JPS6251643B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、液体噴霧、特に、必ずしも限定する
ものではないが液体・固体スラリの噴霧に関する
ものである。

例えば、ロツジーコツトレル リミテツド
（Lodge―Cottrell Limited）社の英国特許第
2084896B号（英国特許出願第2084896A号）（その
全開示内容は本明細書に参照されている）におい
て、液体が配向される拡張面を内側にもつ高速回
転型カツプを含む液体用噴霧装置が記述され、液
体がこの面を離れるときにガス流と衝撃されて液
滴の噴霧を生ぜしめる。

この噴霧装置に対する英国特許第2084896B号
に記載の技術的出願内容の一つは、液体・固体ス
ラリ例えば液体石灰スラリ、をガス中に噴霧し
て、例えば亜硫酸を含む汚染ガスを処理すること
にある。

回転カツプ型噴霧装置を用いるスラリの噴霧に
関連してしばしば生ずる一つの問題は、この噴霧
装置上の制御できない固体の集積であり、これは
例えばその動的つり合いを狂わせて重大な機械的
故障を起こさせ、また固体の集積は液体供給ダク
トを閉塞させる。

固体の集積は、例えば亜硫酸を含むガスの逆循
環を生ぜしめ、これによつて石灰スラリと反応し
て固体反応生成物を形成することによつて生ずる
と考えられている。

英国特許第2084896B号にはさらに、液体石灰
スラリの代りに炭酸ソーダ溶液の使用も開示さ
れ、それに記述された他の技術的適用例は、電気
式沈澱装置を通過するに先だつて、水によつてガ
スを調節すること、及び高温の汚染ガスを水で蒸
発冷却することであるが、これらの場合はすべて
固体の集積は、例えばもし噴霧される液体が固体
粒状不純物を含むならば、あるいは固体集積の危
険が例えばセメント施設からの汚染ガスの蒸発冷
却の場合のように汚染されたガスの性質から生ず
るならば起こる問題である。

本発明の目的は、制御できない固体の集積を抑
制できる改良型噴霧装置を提供するにある。

英国特許第2084896B号の噴霧装置において、
液体は分布装置によつてカツプの内側に供給さ
れ、この分布装置はカツプと共に回転し、ここに
おいて液体は分布装置によつて拡張面上に配向さ
れるように構成されているが、現在、出願者は分
布装置は静止状態に維持されるのが好適であるこ
とを知つた。

本発明は液体を用いて汚染ガスを処理する方法
を提供し、この方法において液体は噴霧装置の拡
張面から汚染ガス中に配向されてガスを冷却及
び／または清浄にし、噴霧装置は(a)外側リム及び
前記拡張面を提供する内側面をもつ軸方向に対称
の噴霧カツプと、(b)液体を拡張面上に配向しかつ
液体を内側面から外側リムを通過させるように配
向準備させるために拡張面上に液体のフイルムを
提供するカツプに対して対称的に配置されかつ拡
張面上に液体を配向する場合に静止状態にある分
布装置と、(c)リムを越えた直後の位置において液
体を衝撃するガス流を供給して液滴の噴霧を発生
させる装置を含む。

さらに、本発明は噴霧乾燥状態における汚染物
含有ガスからの気体汚染物の吸収装置を提供し、
該装置は(a)噴霧乾燥容器と、(b)容器に汚染物含有
ガスを導く装置と、(c)吸収剤水溶液を容器内に噴
霧し、噴霧乾燥状態の下でガス中の汚染物と反応
させて固体反応生成物をつくらせる噴霧装置と、
(d)ガスからの固体反応生成物の分離装置と、(e)噴
霧乾燥容器から分離装置へのガス導入装置とを含
み、噴霧装置が、(f)外側リム及び内側面をもつ軸
方向に対称の噴霧カツプと(g)液体を内側面に配向
しかつ内側面上に液体のフイルムを提供して液体
を内側面から外側リムを通過させるように配向準
備させる、カツプに対して対称的に配置されかつ
液体を内側面上に配向する場合に静止状態にある
分布装置と、(h)リムを越えた直後の位置において
液体を衝撃するガス流を供給して液滴の噴霧を発
生させる装置を含む。

後述の本発明の実施例において、カツプは回転
するが、或る状態の下では、カツプが静止状態で
も満足に作用できることが考えられる。

ガスは、例えば飛散灰またはセメント粉塵のよ
うな固体汚染物及び／または亜硫酸、酸化窒素、
塩化水素及びその混合物などの気体汚染物を含
む。

本発明の或る実施例においては、分布装置は拡
張面上に配向される液体に旋回運動成分を提供す
る。

これらの実施例において、拡張面は例えばカツ
プの外側リムから一般に截頭円錐形に先細り、か
つ截頭円錐形の中心角は例えば20゜から160゜の
範囲で、一般には60゜から120゜が好ましく、特
に70゜から100゜の範囲がさらに好適である。

カツプの輪郭は、例えば円筒形の上流部分と截
頭円錐形の下流部分で構成され、截頭円錐部分の
軸方向高さと円筒形部分の高さ間の比は、例えば
３：１から１：３の範囲で、特に２：１から１：
３の範囲であることが好ましい。

分布装置は、例えばカツプと同軸にカツプ内に
延びるガス流への軸方向に対称のバツフルを含
み、環状すきまがバツフルとカツプ内側間に形成
される。

カツプの内部に液体が流入する点への外側リム
からの軸方向距離ｄに対するカツプの外側リムに
おけるカツプの直径Ｄの比（Ｄ：ｄ）は、３：１
から６：１の範囲で、３：１から４：１の範囲が
特に好適である。

噴霧装置がほぼ15imp.gal／minまでの能力
（例えば２〜15imp.gal／minの範囲内の能力）を
もつ場合、 (i) カツプの直径はその外側リムにおいて例えば
120mmを超えず、さらに、ほぼ110mmを超えない
ことが好適で、特に80mmを超えないことが好ま
しく、 (ii) カツプの全高はほぼ160mmを超えない。

噴霧装置が例えば30または50imp.gal／minま
でのさらに高い能力をもつ場合、数値上の上限も
同様に増大する。

バツフルの大直径は、例えば前記大直径の面に
おけるカツプの内側面の直径の少くとも70％、さ
らに好ましくは少くとも75％である。

バツフルは、例えば逆截頭円錐形で、その円錐
形中心角は140℃を超えず、好ましくはほぼ120゜
を超えないことが好ましく、さらに70゜から110
゜の範囲が好適である。

分布装置は、例えば液体の流れに対して前方に
向いた円錐形頂部をもつ軸方向に対称の上流円錐
形部分を含む。この上流円錐形部分の円錐形中心
角は例えば20゜から85゜で、特に20゜から30゜の
範囲にあることが好ましい。

バツフルは、例えばカツプの外側リムから後退
し、これによりカツプの直径Ｄと外側リムからバ
ツフルへの軸方向距離d′との間の比（Ｄ：d′）
は、４：１から８：１の間、好ましくは５：１か
ら８：１の間の値をもつ。

本発明の他の実施例において、分布装置は分布
カツプに液体を加速させ、次いでこの液体をカツ
プの外側リムを通過する方向とは一般に反対の方
向に拡張面上に配向するように構成される。

この実施例において、拡張面は例えば一つの頂
点をもつ半径方向に彎曲した断面をもち、かつリ
ムから頂点までの軸方向距離d″に対するカツプ
の外側リムにおけるカツプの直径D′の比（D′：
d″）は、３：１から８：１の範囲である。

この実施例の噴霧装置はほぼ15imp.gal／min
までの能力（例えば２〜15imp.gal／minの範囲
内の能力）をもち、 (i) カツプの直径はその外側リムにおいて、例え
ばほぼ120mmを超えず、 (ii) カツプの全高は、例えばほぼ125mmを超え
ず、好ましくはほぼ90mmを超えない。

また、噴霧装置が例えば30または50imp.gal／
minの能力をもつ場合、これらの数値の上限は同
様に増大される。

本発明はまた、(a)外側リムと内側面をもつ質量
の大きい軸方向に対称の噴射カツプと、(b)カツプ
を回転する装置と、(c)カツプの内側面上に液体を
配向しかつ内側面上に液体のフイルムを提供して
液体を内側面から外側リムを通過させるように配
向準備させる、カツプに対して対称的に配置され
た静止分布装置と、(d)リムを越えた直後の位置に
おいて液体を衝撃するようにガス流を供給して液
滴の噴霧をつくる装置とを含み、分布装置が、(e)
軸方向に対称の分布器カツプの形状でこれと同軸
でかつ噴霧カツプに面する下流端部分で分布器カ
ツプが噴霧カツプの外側リムよりも小さい直径の
外側リムをもつ下流端部分と、(f)分布器カツプの
上流で該カツプに隣接する一般にベンチユリ形状
の通路とを含む噴霧装置を提供する。

本発明はまた、(a)外側リム及び内側面をもつ質
量の大きい軸方向に対称の噴霧カツプと、(b)カツ
プを回転する装置と、(c)カツプの内側面上に液体
を配向しかつ内側面上に液体のフイルムを提供し
て液体を内側面から外側リムを通路させるように
配向準備させる、カツプに対して対称的に配置さ
れた静止分布装置と、(d)リムを越えた直後の位置
において液体を衝撃するためにガス流を供給する
装置とを含み、分布装置が、(e)下流ダクト部分
と、(f)拡張面上に配向される液体中に旋回運動成
分を提供する静止旋回付与装置とを含み、旋回付
与装置が、(g)分布装置の下流ダクト部分内で軸方
向に対称的に配置された静止旋回付与部材とを含
み環状通路が静止旋回付与部材とダクト部分間に
形成され、静止旋回付与部材が、(h)複数の対称的
に配置された旋回羽根と、（ｉ）液体流に対して
円錐形頂部を向けた軸方向に対の上流円錐形部分
とを含む噴霧装置を提供する。

本発明の実施例である噴霧装置は、特に、ただ
しそれに限定するものではない英国特許第
2084896B号に記載するように、液体石灰スラリ
を用いる噴霧乾燥による亜硫酸を含むガスを脱硫
する装置と方法に技術的適用をもつ。本発明によ
る噴霧装置はまた、英国特許第2084896B号に記
載の他の技術的使用目的に用いることができ、他
の可能な技術的使用目的は、例えばなかんずくガ
スから塩化水素を除去するのに炭酸ナトリウムが
用いられる。焼却炉施設から汚染ガスを処理する
ことにある。

本発明の実施例の図面を参照しつつ以下に本発
明を説明する。本発明の方法及び装置の特徴を述
べるこの説明は、単に例を用いて行つたものであ
り、この例は本発明をそれに限定するものではな
い。

石炭燃焼設備からの煙道ガスの脱硫用装置を、
第１図に略示する。高い細長い噴霧乾燥塔６より
下流に設けられた煙道ガスを処理する装置５は、
バグフイルタまたは電気式沈澱装置を含む。消石
灰または石灰石のスラリが容器７内に準備され、
かつポンプ８によつてライン３６を経て塔６の頂
部の回転カツプ型噴霧器９に圧送される。汚染物
質（例えば容積で300〜3000ppmの亜硫酸）とし
て亜硫酸を含む120℃と200℃の間の温度のボイラ
煙道ガスのような高温ガスがライン１０から塔６
の頂部に給送される。噴霧乾燥は塔６内で高温ガ
スと噴霧されたスラリとが接触するときに起こ
り、乾燥粉末放出物が塔６の底部に収集されて弁
６ａを経て除去される。次いで煙道ガスは、ライ
ン１０ａからバグフイルタまたは電気式沈澱装置
５を通過し、別の粉末放出と飛散灰（若干の使用
済み吸収剤を含む）はこのガスから分離されてホ
ツパ１２内に収集され、弁１２ａから除去され
る。次いで実質的に脱硫された煙道ガスは、フア
ン１１を用いて煙突１３から大気へ排出される。

塔６及びその作用は、英国特許第2084896B号
の第６，７，８図を参照して記述された塔と一般
に類似している。一般に、一つの塔６は
500000ft³（14160m³）（周囲状態）／minまでの煙
道ガスを処理し、かつ500Megawatt石炭燃焼動力
施設は、その全煙道流出ガスを処理するのにはこ
のような塔を４基または５基必要とする。

第２図に回転カツプ型噴霧器９の詳細図を示
す。この噴霧器９において、液体供給経路は中空
の垂直方向の静止ダクト部分５６と、一般に軸方
向に対し対称な静止型分布器組立体１７ａの垂直
下流ダクト部分１７（第３図）を含み、分布器組
立体１７ａはダクト部分５６の下方の短い末端部
分２０にねじ結合されかつ一体形状の質量の大き
い軸方向に対称な回転カツプ１８に接続する。ス
ラリライン３６はダクト部分５６と連通する。

ダクト５６の頂部から下向きに延びる液体供給
経路は一般に、ダクト部分５６の軸線まわりに、
及びカツプ１８の回転軸線まわりに対称であるこ
とが分かる。

一体形状のカツプ１８は、半径方向に間隔をも
つて配置された止めねじ１８ａによつて中空回転
軸１６の下端部分に取付けられる。カツプ１８
は、噴霧器の作動時に、その軸線まわりに軸１６
と共に回転するが、ダクト部分５６と分布器組立
体１７ａは静止状態を保ち、軸１６は玉軸受５
７，５９によつてダクト部分から隔たつているこ
とが理解されるであろう。ダクト部分５６は、玉
軸受５７を収容するために部分６１において出入
可能に構成されている。

制御弁２１ｃを含むライン２１６を経由してカ
ツプ１８の外側の環状室２１から噴霧器９に空気
が供給される。空気は回転カツプ１８の下方外側
のリム２２ａの周りに形成されかつ室２１の外壁
を形成する静止カツプ覆い２３とカツプ１８間に
形成された環状のノズル孔２２を経由して高速
（少くとも280ft／sec、85.3m／sec）で室２１を
出る。覆い２３は下方リンダ部分２２ｂを含み、
その内部は下向きに先細り形状となりノズル孔２
２の外辺を形成する。

覆い２３は、フランジ２３ａ及び１５ａを介し
てハウジング要素１５に２３ｂにおいてボルト結
合され、フランジ１５ａは噴霧器９を塔６内に取
付けるのに用いられる。軸１６はハウジング要素
３０を通つて上方に延び、ハウジング要素とは軸
方向に隔たつて配設された玉軸受３２，３４を介
して軸受内に取付けられる。ハウジング要素３０
はフランジ３１を介してハウジング要素１５に３
３においてボルト結合され、かつフランジ３１か
ら、ハウジング要素１５内に下向きに短距離だけ
延びる。

軸１６の上端部分は、フランジ３５を介して、
ハウジング要素３０に３７においてボルト結合さ
れたベルトハウジング３８内に延び、ハウジング
３８は柱部材３９によつて補強されている。ベル
トプーリ４０が二つの止ねじ４１（そのうち一つ
のみを示す）によつてハウジング３８内の軸１６
の上端部分に取付けられ、駆動ベルト４２がプー
リ４０と電動機４６の駆動プーリ４４まわりにハ
ウジング３８内で張り渡される。電動機４６は４
８において、ハウジング３８にボルト結合され
る。

作用について述べれば、カツプ１８は例えば
3000〜5000または6000r.p.m.の速度で電動機４６
によつて回転され、例えば水酸化カルシウムなど
の液状スラリは分布器組立体１７ａを含む供給経
路を経て回転カツプ１８の内部１８ｂに連続的に
供給され、かつ均質なフイルムとしてカツプ１８
の延長内側面７４まわりに連続的に分布される。
遠心力によつて懸濁物はカツプのリム２２ａを押
し通されるので、懸濁物はノズル孔２２を通つて
下向きに流出する高速の空気流との衝動によつて
リム２２ａを越えた直後で霧化される。これによ
り、液体フイルムを不安定にさせ、微粒体の噴霧
をつくらせ、この噴霧は亜硫酸を含む煙道ガス内
に噴入されて化学反応によつて煙道ガスから亜硫
酸を吸収する。煙道ガスの周囲状態は、すべての
水が蒸発されかつ反応生成物が形成されるにつれ
て乾燥されるように定められる。

カツプ１８及び分布器組立体１７ａについて、
特に第３図についてその詳細を以下に説明する。

この質量の大きい一体構成のカツプ１８は、止
ねじ１８ａによつて軸１６に取付けられた上方の
外方外側円筒形部分７６と、リム２２ａから上向
きに先細形状をなす下方の外側截頭円錐形部分７
８を含む。カツプ１８のリム２２ａは、とがつた
先端をもちその内側面７４もまた上方へ先細り形
状の截頭円錐形をなす。面７４の截頭円錐形の中
心角β（第５図）はほぼ103゜であり、リム２２
ａから円筒形部分７６の頂部までのカツプ１８の
全高はほぼ83mmであり、リム２２ａにおけるカツ
プ１８の直径Ｄはほぼ75mmである。円筒形部分７
６に対する截頭円錐形部分７８の軸方向の高さの
比はほぼ2.25：１である。

静止分布器組立体１７ａの下方部分８０は、カ
ツプ１８内でそれと同軸に配設された截頭円錐形
バツフル部分８０を形成し、バツフル部分８０と
カツプ１８の内側部との間に環状すきま８２を残
す。バツフル部分８０の下方水平面８４はカツプ
１８のリム２２ａから上方へその形状が細まる。
リム２２ａから面７４の上端までの軸方向距離ｄ
はほぼ20mmで、従つて比（Ｄ：ｄ）はほぼ3.75：
１である。面８４の直径（すなわち截頭円錐形バ
ツフル部分８０の大直径）は、面８４を含む平面
における面７４の水平直径のほぼ78％で、環状す
きま８２はスラリ中の固形粒体によつてスラリの
流動を妨げられるおそれを無くす程度の少くとも
充分な幅をもつ。バツフル部分８０の円錐形の中
心角はほぼ103゜である。リム２２ａから面８４
までの軸方向距離d′はほぼ12mmであり、従つて比
（Ｄ：d′）はほぼ6.25：１である。

分布器組立体１７ａは、ダクト部分１７内に軸
方向に対して対称に配置された静止旋回付与部材
８６を含み、環状通路が旋回付与部材８６とダク
ト部分１７間に形成されている。静止旋回付与部
材８６は直立の、先端が尖つた円錐形上方端部分
８８と、四つの対称的に外方へ延びる旋回羽根９
２（そのうちの三つだけを示す）をもつ円筒形の
下方端部分９０を含む。上方端部分８８の円錐形
中心角はほぼ80゜である。バツフル部分８０はね
じ９４によつて円筒形部分９０に取付けられ、旋
回付与部材８６は旋回羽根９２と係合する固定ピ
ン９６によつてダクト１７内に取付けられる。各
旋回羽根９２は（第３図に示すように）、一般に
カツプ１８の表面７４と同一角度で傾斜Ｌ形の下
方アーム９３をもつたゆがめられたＬ形状をも
つ。

ダクト部分１７は、垂直方向へ旋回付与部材８
６の円錐形部分８８と同一広がりをもつ直立の截
頭円錐形上方部分１０４と、カツプ１８の面７４
と同一直線状をなしかつリム１０３を末端とする
截頭円錐形末端面１０２と末端をもつ下方円筒形
部分１０６を含む。旋回付与部材の下方部分９０
と旋回羽根９２はリム１０３の面内に末端を置
く。

作用について述べれば、静止ダクト５６の内部
を通つて供給されかつ分布器組立体１７ａによつ
て広がり面７４上に配向されたスラリは羽根９２
によつて旋回運動成分を付与され、次にこのスラ
リは既述のように面７４上に薄い連続フイルムを
形成し、カツプ１８は旋回運動と同一方向に回転
する。スラリの加速度は、スラリが面７４に到達
しそこでカツプ１８を回転させるまでは生じな
い。

環状すきま８２は、羽根９２の下流においては
障害を受けずかつこのことはさらに、固形物の蓄
積によるスラリの流れが阻害される危険を最小に
することが分るであろう。また、すきま８２の上
流にはスラリの流れを著しく阻害するような断面
が存在しないことが分かる。

噴霧器９は、例えば１〜10imp.gal／minの流
速で、かつ例えば重量で40％までの固形石灰濃度
のスラリを用いて十分に使用目的を果たすことが
判明した。

噴霧器９は液体またはスラリとの最小接触時間
とカツプの広がり面上の薄いフイルム形成を提供
するので、化学的または機械的作用を通じて固形
物生成の傾向を減少する。

第４図に示す改変形カツプ・分布器組立体は、
構造及び配置の点で第３図に示す組立体と大いに
類似するので、以下の説明は相違する点について
行なう。

第４図の分布器組立体１２７ａは、分布器組立
体１７ａよりも一般に長さが大きくかつさらに流
線形化されている。この組立体２１７ａは旋回部
材組立体２８６を含み、これは四つの旋回羽根２
９２を突設した円筒形中央部分２８８を含む。中
央部分２８８は円錐形上方端部分２９４の短胴部
２９３及び下方の截頭円錐形バツフル部分２９８
の短胴部がねじ込まれる軸方向の内孔２９０を含
み、短胴部２９３，２９６は固定ピン３００によ
つて内孔２９０内に固着される。

カツプ２１８内に円筒形プラスチツクブツシユ
３０２が固定され、その下方環状内向き突出部分
３０４は分布器組立体２１７ａと極めて近く隣接
する軸受面を提供する。

第４図のカツプ２１８の面２７４の截頭円錐形
中心角β（第５図）はほぼ94゜であり、リム２２
２ａから円筒形部分２７６の頂部までの全高はほ
ぼ125mmであり、リム２２２ａにおけるカツプ２
１８の直径Ｄはほぼ75mmである。円筒形部分２７
６に対するカツプ２１８の截頭円錐部分２７８の
軸方向高さの比はほぼ1.5：１である。

リム２２２ａから面２７４の上端までの軸方向
距離ｄはほぼ20mmであり、従つて比Ｄ：ｄはほぼ
3.75：１である。面２８４の直径は面２８４の平
面における面２７４の水平直径のほぼ81％であ
る。バツフル２９８の円錐形中心角はほぼ102゜
または108゜である。上方端部分２９４の円錐形
中心角はほぼ24゜または28゜である。リム２２２
ａから面２８４までの軸方向距離d′はほぼ10mmで
あり、従つて比（Ｄ：ｄ）はほぼ7.5：１であ
る。

第６図に示す改変形カツプ・分布器組立体も構
造及び配置の点で第３図に示す組立体と大いに類
似し、以下の説明はその相違するところについて
のみ行う。

質量の大きいカツプ４１８は、止ねじ４１８ａ
によつて軸４１６に取付けられた上方の外側円筒
形部分４７６と、中間の外側截頭円錐形部分４７
８と、リム４２２ａを末端とする下方の外側円筒
形部分４７９を含む。リム４２２ａはその先端が
とがり、かつカツプ４１８の内側面４７４は異な
る半径の二つの境界円４７７，４７９ａを含む半
径方向の断面をもち、内側の部分円４７７は外側
の部分円４７９ａよりも半径が小さい。これら二
つの半径はカツプの小さい深さに対して比較的大
きい表面積を提供する。リム４２２ａから円筒形
部分４７６までのカツプ４１８の全高はほぼ85mm
で、リム４２２ａにおけるカツプ４１８の直径
D′はほぼ115mmである。リム４２２ａのレベルか
ら面４７４の頂部までの軸方向距離d″に対する
直径Ｄの比は、ほぼ６：１である。

分布器組立体４１７ａの下方下流端部分は軸方
向に対称の分布器カツプ４８０の形状をもち、こ
のカツプはガス流に対するバツフルとして機能
し、カツプ４８０はカツプ４１８と同軸に配置さ
れかつ尖鋭端をもつ逆截頭円錐形下方部分４８０
ａと逆截頭円錐形上方部分４８０ｂとを含み、下
方部分４８０ａの円錐角は上方部分４８０ｂの円
錐角よりもさらに鋭角である。分布器カツプ４８
０は、カツプ４１８の面４７４の部分４７７に面
しかつ先のとがつた外側リム４８４を末端にもつ
部分円形の半径方向断面をもつ内側面４８２を含
む。分布器カツプ４８０はそのリム４８４におい
てカツプ４１８よりもはるかに小さい直径をも
ち、リム４２２ａ，４８４における各直径の比は
３：１から５：１の値をもち、さらにほぼ3.6：
１が好適な値である。面４８２はリム４８４に接
近するにつれて面４７４のこれと面する部分とほ
ぼ平行になる。

ダクト４５６の短胴端部分４２０とダクト４１
７内の環状段部４８６との間に、スパイダ４８７
が挾設され、スパイダ４８７は六つの（一つのみ
図示）対称的に間隔を保つた半径方向のリブ４９
０とリブ４９０が突出する下方の円筒形部分４９
３を含み、そのボス４８８は直立した先のとがつ
た円錐形部分４９２を含む。分布器カツプ４８０
はボス４８８内にねじ込まれた軸方向軸部分４９
４を一体に形成する。ダクト４１７の下方部分内
には環状の形状部材４９６が取付けられ、これは
固定ピン４９７によつてダクトに取付けられる。

軸部分４９４と形状部材４９６とによつて、均
等な環状上流断面４９８をもつ分布器カツプ４８
０へのリブ４９０からの通路を提供するように形
成され、この通路に続いてわずかに先広がり断面
５００が形成され、さらにその下流に一般にベン
チユリ形状の通路５０２が形成される。これに関
し、軸部分４９４は上方円筒形部分５１０から逆
截頭円錐形部分５１２に続き、さらに下方の円筒
形部分５１４をもち、形状部材４９６は軸部分４
９４の下方部分を囲みかつ下向きに先細形状の上
面５１６から円筒形面５１８に続き、さらにダク
ト４１７の補合形状の部分円形末端部分５２２と
末端において適合し、末端部分５２０，５２２は
合体して分布器カツプ４８０の面４８２に面する
半円形環状断面を形成する。

作用について述べれば、スラリは分布器カツプ
４８０の面４８２に達する前に、ベンチユリ通路
５０２を通過するときに加速され、線速度であら
わした加速倍数はほぼ10：１である。スラリは、
カツプ４１８の面４７４上に、円滑にカツプ４８
０から部分円形面４８２によつて配向される。次
にスラリは既述のように回転型カツプ４１８の面
４７４上に連続した薄いフイルムとして分布す
る。液体は面４８２によつてガス流中に噴射され
る液体の全般流動方向（下向き）と反対の方向
（上向き）に面４７４上に配向されることが分か
る。

ベンチユリ通路５０２におけるスラリの加速
は、スラリの均等分布を提供するばかりでなく、
化学反応を起しかつカツプ４８０の上流の詰まり
を生ずる汚染ガスの逆循環の危険を極めて少く
し、カツプ４８０はまた、ガスの逆循環に対する
バツフルとしても作用することが考えられる。さ
らに、分布器組立体は、ベンチユリ通路５０２の
下流の液体流への実質的な障害が無くし、このこ
ともまた詰まりの危険を最小にする。スラリ中の
粒状不純物による詰まりの危険も極減され、かつ
これは、炭酸ナトリウム溶液が石炭スラリの代り
に吸収剤として用いられる場合にも等しく適用さ
れることが分かる。

出願人による英国特許出願第2131328A号も参
照されたい。

【図面の簡単な説明】

第１図は、煙道ガスを脱硫するのに用いる装置
の流れ図、第２図は、回転カツプ型噴霧器の部分
断面図、第３図は、第２図に示す部分の拡大図、
第３Ａ図は、第２図に示す部分の拡大斜視図、第
４図は、変形回転型カツプ・分配器組立体の部分
断面図、第５図は、円錐形の図、第６図は別形式
の回転型カツプ・分配器組立体を示す。 ５…電気式沈澱装置、６…塔、６ａ…弁、７…
容器、８…ポンプ、９…噴霧器、１０…ライン、
１０ａ…ライン、１１…フアン、１２…ホツパ、
１２ａ…弁、１３…煙突、１５…ハウジング要
素、１５ａ…フランジ、１６…軸、１７…下流ダ
クト部分、１７ａ…分布組立体、１８…回転型カ
ツプ、１８ａ…止ねじ、１８ｂ…カツプ内部、２
０…下方短胴末端部分、２１…室、２１ａ…ブロ
ワ、２１ｂ…ライン、２１ｃ…制御弁、２２…ノ
ズル孔、２２ａ…リム、２２ｂ…下方リング部
分、２３…覆い、２３ａ…フランジ、２３ｂ…ボ
ルト結合部、３０…ハウジング要素、３１…フラ
ンジ、３２…玉軸受、３３…ボルト結合部、３４
…玉軸受、３５…フランジ、３６…スラリライ
ン、３７…ボルト結合部、３８…ハウジング、３
９…柱部材、４０…ベルトプーリ、４１…止ね
じ、４２…駆動ベルト、４４…駆動プーリ、４６
…電動機、４８…ボルト結合部、５６…ダクト部
分、５７，５９…玉軸受、６１…出入部、７４…
内側面、７６…円筒形部分、７８…截頭円錐形部
分、８０…バツフル部分、８２…環状すきま、８
４…下方水平面、８６…旋回付与部材、８８…上
方端部分、９０…下方端部分、９２…羽根、９３
…下方アーム、９４…ねじ、９６…固定ピン、１
０２…截頭円錐形末端面、１０３…リム、１０４
…截頭円錐形上方部分、１０６…下方円筒形部
分、２１７ａ…分布器組立体、２１８…カツプ、
２２２ａ…リム、２７４…内側面、２７６…円筒
形部分、２７８…截頭円錐形部分、２８４…下方
水平面、２８６…旋回部材組立体、２８８…円筒
形中央部分、２９０…内孔、２９２…旋回羽根、
２９３…短胴部、２９４…円錐形上方部分、２９
６…短胴部、２９８…バツフル部分、３００…固
定ピン、３０２…ブツシユ、３０４…突出部分、
４１６…軸、４１７…ダクト、４１７ａ…分布器
組立体、４１８…カツプ、４１８ａ…止ねじ、４
２０…短胴端部分、４７４…面、４７６…円筒形
部分、４７７…内側部分円、４７８…截頭円錐形
部分、４７９…円筒形部分、４７９ａ…外側部分
円、４８０…分布器カツプ、４８０ａ…逆円錐形
下方部分、４８０ｂ…逆截頭円錐形上方部分、４
８２…内側面、４８４…外側リム、４８６…環状
段部、４８７…スパイダ、４８８…ボス、４９０
…リブ、４９２…円錐形部分、４９３…下方円筒
形部分、４９４…軸部分、４９６…形状部材、４
９７…固定ピン、４９８…環状上流断面、５００
…先広がり断面、５０２…通路、５１０…上方円
筒形部分、５１２…逆截頭円錐形部分、５１４…
下方円筒形部分、５１６…上面、５１８…円筒形
面、５２０…形状部材末端部分、５２２…ダクト
末端部分。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ (a) 外側リム及び内側面をもつ軸方向に対称
   の噴霧器カツプと、 (b) 前記噴霧器カツプをその軸線まわりに回転す
   る装置と、 (c) カツプの回転と同一方向の旋回運動成分を与
   えて内側面上に液体を配向しかつ前記内側面上
   に液体のフイルムを提供して前記液体を前記内
   側面から外側リムを通過させるように配向準備
   させる、カツプに対して対称的に配置された静
   止分布装置と、 (d) ガス流をリムを越えた直後の位置において液
   体に衝撃供給して液滴の噴霧を生ぜしめる装置
   とを含み、前記分布装置が、 (e) 下流ダクト部分及び下流ダクト部分内で軸方
   向に対称的に配設された静止旋回付与部材を含
   みかつ環状通路が旋回付与部材とダクト部分間
   に形成され、旋回付与部材が、 (f) 複数の対称的に配置された旋回羽根と、 (g) 液体流に対して円錐形の頂部を向けた軸方向
   に対称な上流円錐形部分とを含む噴霧装置。 ２ 噴霧乾燥状態における汚染物含有ガスからの
   気体汚染物の吸収装置であつて、 (a) 噴霧乾燥容器と、 (b) 容器に汚染物含有ガスを導く装置と、 (c) 吸収剤水溶液を容器内に噴霧し、噴霧乾燥状
   態の下でガス中の汚染物と反応させて固体反応
   生成物をつくらせる噴霧装置と、 (d) ガスからの固体反応生成物の分離装置と、 (e) 噴霧乾燥容器から分離装置へのガス導入装置
   とを含み、前記噴霧装置が、 (f) 外側リム及び内側面をもつ軸方向に対称の噴
   霧器カツプと、 (g) 前記噴霧器カツプをその軸線まわりに回転す
   る装置と、 (h) カツプの回転と同一方向の旋回運動成分を与
   えて内側面上に液体を配向しかつ前記内側面上
   に液体のフイルムを提供して前記液体を前記内
   側面から外側リムを通過させるように配向準備
   させる、カツプに対して対称的に配置された静
   止分布装置と、 (i) ガス流をリムを越えた直後の位置において液
   体に衝撃供給して液滴の噴霧を生ぜしめる装置
   とを含み、前記分布装置が、 (j) 下流ダクト部分及び下流ダクト部分内で軸方
   向に対称的に配設された静止旋回付与部材を含
   みかつ環状通路が旋回付与部材とダクト部分間
   に形成され、旋回付与部材が、 (k) 複数の対称的に配置された旋回羽根と、 (l) 液体流に対して円錐形の頂部を向けた軸方向
   に対称な上流円錐形部分と、 (m) カツプと同軸にカツプ内に延びかつガス流
   に対するバツフルを提供しかつ障害のない環状
   すき間がバツフルとカツプの内側間に提供され
   る軸方向に対称の下流部分とを含む汚染物含有
   ガスからの気体汚染物の吸収装置。