕイオン１７０■ＩＱを含有する薬液を、
単に直接電解析出しただけでは、析出量が通常電極では
１クーロンあたり０．０１２■、隔膜電極によっても１
クーロンあたり０．０２６４■と効率が低く、実用性が
なかった。そこで。
単に直接電解析出しただけでは、析出量が通常電極では
１クーロンあたり０．０１２■、隔膜電極によっても１
クーロンあたり０．０２６４■と効率が低く、実用性が
なかった。そこで。
電解析出を行う前に薬液をＣｕイオン６８０■／Ｑとな
るように濃縮し、しかる後、隔膜電極で電解析出したと
ころ、１クーロンあたり０．０９■が析出され、前２者
に比べ３倍以上と大幅な除去効率の得られることがわか
った。
るように濃縮し、しかる後、隔膜電極で電解析出したと
ころ、１クーロンあたり０．０９■が析出され、前２者
に比べ３倍以上と大幅な除去効率の得られることがわか
った。
この知見から、本発明は、薬液中の金属塩を除去するに
当り、薬液を収容槽から取り出し、薬液中の金属塩を選
択的に濃縮した後、濃縮液を隔膜電極で電解析出する方
法としたものであ。
当り、薬液を収容槽から取り出し、薬液中の金属塩を選
択的に濃縮した後、濃縮液を隔膜電極で電解析出する方
法としたものであ。
この方法によれば、薬液中の金属塩の除去効率が著しく
向上し、捕集金属を容易に再利用することができ、また
、電解析出された薬液は再度有効な酸液となり、これを
収容槽に戻すことで薬液の老化が防止されるため、薬剤
使用量を的確に節減し得るものである。
向上し、捕集金属を容易に再利用することができ、また
、電解析出された薬液は再度有効な酸液となり、これを
収容槽に戻すことで薬液の老化が防止されるため、薬剤
使用量を的確に節減し得るものである。
以下本発明の実施例を添付図面に基いて説明する。
第１図と第２図は、本発明を被処理物を薬液に浸漬しあ
るいはスプレーすることにより被処理物表面の酸化膜や
他の薬剤を除去する装置に適用した実施例を示す。
るいはスプレーすることにより被処理物表面の酸化膜や
他の薬剤を除去する装置に適用した実施例を示す。
図面中、１は薬液たとえば塩酸、硫酸、りん酸、有機酸
などを収容する薬液槽であり、加熱装置２０が付設され
、自動的に温度コントロールがなされるようになってお
り、槽底と側部間はポンプ６を有する循環配管５で結ば
れている。
などを収容する薬液槽であり、加熱装置２０が付設され
、自動的に温度コントロールがなされるようになってお
り、槽底と側部間はポンプ６を有する循環配管５で結ば
れている。
２は薬液槽１に接近して設けた電解槽で、互いに間隔を
おいて配された有底状のイオン隔膜１７と、各イオン隔
膜１７中に挿入された陽極１６と。
おいて配された有底状のイオン隔膜１７と、各イオン隔
膜１７中に挿入された陽極１６と。
イオン隔膜１７の外部に配された陰極１８とを備えてい
る。陽極１６と陰極１８は導線１５，１９により整流器
を含む電源回路１４に接続されている。陽極１６とイオ
ン隔膜１７間には導電性液（薬液を含む）が収容される
。
る。陽極１６と陰極１８は導線１５，１９により整流器
を含む電源回路１４に接続されている。陽極１６とイオ
ン隔膜１７間には導電性液（薬液を含む）が収容される
。
３は金属イオン濃縮手段で、逆浸透装置（ＲＯ装置）や
、限外ろ過装置（ＵＦ装置）などのろ過方式のものが好
適であるが、金属イオンを５００〜２００００ｍｇ／Ｑ
で濃縮しうる能力があればよく、したがって、場合によ
っては、真空蒸発式や加熱蒸発式などで代表される慣用
の濃縮装置を用いることもできる。４はろ膜である。
、限外ろ過装置（ＵＦ装置）などのろ過方式のものが好
適であるが、金属イオンを５００〜２００００ｍｇ／Ｑ
で濃縮しうる能力があればよく、したがって、場合によ
っては、真空蒸発式や加熱蒸発式などで代表される慣用
の濃縮装置を用いることもできる。４はろ膜である。
前記電解槽２には循環配管５から分岐した送り配管８が
導かれ、さらに電解槽２の他所と金属イオン濃縮手段３
間はポンプ１０を有する取り出し配管９で結ばれ、金属
イオン濃縮手段３の濃縮側は電解用配管１１により電解
槽２のイオン隔膜１７外側に連通している。そして、金
属イオン濃縮手段３のろ過側は戻り配管１２により薬液
槽１と結ばれている。さらに、電解槽２と薬液槽１間は
オーバーフロー管１３で連絡されている。前記送り配管
８には流量制御弁２１が設けられている。
導かれ、さらに電解槽２の他所と金属イオン濃縮手段３
間はポンプ１０を有する取り出し配管９で結ばれ、金属
イオン濃縮手段３の濃縮側は電解用配管１１により電解
槽２のイオン隔膜１７外側に連通している。そして、金
属イオン濃縮手段３のろ過側は戻り配管１２により薬液
槽１と結ばれている。さらに、電解槽２と薬液槽１間は
オーバーフロー管１３で連絡されている。前記送り配管
８には流量制御弁２１が設けられている。
図示のものによる金属塩の除去工程を説明すると、被処
理物は薬液槽１で処理され、薬液は循環配管５により常
時循環される。薬液には被処理物から金属イオンが持ち
込まれそのままでは上述のように薬液が劣化する。
理物は薬液槽１で処理され、薬液は循環配管５により常
時循環される。薬液には被処理物から金属イオンが持ち
込まれそのままでは上述のように薬液が劣化する。
そこで、操業中、流量制御弁２１により所定量の薬液を
循環配管５から取り出すもので、取り出された薬液は送
り配管８を通して電解槽２に送り込まれ、さらに電解槽
２から金属イオン濃縮手段３にポンプ圧送され、薬液中
の金属イオンが選択的に濃縮される。
循環配管５から取り出すもので、取り出された薬液は送
り配管８を通して電解槽２に送り込まれ、さらに電解槽
２から金属イオン濃縮手段３にポンプ圧送され、薬液中
の金属イオンが選択的に濃縮される。
図示するものでは、ろ過方式の濃縮手段を用いているた
め、ろ膜４を通過したろ液は戻り配管１２を通って薬液
槽１に送られ、これに対し、濃縮された金属イオンを含
む薬液は電解用配管１１を介して電解槽２の陰極外周に
送り込まれる。
め、ろ膜４を通過したろ液は戻り配管１２を通って薬液
槽１に送られ、これに対し、濃縮された金属イオンを含
む薬液は電解用配管１１を介して電解槽２の陰極外周に
送り込まれる。
電解槽２の陽極１６と陰極１８は電源回路１４から直流
が流されているため、陽極１６と陰極１８間で薬液中の
金属イオンが電解析出され、陰極１８の表面に金属分と
して析出除去される。処理する薬液中の金属イオン濃度
を予め高めているため、直接電解方式に比べ析出効率が
良好である。
が流されているため、陽極１６と陰極１８間で薬液中の
金属イオンが電解析出され、陰極１８の表面に金属分と
して析出除去される。処理する薬液中の金属イオン濃度
を予め高めているため、直接電解方式に比べ析出効率が
良好である。
電解析出され金属イオン濃度の低下した薬液は電解槽２
のレベルが電解用配管１１から送り込まれる薬液により
上昇するためオーバーフロー管１３から薬液槽１に送ら
れ、この結果、薬液は自動的に、金属イオン濃度一定の
状態に管理される。
のレベルが電解用配管１１から送り込まれる薬液により
上昇するためオーバーフロー管１３から薬液槽１に送ら
れ、この結果、薬液は自動的に、金属イオン濃度一定の
状態に管理される。
次に本発明の具体例を示す。
本発明を適用してラジェータの洗浄用薬液の金属塩除去
を行った。金属イオンの濃縮手段として逆浸透装置を用
いた。薬液は有機酸で、薬液槽に２５００Ｑ収容し、６
０℃にコントロールした。
を行った。金属イオンの濃縮手段として逆浸透装置を用
いた。薬液は有機酸で、薬液槽に２５００Ｑ収容し、６
０℃にコントロールした。
薬液にはＣｕイオンが１０４０■／ｗｉｎで持ち込まれ
た。
た。
この薬液を１８ Ｑ ／ｗｉｎ、 Ｃｕイオン１８００
＋ｎｇ／ｍｉｎとなるように送り配管８で電解槽２に連
続供給し、これから取り出し配管９により逆浸透装置に
圧送した。逆浸透膜から１６ Ｑ ／ｍｉｎ、 Ｃｕ Ｕイオン８０■／ｍｉｎのる液が通過し、戻り配管１２
を経て薬液槽１に送られた。逆浸透装置の濃縮側の薬液
６００〜〜８００■／ａｋｉｎは電解用配管１１により
電解槽２に送り込まれ、カーボン製陽極と銅製陰極にＩ
ＯＶ、１９２．６Ａの直流を通電することにより、陰極
表面に金属銅１０４゜■／ｗｉｎが析出された。
＋ｎｇ／ｍｉｎとなるように送り配管８で電解槽２に連
続供給し、これから取り出し配管９により逆浸透装置に
圧送した。逆浸透膜から１６ Ｑ ／ｍｉｎ、 Ｃｕ Ｕイオン８０■／ｍｉｎのる液が通過し、戻り配管１２
を経て薬液槽１に送られた。逆浸透装置の濃縮側の薬液
６００〜〜８００■／ａｋｉｎは電解用配管１１により
電解槽２に送り込まれ、カーボン製陽極と銅製陰極にＩ
ＯＶ、１９２．６Ａの直流を通電することにより、陰極
表面に金属銅１０４゜■／ｗｉｎが析出された。
電解析出された後の薬液はオーバーフロー配管工３によ
り、２ （１／＋＊ｉｎ、 Ｃｕイオン６８０■／Ωで
薬液槽１に戻され、この結果、薬液は常時Ｃ１十 Ｕイオン１００ｍｇ／１２の良好な状態にに保たれた。
り、２ （１／＋＊ｉｎ、 Ｃｕイオン６８０■／Ωで
薬液槽１に戻され、この結果、薬液は常時Ｃ１十 Ｕイオン１００ｍｇ／１２の良好な状態にに保たれた。
（発明の効果〕
以上説明した本発明によるときには、金属表面処理に用
いられる薬液中の金属塩をきわめて効率良く除去するこ
とができ、しかも排水処理の問題が無く、薬剤の使用量
を著しく節減することができる等の優れた効果が得られ
る。
いられる薬液中の金属塩をきわめて効率良く除去するこ
とができ、しかも排水処理の問題が無く、薬剤の使用量
を著しく節減することができる等の優れた効果が得られ
る。
第１図は本発明に係る薬液中の金属塩除去方法の一実施
例を示す説明図、第２図は第１図における電解槽の拡大
図である。 １・・・薬液槽、２・・・電解槽、３・・・金属イオン
濃縮手段、８・・・送り配管、９・・・取り出し配管、
１１・・・電解用配管、１２・・・戻り配管、１３・・
・オーバーフロー配管 特許出願人 株式会社ケミコート 代理人 弁理士 黒 １）泰 弘 ° ゝ゛パ ゛
、ノ
例を示す説明図、第２図は第１図における電解槽の拡大
図である。 １・・・薬液槽、２・・・電解槽、３・・・金属イオン
濃縮手段、８・・・送り配管、９・・・取り出し配管、
１１・・・電解用配管、１２・・・戻り配管、１３・・
・オーバーフロー配管 特許出願人 株式会社ケミコート 代理人 弁理士 黒 １）泰 弘 ° ゝ゛パ ゛
、ノ
Claims (1)
- 薬液中の金属塩を除去するに当り、薬液を収容槽から取
り出し、薬液中の金属塩を選択的に濃縮した後、濃縮液
を隔膜電極で電解析出することを特徴とする薬液中の金
属塩除去方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60190296A JPS6249991A (ja) | 1985-08-29 | 1985-08-29 | 薬液中の金属塩除去方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60190296A JPS6249991A (ja) | 1985-08-29 | 1985-08-29 | 薬液中の金属塩除去方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6249991A true JPS6249991A (ja) | 1987-03-04 |
Family
ID=16255805
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60190296A Pending JPS6249991A (ja) | 1985-08-29 | 1985-08-29 | 薬液中の金属塩除去方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6249991A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0423334A (ja) * | 1990-05-14 | 1992-01-27 | Nec Corp | 電荷転送装置 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5319171A (en) * | 1976-08-06 | 1978-02-22 | Asahi Glass Co Ltd | Separating and recovering method of good efficiency for acid and metal from solution containing acid and metal salt |
| JPS53132470A (en) * | 1977-04-26 | 1978-11-18 | Kosaku Kk | Treatment of waste plating solution |
| JPS5785986A (en) * | 1980-11-18 | 1982-05-28 | Toshiba Corp | Electrolysis type metal recovery method |
-
1985
- 1985-08-29 JP JP60190296A patent/JPS6249991A/ja active Pending
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5319171A (en) * | 1976-08-06 | 1978-02-22 | Asahi Glass Co Ltd | Separating and recovering method of good efficiency for acid and metal from solution containing acid and metal salt |
| JPS53132470A (en) * | 1977-04-26 | 1978-11-18 | Kosaku Kk | Treatment of waste plating solution |
| JPS5785986A (en) * | 1980-11-18 | 1982-05-28 | Toshiba Corp | Electrolysis type metal recovery method |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0423334A (ja) * | 1990-05-14 | 1992-01-27 | Nec Corp | 電荷転送装置 |
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