JPS6252103A - 水素含有ガスの製法 - Google Patents

水素含有ガスの製法

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JPS6252103A
JPS6252103A JP61203581A JP20358186A JPS6252103A JP S6252103 A JPS6252103 A JP S6252103A JP 61203581 A JP61203581 A JP 61203581A JP 20358186 A JP20358186 A JP 20358186A JP S6252103 A JPS6252103 A JP S6252103A
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    • C01B3/02Production of hydrogen; Production of gaseous mixtures containing hydrogen
    • C01B3/06Production of hydrogen; Production of gaseous mixtures containing hydrogen by reaction of inorganic compounds containing electro-positively bound hydrogen with inorganic reducing agents
    • C01B3/12Production of hydrogen; Production of gaseous mixtures containing hydrogen by reaction of inorganic compounds containing electro-positively bound hydrogen with inorganic reducing agents by reaction of water vapour with carbon monoxide
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は水素含有ガス流の製造に関し、さらに詳しくは
一酸化炭素を触媒の存在下にスチームと反応させて水素
及び二酸化炭素とする触媒式シフト反応による水素の製
造に関する。
このシフト反応は、就中、実7mW度、入口一酸化炭素
含量及び硫黄化合物の存在または不存在によって、多様
な形態で大規模に実施される。最も一般的には、合成ガ
スをスチームリホーミングによって炭化水素原料から得
るアンモニア合成プラントにおけるように、シフト反応
は、普通は400〜500℃の範囲内の出口温度の第1
段階を有する単一触媒床、それに続く間接熱交換による
冷却及び300℃以下の出口温度の第2段階で実施され
る。
入口ガス流の一酸化炭素含量が単一断熱触媒床での実施
を不能にするほどに高過ぎる場合にはく例えば炭素質原
料の部分酸化に基くプラントにおける如り)、そのよう
な床を普通はさらに分割して、床の分割部分間で若干の
冷却を実施する。
英国特許第1267603号明細書には、シフト反応を
外部冷却式管状反応器中で銅含有触媒の存在下に150
〜290°Cの範囲内の温度で実施することが、提案さ
れており、入口ガス流の一酸化炭素含量が30容量%は
どの高い値であってよくそれでもなお単一段階が必要と
されるにすぎないとされており、温度は好ましくは18
0〜230℃の範囲内であるとされており、ぞして特定
例においては温度は触媒床内のいずれの位置においても
230℃を越えないことが示されている。
欧州特許第157480号明細書には、冷媒、特に加圧
水との間接熱交換関係で実施されるシフト反応段階を含
むアンモニア合成ガス製造のための工程シーケンス(順
序)が記載されている。欧州特許第157480号明細
書には、入口温度よりも10〜30℃低い出口温度を用
いて、シフト反応を典型的には230〜280℃の範囲
内の温度において平衡に到らしめて、0.1〜千容量%
の一酸化炭素を含むガス流を右利に得られることが示さ
れてd3す、そのような出口温度は240〜310℃の
範囲内の入口温度に対応するものであり、シフト反応段
階での、及びシフト反応段階よりも上流での熱回収要請
のために好都合である。ここに特に有利な条件での操作
が可能であることが判明した。
従って本発明は、スチーム、二酸化炭素、水素及び一酸
化炭素を含み、そして乾燥基準で少なくとも8容溌%の
一酸化炭素含量を有する原料ガスを、銅金属及び少なく
とも1種の酸化物系担体物質を含む触媒の存在下に大気
圧以上の圧力及び背部において冷媒との間接熱交換関係
で単一段階の触媒式シフト反応に付し、これにより一酸
化炭素含量を乾燥基準で1言値%以下にまで低減さぜる
ことからなり; (a)  この反応を200〜280℃の範囲内の出口
温度で実施すること、 (b)  触媒床は、触媒床内でガス流と接触される熱
交換表面を触媒1m3当り30〜200 m2与える熱
交換管及び/または熱交換板を備え、そして肢管及び/
または板の低温側の冷媒は沸とう水であること、そして (c)  触媒を通してのガス流量は触媒1m、3当り
200〜800kgモル/時の範囲内であること、を特
徴どする、水素含有ガスの製法を提供する。
本発明方法は大気圧以上の圧力、好ましくは3絶対バー
ル、特に30絶対バ一ル以上の圧力で実施される。
入口温度は好ましくは240〜310℃の範囲内であり
、そして出口温度はその入口温度よりも10〜30℃低
い。この場合、反応のかなりの部分(例えば一酸化炭素
含侶を乾燥基準で2〜3容世%にまで低減させるまで進
行する反応部分)は、反応速度が非常に速い温度で実施
でき、従って前述のガス流用範囲のうちの高い方のガス
流量、例えば触媒1m3当り700 kgモル/時以上
のガス流量を使用できる。その流量が触媒1m3当り3
00 kgモル/時以上であるときには、熱伝導表面は
触媒1m3当り50m、 2以上であるのが好ましい。
本発明のこの態様(出口温度が入口温度よりも10〜3
0℃低いもの)は、シフト反応段階よりも上流で、mt
tiiされたリホーミング可能炭化水素原料を、スチー
ム(及び多くの場合窒素/酸素含有ガス、例えば空気)
と1種またはそれ以上の触媒上で1段階またはそれ以上
で反応させて750〜1000℃の範囲内の温度におい
て平衡にもたらすか近付け、そして得られる高温ガスか
ら熱を回収する方法工程に関して特に有用である。普通
、そのような高温反応の前には本発明方法において必要
とされるスチームを与えるのに足るスチームが導入され
るけれども、所望ならばシフト反応の前にさらにスチー
ムを追加することもできる。このタイプの方法において
は、シフト反応段階に入るガス流の一酸化炭素含■は乾
燥基準で典型的には15容巾%以下である。
本発明方法の別異の一態様においては、入口温度は10
0〜240℃の範囲内であり、そして触媒床は、反応が
比較的遅い入口帯域(そして入口温度が充分に低ければ
、沸とう水からの熱伝導により反応体を予熱することが
主たる作用である入口帯域)を含む。そのような予熱帯
域では、その沸とう水は低温側ではなく高温側であるの
で、本発明で必要とされる触媒1m3当り30〜200
77L2の熱伝導表面(よ、予熱帯域中の熱伝導表面に
加算されるものである。その結果どして、かかるシフト
反応方法に必要どされる反応容器は、予熱帯域を有しな
いシフト反応方法におけるよりも大きい。
このような本発明の態様は、シフト反応よりも上側で、
非揮発性原料、例えば重質油、残渣油、シ工−ル(頁岩
)、石炭、バイオマス、またはタイVのような炭素質廃
材を、酸素反応体、例えば空気、酸素富化空気または酸
素自体と反応させ、次いで冷却し、ダスト、炭素及びタ
ールを除く粗精製及び硫黄化合物を除く仕上精製をしく
これらの精製は100℃以下、おそらく周囲温度以下の
温度での処理を含むことが多い)、そしてシフト反応段
階で必要どされるスチームの添加する場合に、特に有用
である。このタイプの方法においては、入ロー酸化炭素
含吊は、上流での酸素反応体として空気を用いる好まし
い方法では典型的には、15〜40容予%(乾燥基準)
であるが、もしも上流での酸素反応体として純粋酸素を
用いるならば上記の値よりも高く、例えば65容吊%に
もなりうる。
入口一酸化炭素含量が高い結果どして、シフト反応で熱
発生量が高く、従ってこの高熱発生量は予備帯域の存在
からもたらされる増大した容器容積を多少補償すること
になる。この方法において、シフト反応の最高温度は2
40〜310℃の範囲内であり、この最高温度位置の次
には前述の範囲230〜280℃の出口温度(すなわち
最高温度より10〜30℃低い)を与える低減温度プロ
フィル(分布)が続く。
熱交換が管表面でなされるときには、触媒は、沸とう水
で包囲された管中に配置しうる。別法として、沸とう水
を管内とし、触媒を管の外殻側に配置することもできる
。後者の場合、反応器は欧州特許第81948号及び同
第82609号明細書に記載されるタイプのものであっ
てよく、これらの明細書には、熱発生の局部的レベルに
適合する管の配置について、及び適当な場合における原
料ガス予熱の局部的レベルに適合づ゛る管の配置につい
ての一般的指針を与えている。どのような熱伝導表面形
状が用いられる場合でも、水側の圧力は、典型的には1
5〜50絶対バールの範囲内であるが、好ましくは管ま
たは板が著しい応力を受けないように反応体の圧力の前
後10バール以内、殊に5バ一ル以内とする。さらには
、スチーム/水側の圧力を反応体側の圧力よりも低くし
て、管または板の突発的破損に際して水が触媒に接触し
ないようにするのが好ましい。もし、スチーム/水側の
圧力が反応体側の圧力に近いかそれよりも低いと、発生
するスチームは反応用スチームとしては直接に都合よく
使用することができない。しかし、シフト反応で発生す
る熱は、その沸とう水もしくはそれから生じたスチーム
と適切な高圧の水どの間接熱交換により別の熱水流を作
り、これをシフト反応段階よりも上流で乾燥反応体(−
または複数)と接触させてそれらの反応体を加湿飽和さ
せることにより、工程用スチーム(反応用スチーム)を
作るのに用いることができる。水/スチーム側の圧力が
反応体側圧力よりも高い場合には、シフト段階熱交換に
おける水流mをその気化が不完全になるように制御する
ことにより、得られるスチーム/水混合物を乾燥反応体
(−または複数)と接触させて反応体を加湿飽和するこ
とにより反応用スチームを作ることができる。従ってシ
フト反応よりも上流で前述のように気状炭化水素とスチ
ームとを反応させる場合には、スチーム/水混合物をそ
の気状炭化水素を加湿飽和するのに用いることができる
。同様に、一酸化炭素に富むガスが生成する場合(例え
ば、前述のように非揮発性原料と酸素反応体との反応の
結果として得られるもの)、その一酸化炭素に富むガス
は、スチーム/水混合物との接触により加湿飽和しても
よい。好ましい態様においては、スチームをシフト反応
器中の第1のクローズド回路内で一発生させ、第2の回
路において水との間接熱交換により凝縮させる。この第
1回路内に得られる擬縮水は冷媒としてシフト反応器へ
戻されるが、第2の回路中の熱水はく場合により部分的
に沸とう状態にあることがある)、反応体、例えば気状
炭化水素または前述の一酸化炭素に富むガス、と接触さ
せて反応体を加湿飽和させる。
触媒は、銅以外に、典型的には酸化亜鉛と少なくとも1
種の安定化用酸化物とを含む。その安定用酸化物は、ア
ルミナ、バナジア、クロミア、希土類酸化物及びアルミ
ン酸カルシウムセメントからなる群より選択される。そ
の銅と亜鉛との原子は、触媒中の金属原子の合a」数の
20〜70%をなす。
温度が250℃以上の触媒床の少なくとも一部分中で、
及び好適には、非触媒帯il!!(もし存在するならば
)を除く触媒床全体で、使用するのに好ましい触媒は、
銅、酸化亜鉛、0,05〜0.7間の範囲内のイオン半
径を有する三価金属の少なくとも1種の酸化物、及びマ
グネシアからなり、かつマグネシアの割合が銅、亜鉛、
及びマグネシウムの原子の合計数の0.2〜7%をマグ
ネシウム原子が占めるようなものである。マグネシアの
割合は、上記のようにして表わしてマグネシウム原子が
04%以上、特に0.6〜6%の範囲内となるような割
合であるのが好ましい。銅の割合は、典型的には、銅原
子の割合が上記と同様に表わして少な(とも20%、特
に30〜75%の範囲内となるようなものである。、、
酸化亜鉛の割合は、典型的には、亜鉛原子の割合が上記
と同様に表わして少なくとも10%、特に20〜75%
の範囲内となるようなものである。三価金属酸化物の割
合は、典型的には、三価金属原子の割合が、銅、亜鉛、
マグネシウム及び三価金属の原子の合計数の1〜50%
、特に3〜30%の範囲内となるようなものである。三
価金属酸化物の少なくともいく分かが、X線結晶学的に
区別しうる相として同定できないような高度に分散ない
しは結合された形で存在するのが好ましい。
三価金属酸化物のいく分か、または他の金属の酸化物は
、X線で同定しうる相として存在してよいが、その場合
には、それは、稀釈剤、または温度緩和剤として、ある
いは触媒の機械的強度増加のために作用しうる。そのよ
うな酸化物(その金属が銅、亜鉛またはマグネシウム以
外であり、また酸化物が同定しうる相どして存在する)
は、触媒全体の重量(銅金属を酸化銅として計算)の5
0重固%未満存在してよい。そのような高度に分散ない
し結合された酸化物は、好ましくは、アルミナ、バナジ
ア及びクロミアのうちの1種またはそれ以上である。同
定しつる酸化物は、水和された状態のもの、例えば水和
アルミナであるのが好ましい。
シフト反応に用いられる触媒は、適切な活性及び安定性
の触媒が入手使用できるならば床全体にわたって同じも
のであってよいが、1種よりも多くの触媒を用いるのが
有利なことがあり、特に反応体の流動方向が床内で下向
きであるときには有利でありうる。
詳しくは、比較的高いアルミナ含量(例えば20〜40
重量%)のシフト触媒はシフト反応が最も急速でありそ
して発熱が最も急激である帯域で用いることができ、こ
のために適当な触媒は、いわゆる「中温」シフト触媒、
メタノール合成触媒であってその中の金属原子数の40
〜70%が銅原子であるもの、あるいは上述のようなマ
グネシア含有触媒である。
拡散の限定が生じ易い高温帯域での反応速度を向上させ
るために、そのような高温帯域中の触媒は伯の帯域中の
触媒よりも、単位容積当り大きな幾何学的表面積をもつ
ユニットとすることができる。
活性触媒を含む帯域に加えて、触媒床の入口端部に予熱
帯域、適当にはアルファ・アルミナのような不活性顆粒
を仕込んだ予熱帯域、を設けて、入口ガス(例えば前述
のような部分酸化段階から得られる一酸化炭素に富むガ
ス)を加熱して、触媒活性温度とし、及び/またはガス
中に存在することがある水分を完全に気化させるように
することができる。
またシフト反応触媒への入口のところに、ハロゲン化物
防御床を設けてもよい。銅含有触媒は、反応用ガス流中
にハロゲン化物として、特にシフト反応及びそれよりも
上流のスチームを用いる反応、例えばスチームリホーミ
ング反応に必要どされるスチームを作るのに用いられる
水中の不純物として、しばしば導入されるハロゲン化物
によって失活する。ハロゲン化物は、反応用ガス流中へ
添加される空気中の不純物としても(例えば、アンモニ
ア合成ガスをHiする二次リホーミングの場合)、導入
されることがある。シフ1〜反応触媒の失活を防止する
ために、(例えば英国特許第1357335号明細書に
は)シフ1〜触媒の上流にアルカリ性物質、例えばアル
カリ性にしたアルミナからなる防御床を用いることが、
提案されてきている。しかし、そのような防御床は、ア
ルカリ性物買上に水が凝縮すると、ハロゲン化物及びア
ルカリがシフト触媒の方へ流される危険があるために、
広く採用されるには至っていない。銅含有シフト触媒は
、ハロゲン化物によるど同様にアルカリにより失活する
。水の凝縮は、防御床が反応用(工程用)ガス中のスチ
ームの露点よりも1バいどきに生じ易い。かかる状況は
、工程の運転開始時及び/または工程が例えば全工程中
のどこかでの支障により一時的に停止される場合に、生
じ易い。このことは、そのような水の凝縮を(例えばシ
ステム内にlガスを循環させることにより、及び/また
は低圧で運転を開始することにより)回避する注意が払
われなければならないことを意味する。
防御床を用いる場合に必要どされるよりも大きな容積の
シフト触媒を用いて(防御床を用いずに)、シフト触媒
床の入口部分を防御のための犠牲となるように作用させ
てガス流中の有毒物を吸収させ、残りの触媒床が所期の
反応を行なうようにすることが可能であるけれども、本
発明方法におけるシフト反応器中には熱交換表面が存在
するから、前述のく例えば運転開始時の)水の凝縮の危
険は、回避することができ、ハロゲン化物防御帯域(適
当には塩基性アルカリ化合物もしくは塩基性アルカリ土
類化合物を担持した粒子からなる帯域)を使用できる。
従って、運転開始時及び/または工程操作の一時的中断
中に冷媒水を加熱する手段を設けることにより、防御床
及び触媒床を反応体ガス混合物中のスチームの露点より
も高く維持することができる。熱交換表面は反応器中に
存在するので、プラントの運転中、一時的停止中または
運転開始時のいずれでも、沸とう水により温度を充分に
高く保持して、そのような防御床から下流のシフト触媒
床中ヘアルカリを流出させるJ3それのある液体水の凝
縮を防ぐことができる。
所望ならば、アルカリ用トラップ、例えばアルミナのよ
うな吸着性物質をそのような防御床の下流側に設けて、
防御床から蒸発されるアルカリを吸着することができる
本発明を以下の実施例で説明する。この実施例は、日産
490トンの設計容量をもつアンモニアプラントにおけ
るシフト段階のだめの設計条件を示すものである。
この工程において、脱硫済の天然ガス原料を外部加熱式
管状反応器中の担持ニッケル触媒上でスチームと反応さ
せ、この反応生成物を第2の担持ニッケル触媒上で空気
と反応させて平衡に至らしめ、上記管状反応器と熱交換
させて後者の熱源とし、そして種々の熱回収において2
65℃まで冷却する。この冷却されたガスを、前述の銅
/酸化亜鉛/マグネシア/アルミナ触媒であって、その
金属原子の9合計数の59%が銅、23.5%が亜鉛、
15.1%がアルミニウムそして24%がマグネシウム
である触媒上に通す。触媒は直径3.6M及び長さ5.
4mの円柱状ペレットであり、耐圧殻中で水に包囲され
た管中に収容されている。
触媒は内径73mの850本の管中に高さ3.4TrL
の床を与えるように配置される。従って触媒床の容積は
約12m3であり、触媒17713当り床中のガス流と
接触する約55m2の熱交換表面がある。
シフト入口及び出口における温度(■)、圧力(P)、
及びガス流の諸成分の流mを下表に示す。
従って触媒1m3当りのガス流量は394kgモル/時
である。発生熱mは4.83)1−であり、これは39
゜4絶対バールの加圧下に耐圧殻中で沸とうしている水
に移され、得られるスチームは43絶対バールの加圧下
の水と間接熱交換して凝縮され、その水は241℃に加
熱されて天然ガスの加湿飽和のために用いられる。その
凝縮されたスチームは耐圧殻へ戻される。
内径73#の850本の管を用いる代りに、さらに小さ
い径の管をさらに多数用いて、さらに大きい熱交換表面
を与えることもできる。従って例えば内径38m!nの
管を3600本用い、触媒1m3当りガス流と接触する
105TrL2の熱交換表面を与えることができる。こ
の場合に同容積の触媒を用いるには床の高さは約2.9
mである。どの管配列が好ましいかは、殻内の水の所望
流聞に応じて決定される。
内径67sの750本の管中に約5.7mの床高を与え
るように配列され、触媒1m3当りガス流と接触する約
60m2の熱交換表面を与える約15m3の触媒ペレッ
ト(上記)を用い、またさらに高い一酸化炭素含最のガ
ス流を用いる別の例におけるシフト入口及び出口の温度
(■)、圧力(P)及びガス流の諸成分の流出を下表に
示す。
従って触媒1m3当りのガス流出は303 kgモル/
時である。発生熱mは5.798Wであり、これは35
絶対バールの圧力下で耐圧殻中で沸とうしている水へ移
される。

Claims (10)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)スチーム、二酸化炭素、水素及び一酸化炭素を含
    み、そして乾燥基準で少なくとも8容量%の一酸化炭素
    含量を有する原料ガスを、銅金属及び少なくとも1種の
    酸化物系担体物質とを含む触媒の存在下に大気圧以上の
    圧力及び昇温度において冷媒との間接熱交換関係で単一
    段階の触媒式シフト反応に付し、これにより一酸化炭素
    含量を乾燥基準で1容量%以下にまで低減させることか
    らなり; (a)この反応を200〜280℃の範囲内の出口温度
    で実施すること、 (b)触媒床は、触媒床内でガス流と接触される熱交換
    表面を触媒1m^3当り30〜200m^2与える熱交
    換管及び/または熱交換板を備え、そして該管及び/ま
    たは板の低温側の冷媒は沸とう水であること、そして (c)触媒を通してのガス流量は触媒1m^3当り20
    0〜800kgモル/時の範囲内であること、を特徴と
    する、水素含有ガスの製法。
  2. (2)入口温度が240〜310℃の範囲内であり、そ
    して出口温度が入口温度よりも10〜30℃低い特許請
    求の範囲第1項に記載の方法。
  3. (3)触媒を通してのガス混合物の流量は触媒1m^3
    当り300kgモル/時以上である特許請求の範囲第2
    項に記載の方法。
  4. (4)触媒床内でガス流と接触される熱伝達表面は触媒
    1m^3当り50m^2以上である特許請求の範囲第3
    項に記載の方法。
  5. (5)入口温度は100〜240℃の範囲内であり、そ
    して触媒よりも上流側に沸とう水と間接熱交換関係の入
    口帯域を設けて予熱帯域として作用させる特許請求の範
    囲第1項に記載の方法。
  6. (6)触媒床内の最高温度は240〜310℃の範囲内
    であり、出口温度は最高温度よりも10〜30℃低い特
    許請求の範囲第5項に記載の方法。
  7. (7)原料ガス流の一酸化炭素含量は乾燥基準で15〜
    65容量%である特許請求の範囲第5または6項に記載
    の方法。
  8. (8)沸とう水の圧力は原料ガス流の圧力値の前後10
    バール以内である特許請求の範囲第1〜7項のいずれか
    に記載の方法。
  9. (9)沸とう水またはその中で発生したスチームと水流
    との間接熱交換により沸とう水から熱を回収することに
    より熱水流を作り、そして原料ガス流中に存在するスチ
    ームの少なくとも一部分を、原料ガス、または原料ガス
    を作るのに用いる反応体を該熱水流と接触させることに
    より得る特許請求の範囲第1〜8項のいずれかに記載の
    方法。
  10. (10)触媒よりも上流側に、塩基性のアルカリもしく
    はアルカリ土類化合物を担持した粒子を含む塩化物ガー
    ド床を該冷媒と間接熱交換関係に設け、そしてプラント
    の運転開始時及び何らかの一時的停止時中に該冷媒を加
    熱する手段を設け、それによりプラントの運転開始時ま
    たは一時的停止時中にガード床を原料ガス流中のスチー
    ムの露点以上の温度に保持しうるようにした特許請求の
    範囲第1〜9項のいずれかに記載の方法。
JP61203581A 1985-08-30 1986-08-29 水素含有ガスの製法 Expired - Lifetime JPH0753562B2 (ja)

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GB8521649 1985-08-30
GB858521649A GB8521649D0 (en) 1985-08-30 1985-08-30 Hydrogen production

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JPS6252103A true JPS6252103A (ja) 1987-03-06
JPH0753562B2 JPH0753562B2 (ja) 1995-06-07

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