JPS6259616B2 - - Google Patents
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Description
本発明は気体分留装置に関する。乾燥剤を使用
する乾燥装置は多年販売され、世界中で広く使用
されている。普通の形は、一つが再生される一
方、他が乾燥サイクルにある２個の乾燥剤ベツド
によつて作られる。乾燥すべき気体は乾燥サイク
ルにおいて一方向に一つの乾燥剤ベツドを通さ
れ、次に所定の時間をおいて、流出気体の必要な
低い水分の量が満たされない危険が存在するほど
多量の水分を乾燥剤が吸着したと思われるとき、
流入気体は他のベツドに切り替えられ、使い切つ
たベツドは加熱により、排気により、また通常逆
流においてパージ流出気体とそのベツドに通すこ
とにより再生される。 今日販売されている乾燥剤使用の乾燥装置には
二つの一般形式、すなわち乾燥サイクルが終ると
使い切つた乾燥剤を再生させるために熱が加えら
れる加熱再生型、および乾燥サイクルが終ると使
い切つた乾燥剤を再生させるために熱が加えられ
ず、乾燥気体のパージ流、すなわち通常使い切つ
たベツドの再生を助けるために吸着の熱を保護す
る急速な循環によつて、使い切つたベツドにより
低い圧力で通される乾燥サイクルのベツドからの
流出気体の使用に応答する非加熱乾燥機型があ
る。しかし、乾燥される気体のライン圧力より低
い圧力で再生するためにパージ気体を使用するの
は非加熱乾燥機に限定されず、非加熱型が出現す
るまでは長年の間加熱再生型乾燥剤乾燥機で使用
された。 いずれの型の乾燥機も、吸着から再生そしてま
た吸着へ戻るベツドの周期サイクルを要求する。
サイクル時間は使用システムにより固定でも可変
でもよい。ある乾燥機は、通常持続時間の等しい
固定時間の乾燥サイクルと再生サイクルで作動す
るが、サイクルの長さは入手できる乾燥剤の量お
よび流入空気の水分含有量により定められる。サ
イクルの時間は、流出気体の水分含有量が常にシ
ステムの要求に合致することを保証するために、
許容時間よりはるかに短い時間に常に固定され
る。乾燥サイクルが進むにつれて、乾燥剤ベツド
は入口端から出口端に向つて次第に多く飽和さ
れ、流入気体によつてそこに運ばれる水分の吸着
能力が次第に低下するようになる。流入気体から
の水分除去は、気体の流量、および吸着剤の水分
吸着速度と水分含有量、ならびにベツド内の気体
の温度と圧力に左右される。乾燥剤による吸着の
速度は、乾燥剤に負担がかかるにつれて減少する
ことがある。流入気体の水分含有量はほとんど一
定でないので、乾燥剤ベツドに対する強い要求
は、あるときはむしろ速やかに、またあるときは
むしろ広い制限範囲内で変わることがある。従つ
て、固定時間乾燥サイクルは流入気体の最大水分
含有量で水分除去の安全を余裕を与えるだけ常に
短くなければならず、これは固定時間サイクルが
しばしばむしろ短く、もちろんベツドの利用でき
る残りの水分容量があるレベルよりずつと低くな
る前に終わらなければならないことを意味する。
もちろんこれは、平均サイクルにおいて、ベツド
の水分容量が十分利用されないことを意味する。 再生するために加熱される乾燥剤の寿命は、再
生の頻度に大幅に左右される。乾燥剤ベツドが一
定数の再生には良好で、それ以上は駄目であると
いうのは経験的な見方である。明らかに、そのと
きベツドの有効寿命は、各乾燥サイクル中に水分
容量が有効に利用されないときはいつも不必要に
短縮される。さらに、加熱再生型および非加熱型
のいずれの乾燥機でも、各乾燥サイクル中に有効
なベツド容量の完全な利用が得られないことは、
乾燥サイクルの固定時間中に流入気体の水分を大
量ではあるが時々吸着するのに必要な予備容量を
得るために、必要以上に大きな容量の乾燥剤ベツ
ドにしなければならないことを意味する。 また水分容量の利用が十分でないと、各サイク
ルでのパージ気体が著しく浪費される。パージ気
体は使い切つたベツドを再生する目的で、流出気
体から常時抽出され、それに応じて流出量が減少
される。ベツドが乾燥サイクルから再生サイクル
に移るたびに、ベツド容器の開容積に等しい容積
のパージ気体が必ずダンプされ、失われる。短い
サイクルは、長いサイクルよりもダンプ損失が大
きくなることを示す。 こうした損失は、サイクル数をはるかに多く必
要とする非加熱乾燥機の場合に特に著しい。実
際、加熱再生型と非加熱型の乾燥機を選択する場
合、必要な再循環の回数によつて決められること
が多い。1960年７月12日付の米国特許第2944627
号においてスカルストロームは、1957年７月23日
付のワインクープの米国特許第2800197号および
英国特許第633137号ならびに第677150号で何年か
前に説明されたものの改良を表わす意味の非加熱
型乾燥機の一種を説明している。スカルストロー
ムは、それぞれのゾーンにおける吸着と脱着との
間の極めて高速な循環によつて、脱着サイクルは
使い切つた乾燥剤の再生のために吸着の熱を有効
に利用し得ることを示した。従つてスカルストロ
ームは、使用する吸着サイクルの時間が２〜３分
を越えず、なるべく１分未満、できれば20秒未満
がよいと考えた。このようなサイクル時間はもち
ろん、同特許の第２図のグラフに示されるとおり
30分以上のワインクープのそれより短く、または
英国特許第633137号の５分〜30分のサイクル時間
よりも短い。英国特許第677150号は、吸着及び脱
着サイクルが必ずしも等しい必要はないことを明
らかにした。 しかしスカルストロームの装置の欠点は、各サ
イクルで失われるパージ気体の量が極めて多いこ
とであり、この損失は英国特許の５〜30分、およ
びワインクープの30分以上に比べて、例えば10秒
のサイクル時間で、はるかに大きい。もちろんス
カルストロームのサイクルでは、乾燥剤ベツドの
容量はほとんど利用されず、乾燥剤の再生を生じ
るように熱が加えられない場合は、吸着サイクル
で一定の最小値を越える吸着剤の水分含有量を運
ぶことは重要でなくなり、すなわち再生サイクル
で吸収剤を再生することが現に不可能となるであ
ろう。 流出気体の露点を測定するために、乾燥機は流
出ライン内に水分検出器を備えている。しかしそ
の応答速度が遅く、低い露点に対する相対感度が
悪いために、かかる装置は露点または相対湿度の
低い流出物が所望されるとき、検出器が流出物中
の水分を検出するときまで前線がベツドを通過し
てしまうので、乾燥機のサイクル動作を定めるの
に使用されていないし、また使用することができ
ない。 1969年６月10日付のシーバートおよびヴアーラ
ンドの米国特許第3448561号は、ベツドの水分負
荷が要求するときのみ乾燥剤の再生を与えること
によつて乾燥剤ベツドの水分容量をより良く利用
し、その結果最適の使用効率を得る気体分留およ
び特に再生中に熱を加えたり加えないで気体を乾
燥する方法ならびに装置を与えている。各吸着サ
イクル中、吸着剤ベツドは、熱を加えたり加えな
かつたり、また減圧を適用したりしなかつたりす
る利用できる再生条件により再生が行われる制限
水分容量にされる。これは、乾燥される気体の水
分含有量によつて立証されるベツド内の水分前線
の前進を検出し、前線がベツドから出ないベツド
内の所定点に達したときいつも乾燥サイクルを停
止することによつて可能となる。これは、乾燥さ
れる気体の水分含有量を検出する装置、および乾
燥される気体の所定の水分含有量がその点に達す
るときいつも乾燥サイクルを停止させる水分含有
量に応動する装置を、乾燥剤ベツドに備えること
によつて自動的に行われる。 流量、入口および出口の温度と圧力、ならびに
再生出力を含む作動条件を検出して、このように
検出された作動条件から吸着剤ベツドを再生する
パージ流の所要量を計算し、サイクル時間を制御
し、そして各サイクル時間の終わりに吸着剤ベツ
ドを切り替えるようにプログラムされたマイクロ
プロセツサを乾燥機と組み合わせて、非加熱型乾
燥機の使用に伴う困難を回避することが最近提案
された。 その原理は、サイクルの操業状態部分の間に吸
着剤ベツドの消耗の程度に合うように非操業状態
の吸着剤ベツドのパージ流および再生時間を調節
することである。次に操業状態サイクル時間は支
障なく固定される。再生中のパージ流の浪費がな
いので、ベツドがしばしばサイクルされても支障
はない。 サイクル時間の固定は、ベツドの互換を実際に
行う仕事に比べて小さな問題である。各乾燥機ベ
ツドの入口と出口における気体の流れは、再生中
の流れが吸着から通常反対方向にあるので、水分
のような吸着される気体によつて再生中に下流吸
着剤が不要に荷重されるのを避けるように、逆転
したり交換されねばならない。恐しくたくさんな
弁のアレイが切替えられねばならず、また１個の
弁の故障は乾燥装置全体の機能不良を招くことが
ある。電動式の弁が使用され、また非加熱式乾燥
機のようにサイクルが頻繁であると、エネルギの
コストも高く、電気的支障または動力の故障ある
いは低圧による機能不良が考えられる。 サイクルが生じるたびに、ベツドは大気への排
気によつて減圧されるが、これは騒々しいことが
ある。 またそれは吸着剤ベツドの撹回し、および吸着
剤ベツド粒子の崩壊と微粒化さえも生じることが
ある。排気出口弁に消音または吸音装置を追加し
ても、システムが高い吸着圧力で操作されると
き、ブラストを許容レベルまで減少することに成
功しなかつた。 20年前に吸着剤ベツド分留装置は吸着中に上昇
流または下降流の気体流によつて操作されたが、
近年、上昇流による吸着が標準の方法になつたの
は、ベツドを通過する間吸着剤の表面に当たる気
体の流量変化と減少の公算により吸着効率が妨げ
る、ベツド内に高速度の流れを生じる恐れがない
と考えられたからである。 本発明により、第２気体との混合物から一つ以
上の第１気体の下降流または上昇流吸着で混合物
中の第１気体の濃度を最大許容濃度以下に減少さ
せるため、特に気体の乾燥に適用可能な装置か提
供され、該装置は一つが吸着サイクルにある間他
が再生される最低２個のベツドと、吸着および再
生のためにベツドを通る気体の流れを制御する空
気作動式弁と、を備える。再生時間およびパージ
流を制御するようにプログラムされたタイマーま
たはマイクロプロセツサのようなオーバーライド
制御器は、サイクル時間を固定するとともに、各
サイクル時間の終りに吸着剤ベツドを切り替え
る。 本発明の装置は、再生中に脱着用のベツドに吸
着の熱のみを利用して、ベツドを加熱しないで使
い切つたベツドが再生される。「非加熱」型の気
体分留装置に適用される。 また本発明の装置は、乾燥ベツドの一部または
全部が再生を生じるように加熱される方式、再生
が減圧下で行われる方式、およびパージ気体流を
利用する方式、ならびにこれらの特徴の一つ以上
を組み合わせる方式にも適用される。 かくて、本発明の装置は、第２気体との混合気
体における一つ以上の第１気体の濃度は、第１気
体に優先的に親和力を持つ吸着剤の二つのベツド
の中の一つに接触して混合気体をその一端から他
端まで通し、第１気体の濃度が最大濃度より薄い
気体流出物を作るために吸着剤上で第１気体を吸
着し、かつ吸着が続くにつれて一端から他端まで
次第に減少するベツドの第１気体の濃度こう配
と、吸着剤容量が減少するにつれて一端から他端
までベツド内を次第に進む濃度前線を定めるベツ
ド内の第１気体の増加する濃度とを作る一方、吸
着された第１気体を脱着するとともにベツド内の
第１気体の濃度前線の進行を逆にするために吸着
剤の二つのベツドの他方に流出する気体のパージ
流を通し、吸着のもう一つのサイクル用に他のベ
ツドを再生し、そしてさらに交互に一つのベツド
がサイクルの再生部分にあり他のベツドがサイク
ルの吸着部分にあるようにベツドを周期的に互換
することによつて、第２気体における第１気体の
最大制限濃度以下に減少される。 ベツドのサイクル互換は、本発明の部分を構成
しない在来の制御装置によつて制御される。固定
時間サイクルは、時計のような機械式、空気式、
電気式または電子式のタイマーあるいはタイミン
グ装置によつて定められる。米国特許第3448561
号のような水分検出装置に基づく可変タイマーを
利用することができる。 マイクロプロセツサは、吸着時にベツドを通る
気体の流量、入口と出口の温度、入口と出口の圧
力、ならびに再生時のベツドにおける再生圧力含
む作動条件を検出し、再生時のベツドの吸着剤を
再生するのに要するパージ流の量を計算し、作動
条件下のパージ流量を計算し、次に再生時間を制
御するとともにベツドの再生が終つたときパージ
流を止め、再生時間より短くない周期でサイクル
時間を制御し、かつそのようなサイクル時間の終
わりに吸着ベツドを切り替えるのに使用される。
再生サイクルの持続時間はこのようなシステムの
乾燥サイクルの持続時間と等しい必要はなく、ま
た大部分の場合に等しくないので、再生されるベ
ツドは止められ、加熱、パージ、排気、または使
用されるどんな再生方式でも、再生が終ると中断
される。サイクル時間の残り部分は例えば再生さ
れたベツドの冷却に用いられるので、これはその
ベツドへの流入気体の流れが再開されるとき吸着
に都合のよい効果的な温度となる。 本発明の一つの特徴は、弁に加わる圧力差に応
動し、弁における優勢なシステム圧力差に打ち勝
つとともに偏倚装置がある場合はそのいかなる偏
倚力にも打ち勝つて、サイクル制御装置により制
御される所定のパイロツト気体圧力を加えること
によつて流れ開と流れ閉との間を移動し得る、複
数個の空動作動式流れ制御弁である。かくて、パ
イロツト気体圧力の印加が制御装置により中断さ
れると、弁はそれに加わる優勢なシステム圧力差
により及びまたは偏倚装置がある場合はそのいか
なる偏倚力によつても元の開または閉の位置に戻
るであろう。流れ制御弁は空気式であるので、そ
れらは電気的故障を受けない。 弁を開および閉位置の一つに保持するのはピス
トンの一つの面に加えられるシステム気体圧力に
より、またはばねのような偏倚装置によつて制御
装され、開および閉位置の他に弁を動かすのはピ
ストンの同じ面または反対面に加えられるパイロ
ツト気体圧力によつて制御される。「パイロツト
気体」という語は別の供給源からの気体と、シス
テム気体とを含み、パイロツト気体圧力は弁を動
かすためにサイクル制御装置によつて加えられ
る。ピストンの一つの面は上流に通じ、もう一つ
の面は弁により制御されるラインの下流気体圧力
に通じており、これらの面の一つはパイロツト気
体口にも通じている。気体圧力が制御装置の制御
を受けてパイロツト気体口からピストンの一つの
面に加えられるといつでも、ピストンはその開ま
たは閉位置の他に移動される。 吸着剤ベツド室および気体配管系の任意なライ
ンにあるパイロツト気体口の適当な流れによつ
て、弁は吸着再生サイクルの各段階で圧力差によ
り開閉され、かくてパイロツト気体口に気体圧力
が加わると、入口と出口を適当なときに通じさ
せ、所望どおりラインを開閉させる。 本発明の装置のもう一つの特徴は、再生する前
に吸着剤ベツドからの排気流を調整したり制限し
たりして、騒音を減少させるだけではなく、減圧
の際にダンプ流量および吸着剤ベツドの撹回しな
らびに摩耗を減少させる、ダンプ弁すなわち排気
制御弁である。 この弁は、排気弁を介して二つの吸着剤ベツド
室の一つにおいて気体圧力を受ける圧力受面を持
ち、反対側に大気圧を受ける圧力受面を持つコイ
ルばね弁と、弁が閉じられるとき弁を通して気体
を抽気し、それによつて室からの排気流を調整し
たり制限する臨界オリフイスを含む。排気弁が大
気圧に対して開くとき、室は作動圧力から大気圧
まで圧力を減少しながら再生状態になるので、合
成圧力差を受けるコイルばねは圧縮されて閉じら
れるが、流れは臨界オリフイスを介して進むこと
ができる。圧力差は、ベツドを損傷する圧力より
低くなるまで減少する。ばねは徐々に開いて、圧
力差が減少するにつれてコイルに流れを与える。 ダンプ制御弁の下流に消音器があり、流れが大
気に入る前にそれを拡散させる。またそれには吸
音材料が含まれ、それによつて騒音が減衰され
る。吸音材料は入手できる任意なかかる材料でよ
い。 本発明による気体分留装置の一つの好適実施例
は、主構成部品として、交互周期でなるべく下降
流吸着となり、またなるべく逆流周期でなるべく
上昇流再生となるようにされた最低２個の吸着剤
ベツドと、吸着時のベツドを通る気体の流量、入
口および出口の気体の温度と圧力、ならびに再生
圧力を検出するベツド内の１個または複数個の装
置と、再生のため非操業状態の吸着剤ベツドを再
生するに要するパージの量を計算し、パージの流
量を計算し、また吸着剤ベツドが再生されたとき
にパージ流が止まるように、以上の計算に基づき
再生時間を制御するようにプログラムされるマイ
クロプロセツサと、サイクル時間を制御するとと
もに、各サイクル時間の終わりに吸着剤ベツドを
切り替える制御装置と、二方向に往復運動できる
ように置かれかつ上流および下流気体圧力に対し
て開く圧力受面を対向面に持つ弁素子を含み、圧
力差によつて弁座に対し開閉位置で二つの方向の
中の一方向に移動し得る最低１個の流れ制御弁
と、所定の最小値までの圧力で開閉位置の一つに
弁素子を偏倚させるオプシヨンの偏倚装置と、偏
倚装置のいかなる偏倚力にも打ち勝つて弁素子を
閉または開位置に移動させるだけの気体圧力を圧
力受面の一つに加える装置とを含んで構成され
る。 本発明のもう一つの好適実施例は、主構成部品
として、交互周期でなるべく下降流吸着となり、
またなるべく逆流周期でなるべく上昇流再生とな
るようにされた最低２個の吸着剤ベツドと、吸着
時のベツドを通る気体の流量、入口および出口の
気体の温度と圧力、ならびに再生圧力を検出する
ベツド内の１個または複数個の装置と、再生のた
め非操業状態の吸着剤ベツドを再生するに要する
パージの量を計算し、パージの流量を計算し、ま
た吸着剤ベツドが再生されたときにパージ流が止
まるように、以上の計算に基づき再生時間を制御
するようにプログラムされるマイクロプロセツサ
と、サイクル時間を制御するとともに各サイクル
時間の終わりに吸着剤ベツドを切り替える制御装
置と、コイルの側部によつて側部が定められる中
央開通路を持ち、通路内に臨界オリフイスが置か
れる、円錐らせんコイル状ワイヤーばねの形をし
た弁素子を含み、減圧の開始時に排気騒音と排気
の流れを減少させるとともに、ばねコイル間を気
体が流れ得る拡大された開位置と折りたたまれて
相互に接触するコイルによる圧縮された閉位置と
の間で排気圧力により移動することができ、通路
の側部を止めて通路を通るすべての流れを臨界オ
リフイスに通し、それによつて減圧開始時に流れ
および排気騒音を減少させ、気体をオリフイスか
ら徐々に抽気し、排気圧力を減少させ、そしてば
ねを完全開位置に徐々に拡大させる最低１個の排
気流制御弁と、を含んで構成される。この装置は
気体の乾燥に特に適用される。 本発明の装置は３個以上の乾燥剤ベツドで構成
されることがあるが、好適な装置は分留すべき流
入気体を受けて分留済の流出気体を送り出すライ
ンに接続される、適当な容器内に入れられた１対
の乾燥剤ベツドを使用する。 また本装置には、再生の際に圧力を減少させる
目的の逆止め弁または絞り弁と、ベツド間に流入
気体の流れを循環させるとともにそこからの流出
気体の流れを受ける多みぞ弁とが含まれる。さら
に、調整すなわち絞り弁が、再生されているベツ
ドを通る逆流におけるパージとして乾燥流出気体
の一部をそらすために含まれることがある。 随意に、本発明による装置は、参考としてここ
に示されるシーベルトらの米国特許第3448561号
に記載されるとおり、水分前線がベツドを出る前
にサイクルを終わらせるようにベツドの流出端か
ら十分離れたベツド内の点で水分前線の到着を検
出するベツド内の１個または複数個の装置を含む
ことがある。 随意に、本装置はかかる再生中に熱を加える装
置を含むこともある。このような装置はベツド全
体にわたつたり、乾燥サイクルの終りにその水分
容量の20％以上のオーダーの高い水分含有量を持
つ吸着剤ベツドの部分にのみ、すなわち乾燥また
は吸着サイクル中に流入気体の流れによつて最初
に接触された部分にのみわたることがある。この
場合、乾燥剤ベツドの残りは再生中に加熱され
ず、従つて加熱装置はそこにない。ベツド容積の
非加熱部分は従つて所望どおり大きくすることが
できる。通常、ベツド容積の1/4〜3/4、なるべく
容積の1/3〜2/3が加熱されるである。 実際に、かかるベツドの非加熱部分は通常の乾
燥サイクルでは少しも要求されない予備ベツドを
構成するが、いかなる場合でも乾燥剤は、その水
分容量の20％未満と云う比較的小さな部分のみを
吸着し勝ちであるが、加熱装置を備えるベツドの
部分に水分が十分吸着されないありそうもない場
合に望ましくない高い水分含有量の流出気体の放
出を防ぐために設ける。ベツドの予備部分の水分
吸着容量はほとんど使用されないので、予備吸着
剤はパージ流が加熱されると否とにかかわらず、
パージ流により再生され、またパージ流によつて
この部分から前方に運ばれる一切の水分はもちろ
ん、ベツドの加熱部分を通つてからベツドより有
効に除去される。 本発明の装置のもう一つの実施例は、温度およ
び圧力変換器、データ収集モジユール、入出力モ
ジユール、マイクロプロセツサ、ならびに記憶装
置を含んで構成されるマイクロプロセツサ・シス
テムを利用する。本体コンピユータ、マイクロコ
ンピユータ、およびマイクロプロセツサ中央処理
ユニツトを用いるミニコンピユータを含む任意な
形式のマイクロプロセツサが使用される。 Ａ マイクロプロセツサの例： １ ロツクウエル・インターナシヨナル―
STCユニバーサル・コントローラ・モジユ
ール ２ ヒユリコン・コーポレーシヨン―MLP―
8080マイクロコンピユータ ３ インテル・コーポレーシヨン―SBC80／20
マイクロコンピユータまたは8080Aマイクロ
プロセツサ ４ モトローラ社―マイクロモジユール1Aマ
イクロコンピユータMC6800マイクロプロセ
ツサ ５ ナシヨナル・セミコンダクタ―BCL80―
10またはINS8080A ６ シナーテク―SY6502マイクロプロセツサ ７ ジログ―Z80マイクロプロセツサ Ｂ 記憶装置の例： １ ナシヨナル・セミコンダクタ―BCL416／
8432 ２ モトローラ社―マイクロモジユール６ ３ インテル―SBC016 Ｃ 電源の例： １ ナシヨナル・セミコンダクタ―BCL665 ２ モトローラ社―PLT820 Ｄ 入出力モジユールの例： １ ナシヨナル・セミコンダクタ―BCL104／
116 ２ インテル―SBC519 Ｅ データ収集モジユールの例： １ ナシヨナル・セミコンダクタ―
ADS1216HC ２ インテル―SBC711アナログ入力板 Ｆ 視覚表示装置の例： １ ナシヨナル・セミコンダクタ―NSB5882 ２ リトロニクス―DL―1416 ３ モンサント―MAN6710 Ｇ 圧力変換器の例： １ ナシヨナル・セミコンダクタ―LX0603D
およびLX0603GB LX1601DおよびLX1730A ２ コグニシヨン社（エマーソンの部門） dp6130、ap6030、およびgp6230 Ｈ 温度変換器の例： １ ナシヨナル・セミコンダクタ―LM334H、
LM334ZおよびLM134H ２ アナログ・デバイス―AD590J AD590Kお
よびAD590L サイクルの吸着部分の途中に形成される吸着剤
への第１気体の負荷は、可変であるかもしれない
第２気体内の第１気体の含有量、気体流量、およ
び入口と出口の温度ならびに圧力に左右される。
しかしサイクルの再生部分でベツドが完全に再生
されると、負荷はベツド内の第１気体の濃度前線
がベツドから出ないならば、重要ではない。従つ
てサイクル時間は、作動条件下で、前線がベツド
から出ないことを、完全な利用効率と最適のエネ
ルギ管理によつて確認し得る最長時間に固定する
ことができる。 従つて、本発明によるマイクロプロセツサ制御
式気体分留装置は固定時間サイクルで作動する一
方、パージ再生の流れは固定サイクルの長さの範
囲内で変化され、負荷の程度により自動調節され
る。その結果、再生サイクルは終る必要があると
きに終わり、吸着剤の再生が不必要に延びること
がない。同時に、各サイクル中に失われるパージ
の量は絶対最小値に保たれる。実際に、このよう
な気体分留装置は、流入気体の第１気体含有量に
よつて生じる需要に従つてその再生サイクル時間
を自動的に調節し、需要サイクル分留装置と呼ぶ
ことがある。 マイクロプロセツサは、再生サイクルの長さを
制御する乾燥機の作動に必要な情報を入手するた
めに、下記の作動条件を監視する。検出装置の代
表的な位置は図面に示される。 １ 入口流量―これは既知抵抗の装置で損失を検
出する圧力差変換器により、または装置の両側
から得られる二つの圧力変換信号によつて検出
される（第２図に示されるP1＋P2またはそれと
同等）。 ２ 入口圧力―これは圧力変換器によつて検出さ
れる（第２図のP1）。 ３ パージ圧力―これは圧力変換器によつて検出
される（第２図のP3またはP4）。 ４ 再生圧力―これは圧力変換器によつて検出さ
れる（第２図のP4またはP3）。 ５ 吸着サイクルでの吸着剤ベツドの入口におけ
る気体混合物の温度（第２図のT1，T3）。 ６ 吸着サイクルでの吸着剤ベツドの出口におけ
る気体混合物の温度（第２図のT2または随意
に第２図のベツド内の一点のT2′）。 ７ 再生サイクルでの吸着剤ベツドの入口におけ
るパージ気体の温度（第２図のT2または随意
に第２図のベツド内の一点のT2′）。 ８ 再生サイクルでの吸着剤ベツドの出口におけ
るパージ気体の温度（第２図のT3，T1）。 これらは温度変換器、熱電対、サーミスタまた
はRTDセンサーによつて検出される。 上記のほか、下記の作動条件も監視される： ９ 流出気体の出口圧力。 10 パージ排気圧力。 11 出口流出気体の露点―これは出口ラインに接
続される水分検出プローブによつて検出され
る。１個の圧力変換器と１個の温度変換器が交
番信号装置とともに使用され、個々の圧力およ
び温度変換器は使用されない。マイクロプロセ
ツサは次に、所要入力を得るために信号装置を
制御する。 作動条件に関する上記情報によつて、マイクロ
プロセツサは下記の式を用いて所要パージ時間を
計算することができる： ｔp＝ｔＱＣｐＳｇ〓Ｔ２〓（Ｐ４−ｅ Ｘ）（Ｔ２−Ｔ１）Ｆ１／Ｐ３ｄｏ２ｅＸ Ｔpの式は下記二つの式の組合せである： Ｔp＝Ｑ／ＱｐＴ×（Ｐ４−ｅ Ｘ）Ｍｇ／１８×ｅＸ×（T2−T1）×Ｃｐ／ｑａｂ×Ｆ および Ｑp＝86.1933K×do2×Ｙ ×P3（T2×S.G）〓 ただし F1＝29／（18×qab×Ｆ×86.1933 ×Ｋ×Ｙ） Ｑpの式はオリフイスを通る流れの標準式であ
る。 Ｘ＝（ａ／T3）＋（ｂ LnT3）＋Ｃ ただし： ｔp＝所要パージ時間（分） ｔ＝吸着時間（分、常時２分または５分） Ｑ＝入口流量（SCFM） Ｃp＝比熱（BTU／〓−1b、空気の場合は
0.240） Ｓg＝空気に対する比重（空気の場合は1.0） T3（またはT1）＝パージ排気温度（ランキン
度） P4（またはP3）＝再生圧力（PSIA） T2T1（またはT3T4）＝溶剤ベツドの温度上昇
（ランキン度） T2（またはT4）＝パージ温度（ランキン度） P3（またはP4）＝パージ圧（PSIA） ｄp＝パージ・オリフイス直径（インチ） F1＝比例定常 ａ，ｂおよびｃ＝ランキン度公式の定数 ｅXの値は下記に示されるランキンの公式また
はヤングの公式から計算される。またその値はキ
ーナンおよびキースの「蒸気の熱力学特性」、蒸
気圧対温度（T3）にも見られる。 ランキンの公式：
する乾燥装置は多年販売され、世界中で広く使用
されている。普通の形は、一つが再生される一
方、他が乾燥サイクルにある２個の乾燥剤ベツド
によつて作られる。乾燥すべき気体は乾燥サイク
ルにおいて一方向に一つの乾燥剤ベツドを通さ
れ、次に所定の時間をおいて、流出気体の必要な
低い水分の量が満たされない危険が存在するほど
多量の水分を乾燥剤が吸着したと思われるとき、
流入気体は他のベツドに切り替えられ、使い切つ
たベツドは加熱により、排気により、また通常逆
流においてパージ流出気体とそのベツドに通すこ
とにより再生される。 今日販売されている乾燥剤使用の乾燥装置には
二つの一般形式、すなわち乾燥サイクルが終ると
使い切つた乾燥剤を再生させるために熱が加えら
れる加熱再生型、および乾燥サイクルが終ると使
い切つた乾燥剤を再生させるために熱が加えられ
ず、乾燥気体のパージ流、すなわち通常使い切つ
たベツドの再生を助けるために吸着の熱を保護す
る急速な循環によつて、使い切つたベツドにより
低い圧力で通される乾燥サイクルのベツドからの
流出気体の使用に応答する非加熱乾燥機型があ
る。しかし、乾燥される気体のライン圧力より低
い圧力で再生するためにパージ気体を使用するの
は非加熱乾燥機に限定されず、非加熱型が出現す
るまでは長年の間加熱再生型乾燥剤乾燥機で使用
された。 いずれの型の乾燥機も、吸着から再生そしてま
た吸着へ戻るベツドの周期サイクルを要求する。
サイクル時間は使用システムにより固定でも可変
でもよい。ある乾燥機は、通常持続時間の等しい
固定時間の乾燥サイクルと再生サイクルで作動す
るが、サイクルの長さは入手できる乾燥剤の量お
よび流入空気の水分含有量により定められる。サ
イクルの時間は、流出気体の水分含有量が常にシ
ステムの要求に合致することを保証するために、
許容時間よりはるかに短い時間に常に固定され
る。乾燥サイクルが進むにつれて、乾燥剤ベツド
は入口端から出口端に向つて次第に多く飽和さ
れ、流入気体によつてそこに運ばれる水分の吸着
能力が次第に低下するようになる。流入気体から
の水分除去は、気体の流量、および吸着剤の水分
吸着速度と水分含有量、ならびにベツド内の気体
の温度と圧力に左右される。乾燥剤による吸着の
速度は、乾燥剤に負担がかかるにつれて減少する
ことがある。流入気体の水分含有量はほとんど一
定でないので、乾燥剤ベツドに対する強い要求
は、あるときはむしろ速やかに、またあるときは
むしろ広い制限範囲内で変わることがある。従つ
て、固定時間乾燥サイクルは流入気体の最大水分
含有量で水分除去の安全を余裕を与えるだけ常に
短くなければならず、これは固定時間サイクルが
しばしばむしろ短く、もちろんベツドの利用でき
る残りの水分容量があるレベルよりずつと低くな
る前に終わらなければならないことを意味する。
もちろんこれは、平均サイクルにおいて、ベツド
の水分容量が十分利用されないことを意味する。 再生するために加熱される乾燥剤の寿命は、再
生の頻度に大幅に左右される。乾燥剤ベツドが一
定数の再生には良好で、それ以上は駄目であると
いうのは経験的な見方である。明らかに、そのと
きベツドの有効寿命は、各乾燥サイクル中に水分
容量が有効に利用されないときはいつも不必要に
短縮される。さらに、加熱再生型および非加熱型
のいずれの乾燥機でも、各乾燥サイクル中に有効
なベツド容量の完全な利用が得られないことは、
乾燥サイクルの固定時間中に流入気体の水分を大
量ではあるが時々吸着するのに必要な予備容量を
得るために、必要以上に大きな容量の乾燥剤ベツ
ドにしなければならないことを意味する。 また水分容量の利用が十分でないと、各サイク
ルでのパージ気体が著しく浪費される。パージ気
体は使い切つたベツドを再生する目的で、流出気
体から常時抽出され、それに応じて流出量が減少
される。ベツドが乾燥サイクルから再生サイクル
に移るたびに、ベツド容器の開容積に等しい容積
のパージ気体が必ずダンプされ、失われる。短い
サイクルは、長いサイクルよりもダンプ損失が大
きくなることを示す。 こうした損失は、サイクル数をはるかに多く必
要とする非加熱乾燥機の場合に特に著しい。実
際、加熱再生型と非加熱型の乾燥機を選択する場
合、必要な再循環の回数によつて決められること
が多い。1960年７月12日付の米国特許第2944627
号においてスカルストロームは、1957年７月23日
付のワインクープの米国特許第2800197号および
英国特許第633137号ならびに第677150号で何年か
前に説明されたものの改良を表わす意味の非加熱
型乾燥機の一種を説明している。スカルストロー
ムは、それぞれのゾーンにおける吸着と脱着との
間の極めて高速な循環によつて、脱着サイクルは
使い切つた乾燥剤の再生のために吸着の熱を有効
に利用し得ることを示した。従つてスカルストロ
ームは、使用する吸着サイクルの時間が２〜３分
を越えず、なるべく１分未満、できれば20秒未満
がよいと考えた。このようなサイクル時間はもち
ろん、同特許の第２図のグラフに示されるとおり
30分以上のワインクープのそれより短く、または
英国特許第633137号の５分〜30分のサイクル時間
よりも短い。英国特許第677150号は、吸着及び脱
着サイクルが必ずしも等しい必要はないことを明
らかにした。 しかしスカルストロームの装置の欠点は、各サ
イクルで失われるパージ気体の量が極めて多いこ
とであり、この損失は英国特許の５〜30分、およ
びワインクープの30分以上に比べて、例えば10秒
のサイクル時間で、はるかに大きい。もちろんス
カルストロームのサイクルでは、乾燥剤ベツドの
容量はほとんど利用されず、乾燥剤の再生を生じ
るように熱が加えられない場合は、吸着サイクル
で一定の最小値を越える吸着剤の水分含有量を運
ぶことは重要でなくなり、すなわち再生サイクル
で吸収剤を再生することが現に不可能となるであ
ろう。 流出気体の露点を測定するために、乾燥機は流
出ライン内に水分検出器を備えている。しかしそ
の応答速度が遅く、低い露点に対する相対感度が
悪いために、かかる装置は露点または相対湿度の
低い流出物が所望されるとき、検出器が流出物中
の水分を検出するときまで前線がベツドを通過し
てしまうので、乾燥機のサイクル動作を定めるの
に使用されていないし、また使用することができ
ない。 1969年６月10日付のシーバートおよびヴアーラ
ンドの米国特許第3448561号は、ベツドの水分負
荷が要求するときのみ乾燥剤の再生を与えること
によつて乾燥剤ベツドの水分容量をより良く利用
し、その結果最適の使用効率を得る気体分留およ
び特に再生中に熱を加えたり加えないで気体を乾
燥する方法ならびに装置を与えている。各吸着サ
イクル中、吸着剤ベツドは、熱を加えたり加えな
かつたり、また減圧を適用したりしなかつたりす
る利用できる再生条件により再生が行われる制限
水分容量にされる。これは、乾燥される気体の水
分含有量によつて立証されるベツド内の水分前線
の前進を検出し、前線がベツドから出ないベツド
内の所定点に達したときいつも乾燥サイクルを停
止することによつて可能となる。これは、乾燥さ
れる気体の水分含有量を検出する装置、および乾
燥される気体の所定の水分含有量がその点に達す
るときいつも乾燥サイクルを停止させる水分含有
量に応動する装置を、乾燥剤ベツドに備えること
によつて自動的に行われる。 流量、入口および出口の温度と圧力、ならびに
再生出力を含む作動条件を検出して、このように
検出された作動条件から吸着剤ベツドを再生する
パージ流の所要量を計算し、サイクル時間を制御
し、そして各サイクル時間の終わりに吸着剤ベツ
ドを切り替えるようにプログラムされたマイクロ
プロセツサを乾燥機と組み合わせて、非加熱型乾
燥機の使用に伴う困難を回避することが最近提案
された。 その原理は、サイクルの操業状態部分の間に吸
着剤ベツドの消耗の程度に合うように非操業状態
の吸着剤ベツドのパージ流および再生時間を調節
することである。次に操業状態サイクル時間は支
障なく固定される。再生中のパージ流の浪費がな
いので、ベツドがしばしばサイクルされても支障
はない。 サイクル時間の固定は、ベツドの互換を実際に
行う仕事に比べて小さな問題である。各乾燥機ベ
ツドの入口と出口における気体の流れは、再生中
の流れが吸着から通常反対方向にあるので、水分
のような吸着される気体によつて再生中に下流吸
着剤が不要に荷重されるのを避けるように、逆転
したり交換されねばならない。恐しくたくさんな
弁のアレイが切替えられねばならず、また１個の
弁の故障は乾燥装置全体の機能不良を招くことが
ある。電動式の弁が使用され、また非加熱式乾燥
機のようにサイクルが頻繁であると、エネルギの
コストも高く、電気的支障または動力の故障ある
いは低圧による機能不良が考えられる。 サイクルが生じるたびに、ベツドは大気への排
気によつて減圧されるが、これは騒々しいことが
ある。 またそれは吸着剤ベツドの撹回し、および吸着
剤ベツド粒子の崩壊と微粒化さえも生じることが
ある。排気出口弁に消音または吸音装置を追加し
ても、システムが高い吸着圧力で操作されると
き、ブラストを許容レベルまで減少することに成
功しなかつた。 20年前に吸着剤ベツド分留装置は吸着中に上昇
流または下降流の気体流によつて操作されたが、
近年、上昇流による吸着が標準の方法になつたの
は、ベツドを通過する間吸着剤の表面に当たる気
体の流量変化と減少の公算により吸着効率が妨げ
る、ベツド内に高速度の流れを生じる恐れがない
と考えられたからである。 本発明により、第２気体との混合物から一つ以
上の第１気体の下降流または上昇流吸着で混合物
中の第１気体の濃度を最大許容濃度以下に減少さ
せるため、特に気体の乾燥に適用可能な装置か提
供され、該装置は一つが吸着サイクルにある間他
が再生される最低２個のベツドと、吸着および再
生のためにベツドを通る気体の流れを制御する空
気作動式弁と、を備える。再生時間およびパージ
流を制御するようにプログラムされたタイマーま
たはマイクロプロセツサのようなオーバーライド
制御器は、サイクル時間を固定するとともに、各
サイクル時間の終りに吸着剤ベツドを切り替え
る。 本発明の装置は、再生中に脱着用のベツドに吸
着の熱のみを利用して、ベツドを加熱しないで使
い切つたベツドが再生される。「非加熱」型の気
体分留装置に適用される。 また本発明の装置は、乾燥ベツドの一部または
全部が再生を生じるように加熱される方式、再生
が減圧下で行われる方式、およびパージ気体流を
利用する方式、ならびにこれらの特徴の一つ以上
を組み合わせる方式にも適用される。 かくて、本発明の装置は、第２気体との混合気
体における一つ以上の第１気体の濃度は、第１気
体に優先的に親和力を持つ吸着剤の二つのベツド
の中の一つに接触して混合気体をその一端から他
端まで通し、第１気体の濃度が最大濃度より薄い
気体流出物を作るために吸着剤上で第１気体を吸
着し、かつ吸着が続くにつれて一端から他端まで
次第に減少するベツドの第１気体の濃度こう配
と、吸着剤容量が減少するにつれて一端から他端
までベツド内を次第に進む濃度前線を定めるベツ
ド内の第１気体の増加する濃度とを作る一方、吸
着された第１気体を脱着するとともにベツド内の
第１気体の濃度前線の進行を逆にするために吸着
剤の二つのベツドの他方に流出する気体のパージ
流を通し、吸着のもう一つのサイクル用に他のベ
ツドを再生し、そしてさらに交互に一つのベツド
がサイクルの再生部分にあり他のベツドがサイク
ルの吸着部分にあるようにベツドを周期的に互換
することによつて、第２気体における第１気体の
最大制限濃度以下に減少される。 ベツドのサイクル互換は、本発明の部分を構成
しない在来の制御装置によつて制御される。固定
時間サイクルは、時計のような機械式、空気式、
電気式または電子式のタイマーあるいはタイミン
グ装置によつて定められる。米国特許第3448561
号のような水分検出装置に基づく可変タイマーを
利用することができる。 マイクロプロセツサは、吸着時にベツドを通る
気体の流量、入口と出口の温度、入口と出口の圧
力、ならびに再生時のベツドにおける再生圧力含
む作動条件を検出し、再生時のベツドの吸着剤を
再生するのに要するパージ流の量を計算し、作動
条件下のパージ流量を計算し、次に再生時間を制
御するとともにベツドの再生が終つたときパージ
流を止め、再生時間より短くない周期でサイクル
時間を制御し、かつそのようなサイクル時間の終
わりに吸着ベツドを切り替えるのに使用される。
再生サイクルの持続時間はこのようなシステムの
乾燥サイクルの持続時間と等しい必要はなく、ま
た大部分の場合に等しくないので、再生されるベ
ツドは止められ、加熱、パージ、排気、または使
用されるどんな再生方式でも、再生が終ると中断
される。サイクル時間の残り部分は例えば再生さ
れたベツドの冷却に用いられるので、これはその
ベツドへの流入気体の流れが再開されるとき吸着
に都合のよい効果的な温度となる。 本発明の一つの特徴は、弁に加わる圧力差に応
動し、弁における優勢なシステム圧力差に打ち勝
つとともに偏倚装置がある場合はそのいかなる偏
倚力にも打ち勝つて、サイクル制御装置により制
御される所定のパイロツト気体圧力を加えること
によつて流れ開と流れ閉との間を移動し得る、複
数個の空動作動式流れ制御弁である。かくて、パ
イロツト気体圧力の印加が制御装置により中断さ
れると、弁はそれに加わる優勢なシステム圧力差
により及びまたは偏倚装置がある場合はそのいか
なる偏倚力によつても元の開または閉の位置に戻
るであろう。流れ制御弁は空気式であるので、そ
れらは電気的故障を受けない。 弁を開および閉位置の一つに保持するのはピス
トンの一つの面に加えられるシステム気体圧力に
より、またはばねのような偏倚装置によつて制御
装され、開および閉位置の他に弁を動かすのはピ
ストンの同じ面または反対面に加えられるパイロ
ツト気体圧力によつて制御される。「パイロツト
気体」という語は別の供給源からの気体と、シス
テム気体とを含み、パイロツト気体圧力は弁を動
かすためにサイクル制御装置によつて加えられ
る。ピストンの一つの面は上流に通じ、もう一つ
の面は弁により制御されるラインの下流気体圧力
に通じており、これらの面の一つはパイロツト気
体口にも通じている。気体圧力が制御装置の制御
を受けてパイロツト気体口からピストンの一つの
面に加えられるといつでも、ピストンはその開ま
たは閉位置の他に移動される。 吸着剤ベツド室および気体配管系の任意なライ
ンにあるパイロツト気体口の適当な流れによつ
て、弁は吸着再生サイクルの各段階で圧力差によ
り開閉され、かくてパイロツト気体口に気体圧力
が加わると、入口と出口を適当なときに通じさ
せ、所望どおりラインを開閉させる。 本発明の装置のもう一つの特徴は、再生する前
に吸着剤ベツドからの排気流を調整したり制限し
たりして、騒音を減少させるだけではなく、減圧
の際にダンプ流量および吸着剤ベツドの撹回しな
らびに摩耗を減少させる、ダンプ弁すなわち排気
制御弁である。 この弁は、排気弁を介して二つの吸着剤ベツド
室の一つにおいて気体圧力を受ける圧力受面を持
ち、反対側に大気圧を受ける圧力受面を持つコイ
ルばね弁と、弁が閉じられるとき弁を通して気体
を抽気し、それによつて室からの排気流を調整し
たり制限する臨界オリフイスを含む。排気弁が大
気圧に対して開くとき、室は作動圧力から大気圧
まで圧力を減少しながら再生状態になるので、合
成圧力差を受けるコイルばねは圧縮されて閉じら
れるが、流れは臨界オリフイスを介して進むこと
ができる。圧力差は、ベツドを損傷する圧力より
低くなるまで減少する。ばねは徐々に開いて、圧
力差が減少するにつれてコイルに流れを与える。 ダンプ制御弁の下流に消音器があり、流れが大
気に入る前にそれを拡散させる。またそれには吸
音材料が含まれ、それによつて騒音が減衰され
る。吸音材料は入手できる任意なかかる材料でよ
い。 本発明による気体分留装置の一つの好適実施例
は、主構成部品として、交互周期でなるべく下降
流吸着となり、またなるべく逆流周期でなるべく
上昇流再生となるようにされた最低２個の吸着剤
ベツドと、吸着時のベツドを通る気体の流量、入
口および出口の気体の温度と圧力、ならびに再生
圧力を検出するベツド内の１個または複数個の装
置と、再生のため非操業状態の吸着剤ベツドを再
生するに要するパージの量を計算し、パージの流
量を計算し、また吸着剤ベツドが再生されたとき
にパージ流が止まるように、以上の計算に基づき
再生時間を制御するようにプログラムされるマイ
クロプロセツサと、サイクル時間を制御するとと
もに、各サイクル時間の終わりに吸着剤ベツドを
切り替える制御装置と、二方向に往復運動できる
ように置かれかつ上流および下流気体圧力に対し
て開く圧力受面を対向面に持つ弁素子を含み、圧
力差によつて弁座に対し開閉位置で二つの方向の
中の一方向に移動し得る最低１個の流れ制御弁
と、所定の最小値までの圧力で開閉位置の一つに
弁素子を偏倚させるオプシヨンの偏倚装置と、偏
倚装置のいかなる偏倚力にも打ち勝つて弁素子を
閉または開位置に移動させるだけの気体圧力を圧
力受面の一つに加える装置とを含んで構成され
る。 本発明のもう一つの好適実施例は、主構成部品
として、交互周期でなるべく下降流吸着となり、
またなるべく逆流周期でなるべく上昇流再生とな
るようにされた最低２個の吸着剤ベツドと、吸着
時のベツドを通る気体の流量、入口および出口の
気体の温度と圧力、ならびに再生圧力を検出する
ベツド内の１個または複数個の装置と、再生のた
め非操業状態の吸着剤ベツドを再生するに要する
パージの量を計算し、パージの流量を計算し、ま
た吸着剤ベツドが再生されたときにパージ流が止
まるように、以上の計算に基づき再生時間を制御
するようにプログラムされるマイクロプロセツサ
と、サイクル時間を制御するとともに各サイクル
時間の終わりに吸着剤ベツドを切り替える制御装
置と、コイルの側部によつて側部が定められる中
央開通路を持ち、通路内に臨界オリフイスが置か
れる、円錐らせんコイル状ワイヤーばねの形をし
た弁素子を含み、減圧の開始時に排気騒音と排気
の流れを減少させるとともに、ばねコイル間を気
体が流れ得る拡大された開位置と折りたたまれて
相互に接触するコイルによる圧縮された閉位置と
の間で排気圧力により移動することができ、通路
の側部を止めて通路を通るすべての流れを臨界オ
リフイスに通し、それによつて減圧開始時に流れ
および排気騒音を減少させ、気体をオリフイスか
ら徐々に抽気し、排気圧力を減少させ、そしてば
ねを完全開位置に徐々に拡大させる最低１個の排
気流制御弁と、を含んで構成される。この装置は
気体の乾燥に特に適用される。 本発明の装置は３個以上の乾燥剤ベツドで構成
されることがあるが、好適な装置は分留すべき流
入気体を受けて分留済の流出気体を送り出すライ
ンに接続される、適当な容器内に入れられた１対
の乾燥剤ベツドを使用する。 また本装置には、再生の際に圧力を減少させる
目的の逆止め弁または絞り弁と、ベツド間に流入
気体の流れを循環させるとともにそこからの流出
気体の流れを受ける多みぞ弁とが含まれる。さら
に、調整すなわち絞り弁が、再生されているベツ
ドを通る逆流におけるパージとして乾燥流出気体
の一部をそらすために含まれることがある。 随意に、本発明による装置は、参考としてここ
に示されるシーベルトらの米国特許第3448561号
に記載されるとおり、水分前線がベツドを出る前
にサイクルを終わらせるようにベツドの流出端か
ら十分離れたベツド内の点で水分前線の到着を検
出するベツド内の１個または複数個の装置を含む
ことがある。 随意に、本装置はかかる再生中に熱を加える装
置を含むこともある。このような装置はベツド全
体にわたつたり、乾燥サイクルの終りにその水分
容量の20％以上のオーダーの高い水分含有量を持
つ吸着剤ベツドの部分にのみ、すなわち乾燥また
は吸着サイクル中に流入気体の流れによつて最初
に接触された部分にのみわたることがある。この
場合、乾燥剤ベツドの残りは再生中に加熱され
ず、従つて加熱装置はそこにない。ベツド容積の
非加熱部分は従つて所望どおり大きくすることが
できる。通常、ベツド容積の1/4〜3/4、なるべく
容積の1/3〜2/3が加熱されるである。 実際に、かかるベツドの非加熱部分は通常の乾
燥サイクルでは少しも要求されない予備ベツドを
構成するが、いかなる場合でも乾燥剤は、その水
分容量の20％未満と云う比較的小さな部分のみを
吸着し勝ちであるが、加熱装置を備えるベツドの
部分に水分が十分吸着されないありそうもない場
合に望ましくない高い水分含有量の流出気体の放
出を防ぐために設ける。ベツドの予備部分の水分
吸着容量はほとんど使用されないので、予備吸着
剤はパージ流が加熱されると否とにかかわらず、
パージ流により再生され、またパージ流によつて
この部分から前方に運ばれる一切の水分はもちろ
ん、ベツドの加熱部分を通つてからベツドより有
効に除去される。 本発明の装置のもう一つの実施例は、温度およ
び圧力変換器、データ収集モジユール、入出力モ
ジユール、マイクロプロセツサ、ならびに記憶装
置を含んで構成されるマイクロプロセツサ・シス
テムを利用する。本体コンピユータ、マイクロコ
ンピユータ、およびマイクロプロセツサ中央処理
ユニツトを用いるミニコンピユータを含む任意な
形式のマイクロプロセツサが使用される。 Ａ マイクロプロセツサの例： １ ロツクウエル・インターナシヨナル―
STCユニバーサル・コントローラ・モジユ
ール ２ ヒユリコン・コーポレーシヨン―MLP―
8080マイクロコンピユータ ３ インテル・コーポレーシヨン―SBC80／20
マイクロコンピユータまたは8080Aマイクロ
プロセツサ ４ モトローラ社―マイクロモジユール1Aマ
イクロコンピユータMC6800マイクロプロセ
ツサ ５ ナシヨナル・セミコンダクタ―BCL80―
10またはINS8080A ６ シナーテク―SY6502マイクロプロセツサ ７ ジログ―Z80マイクロプロセツサ Ｂ 記憶装置の例： １ ナシヨナル・セミコンダクタ―BCL416／
8432 ２ モトローラ社―マイクロモジユール６ ３ インテル―SBC016 Ｃ 電源の例： １ ナシヨナル・セミコンダクタ―BCL665 ２ モトローラ社―PLT820 Ｄ 入出力モジユールの例： １ ナシヨナル・セミコンダクタ―BCL104／
116 ２ インテル―SBC519 Ｅ データ収集モジユールの例： １ ナシヨナル・セミコンダクタ―
ADS1216HC ２ インテル―SBC711アナログ入力板 Ｆ 視覚表示装置の例： １ ナシヨナル・セミコンダクタ―NSB5882 ２ リトロニクス―DL―1416 ３ モンサント―MAN6710 Ｇ 圧力変換器の例： １ ナシヨナル・セミコンダクタ―LX0603D
およびLX0603GB LX1601DおよびLX1730A ２ コグニシヨン社（エマーソンの部門） dp6130、ap6030、およびgp6230 Ｈ 温度変換器の例： １ ナシヨナル・セミコンダクタ―LM334H、
LM334ZおよびLM134H ２ アナログ・デバイス―AD590J AD590Kお
よびAD590L サイクルの吸着部分の途中に形成される吸着剤
への第１気体の負荷は、可変であるかもしれない
第２気体内の第１気体の含有量、気体流量、およ
び入口と出口の温度ならびに圧力に左右される。
しかしサイクルの再生部分でベツドが完全に再生
されると、負荷はベツド内の第１気体の濃度前線
がベツドから出ないならば、重要ではない。従つ
てサイクル時間は、作動条件下で、前線がベツド
から出ないことを、完全な利用効率と最適のエネ
ルギ管理によつて確認し得る最長時間に固定する
ことができる。 従つて、本発明によるマイクロプロセツサ制御
式気体分留装置は固定時間サイクルで作動する一
方、パージ再生の流れは固定サイクルの長さの範
囲内で変化され、負荷の程度により自動調節され
る。その結果、再生サイクルは終る必要があると
きに終わり、吸着剤の再生が不必要に延びること
がない。同時に、各サイクル中に失われるパージ
の量は絶対最小値に保たれる。実際に、このよう
な気体分留装置は、流入気体の第１気体含有量に
よつて生じる需要に従つてその再生サイクル時間
を自動的に調節し、需要サイクル分留装置と呼ぶ
ことがある。 マイクロプロセツサは、再生サイクルの長さを
制御する乾燥機の作動に必要な情報を入手するた
めに、下記の作動条件を監視する。検出装置の代
表的な位置は図面に示される。 １ 入口流量―これは既知抵抗の装置で損失を検
出する圧力差変換器により、または装置の両側
から得られる二つの圧力変換信号によつて検出
される（第２図に示されるP1＋P2またはそれと
同等）。 ２ 入口圧力―これは圧力変換器によつて検出さ
れる（第２図のP1）。 ３ パージ圧力―これは圧力変換器によつて検出
される（第２図のP3またはP4）。 ４ 再生圧力―これは圧力変換器によつて検出さ
れる（第２図のP4またはP3）。 ５ 吸着サイクルでの吸着剤ベツドの入口におけ
る気体混合物の温度（第２図のT1，T3）。 ６ 吸着サイクルでの吸着剤ベツドの出口におけ
る気体混合物の温度（第２図のT2または随意
に第２図のベツド内の一点のT2′）。 ７ 再生サイクルでの吸着剤ベツドの入口におけ
るパージ気体の温度（第２図のT2または随意
に第２図のベツド内の一点のT2′）。 ８ 再生サイクルでの吸着剤ベツドの出口におけ
るパージ気体の温度（第２図のT3，T1）。 これらは温度変換器、熱電対、サーミスタまた
はRTDセンサーによつて検出される。 上記のほか、下記の作動条件も監視される： ９ 流出気体の出口圧力。 10 パージ排気圧力。 11 出口流出気体の露点―これは出口ラインに接
続される水分検出プローブによつて検出され
る。１個の圧力変換器と１個の温度変換器が交
番信号装置とともに使用され、個々の圧力およ
び温度変換器は使用されない。マイクロプロセ
ツサは次に、所要入力を得るために信号装置を
制御する。 作動条件に関する上記情報によつて、マイクロ
プロセツサは下記の式を用いて所要パージ時間を
計算することができる： ｔp＝ｔＱＣｐＳｇ〓Ｔ２〓（Ｐ４−ｅ Ｘ）（Ｔ２−Ｔ１）Ｆ１／Ｐ３ｄｏ２ｅＸ Ｔpの式は下記二つの式の組合せである： Ｔp＝Ｑ／ＱｐＴ×（Ｐ４−ｅ Ｘ）Ｍｇ／１８×ｅＸ×（T2−T1）×Ｃｐ／ｑａｂ×Ｆ および Ｑp＝86.1933K×do2×Ｙ ×P3（T2×S.G）〓 ただし F1＝29／（18×qab×Ｆ×86.1933 ×Ｋ×Ｙ） Ｑpの式はオリフイスを通る流れの標準式であ
る。 Ｘ＝（ａ／T3）＋（ｂ LnT3）＋Ｃ ただし： ｔp＝所要パージ時間（分） ｔ＝吸着時間（分、常時２分または５分） Ｑ＝入口流量（SCFM） Ｃp＝比熱（BTU／〓−1b、空気の場合は
0.240） Ｓg＝空気に対する比重（空気の場合は1.0） T3（またはT1）＝パージ排気温度（ランキン
度） P4（またはP3）＝再生圧力（PSIA） T2T1（またはT3T4）＝溶剤ベツドの温度上昇
（ランキン度） T2（またはT4）＝パージ温度（ランキン度） P3（またはP4）＝パージ圧（PSIA） ｄp＝パージ・オリフイス直径（インチ） F1＝比例定常 ａ，ｂおよびｃ＝ランキン度公式の定数 ｅXの値は下記に示されるランキンの公式また
はヤングの公式から計算される。またその値はキ
ーナンおよびキースの「蒸気の熱力学特性」、蒸
気圧対温度（T3）にも見られる。 ランキンの公式：
【式】
ヤングの公式：
【式】
Ｔ＝ランキン度
湿度変化を考えない所要パージ時間に関する代
替式は次のとおりである： ｔp＝ｔＱＰ１（ＳｇＴ２）〓Ｆ２／ｄｐ ２Ｐ４
Ｐ３ ただし： ｔp＝所要パージ時間（分） ｔ＝吸着時間（分） Ｑ＝入口流量（SCFM） P1＝入口圧力（PSIA） Ｓg＝空気に対する比重 T2（またはT4）＝パージ温度（ランキン度） ｄp＝パージ・オリフイス直径（インチ） P4＝（またはP3）＝再生圧力（PSIA） P3（またはP4）＝パージ圧力（PSIA） F2＝比例定数 第１図のような二つの吸着剤ベツドおよび
を想定して、ベツドが吸着サイクルにあり、ベ
ツドが再生サイクルにあるとき、温度および圧
力に対する上記の参照は次のように適用される： T1＝入口温度 T2＝出口温度 T3＝パージ排気温度 P3＝パージ圧力 P4＝再生圧力 切替え後、ベツドが吸着サイクルになりベツ
ドが再生サイクルになると、記号の変化は次の
ようになる： T3＝入口温度 T4＝出口温度 T1＝パージ排気温度 P4＝パージ圧力 P3＝再生圧力 マイクロプロセツサは下記の式を用いて入口流
量を計算する： Ｑ＝Ｃ〔（P1P2）P1Sg／T1〕〓 ただし： Ｑ＝入口流量（SCFM） P1，P2＝圧力損失（PSID） P1＝入口圧力（PSIA） Ｓg＝空気に対する比重 T1＝入口温度（ランキン度） Ｃ＝流れ定数 マイクロプロセツサは次に、下記の式によりサ
イクル当りの節約されたエネルギを計算し得る： KW−HR／ｔ＝〔QdtＰｄ／１４．７−ｔpdo2P3G（Ｓｇ／Ｔ２）〓〕EP1 ただし： Qd＝設計入口流量（SCFM） ｔ吸着時間（分） Ｐd＝設計入口圧力（PSIA） ｔp＝パージ時間（分） ｄp＝パージ・オリフイス直径（インチ） P3（またはP4）＝パージ圧力（PSIA） Ｇ＝パージ・オリフイス定数 Ｓg＝空気に対する比重 T2（またはT4）＝パージ温度（ランキン度） Ｅ＝KW−HR／SCF−PSIA P1＝入口圧力（PSIA） 各吸着サイクル（ｔ）が終わると、マイクロ
プロセツサは再生状態の室の排気弁（第１図のＤ
またはＣ）を閉じなければならない（まだ閉じら
れていない場合）。再生状態の室内の圧力が吸着
状態の圧力の５％以内まで上昇されると（P4対
P3）、入口切替弁は吸着サイクルの室が再生する
室となるように、またその逆となるように作動さ
れねばならない。パージ排気弁はそのとき非操業
状態の吸着室で開かれねばならない。 マイクロプロセツサはパージ時間を定め、所要
の流れが再生サイクルの室を通過すると、それは
排気弁を閉じる。 「常温の」状態からの始動に当り、マイクロプ
ロセツサは吸着剤ベツドを整えるために100回の
乾燥回数の期間、パージ状態の機能をオーバーラ
イドしなければならない。 マイクロプロセツサは所望どおり多数の表示機
能を果すことができ、かつ１個あるいは数個の押
ボタンからの指令により、別々のまたは１個の視
覚デイジタル表示ユニツトに下記データを表示す
ることができる。 １ 入口流量（SCFM）＝直読 ２ 入口圧力（PSID）＝直読 ３ 入口温度（〓）＝直読 ４ エネルギ節約＝総累積値 マイクロプロセツサは所望どおり多数の警報機
能をも果たすことができる。 ベツドが定められた時間に切替わらない場合、
制御器は二つの警報回路を閉じることができる。 出口水分センサーが流出気体の中の第１気体の
過度に高い濃度（乾燥装置では流出気体の露点
（湿度））を検出する場合、制御器は二つの警報回
路を閉じることができる。 また制御器はセンサーの故障が検出されると二
つの警報回路を閉じることができる。 マイクロプロセツサの追加機能には下記があ
る： ａ 流量および所要の出口露点により変化する乾
燥時間（ｔ）。 ｂ コンプレツサ連動による自動遮断プログラム
の組込れ。 ｃ 出口流のない乾燥サイクルの停止。 ｄ 毎日の合計空気入口流の視覚表示。 上記機能に関する代表的回路は第２図に示され
る。 本発明の装置の好適実施例が付図について以下
に詳しく説明される。 第１図の乾燥機は１対の乾燥タンクおよび
を含んで構成される。これらのタンクは垂直に配
置される。各タンクには、シリカゲルまたは活性
アルミナのような乾燥剤のベツド１がある。また
タンクおよびには、タンクに乾燥剤を出し入
れする乾燥剤充填口８と乾燥剤排出口９がある。 各タンクの上部と下部には、タンクおよび
にある乾燥剤のベツド１を保持する、多孔金属円
筒製の取り外し可能な乾燥剤支持スクリーン２５
がある。これはベツド１から乾燥剤支持スクリー
ン２５を通つて運び出されようとするいかなる乾
燥剤粒子をも保持する働きをし、それによつて出
口弁１３，１４および装置の残り部分にこのよう
な粒子が存在しないように保たれる。 入口ライン６は、タンクおよびに対する流
入気体の流れを調節する入口弁１０，１１を含む
分配マニホルド７に、取り除くべき水分を含有す
る流入気体を導く。またマニホルド７には排気弁
１７，１８、ダンプ弁１９およびパージ流を大気
に排出する消音器２０が含まれる。 ライン２，３および４，５は２個のタンクを上
部と下部でそれぞれ接続して、流入気体を入れ、
タンクを通してから水分のない乾燥流出気体を、
各タンクに出入するパージ流および流出流を調節
する出口弁１３，１４とパージ流弁１５，１６を
含む出口マニホルド１２に送る。 出口マニホルド１２から、乾燥気体流出送りラ
イン２６が出て、乾燥流出気体がその供給を受け
る装置に送られる。ライン２６には、出口圧力計
および湿度検出器が置かれるが、これらは随意で
あり、省略することができる。 弁１０，１１の片方（他方は閉）は２本の入口
ライン２および３の片方に流入気体の流れを向
け、ライン２，３の中の片方は常に各タンク，
の上部に流入気体を導き、また排気弁１７，１
８により（他の排気弁が閉じられる）ライン２，
３の中の他方は再生流出気体のパージ流を大気に
出すため排気弁１９と消音器２０に導く。吸着サ
イクルの気体は各タンクを通る下降流によつて進
行する。 ライン４，５の中の片方は常に各タンク，
の下部から流出気体を導き、またライン４，５の
中の他方は弁１０，１１の位置により常に各タン
ク，の下部に再生のため流出気体のパージ流
を導く。出口弁１３，１４は、ライン４，５と出
口ライン２６との間にある差圧力によつて開く板
ばね負荷の逆止め弁である。弁１５，１６は在来
型の玉逆止め弁である。弁１０，１１，１７およ
び１８はタイマー制御器によつて作動されるが、
弁１３，１４，１５，１６は圧力作動され、板ば
ね負荷された円板または玉はライン４，５にある
操業用順方向の流れの切替えおよび始動に開かれ
たり位置を変えられ、板ばね弁１３，１４の他方
および玉弁１５，１６はそのようなスイツチング
時間でその弁座の方に移動し、弁１３または１４
は減圧で再生を受ける室に至るラインを閉じ、従
つて主な流出流は出口ライン２６に向けられる一
方、パージ流は玉逆止め弁１５，１６を通つて進
み、その結果ライン４または５を介して室また
はに進み、結局は逆方向すなわち上昇流にな
る。 乾燥機には４個のタイマ作動弁、すなわち入口
弁１０，１１と排出弁１７，１８があるだけで、
すべて入口マニホルド７にある。他のすべての弁
は装置の差圧力により作動され、そして入口マニ
ホルド７を通り、弁１０，１１，１７，１８を介
して得られる気体流により自動的に作動される。 各入口弁１０，１１は、正常な流れ方向におけ
る入口空気圧力差がタイマー組立体により作動さ
れるソレノイド弁５１，５３の開閉位置に従つて
それぞれライン２１，２２から加えられるタイマ
ー制御された気体圧力がない場合に弁を開く点
で、半自動ポジテイブ・フロー型である。各排気
弁１７，１８は、正常な流れ方向の入口空気圧の
差がタイマー組立体により作動されるソレノイド
弁５２，５４の開閉位置に従つてそれぞれライン
２３，２４から加えられるタイマー制御された気
体圧力がない場合に弁を閉位置に保つ点で反対の
半自動型である。このようにして、ライン２１，
２２，２３，２４における気体圧力の排気は、弁
１０，１１を開かせかつ弁１７，１８を閉じる。
従つて、パージ流のため弁１０，１１を閉じ、弁
１７，１８を開くのはタイマーが作動している時
だけである。しかし、弁１０，１１の中の一つだ
け、および弁１７，１８の中の一つだけが任意の
与えられた時間に開く。 入口弁１１は第４図に最もよく見られ（弁１０
は同一であるが、対向方向に面している）、内部
で弁ピストン３２が往復する中央ボア３１を備え
る管状弁ハウジング３０を有する。入口マニホル
ド・ハウジング２９は、ハウジング３０にあるボ
ア３１の続きである通路３５によつて相互接続さ
れる入口３３（ライン６に接続）および出口３４
（ライン３に接続）を備えている。弁の通路３５
および出口３４は弁室３６でつながつており、弁
室の凹角部分３７はボア３５の周囲で弁座を構成
し、この弁座に固定される弾性シール・リング２
８は環状キヤツプ３８により捕えられかつナツト
３９と座金４０によつてピストン３２の狭い端に
保持される。弁座３７に対するピストンの往復に
より、シール・リング２８は通路３５を閉じかつ
入口３２と出口３４との間のつながりを遮断し、
結局はライン６とライン３のつながりを遮断して
有効な封止を与える。 ハウジング３０は、ソケツトとしても働く室３
６にねじ込まれる。 ハウジング３０にあるピストン３２の反対端
に、ボア３１の拡大された部分によつて定められ
るもう一つの弁室４１と、この室４１の内部を滑
動するピストン３２の端に取り付けられるキヤツ
プ４２とがある。ピストン３２の凹部４４にある
Ｏ―リング・シール４３はボア３１と共に洩れの
ない封止を与え、従つて室３６と４１はつながら
ない。キヤツプ４２の凹部４４′にあるＵ―カツ
プ・シール４３′は、室４１と口４６とのつなが
りを防ぐ洩れのない封止を与える。 室４１の出口端は、ハウジングにねじ込まれる
カバー４５によつて閉止され、ピストン３２とそ
のキヤツプ４２の外方運動を制限する。カバー４
５を通る口４６は、ライン２２とつながり、それ
により制御タイマーはときどき弁５３を開くこと
によつてキヤツプ４２の外面に気体圧力を加え
る。このような気体の起源は、ライン２７′およ
び過器２７により分路される乾燥気体流出ライ
ン２６である。 ライン２２と口４６を介して室４６′に至る室
３６の中の圧力に打勝つだけの気体圧力をキヤツ
プ４２に加えると、ピストン３２は左に駆動され
て弁を閉じる。 弁１０，１１の片方は常に開位置にあるが、他
方はタイマー印加の空気圧により閉位置に保た
れ、流入ライン２，３を介して２個のタンク，
の片方に流入気体を向ける。こうして、気体圧
力は常にライン２１，２２の片方を介して弁１
０，１１の片方に加えられる一方、他のラインは
大気に対して開き、従つて通路３５の中の気体圧
力が大気圧以上であると弁は開いたままであり、
室４１のキヤツプ４２に加えられる力が通路３５
の中のピストン３２に加えられる力より大きくな
ると弁は閉じる。 第５図に最もよく見られる排気弁１８（排気弁
１７は同一であり、反対方向に向いている）は、
同様な構造であるが、圧力気体口がピストンの他
の面の上に開き、従つてピストンがばね偏倚され
て閉じられる間に弁を閉じる代わりに弁を開く働
きをする点で相違する。第５図に見られるとお
り、弁は入口５１および出口５２、ならびにその
間の流れ通路５３と共に管状ハウジング５０を含
む。流れ通路５３はボア５４の続きであり、その
中にはコイル圧縮ばね５６により第５図に示され
る閉位置にばね偏倚される往復ピストン５５が置
かれる。 通路５３はピストン室５７に開くが、この室の
壁の凹部分５８は通路５３の周囲で弁座を構成す
る。ピストン５５は環状キヤツプ６０によつて捕
えられるシール・リング５９を有し、ねじナツト
６１および座金６２によつて環状キヤツプに対し
ピストン５５の狭い端に堅く保持される。シー
ル・リング５９は、第５図に示されるとおり、ピ
ストンが閉位置のとき弁座５８を封止する。ピス
トンには周囲の凹部６３があり、その中にＯ―リ
ング・シール６４が保持されて、ボアの壁に対し
て洩れのない封止を作り、ピストンのキヤツプ部
分６６の他の側でピストン室５７とピストン室６
５との間のつながりを防止する。 ハウジング５０は室５７の開放端にねじ込ま
れ、従つて入口マニホルド・ハウジング２９に取
り付けられる。 コイルばね５６は、キヤツプ６６の凹部６７の
中で一端が保持され、室６５の端を閉止するハウ
ジング５０にねじ込まれるカバー６９の凹部６８
によつて他端が保持される。 カバー６９は、ボルト７７によつて、間にある
ガスケツト７０と共にハウジング５０の外面にボ
ルト止めされるクランプ・リング７１によつて、
ハウジング５０に固定される。 ピストン５５は、通路５３と室６５との間にわ
たつて、それらをつながらせる通しボア７２を持
ち、またカバー６９は室６５と通路７３が大気圧
とつながらないようにする。ボア７２は、通路５
３に開く部分７４で毛管状に狭くなつている。 通路７６につながる第３気体口７５は、キヤツ
プ６６の他の側で室６５に開いているので、そこ
に加えられる圧力はピストン５５を右に駆動する
傾向がある。凹部６６′にあるＵカツプ・シール
６５′は、室６５の二つの部分を相互に密閉す
る。 第５図に示されるとおり、これらの弁の正常位
置において、圧縮ばね５６によつて援助される入
口５１の吸着ベツド室の空気圧は、弁座５８の面
積がロツドの面積より大きいので、リング５９が
弁座５８に対して封止され、弁５５を閉状態に保
つ。タイマーが弁５４を開くとき、口７５および
通路７６を介して、室の空気圧と押ばね５６の偏
倚力との両方に打ち勝つだけの気体圧力が室６５
にあるピストン・キヤツプ６６の他の面に加えら
れると、弁５５は右に移動して開くであろう。口
７５と通路７６からの圧力気体が排出されると、
押ばね５６は弁座に対してポペツトを閉じる。 ダンプされる流れによりダンプ弁１９が閉じら
れると、弁１７，１８を越えてこの弁に通じる排
気ラインに背圧が作られる。この背圧は排気弁ポ
ペツト５５を開位置にする傾向があるが、これは
ばね５６の偏倚力に打ち勝つような大きさであり
得るからである。従つてこれを回避するために、
弁ポペツトおよびカバーを通る口７２，７４はこ
の背圧をピストンの他の側に通し、この結果それ
は中立化され、すなわちつり合わされて、弁を開
こうとしなくなる。 排気弁１８が口７５と通路７６を通してキヤツ
プ６６の他の面に圧力を加えることによつて開か
れると、キヤツプ６６の反対側に作用する背圧
は、キヤツプ６６の他の側の表面積より小さい表
面積を与える弁カバーおよび凹部６８の寸法によ
る面積に制限される。このようにして、背圧は口
７５，７６による圧力の効果に打ち勝てず、弁は
この状況で開位置に保たれる。 第６図、第７図および第８図に見られる出口弁
組立体１３，１４（１３のみが図示され、１４は
同一であるがハウジングの反対側にある）は、乾
燥流出気体の出口への単方向の流れを強いる逆止
め弁として働く、第７図に最もよく見られる板ば
ね負荷の円板１３０と、単方向のパージ流を強い
る玉逆止め弁１２７と、パージ流の量を調節する
ステム弁９３とを含んで構成される。 この弁組立体は、これらすべての弁を保護する
とともに第１図に見られるような出口ラインのマ
ニホルドを構成するハウジング８４を含む。板ば
ね弁１３０は流出気体ライン２６への流れを調節
する弁１３，１４の一部であり、玉逆止め弁１２
７は再生を受けている低圧室に通じるライン４，
５のどちらにでも直接つながるパージ流を調節る
弁１５，１６の一部である。ステム弁９３は、パ
ージ流再生のため流出から引き出される流出気体
流を調節する。弁１３，１４は室１または２から
ライン４あるいは５を介する上流圧力が再生され
る低圧室に通じる流出ライン２６の下流圧力また
はライン５および４の他の圧力よりも大きい場合
にのみ開く。その他のときは弁１３，１４は閉じ
たままである。従つてこれらの弁は、ライン４ま
たは５の前に室が吸着のため操業状態にある場合
にのみ開く。 ハウジング１２２は、その中の流れ通路１２５
と通じているライン接続１２４（ライン４と共に
接続される）を受ける入口１２３を持つ。通路１
２５は交差通路１２６に直接通じ、交差通路の各
端に通路１２５から通路１２６に流すが逆方向に
は流さない板ばね円板弁１３０がある。 板ばね円板弁１３０は、リベツト８０によつて
栓受１２０に保持される弁板７９と共に、また第
６図に示されるような弁円板が通路１２６に接続
する通路１２５の円周縁で弁座８５に対して保持
されるとき洩れのない封止を作るように板７９の
外周と栓受１２０の内周との間に捕えられたＯ―
リング８１と共に、凹部７８を定める反転された
栓受１２０を持つ。その弁１３０は第７図に示さ
れるとおりこの位置に板ばね８２により、保持さ
れ、板ばね８２の一端はねじ８３により通路１２
６の壁に保持され、その他端はリベツト８０によ
り栓受１２０の外面に対して保持されて、ばね８
２が弁円板を弁座に偏倚させるようになつてい
る。 通路１２６とライン２６における降下流の気体
流出圧力に比べて、通路４における高圧力によ
り、通路１２５とライン１２６との間の弁円板に
十分な圧力差が加わると、板ばね８２の所定の偏
倚力を越え、弁は弁座から押し出されて、ライン
４または５から流出気体ライン２６に至る気体の
流れに対する通路１２５，１２６を開く。 単方向のパージ流は、第６図に最もよく見られ
る玉逆止め弁１２７によつて保証される。（この
図面は弁１６を示し、弁１５は他端で同じであ
る。）この弁は弁ハウジング１２２のもう一つの
部分８４の中に収納される。部分８４には、ハウ
ジング１２２の気体流通路１２５と共に通路８６
を介して一端で流れが通じている通し通路８５が
ある。通路８５の前の通路８６の流れのラインに
わたつて、室８９の中の弁座８８に遠近移動し得
る玉８７を有する玉逆止め弁１２７がある。 第６図に示される玉逆止め弁１６は開位置にあ
るが、これは弁１３が開いているときのその位置
である。その通路１２５は、口１２３およびライ
ン接続１２４を介し、、ライン５を介して、再生
中の室に通じるので、従つてより低い圧力で玉
逆止め弁はこの位置を取るが、その理由は通路８
５と８６の圧力がその通路１２５の圧力を越える
からであり、従つてこの位置にある弁１６はパー
ジ目的の流れをライン５に与える。しかし、出口
マニホルド１２の他の側にある玉逆止め弁１５は
第６図に破線で示される閉位置にあるが、その理
由はその通路１２５の圧力が通路８５の圧力を越
えるからであり、こうしてパージ流は通路１２５
と８５との間で通路８６から閉塞される。 また通路８５とつながる通路９０を横切るオリ
フイス板９１は、通路９０の最大流れをオリフイ
ス９２によつて適合される流れに制限する通しオ
リフイス通路９２を持つ。この通路は第８図に見
られるように、板ばね弁１３０の他の側で流出気
体出口通路２６に直接つながる。 オリフイス板９１の上流には、一端でハウジン
グ８４の外側に出て、ハウジング８４にステムを
封止する押えナツト９５を備える可変位置の回転
式ステム弁９３（第８図に最もよく見られる）が
ある。キヤツプは相当の距離にわたつてステム弁
を包み、その内方部分９４でハウジング８４のソ
ケツト９６にねじ込まれる。ボア９６と合致する
点における通路９０は９７で先細にされるドツグ
レツグを持ち、かくして先細封止に弁の円錐頂部
が受けられる。通路９０はステム９３が完全にボ
アに回りながら入れられるときに閉止されるが、
弁は完全開と完全閉の中間の任意な点にねじばめ
により保持され、またそのような位置で弁の外周
と通路の壁との間で通路を９７で環状に制限する
が、こうしてさらに通路９０の流れを所望ならば
オリフイス９２によつて与えられる流れより少な
く制限することができる。 気体の流れは第８図に見られるような流出ライ
ン２６から通路９０に進み、ステム弁９３および
オリフイス９２を通つて通路８５に進むが、こう
してそれは玉逆止め弁１２７のどちらでも開いて
いる方を通つてライン４または５の片方に進む。
前に考えた場合では、これはそのような流れがパ
ージ流として室に進むライン５であろう。いま
判明したと思うが、このパージ流の容積および流
量はオリフイス９２およびニードル弁９３によつ
て制御される。 第１２図と第１３図に最も良く見られるダンプ
弁は、第１２図に示されるとおり上端で通じ、他
端で入口マニホルド７から消音器１０２に通じて
いる通し通路１０１を備えた管状ハウジング１０
０を持つ。消音器１０２には、管１００の端とつ
ながりそれと同心になつている中央通し管１０５
からボウル１０３の底にわたる入り組んだ通路１
０４を持つボウル部分１０３があり、従つてそれ
は曲がつて、ボウル１０３の上壁、管１００の外
壁、および一端で管１００に取り付けられて外方
に延びるバツフル１０７の間に定められ、次にシ
ールド１０８としてボウル１０３の上部に途中ま
で達するように曲げられる排気室１０６まで環状
通路１０９として続く。管１０５、ボウル１０
３、およびバツフル１０７の壁は例えば鉱質ウー
ルまたはガラス・フアイバの非織物マツト、ある
いはポリウレタンやポリスチレン・フオームのよ
うなプラスチツク・フオーム材料のような防音材
料１１０で裏打される。 管１０５の上端と管１００の下端との間には、
例えば溶接、ろう付けまたははんだ付けによつて
通路１０１と１０４につながる中央開口１１２と
共にそれに取り付けられる保持板１１１がある。
開口１１２の周囲における板１１１の上面は、円
錐コイル押しばね１１５の一端の支持として働く
棚１１３を構成する。ばねは管１００の長さの半
分を少し越えるように、通路１０１を通つて同心
にわたる。ばねの最終コイルはオルフイス板１１
６を支持し、コイルは板の円周凹部１１７に捕え
られる。オリフイス１１８は板を通つて伸びてい
る。 コイルばねおよびオリフイス板は共に可変遮断
弁を構成するが、これは通路１０１と通路１０４
との間で弁に加わる圧力差によつて完全に伸びた
開位置と完全に圧縮された閉位置との間で無限数
の位置をとる。ばね１１５の上の通路１０１内の
圧力が大気圧より大きいとき、ある最小の圧力差
で、通路１０４はシールド１０８とボウル１０３
との間の出力通路１１１で大気に開くので、コイ
ルばね１１５はそれに加わる圧力差の大きさ次第
で、多かれ少なかれ圧縮され始める。圧力差が所
定の最小値を越えると、ばねは完全に圧縮され、
ばねを通る気体の流れに対する唯一の開口はオリ
フイス１１８である。従つてオリフイス１１８
は、弁が閉位置の場合でも、いつも小さな抽気流
を許す。これは通路１０１内の圧力を感じる。オ
リフイス１１８からの気体の除去により圧力差が
減少するにつれて、押しばね１１５は徐々に上方
に伸び、そうするにつれて、そのコイル間隔が開
き、これも通路１０１と通路１０４との間の気体
の流れを許し、従つて弁の上流側からの流量を増
加するとともに気体のドレンを増加し、また気体
圧力の減少速度を増すとともに弁に加わる圧力差
を減少する。従つて弁は速度を増加しながら開き
続け、結局第１２図に示される完全開位置に達す
る。 左手のタンクが乾燥サイクルにあり、右手の
タンクが再生サイクルにあるならば、弁１０お
よび弁１８は開かれ、弁１１および弁１７は閉じ
られ、乾燥機の作動は次のように進行する：例え
ば100psigでかつ80〓で飽和される305s.c.f.m.の
流量で流出する湿性気体が入口ライン６から入
り、入口マニホルド７に進み、弁１０（弁１１は
閉）を通つて、第１タンクの上部に入り、これ
によつてそこにある例えばシリカゲルまたは活性
アルミナの乾燥剤のベツド１を経てタンクの下部
へ、従つてライン４、弁１３を通つて乾燥気体出
口ライン２６に下方に向つて進む。流出気体は
95psigでかつ露点−40〓で265s.c.．m.でそこ
に送られる。弁１５は通路８５と通路８６との間
で玉８７に加わる圧力差によつて閉じられ、ライ
ン９０、ステム弁９３およびオリフイス９２を経
る場合を除き、ライン５に乾燥気体が入るのを防
止する。40s.c.．m.の乾燥気体流出のこの計測
された部分はその圧力が大気圧まで減少される間
ライン５に抽気され、次にライン５を通つて再生
サイクルにある第２タンクの底に進む。パージ
流は乾燥剤のベツド１を通つて上方に進み、上部
でライン３に現われ、それによつて弁１８を経て
ダンプ弁１９に進み、さらに消音器２０を通り、
ここでそれは大気に放出される。 各ベツドが乾燥サイクルにある時間は、使いき
つたベツドを再生するのに要する時間の長さより
通常大きいので、パージ排気弁１７，１８は乾燥
剤の再生を完成する所要時間の間のみ開かれるよ
うに、弁５２，５４およびライン２３，２４を介
して固定タイマーによつて作動される。この時間
が経過すると、それらは遮断され、再生タンク
はそのときライン９０およびライン５を通る乾燥
流出気体によつて自動的にゆつくりと再与圧され
る。 このサイクルは、固定サイクル時間が経過する
まで続き、それによつて固定タイマーはソレノイ
ド弁５１を作動させ、ソレノイド弁５３の作動を
止め、それによつて弁１０，１１をスイツチし
て、入口６に入る流入湿性気体が弁ライン３を経
てタンクの上部に進むようにする一方、ソレノ
イド弁５４が作動されて排気弁１７は排気流を除
去するためにライン２を開くように移動する（ソ
レノイド弁５２は閉じられたので、弁１８は室
を再与圧するために閉じる）。弁１３はライン４
を閉じるように移動する一方、弁１４は、ライン
４が弁１５を通してライン９０，８５を介し弁１
３をバイパスするパージ気体の流れに対する場合
を除き閉じられる間、乾燥流出気体がタンクの
下部から乾燥気体送りライン２６まで通過し得る
ように開く。パージ流はライン４から再生サイク
ルにあるタンクの下部に進み、それによつてベ
ツドを通つてライン２に上り、それによつて排気
弁１７、ダンプ弁１９、およびそれが大気に通気
される消音器１２に進む。このサイクルは、再生
時間サイクルが終るまで続き、それによつて固定
タイマーはソレノイド弁５４の作動を止め、ライ
ン２３を排気するので、パージ排気弁１７が閉じ
る。従つて、ライン４はタンクをゆつくり再与
圧する。このシステムは固定サイクル時間が経過
するまで乾燥サイクルのタンクと共に続き、そ
れによつて固定タイマーはソレノイド弁５３，５
２を作動させかつ弁１０，１１および１８を逆に
する弁５１の作動を止めて、サイクルは再び開始
される。 通常、乾燥サイクルは15〜350psig程度の超大
気圧の気体によつて行われる。パージ排気弁１
７，１８およびダンプ弁１９に組み合わされるオ
リフイス９２およびライン９０のステム弁９３
は、吸着サイクルが行われる圧力から著しく減少
された圧力で再生サイクルが行われることを保証
する。 第２図のマイクロプロセツサ制御による乾燥機
は一般に多くの点で第１図のそれに似ており、従
つて同様な参照数字が同様な部品に対して使用さ
れる。乾燥機は、シリカゲルまたは活性アルミナ
のような乾燥剤のベツド１を含む１対の乾燥タン
クおよびを備えている。タンクおよびに
は、タンクに乾燥剤を出し入れする乾燥剤充填口
および排出口８，９が備えられる。 各タンクの下部と上部には、タンクおよび
の乾燥剤ベツド１を保持する有孔金属円筒で作ら
れた取外し可能な乾燥剤支持スクリーン２５があ
る。これは、ベツド１から乾燥剤スクリーン支持
２５を通して運び出されるかもしれない一切の乾
燥剤粒子を保持して、出口弁１３′，１４′および
システムの残り部分にかかる粒子がないようにす
る。 入口ライン６は、差圧力および流れ測定のため
にその入口ならびにその中央の最も狭い点でタツ
プを持つベンチユリ６ａを含む。 各タンクに出入する流出気体および流入気体の
流れを切替えるのに必要なマニホルド付の弁によ
つて、乾燥機を通過した後で水分を含有する流入
気体を入れるために、２基のタンク，を上下
部でそれぞれつなぐに要するラインはわずか２本
である。これらのラインは、第３図で示される回
路によつて、マイクロプロセツサに対して情報を
収集しかつ供給するセンサーを備えている。この
装置には、ベンチユリ６ａに入口圧力計P1と△Ｐ
圧力指示計、マニホルド７に対する入口に温度セ
ンサーT1、ならびにマニホルド７からダンプ弁
１９への出口に温度センサーT3がある。入口圧
力差計は入口流れ速度を測る。これはP1および
T1と共に気体の流量Ｑを示す。ベンチユリの
代わりに、他の任意な形式の流れ制限装置、例え
ばオリフイス・ノズル、メーターまたはパドル・
ホイールなどを使用することができる。また流量
は、乾燥剤ベツド１の両端または入口弁１０，１
１の両端における圧力降下の関数としても求めら
れる。 ライン２，３および４，５は、２基のタンクを
上部と下部でそれぞれつなぎ、入口弁１０，１１
を含む分配マニホルド７を介して除去すべき水分
を含有する流入気体を入口ライン６から導き、そ
して乾燥機を通つて水分のない両タンクから乾燥
流出気体を、出力弁１３′，１４′および各タンク
に出入するパージ流と流出流を調節する１対のパ
ージ流オリフイス１５′，１６′を含む出口マニホ
ルド１２に送る。またマニホルド７には排気弁１
７，１８、ダンプ弁１９、およびパージ流が大気
に抽気される消音器２０も含まれる。 ライン６は、ベンチユリ６ａからマニホルド７
および入口弁１０，１１に水分のある流入気体を
導く。弁１０，１１の片方は、流入気体の流れを
二つの入口ライン２および３の片方に向け、ライ
ン２，３の片方は常に流入気体をタンク，の
片方の上部に導き、排気弁１７，１８に従つてラ
イン２，３の他方は再生流出気体のパージ流を排
気弁１９および大気に抽気する消音器２０に導
く。気体は各タンクを通る下降流によつて進む。
タンクおよびの下部からの出口ライン４なら
びに５は、それぞれ出口マニホルド１２に通じ
る。出口マニホルド１２から乾燥気体流出送りラ
イン２６が出て、乾燥した流出気体を供給される
装置に送る。ライン２６には出口圧力計と湿度セ
ンサーが置かれるが、これらは随意であり、省略
することができる。 弁１０，１１の位置により、ライン４，５の片
方は常に各タンク，の下部から出口ライン２
６に乾燥流出気体を導き、またライン４，５の他
方に常に再生のために各タンク，の下部に流
出気体のパージ流を導く。出口弁１３′，１４′
は、ライン４，５と出口ライン２６との間でそれ
に加わる圧力差によつて開く板ばね負荷の逆止め
弁である。弁１０，１１，１７および１８はマイ
クロプロセツサにより制御され、パイロツト気体
で作動されるが、弁１３′，１４′は圧力で作動さ
れ、板ばね負荷の円板はライン４，５にある操業
状態の順方向の流れのスイツチングおよび始動に
より開かれたり移動されるが、このようなスイツ
チング時間で板ばね弁１３′，１４′の他の一つは
弁座に対して移動し、弁１３′または１４′は減圧
で再生を受けている室に至るラインを閉止し、こ
うして乾燥流出気体流を出口ライン２６に向ける
一方、パージ流はオリフイス１５″，１６″または
１６″，１５″を介して室またはに進み、従つ
て逆方向の上昇流になる。 出口弁１３′の上流には、圧力センサP3および
上記の弁１４′、第２圧力センサーP4、ならびに
出力ライン２６でその下流にある温度センサー
T2がある。圧力計P3，P4は出口弁１３′，１４′
で圧力を読み取り、こうしてT2が流出気体温度
を与える間、再生を受けるにつれて各タンクに再
生圧力を与える。 乾燥機にはプロセツサ作動の４個の弁、すなわ
ち入口弁１０，１１と排気弁１７，１８だけがあ
り、すべては入口マニホルド７の中にある。他の
すべての弁はシステム圧力差により作動され、従
つて入口マニホルドから弁１０，１１，１７，１
８を介して供給される気体の流れにより自動的で
ある。 各入口弁１０，１１は、正常な流れ方向におけ
る入口空気の圧力差がマイクロプロセツサにより
作動されるソレノイド弁５１，５３の開閉位置に
よつてそれぞれライン２１，２１から加えられる
マイクロプロセツサ制御の気体圧力がない場合
に、弁を開く点で、半自動ポジテイブ・フロー形
である。各排気弁１７，１８は、正常な流れ方向
の入口空気圧力差がマイクロプロセツサにより作
動されるソレノイド弁５２，５４の開閉位置によ
つてそれぞれライン２３，２４から加えられるマ
イクロプロセツサ制御の気体圧力がない場合に弁
を閉位置に保つ点で、反対の半自動形である。こ
うして、ライン２１，２２，２３，２４にある気
体圧力の排気は弁１０，１１を開かせかつ弁１
７，１８を閉じさせる。従つて弁１０，１１の閉
およびパージ流用の弁１７，１８の開を作動させ
るのはマイクロプロセツサまでである。しかし、
弁１０，１１および１７，１８の一つだけが任意
の与えられた時間に開かれる。 入口弁１１は第４図に最もよく見られ（弁１０
は同じであるが、反対方向を向いている）、上記
の説明に参照がなされる。 弁１０，１１の片方は常に開位置にあるが、他
方はマイクロプロセツサにより加えられる空気圧
力によつて閉位置に保たれ、流入ライン２，３を
介して２基のタンク，の片方に流入気体を向
けさせるようになつている。従つて、気体圧力は
他のラインが大気に対して開かれている間、ライ
ン２１，２２の片方を介して弁１０，１１の片方
に常に加えられ、従つて弁は通路３６内の気体圧
力が大気圧より高い間開位置に保たれ、室４１の
キヤツプ４２に加えられる力が室３６のピストン
３２に加えられる力より大きいときに閉じる。 排気弁１８は第５図に最もよく見られ（排気弁
１７は同じであるが反対方向を向いている）、上
記の説明に参照がなされる。排気弁は同様な構造
であるが、圧力気体口がピストンの他の面上に開
く点が相違しており、従つてピストンがばね偏倚
で閉じられる間、弁を閉じるのではなく開く働き
をする。 出口弁組立体１３′，１４′は第９図、第１０図
および第１１図に最もよく見られる（１４′のみ
が図示され、１３′は同じだがハウジングの反対
側にある）。これらは第６図、第７図、および第
８図に示されるものと同様であり、従つて同様な
参照数字が同様な部品に対して使用される。これ
らの弁は第７図に最もよく見られる板ばね仕掛の
円板１３０を有し、逆止め弁として働き、単方向
の乾燥流出気体の流れを出口に押しやる。オリフ
イス１５″および１６″はパージ流の量を制御す
る。 弁組立体はこれらの弁を共に保護するハウジン
グ１３２を備え、また第２図に見られるとおり出
口ライン・マニホルド１２を構成する。板ばね弁
１３０は流出気体ライン２６に対する流れを制御
し、オリフイス１５″，１６″は再生を受けている
低圧室に通じるライン４，５のどちらにも直接つ
ながるパージ流を制御する。弁１３′，１４′が開
くのは、室またはからライン４あるいは５を
介する上流圧力が流出ライン２６または再生中の
低圧室に通じるライン５および４の他方における
下流圧力よりも大きい場合に限る。他のときは、
それらは閉じたままである。従つてそれらが開く
のは、ライン４または５の前の室が吸着のための
操業状態にあるときに限る。 ハウジング１３２には、その流れ通路１３５に
通じるライン接続（ライン４と接続）を受ける入
口１２３がある。通路１２５は交差通路１２６に
直接通じるが、交差通路の各端にある板ばね円板
弁１３０は通路１２５から通路１２６への流れを
許すが逆方向の流れを許さない。 板ばね弁１３０は、リベツト８０によつて栓受
１２０に保持される弁板７９および板７９の外周
と栓受１２０の内周との間に捕えられたＯリング
によつて凹部７８を定める逆栓受１２０を有し、
第１０図に示されるような弁円板が通路１２６と
接続する通路１２５の周縁で弁座１３５に対して
保持されるときに洩れのない封止を作るようにな
つている。弁は第１０図に示されるとおり、板ば
ね８２によつてこの位置に保持され、板ばね８２
の一端はねじ８３によつて通路１２６の壁に保持
され、その他端はばね８２が封止に対して弁円板
を偏倚するように、栓受１２０の外面に対しリベ
ツト８０によつて保持される。 通路１２６とライン２６の下流気体流出圧力に
比べて、板ばね８２の所定の偏倚力を越える、通
路４内の高い圧力による、通路１２５と１２６の
間の弁円板に加わる十分な圧力差により、弁は弁
座が押し離されて、ライン４から５さらに流出気
体ライン２６に至る気体の流れに対して通路１２
５，１２６を開く。 単方向パージ流は、ライン５および室にある
圧力よりも高い通路１２６内の圧力により閉じら
れる通路１２６の反対端で、他の板ばね弁１３０
（出口弁１３′の一部）によつて保証される。 ハウジング１３６にある通路１２５に通じてい
る通路１３７は通しオリフイス通路１３９を持つ
オリフイス板１３８を備え、通路１３７の最大の
流れをオリフイス１３９により適合される流れに
制限し、それによつてオリフイスを越える圧力を
減少させる。通路１３７は第９図に見られるとお
り、オリフイス１３９の他の側でパージ流通路１
４０に直接通じる。同様なオリフイス板１３
８′、オリフイス１３９′があり、またハウジング
１３６の他側で出口弁組立体１３′の流れ通路１
２５につながる通路１３７′がある。 通路１４０の各端にある栓１４１はそれを閉止
するので、オリフイス通路１３９を通る流れは通
路１４０に沿つて進み、次にオリフイス１３９′
通路１３７′および通路１２５を通つて口１２３
を介してライン５に進むが、これはそうするにつ
れてさらに圧力減少を受け、室は排気弁１８と
ダンプ弁１９が開かれるとき大気圧となる。ライ
ン５および室の圧力がライン４ならびに通路１
２５にあるライン圧力より低い限り、流れはこの
ように進む。 従つて、この圧力差が存在し得る間、パージ気
体流は第９図に見られるようなライン４から通路
１２５，１３７に、オリフイス１３９を通つて通
路１４０に進み、かくてそれはオリフイス１３
９′および通路１３７′を通つてライン５に進む。
圧力差が逆方向にあると、室がスイツチされると
きにこのような流れは室に対するパージ流とし
て、通路１２５，１３７′、オリフイス１３９′、
通路１４０、オリフイス１３９および通路１３
７，１２５を介してライン４に進む。このパージ
流の総量および流量がオリフイス１３９，１３
９′によつて調節されることがいま分かつたと思
う。 ダンプ弁は第１２図と第１３図に最もよく見ら
れ、上記で説明された。 左手のタンクが乾燥サイクルにあり、右手の
タンクが再生サイクルにあるならば、弁１０お
よび１８は開かれ、１１と１７は閉じられ、そし
て乾燥機の作動は次のようになる： 例えば圧力100psig、流量305s.c.．m.80〓で
飽和される流入湿性気体は、入口ライン６から入
り、ベンチユリ６ａおよび弁１０（弁１１は閉）
を通り、そして第１タンクの上部に入り、それ
によつてそこにある例えばシリカゲルや活性アル
ミナのような乾燥剤のベツド１を通つてタンクの
下部へ下り、それによつて過器２５と開放ライ
ン４、弁１３０，１３′を通つてライン１６を経
て乾燥気体口ライン２６に進む。流出気体は圧力
95psigおよび265s.c.．m.露点−40〓でそこに
送られる。弁１４′（第２の弁１３０）は、通路
１３７，１３７′、オリフイス１３９，１３９′、
および通路１４０を通る場合のほか、ライン５に
乾燥気体が入るのを防止する。乾燥気体流出の
40s.c.．m.のこの計測された部分はライン５を
通してブリード・オフされ、その圧力はオリフイ
ス１３９′の他の側で大気圧まで減少され、次に
その部分は再生サイクルにある第２タンクの下
部に進む。パージ流は乾燥剤ベツド１を通つて上
方に進み、上部でライン３に現われ、従つて弁１
８を通つてダンプ弁１９および消音器２０に進
み、ここでそれは大気に排出される。 各ベツドが乾燥サイクルにある時間は使われた
ベツドを再生するのに要する時間より通常長いの
で、パージ排気弁１７，１８は乾燥剤の完全再生
に必要な時間のみ開かれるように、マイクロプロ
セツサによつて作動される。この時間が経過する
と、それらは遮断され、再生タンクはそのとき
ライン５を介して自動的にゆつくり再与圧され
る。 このサイクルはマイクロプロセツサまたは固定
タイマーにより定められたサイクル時間が経過す
るまで続き、それによつてマイクロプロセツサは
そのとき弁１０，１１をスイツチして、逆止め弁
１４′がライン５を開くように移動する間、入口
６から入る流入湿性気体がライン３からタンク
の上部に進みそれによつて逆止め弁１３′がライ
ン４を閉じるように移動し、その結果乾燥気体流
出はライン４が閉じられる間にタンクの下部か
ら乾燥気体送りライン２６に進むことができる
が、ただしいま通路１３７′，１３７，１４０お
よびオリフイス１３９′，１３９を介して弁１
３′を逆方向にバイパスするパージ気体の流れを
除く。パージ流はライン４を介して再生サイクル
にあるタンクの下部に進み、従つてベツドから
ライン２に上昇し、それよつて弁１７、弁１９、
および消音器２０に進み、ここでそれは大気に排
出される。このサイクルは再生時間サイクルが終
るまで続き、それによつてマイクロプロセツサは
パージ排気弁１７を閉じる。従つて、ライン４は
タンクをゆつくり再与圧する。このシステムは
マイクロプロセツサの定めたすなわち固定サイク
ル時間が経過するまでタンクの乾燥サイクルと
共に続き、それが終ると同時にマイクロプロセツ
サは弁１０，１１を逆にし、サイクルが再び開始
される。 通常、乾燥サイクルは、15〜350psigの程度の
超大気圧の気体で行われる。オリフイスは再生サ
イクルが吸着サイクルの行われる圧力から著しく
減少された圧力で行われることを保証する。 マイクロプロセツサ用の電気回路の接続は第３
図に示されている。マイクロプロセツサには、温
度および圧力変換器からのデータを集めるデータ
収集モジユールと、入出力データを受けて調節す
る入出力モジユールと、マイクロプロセツサと、
制御機能に用いられる情報を記憶するRAMおよ
びROM記憶装置とが含まれる。入口圧力センサ
ーP1も流量を確認するのに用いられ、パージおよ
び再生圧力センサーP3，P4は、入出力モジユール
と直結されるデータ収集モジユールに接続される
圧力変換器に接続される。入出力モジユールはマ
イクロプロセツサとも接続され、これは記憶装置
に接続される。 入口温度センサーT1、出口温度センサーT2、
およびパージ温度センサーT3は温度変換器に接
続され、これはさらにデータ収集モジユールに接
続される。 基本的なこれらのセンサーに加えて、変換器お
よびデータ収集モジユールにすべて接続される大
気圧センサー、ならびに出口圧力センサーP5も含
まれることがある。 随意である警報装置は、湿度センサーＨにより
湿度を検出し得るとともに、入口マニホルド弁１
０，１１，１７，１８のどれにでもある故障、お
よびセンサーのどれにでもある故障を検出し、そ
れによりマイクロプロセツサは警報信号を出すこ
とができる。警報装置は入出力モジユールに接続
される。 センサーによつて検出された読み、およびマイ
クロプロセツサによつて算出された値の視覚表示
装置も備えられるが、こうして例えば入口流量、
入口圧力、入口温度、および節約エネルギなどが
表示される。これらは入出力モジユールに接続さ
れる。 最後に、ソレノイド弁および継電器の形の入口
マニホルド７にある４個の弁を制御するシステム
制御装置は、入出力モジユールに接続される。 第３図に示されるマイクロプロセツサ制御装置
は次のように作動する： Ａ 操作データは、遠隔の圧力および温度変換器
からデータ収集モジユールに転送される。信号
はデイジタル量に変換され、入出力モジユール
に送られる。 Ｂ マイクロプロセツサは入出力モジユールから
のデータに命令して、ROM記憶装置に含まれ
るプログラムに基づきデータの計算を行う。計
算に用いられる暫定数字はRAM記憶装置、す
なわち「作業記憶装置」に記憶される。 Ｃ 適当な時間に、マイクロプロセツサはシステ
ム・ソレノイド弁継電器を制御する信号を入出
力モジユール介して送る。 Ｄ 操作データおよび「故障」信号は、視覚表示
装置に送られる。 第３図において、入口圧力差△Ｐは入口速度を
表わす。これにP1およびT1を加えたものが
SCFMで表わした入口流量である。 P3またはP4およびT3は、パージ・オリフイス
の大きさと気体を知ると、SCFMで表わした実際
のパージ流量の計算に用いられる。 再生圧力および温度P3またはP4およびT2は、
パージによつて除去される水の量を求めるのに用
いられる。 T2からT1を引いたものは、入口空気の湿度の
量を示す。代替として、T2はタンクおよび
におけるT2′ならびにT2″を用いる乾燥剤ベツド
で検出することができる。 入口圧力P1を知つてパージ・オリフイスの上流
圧力を計算し、またシステムの流量ならびに圧力
損失を計算することも第３図の変形で可能であ
る。この方式で要求される圧力変換器の数は１つ
少ない。 この場合、圧力変換器P3，P4が省略され、ダン
プ弁１９の前にあつて弁１７，１８に続く排気ラ
インに１つの圧力変換器P6を置いて代用される。
温度変換器は、圧力変換器P1，P2と共に同じまま
である。圧力変換器P6は、第１図のシステムのよ
うな入口の代わりに出口における再生タンクから
の再生圧力を測定する。 マイクロプロセツサは乾燥機の作動条件を正確
に検出し、検出された作動条件に基づき乾燥剤ベ
ツドを完全に再生するのに要するパージ流を精密
に計算し、そして固定時間に基づき乾燥機のサイ
クル時間を制御するとともに計算された所要のパ
ージ流に基づき再生時間を制御する。その結果、
最小のパージ気体が消費され、本乾燥機はほとん
どすべての応用について他の任意な形の乾燥装置
よりも一段と経済的に作動される。 マイクロプロセツサはその制御機能に加えて、
視覚表示装置に主要な操作データを表示すること
もできる。正確な作動のため乾燥機を監視するこ
ともできる。故障条件の場合に、マイクロプロセ
ツサは故障を診断して、警報表示器に輝く符号メ
ツセージを表示する。かくて、マイクロプロセツ
サは乾燥装置の維持を助けるとともに故障探究を
容易にする。 下記の機能が計算機制御装置によつて果たされ
る： Ａ 乾燥機作動条件の検出 ―入口圧力 ―入口流量 ―入口温度 ―吸着される水分 ―再生圧力 Ｂ パージの計算 ―完全再生に必要なパージ ―パージ流量 Ｃ 乾燥機作動の制御 ―固定時間に基づく室の切替 ―所要流の通過後のパージ中断 ―手動開始計画による乾燥剤ベツドの再調整 ―高い出口湿度による最大パージの供給（Ｈオ
プシヨンのみ） ―プラント空気システムの安全を助けるための
圧縮機停止連動装置の装備 Ｄ 瞬間操作データの表示 ―入口流量（SCFM） ―入口圧力（PSIG） ―入口温度（〓） ―蓄積エネルギの節約（KW―HR） Ｅ 故障条件の表示 ―高い出口湿度（Ｈオプシヨンのみ） ―切替の故障 ―センサーの故障 ―切替または逆止め弁の故障 ―電子回路の故障 ―低い入口圧力 ―過度の流量 ―過度の入口温度 ―消音器の汚れ 前に示されたとおり、各種の入口出口パージ・
センサーおよび再生センサーは、どのベツドが吸
着サイクルで、どのベツドが再生サイクルである
かにより、多機能を備えるが、その理由は例えば
与えられたセンサーが１つのサイクルで入口温度
を検出する一方、他のサイクルで出口温度を検出
するからである。どのセンサーがどのサイクルで
どの機能を検出するかは、本説明のこの部分から
明白である。 本発明の乾燥装置は、気体から水分を吸着する
ようにされた任意な形の吸着剤と共に使用するこ
とができる。活性炭素、アルミナ、シリカゲル、
マグネシア、各種金属酸化物、粘土、フラー土、
骨炭、およびモビルビーズ、その他同様な水分吸
着コンパウンドは乾燥剤として用いられる。 分子ふるいも使用できるが、その理由は多くの
場合にこれらが水分除去特性を持つからである。
この種の物質には、天然発生および合成の両ゼオ
ライト、数オングストローム（Å）単位の大きさ
から12〜15Åまたはそれ以上にわたり直径が変わ
る細孔を有するものが含まれる。斜沸石および方
沸石は、使用し得る代表的な天然ゼオライトであ
る。使用し得る合成ゼオライトには、米国特許第
2442191号および第2306610号に記載されたものが
含まれる。これらの物質はすべて乾燥剤として周
知であり、その詳細な説明は文献に見出される。 説明されかつ図示された乾燥機はすべて、パー
ジ流再生用であり、パージは湿性気体流入に逆ら
つて通る。これは周知のとおり、乾燥剤ベツドを
利用する最も有効な方法である。湿性気体が乾燥
剤ベツドを一方向に通過するにつれて、乾燥剤の
水分含有量は次第に減少し、水分の最小量はベツ
ドの出口端で通常吸着される。従つて、ベツドの
湿性部分からベツドの乾燥部分に水分が入り、そ
れにより再生サイクル時間が長くされるのをさけ
るために出口端から再生パージ気体を入れるのが
唯一の重要な工学的手法である。パージ流が出口
端に入れられると、そこに水分が存在するが、そ
れは少量であり、パージ流によつて除かれ、ベツ
ドの湿性端に下げられるであろう。かくて、ベツ
ドは次第に出口端から再生され、水分はすべて入
口端に現われるまでベツドに最小可能距離だけ運
ばれる。 それにもかかわらず、ある目的で、パージ流を
流入気体の流れと同一方向に通すのが望ましいこ
とである。本発明により、乾燥剤の水分含有量を
通常可能な以上に多くすることができるが、それ
はマイクロプロセツサの保護作用によるものであ
り、それによつてこれまで可能であつた以上に多
量の精密に測られた水分を一度に再生することが
できる。従つて多くの場合に、もしベツドがほと
んど飽和点に達したならば、それはパージ流が流
入端または出口端に入るとわずかな差を作るであ
ろうし、本発明は両作動形式を期待するが、もち
ろん大部分の場合は逆流再生が望ましい。 本発明者の意見で、下記の例は本発明による乾
燥機およびその作動方法の好適実施例を表わす
る： 例 各ベツドに75lbsの活性アルミナが含まれる、
長さ50in.直径8.25in.の２個の乾燥剤ベツドを持
つ、第２図に示される形式の２ベツド非加熱乾燥
機が、相対湿度70％、温度67〓〜70〓、および入
口圧力80psigで空気を乾燥させるのに用いられ
た。空気の皮相流れ速度は55ｔ／分であつた。 この装置を用いて行われた多数の乾燥サイクル
についてデータが収集された。そのデータから明
らかになつたのは、マイクロプロセツサが吸着剤
ベツドを完全に再生させるために再生サイクル時
間を適当に制御した点、およびこの制御が各ベツ
ドで５分、合計10分の固定サイクル時間によつ
て、流出気体内の安全水分量で乾燥サイクル時間
を終わらせることができた点である。またサイク
ルの異なる時間から明らかになつたのは、マイク
ロプロセツサがサイクル再生の長さを流入空気の
水分の量の変化に合うように、かつ各再生で必要
なパージを用いるだけでパージ流の量を切り下げ
ることによつて無駄なパージを減らすように調節
した点である。 本発明は乾燥剤乾燥機および気体を乾燥する方
法に重点を置いて説明されたが、この装置は適当
な吸着剤の選択によつて、気体混合物から１つ以
上の気体成分を分離するのに用いられることは当
業者にとつて明らかであると思う。このような場
合、吸着された成分は再生の間、熱を加えずに圧
力を減少して吸着剤から取り除かれる。かくて、
この方法は石油炭化水素の流れおよび同じものを
含む他の気体混合物から水素を分離し、窒素から
酸素を分離し、飽和炭化水素からオレフインを分
離するなどに用いられる。当業者はこの目的で使
用される吸着剤を知つている。 多くの場合、空気から水分を除くのに役立つ吸
着剤は、１つ以上の気体成分をその混合物から吸
着するのにも優先的に使用される。例えば活性炭
素、ガラスウール、吸着剤木綿、金属酸化物、お
よびアタパルジヤイトならびにベントナイトのよ
うな粘土、フラー土、骨炭、および天然ならびに
合成ゼオライトなどがある。ゼオライトは特に、
プロパンおよびさらに高いパラフイン炭化水素、
またはブテンあるいはさらに高いオレフインとの
混合物から、窒素、水素、およびエチレンやプロ
ピレンのようなオレフインを取り除くのに有効で
ある。ゼオライトの選択性は細孔の大きさまたは
材料に左右される。入手できる図書には利用でき
るゼオライトの選択的吸着度が示されているの
で、特定の目的での材料選択はむしろ簡単であ
り、本発明の部分を構成しない。
替式は次のとおりである： ｔp＝ｔＱＰ１（ＳｇＴ２）〓Ｆ２／ｄｐ ２Ｐ４
Ｐ３ ただし： ｔp＝所要パージ時間（分） ｔ＝吸着時間（分） Ｑ＝入口流量（SCFM） P1＝入口圧力（PSIA） Ｓg＝空気に対する比重 T2（またはT4）＝パージ温度（ランキン度） ｄp＝パージ・オリフイス直径（インチ） P4＝（またはP3）＝再生圧力（PSIA） P3（またはP4）＝パージ圧力（PSIA） F2＝比例定数 第１図のような二つの吸着剤ベツドおよび
を想定して、ベツドが吸着サイクルにあり、ベ
ツドが再生サイクルにあるとき、温度および圧
力に対する上記の参照は次のように適用される： T1＝入口温度 T2＝出口温度 T3＝パージ排気温度 P3＝パージ圧力 P4＝再生圧力 切替え後、ベツドが吸着サイクルになりベツ
ドが再生サイクルになると、記号の変化は次の
ようになる： T3＝入口温度 T4＝出口温度 T1＝パージ排気温度 P4＝パージ圧力 P3＝再生圧力 マイクロプロセツサは下記の式を用いて入口流
量を計算する： Ｑ＝Ｃ〔（P1P2）P1Sg／T1〕〓 ただし： Ｑ＝入口流量（SCFM） P1，P2＝圧力損失（PSID） P1＝入口圧力（PSIA） Ｓg＝空気に対する比重 T1＝入口温度（ランキン度） Ｃ＝流れ定数 マイクロプロセツサは次に、下記の式によりサ
イクル当りの節約されたエネルギを計算し得る： KW−HR／ｔ＝〔QdtＰｄ／１４．７−ｔpdo2P3G（Ｓｇ／Ｔ２）〓〕EP1 ただし： Qd＝設計入口流量（SCFM） ｔ吸着時間（分） Ｐd＝設計入口圧力（PSIA） ｔp＝パージ時間（分） ｄp＝パージ・オリフイス直径（インチ） P3（またはP4）＝パージ圧力（PSIA） Ｇ＝パージ・オリフイス定数 Ｓg＝空気に対する比重 T2（またはT4）＝パージ温度（ランキン度） Ｅ＝KW−HR／SCF−PSIA P1＝入口圧力（PSIA） 各吸着サイクル（ｔ）が終わると、マイクロ
プロセツサは再生状態の室の排気弁（第１図のＤ
またはＣ）を閉じなければならない（まだ閉じら
れていない場合）。再生状態の室内の圧力が吸着
状態の圧力の５％以内まで上昇されると（P4対
P3）、入口切替弁は吸着サイクルの室が再生する
室となるように、またその逆となるように作動さ
れねばならない。パージ排気弁はそのとき非操業
状態の吸着室で開かれねばならない。 マイクロプロセツサはパージ時間を定め、所要
の流れが再生サイクルの室を通過すると、それは
排気弁を閉じる。 「常温の」状態からの始動に当り、マイクロプ
ロセツサは吸着剤ベツドを整えるために100回の
乾燥回数の期間、パージ状態の機能をオーバーラ
イドしなければならない。 マイクロプロセツサは所望どおり多数の表示機
能を果すことができ、かつ１個あるいは数個の押
ボタンからの指令により、別々のまたは１個の視
覚デイジタル表示ユニツトに下記データを表示す
ることができる。 １ 入口流量（SCFM）＝直読 ２ 入口圧力（PSID）＝直読 ３ 入口温度（〓）＝直読 ４ エネルギ節約＝総累積値 マイクロプロセツサは所望どおり多数の警報機
能をも果たすことができる。 ベツドが定められた時間に切替わらない場合、
制御器は二つの警報回路を閉じることができる。 出口水分センサーが流出気体の中の第１気体の
過度に高い濃度（乾燥装置では流出気体の露点
（湿度））を検出する場合、制御器は二つの警報回
路を閉じることができる。 また制御器はセンサーの故障が検出されると二
つの警報回路を閉じることができる。 マイクロプロセツサの追加機能には下記があ
る： ａ 流量および所要の出口露点により変化する乾
燥時間（ｔ）。 ｂ コンプレツサ連動による自動遮断プログラム
の組込れ。 ｃ 出口流のない乾燥サイクルの停止。 ｄ 毎日の合計空気入口流の視覚表示。 上記機能に関する代表的回路は第２図に示され
る。 本発明の装置の好適実施例が付図について以下
に詳しく説明される。 第１図の乾燥機は１対の乾燥タンクおよび
を含んで構成される。これらのタンクは垂直に配
置される。各タンクには、シリカゲルまたは活性
アルミナのような乾燥剤のベツド１がある。また
タンクおよびには、タンクに乾燥剤を出し入
れする乾燥剤充填口８と乾燥剤排出口９がある。 各タンクの上部と下部には、タンクおよび
にある乾燥剤のベツド１を保持する、多孔金属円
筒製の取り外し可能な乾燥剤支持スクリーン２５
がある。これはベツド１から乾燥剤支持スクリー
ン２５を通つて運び出されようとするいかなる乾
燥剤粒子をも保持する働きをし、それによつて出
口弁１３，１４および装置の残り部分にこのよう
な粒子が存在しないように保たれる。 入口ライン６は、タンクおよびに対する流
入気体の流れを調節する入口弁１０，１１を含む
分配マニホルド７に、取り除くべき水分を含有す
る流入気体を導く。またマニホルド７には排気弁
１７，１８、ダンプ弁１９およびパージ流を大気
に排出する消音器２０が含まれる。 ライン２，３および４，５は２個のタンクを上
部と下部でそれぞれ接続して、流入気体を入れ、
タンクを通してから水分のない乾燥流出気体を、
各タンクに出入するパージ流および流出流を調節
する出口弁１３，１４とパージ流弁１５，１６を
含む出口マニホルド１２に送る。 出口マニホルド１２から、乾燥気体流出送りラ
イン２６が出て、乾燥流出気体がその供給を受け
る装置に送られる。ライン２６には、出口圧力計
および湿度検出器が置かれるが、これらは随意で
あり、省略することができる。 弁１０，１１の片方（他方は閉）は２本の入口
ライン２および３の片方に流入気体の流れを向
け、ライン２，３の中の片方は常に各タンク，
の上部に流入気体を導き、また排気弁１７，１
８により（他の排気弁が閉じられる）ライン２，
３の中の他方は再生流出気体のパージ流を大気に
出すため排気弁１９と消音器２０に導く。吸着サ
イクルの気体は各タンクを通る下降流によつて進
行する。 ライン４，５の中の片方は常に各タンク，
の下部から流出気体を導き、またライン４，５の
中の他方は弁１０，１１の位置により常に各タン
ク，の下部に再生のため流出気体のパージ流
を導く。出口弁１３，１４は、ライン４，５と出
口ライン２６との間にある差圧力によつて開く板
ばね負荷の逆止め弁である。弁１５，１６は在来
型の玉逆止め弁である。弁１０，１１，１７およ
び１８はタイマー制御器によつて作動されるが、
弁１３，１４，１５，１６は圧力作動され、板ば
ね負荷された円板または玉はライン４，５にある
操業用順方向の流れの切替えおよび始動に開かれ
たり位置を変えられ、板ばね弁１３，１４の他方
および玉弁１５，１６はそのようなスイツチング
時間でその弁座の方に移動し、弁１３または１４
は減圧で再生を受ける室に至るラインを閉じ、従
つて主な流出流は出口ライン２６に向けられる一
方、パージ流は玉逆止め弁１５，１６を通つて進
み、その結果ライン４または５を介して室また
はに進み、結局は逆方向すなわち上昇流にな
る。 乾燥機には４個のタイマ作動弁、すなわち入口
弁１０，１１と排出弁１７，１８があるだけで、
すべて入口マニホルド７にある。他のすべての弁
は装置の差圧力により作動され、そして入口マニ
ホルド７を通り、弁１０，１１，１７，１８を介
して得られる気体流により自動的に作動される。 各入口弁１０，１１は、正常な流れ方向におけ
る入口空気圧力差がタイマー組立体により作動さ
れるソレノイド弁５１，５３の開閉位置に従つて
それぞれライン２１，２２から加えられるタイマ
ー制御された気体圧力がない場合に弁を開く点
で、半自動ポジテイブ・フロー型である。各排気
弁１７，１８は、正常な流れ方向の入口空気圧の
差がタイマー組立体により作動されるソレノイド
弁５２，５４の開閉位置に従つてそれぞれライン
２３，２４から加えられるタイマー制御された気
体圧力がない場合に弁を閉位置に保つ点で反対の
半自動型である。このようにして、ライン２１，
２２，２３，２４における気体圧力の排気は、弁
１０，１１を開かせかつ弁１７，１８を閉じる。
従つて、パージ流のため弁１０，１１を閉じ、弁
１７，１８を開くのはタイマーが作動している時
だけである。しかし、弁１０，１１の中の一つだ
け、および弁１７，１８の中の一つだけが任意の
与えられた時間に開く。 入口弁１１は第４図に最もよく見られ（弁１０
は同一であるが、対向方向に面している）、内部
で弁ピストン３２が往復する中央ボア３１を備え
る管状弁ハウジング３０を有する。入口マニホル
ド・ハウジング２９は、ハウジング３０にあるボ
ア３１の続きである通路３５によつて相互接続さ
れる入口３３（ライン６に接続）および出口３４
（ライン３に接続）を備えている。弁の通路３５
および出口３４は弁室３６でつながつており、弁
室の凹角部分３７はボア３５の周囲で弁座を構成
し、この弁座に固定される弾性シール・リング２
８は環状キヤツプ３８により捕えられかつナツト
３９と座金４０によつてピストン３２の狭い端に
保持される。弁座３７に対するピストンの往復に
より、シール・リング２８は通路３５を閉じかつ
入口３２と出口３４との間のつながりを遮断し、
結局はライン６とライン３のつながりを遮断して
有効な封止を与える。 ハウジング３０は、ソケツトとしても働く室３
６にねじ込まれる。 ハウジング３０にあるピストン３２の反対端
に、ボア３１の拡大された部分によつて定められ
るもう一つの弁室４１と、この室４１の内部を滑
動するピストン３２の端に取り付けられるキヤツ
プ４２とがある。ピストン３２の凹部４４にある
Ｏ―リング・シール４３はボア３１と共に洩れの
ない封止を与え、従つて室３６と４１はつながら
ない。キヤツプ４２の凹部４４′にあるＵ―カツ
プ・シール４３′は、室４１と口４６とのつなが
りを防ぐ洩れのない封止を与える。 室４１の出口端は、ハウジングにねじ込まれる
カバー４５によつて閉止され、ピストン３２とそ
のキヤツプ４２の外方運動を制限する。カバー４
５を通る口４６は、ライン２２とつながり、それ
により制御タイマーはときどき弁５３を開くこと
によつてキヤツプ４２の外面に気体圧力を加え
る。このような気体の起源は、ライン２７′およ
び過器２７により分路される乾燥気体流出ライ
ン２６である。 ライン２２と口４６を介して室４６′に至る室
３６の中の圧力に打勝つだけの気体圧力をキヤツ
プ４２に加えると、ピストン３２は左に駆動され
て弁を閉じる。 弁１０，１１の片方は常に開位置にあるが、他
方はタイマー印加の空気圧により閉位置に保た
れ、流入ライン２，３を介して２個のタンク，
の片方に流入気体を向ける。こうして、気体圧
力は常にライン２１，２２の片方を介して弁１
０，１１の片方に加えられる一方、他のラインは
大気に対して開き、従つて通路３５の中の気体圧
力が大気圧以上であると弁は開いたままであり、
室４１のキヤツプ４２に加えられる力が通路３５
の中のピストン３２に加えられる力より大きくな
ると弁は閉じる。 第５図に最もよく見られる排気弁１８（排気弁
１７は同一であり、反対方向に向いている）は、
同様な構造であるが、圧力気体口がピストンの他
の面の上に開き、従つてピストンがばね偏倚され
て閉じられる間に弁を閉じる代わりに弁を開く働
きをする点で相違する。第５図に見られるとお
り、弁は入口５１および出口５２、ならびにその
間の流れ通路５３と共に管状ハウジング５０を含
む。流れ通路５３はボア５４の続きであり、その
中にはコイル圧縮ばね５６により第５図に示され
る閉位置にばね偏倚される往復ピストン５５が置
かれる。 通路５３はピストン室５７に開くが、この室の
壁の凹部分５８は通路５３の周囲で弁座を構成す
る。ピストン５５は環状キヤツプ６０によつて捕
えられるシール・リング５９を有し、ねじナツト
６１および座金６２によつて環状キヤツプに対し
ピストン５５の狭い端に堅く保持される。シー
ル・リング５９は、第５図に示されるとおり、ピ
ストンが閉位置のとき弁座５８を封止する。ピス
トンには周囲の凹部６３があり、その中にＯ―リ
ング・シール６４が保持されて、ボアの壁に対し
て洩れのない封止を作り、ピストンのキヤツプ部
分６６の他の側でピストン室５７とピストン室６
５との間のつながりを防止する。 ハウジング５０は室５７の開放端にねじ込ま
れ、従つて入口マニホルド・ハウジング２９に取
り付けられる。 コイルばね５６は、キヤツプ６６の凹部６７の
中で一端が保持され、室６５の端を閉止するハウ
ジング５０にねじ込まれるカバー６９の凹部６８
によつて他端が保持される。 カバー６９は、ボルト７７によつて、間にある
ガスケツト７０と共にハウジング５０の外面にボ
ルト止めされるクランプ・リング７１によつて、
ハウジング５０に固定される。 ピストン５５は、通路５３と室６５との間にわ
たつて、それらをつながらせる通しボア７２を持
ち、またカバー６９は室６５と通路７３が大気圧
とつながらないようにする。ボア７２は、通路５
３に開く部分７４で毛管状に狭くなつている。 通路７６につながる第３気体口７５は、キヤツ
プ６６の他の側で室６５に開いているので、そこ
に加えられる圧力はピストン５５を右に駆動する
傾向がある。凹部６６′にあるＵカツプ・シール
６５′は、室６５の二つの部分を相互に密閉す
る。 第５図に示されるとおり、これらの弁の正常位
置において、圧縮ばね５６によつて援助される入
口５１の吸着ベツド室の空気圧は、弁座５８の面
積がロツドの面積より大きいので、リング５９が
弁座５８に対して封止され、弁５５を閉状態に保
つ。タイマーが弁５４を開くとき、口７５および
通路７６を介して、室の空気圧と押ばね５６の偏
倚力との両方に打ち勝つだけの気体圧力が室６５
にあるピストン・キヤツプ６６の他の面に加えら
れると、弁５５は右に移動して開くであろう。口
７５と通路７６からの圧力気体が排出されると、
押ばね５６は弁座に対してポペツトを閉じる。 ダンプされる流れによりダンプ弁１９が閉じら
れると、弁１７，１８を越えてこの弁に通じる排
気ラインに背圧が作られる。この背圧は排気弁ポ
ペツト５５を開位置にする傾向があるが、これは
ばね５６の偏倚力に打ち勝つような大きさであり
得るからである。従つてこれを回避するために、
弁ポペツトおよびカバーを通る口７２，７４はこ
の背圧をピストンの他の側に通し、この結果それ
は中立化され、すなわちつり合わされて、弁を開
こうとしなくなる。 排気弁１８が口７５と通路７６を通してキヤツ
プ６６の他の面に圧力を加えることによつて開か
れると、キヤツプ６６の反対側に作用する背圧
は、キヤツプ６６の他の側の表面積より小さい表
面積を与える弁カバーおよび凹部６８の寸法によ
る面積に制限される。このようにして、背圧は口
７５，７６による圧力の効果に打ち勝てず、弁は
この状況で開位置に保たれる。 第６図、第７図および第８図に見られる出口弁
組立体１３，１４（１３のみが図示され、１４は
同一であるがハウジングの反対側にある）は、乾
燥流出気体の出口への単方向の流れを強いる逆止
め弁として働く、第７図に最もよく見られる板ば
ね負荷の円板１３０と、単方向のパージ流を強い
る玉逆止め弁１２７と、パージ流の量を調節する
ステム弁９３とを含んで構成される。 この弁組立体は、これらすべての弁を保護する
とともに第１図に見られるような出口ラインのマ
ニホルドを構成するハウジング８４を含む。板ば
ね弁１３０は流出気体ライン２６への流れを調節
する弁１３，１４の一部であり、玉逆止め弁１２
７は再生を受けている低圧室に通じるライン４，
５のどちらにでも直接つながるパージ流を調節る
弁１５，１６の一部である。ステム弁９３は、パ
ージ流再生のため流出から引き出される流出気体
流を調節する。弁１３，１４は室１または２から
ライン４あるいは５を介する上流圧力が再生され
る低圧室に通じる流出ライン２６の下流圧力また
はライン５および４の他の圧力よりも大きい場合
にのみ開く。その他のときは弁１３，１４は閉じ
たままである。従つてこれらの弁は、ライン４ま
たは５の前に室が吸着のため操業状態にある場合
にのみ開く。 ハウジング１２２は、その中の流れ通路１２５
と通じているライン接続１２４（ライン４と共に
接続される）を受ける入口１２３を持つ。通路１
２５は交差通路１２６に直接通じ、交差通路の各
端に通路１２５から通路１２６に流すが逆方向に
は流さない板ばね円板弁１３０がある。 板ばね円板弁１３０は、リベツト８０によつて
栓受１２０に保持される弁板７９と共に、また第
６図に示されるような弁円板が通路１２６に接続
する通路１２５の円周縁で弁座８５に対して保持
されるとき洩れのない封止を作るように板７９の
外周と栓受１２０の内周との間に捕えられたＯ―
リング８１と共に、凹部７８を定める反転された
栓受１２０を持つ。その弁１３０は第７図に示さ
れるとおりこの位置に板ばね８２により、保持さ
れ、板ばね８２の一端はねじ８３により通路１２
６の壁に保持され、その他端はリベツト８０によ
り栓受１２０の外面に対して保持されて、ばね８
２が弁円板を弁座に偏倚させるようになつてい
る。 通路１２６とライン２６における降下流の気体
流出圧力に比べて、通路４における高圧力によ
り、通路１２５とライン１２６との間の弁円板に
十分な圧力差が加わると、板ばね８２の所定の偏
倚力を越え、弁は弁座から押し出されて、ライン
４または５から流出気体ライン２６に至る気体の
流れに対する通路１２５，１２６を開く。 単方向のパージ流は、第６図に最もよく見られ
る玉逆止め弁１２７によつて保証される。（この
図面は弁１６を示し、弁１５は他端で同じであ
る。）この弁は弁ハウジング１２２のもう一つの
部分８４の中に収納される。部分８４には、ハウ
ジング１２２の気体流通路１２５と共に通路８６
を介して一端で流れが通じている通し通路８５が
ある。通路８５の前の通路８６の流れのラインに
わたつて、室８９の中の弁座８８に遠近移動し得
る玉８７を有する玉逆止め弁１２７がある。 第６図に示される玉逆止め弁１６は開位置にあ
るが、これは弁１３が開いているときのその位置
である。その通路１２５は、口１２３およびライ
ン接続１２４を介し、、ライン５を介して、再生
中の室に通じるので、従つてより低い圧力で玉
逆止め弁はこの位置を取るが、その理由は通路８
５と８６の圧力がその通路１２５の圧力を越える
からであり、従つてこの位置にある弁１６はパー
ジ目的の流れをライン５に与える。しかし、出口
マニホルド１２の他の側にある玉逆止め弁１５は
第６図に破線で示される閉位置にあるが、その理
由はその通路１２５の圧力が通路８５の圧力を越
えるからであり、こうしてパージ流は通路１２５
と８５との間で通路８６から閉塞される。 また通路８５とつながる通路９０を横切るオリ
フイス板９１は、通路９０の最大流れをオリフイ
ス９２によつて適合される流れに制限する通しオ
リフイス通路９２を持つ。この通路は第８図に見
られるように、板ばね弁１３０の他の側で流出気
体出口通路２６に直接つながる。 オリフイス板９１の上流には、一端でハウジン
グ８４の外側に出て、ハウジング８４にステムを
封止する押えナツト９５を備える可変位置の回転
式ステム弁９３（第８図に最もよく見られる）が
ある。キヤツプは相当の距離にわたつてステム弁
を包み、その内方部分９４でハウジング８４のソ
ケツト９６にねじ込まれる。ボア９６と合致する
点における通路９０は９７で先細にされるドツグ
レツグを持ち、かくして先細封止に弁の円錐頂部
が受けられる。通路９０はステム９３が完全にボ
アに回りながら入れられるときに閉止されるが、
弁は完全開と完全閉の中間の任意な点にねじばめ
により保持され、またそのような位置で弁の外周
と通路の壁との間で通路を９７で環状に制限する
が、こうしてさらに通路９０の流れを所望ならば
オリフイス９２によつて与えられる流れより少な
く制限することができる。 気体の流れは第８図に見られるような流出ライ
ン２６から通路９０に進み、ステム弁９３および
オリフイス９２を通つて通路８５に進むが、こう
してそれは玉逆止め弁１２７のどちらでも開いて
いる方を通つてライン４または５の片方に進む。
前に考えた場合では、これはそのような流れがパ
ージ流として室に進むライン５であろう。いま
判明したと思うが、このパージ流の容積および流
量はオリフイス９２およびニードル弁９３によつ
て制御される。 第１２図と第１３図に最も良く見られるダンプ
弁は、第１２図に示されるとおり上端で通じ、他
端で入口マニホルド７から消音器１０２に通じて
いる通し通路１０１を備えた管状ハウジング１０
０を持つ。消音器１０２には、管１００の端とつ
ながりそれと同心になつている中央通し管１０５
からボウル１０３の底にわたる入り組んだ通路１
０４を持つボウル部分１０３があり、従つてそれ
は曲がつて、ボウル１０３の上壁、管１００の外
壁、および一端で管１００に取り付けられて外方
に延びるバツフル１０７の間に定められ、次にシ
ールド１０８としてボウル１０３の上部に途中ま
で達するように曲げられる排気室１０６まで環状
通路１０９として続く。管１０５、ボウル１０
３、およびバツフル１０７の壁は例えば鉱質ウー
ルまたはガラス・フアイバの非織物マツト、ある
いはポリウレタンやポリスチレン・フオームのよ
うなプラスチツク・フオーム材料のような防音材
料１１０で裏打される。 管１０５の上端と管１００の下端との間には、
例えば溶接、ろう付けまたははんだ付けによつて
通路１０１と１０４につながる中央開口１１２と
共にそれに取り付けられる保持板１１１がある。
開口１１２の周囲における板１１１の上面は、円
錐コイル押しばね１１５の一端の支持として働く
棚１１３を構成する。ばねは管１００の長さの半
分を少し越えるように、通路１０１を通つて同心
にわたる。ばねの最終コイルはオルフイス板１１
６を支持し、コイルは板の円周凹部１１７に捕え
られる。オリフイス１１８は板を通つて伸びてい
る。 コイルばねおよびオリフイス板は共に可変遮断
弁を構成するが、これは通路１０１と通路１０４
との間で弁に加わる圧力差によつて完全に伸びた
開位置と完全に圧縮された閉位置との間で無限数
の位置をとる。ばね１１５の上の通路１０１内の
圧力が大気圧より大きいとき、ある最小の圧力差
で、通路１０４はシールド１０８とボウル１０３
との間の出力通路１１１で大気に開くので、コイ
ルばね１１５はそれに加わる圧力差の大きさ次第
で、多かれ少なかれ圧縮され始める。圧力差が所
定の最小値を越えると、ばねは完全に圧縮され、
ばねを通る気体の流れに対する唯一の開口はオリ
フイス１１８である。従つてオリフイス１１８
は、弁が閉位置の場合でも、いつも小さな抽気流
を許す。これは通路１０１内の圧力を感じる。オ
リフイス１１８からの気体の除去により圧力差が
減少するにつれて、押しばね１１５は徐々に上方
に伸び、そうするにつれて、そのコイル間隔が開
き、これも通路１０１と通路１０４との間の気体
の流れを許し、従つて弁の上流側からの流量を増
加するとともに気体のドレンを増加し、また気体
圧力の減少速度を増すとともに弁に加わる圧力差
を減少する。従つて弁は速度を増加しながら開き
続け、結局第１２図に示される完全開位置に達す
る。 左手のタンクが乾燥サイクルにあり、右手の
タンクが再生サイクルにあるならば、弁１０お
よび弁１８は開かれ、弁１１および弁１７は閉じ
られ、乾燥機の作動は次のように進行する：例え
ば100psigでかつ80〓で飽和される305s.c.f.m.の
流量で流出する湿性気体が入口ライン６から入
り、入口マニホルド７に進み、弁１０（弁１１は
閉）を通つて、第１タンクの上部に入り、これ
によつてそこにある例えばシリカゲルまたは活性
アルミナの乾燥剤のベツド１を経てタンクの下部
へ、従つてライン４、弁１３を通つて乾燥気体出
口ライン２６に下方に向つて進む。流出気体は
95psigでかつ露点−40〓で265s.c.．m.でそこ
に送られる。弁１５は通路８５と通路８６との間
で玉８７に加わる圧力差によつて閉じられ、ライ
ン９０、ステム弁９３およびオリフイス９２を経
る場合を除き、ライン５に乾燥気体が入るのを防
止する。40s.c.．m.の乾燥気体流出のこの計測
された部分はその圧力が大気圧まで減少される間
ライン５に抽気され、次にライン５を通つて再生
サイクルにある第２タンクの底に進む。パージ
流は乾燥剤のベツド１を通つて上方に進み、上部
でライン３に現われ、それによつて弁１８を経て
ダンプ弁１９に進み、さらに消音器２０を通り、
ここでそれは大気に放出される。 各ベツドが乾燥サイクルにある時間は、使いき
つたベツドを再生するのに要する時間の長さより
通常大きいので、パージ排気弁１７，１８は乾燥
剤の再生を完成する所要時間の間のみ開かれるよ
うに、弁５２，５４およびライン２３，２４を介
して固定タイマーによつて作動される。この時間
が経過すると、それらは遮断され、再生タンク
はそのときライン９０およびライン５を通る乾燥
流出気体によつて自動的にゆつくりと再与圧され
る。 このサイクルは、固定サイクル時間が経過する
まで続き、それによつて固定タイマーはソレノイ
ド弁５１を作動させ、ソレノイド弁５３の作動を
止め、それによつて弁１０，１１をスイツチし
て、入口６に入る流入湿性気体が弁ライン３を経
てタンクの上部に進むようにする一方、ソレノ
イド弁５４が作動されて排気弁１７は排気流を除
去するためにライン２を開くように移動する（ソ
レノイド弁５２は閉じられたので、弁１８は室
を再与圧するために閉じる）。弁１３はライン４
を閉じるように移動する一方、弁１４は、ライン
４が弁１５を通してライン９０，８５を介し弁１
３をバイパスするパージ気体の流れに対する場合
を除き閉じられる間、乾燥流出気体がタンクの
下部から乾燥気体送りライン２６まで通過し得る
ように開く。パージ流はライン４から再生サイク
ルにあるタンクの下部に進み、それによつてベ
ツドを通つてライン２に上り、それによつて排気
弁１７、ダンプ弁１９、およびそれが大気に通気
される消音器１２に進む。このサイクルは、再生
時間サイクルが終るまで続き、それによつて固定
タイマーはソレノイド弁５４の作動を止め、ライ
ン２３を排気するので、パージ排気弁１７が閉じ
る。従つて、ライン４はタンクをゆつくり再与
圧する。このシステムは固定サイクル時間が経過
するまで乾燥サイクルのタンクと共に続き、そ
れによつて固定タイマーはソレノイド弁５３，５
２を作動させかつ弁１０，１１および１８を逆に
する弁５１の作動を止めて、サイクルは再び開始
される。 通常、乾燥サイクルは15〜350psig程度の超大
気圧の気体によつて行われる。パージ排気弁１
７，１８およびダンプ弁１９に組み合わされるオ
リフイス９２およびライン９０のステム弁９３
は、吸着サイクルが行われる圧力から著しく減少
された圧力で再生サイクルが行われることを保証
する。 第２図のマイクロプロセツサ制御による乾燥機
は一般に多くの点で第１図のそれに似ており、従
つて同様な参照数字が同様な部品に対して使用さ
れる。乾燥機は、シリカゲルまたは活性アルミナ
のような乾燥剤のベツド１を含む１対の乾燥タン
クおよびを備えている。タンクおよびに
は、タンクに乾燥剤を出し入れする乾燥剤充填口
および排出口８，９が備えられる。 各タンクの下部と上部には、タンクおよび
の乾燥剤ベツド１を保持する有孔金属円筒で作ら
れた取外し可能な乾燥剤支持スクリーン２５があ
る。これは、ベツド１から乾燥剤スクリーン支持
２５を通して運び出されるかもしれない一切の乾
燥剤粒子を保持して、出口弁１３′，１４′および
システムの残り部分にかかる粒子がないようにす
る。 入口ライン６は、差圧力および流れ測定のため
にその入口ならびにその中央の最も狭い点でタツ
プを持つベンチユリ６ａを含む。 各タンクに出入する流出気体および流入気体の
流れを切替えるのに必要なマニホルド付の弁によ
つて、乾燥機を通過した後で水分を含有する流入
気体を入れるために、２基のタンク，を上下
部でそれぞれつなぐに要するラインはわずか２本
である。これらのラインは、第３図で示される回
路によつて、マイクロプロセツサに対して情報を
収集しかつ供給するセンサーを備えている。この
装置には、ベンチユリ６ａに入口圧力計P1と△Ｐ
圧力指示計、マニホルド７に対する入口に温度セ
ンサーT1、ならびにマニホルド７からダンプ弁
１９への出口に温度センサーT3がある。入口圧
力差計は入口流れ速度を測る。これはP1および
T1と共に気体の流量Ｑを示す。ベンチユリの
代わりに、他の任意な形式の流れ制限装置、例え
ばオリフイス・ノズル、メーターまたはパドル・
ホイールなどを使用することができる。また流量
は、乾燥剤ベツド１の両端または入口弁１０，１
１の両端における圧力降下の関数としても求めら
れる。 ライン２，３および４，５は、２基のタンクを
上部と下部でそれぞれつなぎ、入口弁１０，１１
を含む分配マニホルド７を介して除去すべき水分
を含有する流入気体を入口ライン６から導き、そ
して乾燥機を通つて水分のない両タンクから乾燥
流出気体を、出力弁１３′，１４′および各タンク
に出入するパージ流と流出流を調節する１対のパ
ージ流オリフイス１５′，１６′を含む出口マニホ
ルド１２に送る。またマニホルド７には排気弁１
７，１８、ダンプ弁１９、およびパージ流が大気
に抽気される消音器２０も含まれる。 ライン６は、ベンチユリ６ａからマニホルド７
および入口弁１０，１１に水分のある流入気体を
導く。弁１０，１１の片方は、流入気体の流れを
二つの入口ライン２および３の片方に向け、ライ
ン２，３の片方は常に流入気体をタンク，の
片方の上部に導き、排気弁１７，１８に従つてラ
イン２，３の他方は再生流出気体のパージ流を排
気弁１９および大気に抽気する消音器２０に導
く。気体は各タンクを通る下降流によつて進む。
タンクおよびの下部からの出口ライン４なら
びに５は、それぞれ出口マニホルド１２に通じ
る。出口マニホルド１２から乾燥気体流出送りラ
イン２６が出て、乾燥した流出気体を供給される
装置に送る。ライン２６には出口圧力計と湿度セ
ンサーが置かれるが、これらは随意であり、省略
することができる。 弁１０，１１の位置により、ライン４，５の片
方は常に各タンク，の下部から出口ライン２
６に乾燥流出気体を導き、またライン４，５の他
方に常に再生のために各タンク，の下部に流
出気体のパージ流を導く。出口弁１３′，１４′
は、ライン４，５と出口ライン２６との間でそれ
に加わる圧力差によつて開く板ばね負荷の逆止め
弁である。弁１０，１１，１７および１８はマイ
クロプロセツサにより制御され、パイロツト気体
で作動されるが、弁１３′，１４′は圧力で作動さ
れ、板ばね負荷の円板はライン４，５にある操業
状態の順方向の流れのスイツチングおよび始動に
より開かれたり移動されるが、このようなスイツ
チング時間で板ばね弁１３′，１４′の他の一つは
弁座に対して移動し、弁１３′または１４′は減圧
で再生を受けている室に至るラインを閉止し、こ
うして乾燥流出気体流を出口ライン２６に向ける
一方、パージ流はオリフイス１５″，１６″または
１６″，１５″を介して室またはに進み、従つ
て逆方向の上昇流になる。 出口弁１３′の上流には、圧力センサP3および
上記の弁１４′、第２圧力センサーP4、ならびに
出力ライン２６でその下流にある温度センサー
T2がある。圧力計P3，P4は出口弁１３′，１４′
で圧力を読み取り、こうしてT2が流出気体温度
を与える間、再生を受けるにつれて各タンクに再
生圧力を与える。 乾燥機にはプロセツサ作動の４個の弁、すなわ
ち入口弁１０，１１と排気弁１７，１８だけがあ
り、すべては入口マニホルド７の中にある。他の
すべての弁はシステム圧力差により作動され、従
つて入口マニホルドから弁１０，１１，１７，１
８を介して供給される気体の流れにより自動的で
ある。 各入口弁１０，１１は、正常な流れ方向におけ
る入口空気の圧力差がマイクロプロセツサにより
作動されるソレノイド弁５１，５３の開閉位置に
よつてそれぞれライン２１，２１から加えられる
マイクロプロセツサ制御の気体圧力がない場合
に、弁を開く点で、半自動ポジテイブ・フロー形
である。各排気弁１７，１８は、正常な流れ方向
の入口空気圧力差がマイクロプロセツサにより作
動されるソレノイド弁５２，５４の開閉位置によ
つてそれぞれライン２３，２４から加えられるマ
イクロプロセツサ制御の気体圧力がない場合に弁
を閉位置に保つ点で、反対の半自動形である。こ
うして、ライン２１，２２，２３，２４にある気
体圧力の排気は弁１０，１１を開かせかつ弁１
７，１８を閉じさせる。従つて弁１０，１１の閉
およびパージ流用の弁１７，１８の開を作動させ
るのはマイクロプロセツサまでである。しかし、
弁１０，１１および１７，１８の一つだけが任意
の与えられた時間に開かれる。 入口弁１１は第４図に最もよく見られ（弁１０
は同じであるが、反対方向を向いている）、上記
の説明に参照がなされる。 弁１０，１１の片方は常に開位置にあるが、他
方はマイクロプロセツサにより加えられる空気圧
力によつて閉位置に保たれ、流入ライン２，３を
介して２基のタンク，の片方に流入気体を向
けさせるようになつている。従つて、気体圧力は
他のラインが大気に対して開かれている間、ライ
ン２１，２２の片方を介して弁１０，１１の片方
に常に加えられ、従つて弁は通路３６内の気体圧
力が大気圧より高い間開位置に保たれ、室４１の
キヤツプ４２に加えられる力が室３６のピストン
３２に加えられる力より大きいときに閉じる。 排気弁１８は第５図に最もよく見られ（排気弁
１７は同じであるが反対方向を向いている）、上
記の説明に参照がなされる。排気弁は同様な構造
であるが、圧力気体口がピストンの他の面上に開
く点が相違しており、従つてピストンがばね偏倚
で閉じられる間、弁を閉じるのではなく開く働き
をする。 出口弁組立体１３′，１４′は第９図、第１０図
および第１１図に最もよく見られる（１４′のみ
が図示され、１３′は同じだがハウジングの反対
側にある）。これらは第６図、第７図、および第
８図に示されるものと同様であり、従つて同様な
参照数字が同様な部品に対して使用される。これ
らの弁は第７図に最もよく見られる板ばね仕掛の
円板１３０を有し、逆止め弁として働き、単方向
の乾燥流出気体の流れを出口に押しやる。オリフ
イス１５″および１６″はパージ流の量を制御す
る。 弁組立体はこれらの弁を共に保護するハウジン
グ１３２を備え、また第２図に見られるとおり出
口ライン・マニホルド１２を構成する。板ばね弁
１３０は流出気体ライン２６に対する流れを制御
し、オリフイス１５″，１６″は再生を受けている
低圧室に通じるライン４，５のどちらにも直接つ
ながるパージ流を制御する。弁１３′，１４′が開
くのは、室またはからライン４あるいは５を
介する上流圧力が流出ライン２６または再生中の
低圧室に通じるライン５および４の他方における
下流圧力よりも大きい場合に限る。他のときは、
それらは閉じたままである。従つてそれらが開く
のは、ライン４または５の前の室が吸着のための
操業状態にあるときに限る。 ハウジング１３２には、その流れ通路１３５に
通じるライン接続（ライン４と接続）を受ける入
口１２３がある。通路１２５は交差通路１２６に
直接通じるが、交差通路の各端にある板ばね円板
弁１３０は通路１２５から通路１２６への流れを
許すが逆方向の流れを許さない。 板ばね弁１３０は、リベツト８０によつて栓受
１２０に保持される弁板７９および板７９の外周
と栓受１２０の内周との間に捕えられたＯリング
によつて凹部７８を定める逆栓受１２０を有し、
第１０図に示されるような弁円板が通路１２６と
接続する通路１２５の周縁で弁座１３５に対して
保持されるときに洩れのない封止を作るようにな
つている。弁は第１０図に示されるとおり、板ば
ね８２によつてこの位置に保持され、板ばね８２
の一端はねじ８３によつて通路１２６の壁に保持
され、その他端はばね８２が封止に対して弁円板
を偏倚するように、栓受１２０の外面に対しリベ
ツト８０によつて保持される。 通路１２６とライン２６の下流気体流出圧力に
比べて、板ばね８２の所定の偏倚力を越える、通
路４内の高い圧力による、通路１２５と１２６の
間の弁円板に加わる十分な圧力差により、弁は弁
座が押し離されて、ライン４から５さらに流出気
体ライン２６に至る気体の流れに対して通路１２
５，１２６を開く。 単方向パージ流は、ライン５および室にある
圧力よりも高い通路１２６内の圧力により閉じら
れる通路１２６の反対端で、他の板ばね弁１３０
（出口弁１３′の一部）によつて保証される。 ハウジング１３６にある通路１２５に通じてい
る通路１３７は通しオリフイス通路１３９を持つ
オリフイス板１３８を備え、通路１３７の最大の
流れをオリフイス１３９により適合される流れに
制限し、それによつてオリフイスを越える圧力を
減少させる。通路１３７は第９図に見られるとお
り、オリフイス１３９の他の側でパージ流通路１
４０に直接通じる。同様なオリフイス板１３
８′、オリフイス１３９′があり、またハウジング
１３６の他側で出口弁組立体１３′の流れ通路１
２５につながる通路１３７′がある。 通路１４０の各端にある栓１４１はそれを閉止
するので、オリフイス通路１３９を通る流れは通
路１４０に沿つて進み、次にオリフイス１３９′
通路１３７′および通路１２５を通つて口１２３
を介してライン５に進むが、これはそうするにつ
れてさらに圧力減少を受け、室は排気弁１８と
ダンプ弁１９が開かれるとき大気圧となる。ライ
ン５および室の圧力がライン４ならびに通路１
２５にあるライン圧力より低い限り、流れはこの
ように進む。 従つて、この圧力差が存在し得る間、パージ気
体流は第９図に見られるようなライン４から通路
１２５，１３７に、オリフイス１３９を通つて通
路１４０に進み、かくてそれはオリフイス１３
９′および通路１３７′を通つてライン５に進む。
圧力差が逆方向にあると、室がスイツチされると
きにこのような流れは室に対するパージ流とし
て、通路１２５，１３７′、オリフイス１３９′、
通路１４０、オリフイス１３９および通路１３
７，１２５を介してライン４に進む。このパージ
流の総量および流量がオリフイス１３９，１３
９′によつて調節されることがいま分かつたと思
う。 ダンプ弁は第１２図と第１３図に最もよく見ら
れ、上記で説明された。 左手のタンクが乾燥サイクルにあり、右手の
タンクが再生サイクルにあるならば、弁１０お
よび１８は開かれ、１１と１７は閉じられ、そし
て乾燥機の作動は次のようになる： 例えば圧力100psig、流量305s.c.．m.80〓で
飽和される流入湿性気体は、入口ライン６から入
り、ベンチユリ６ａおよび弁１０（弁１１は閉）
を通り、そして第１タンクの上部に入り、それ
によつてそこにある例えばシリカゲルや活性アル
ミナのような乾燥剤のベツド１を通つてタンクの
下部へ下り、それによつて過器２５と開放ライ
ン４、弁１３０，１３′を通つてライン１６を経
て乾燥気体口ライン２６に進む。流出気体は圧力
95psigおよび265s.c.．m.露点−40〓でそこに
送られる。弁１４′（第２の弁１３０）は、通路
１３７，１３７′、オリフイス１３９，１３９′、
および通路１４０を通る場合のほか、ライン５に
乾燥気体が入るのを防止する。乾燥気体流出の
40s.c.．m.のこの計測された部分はライン５を
通してブリード・オフされ、その圧力はオリフイ
ス１３９′の他の側で大気圧まで減少され、次に
その部分は再生サイクルにある第２タンクの下
部に進む。パージ流は乾燥剤ベツド１を通つて上
方に進み、上部でライン３に現われ、従つて弁１
８を通つてダンプ弁１９および消音器２０に進
み、ここでそれは大気に排出される。 各ベツドが乾燥サイクルにある時間は使われた
ベツドを再生するのに要する時間より通常長いの
で、パージ排気弁１７，１８は乾燥剤の完全再生
に必要な時間のみ開かれるように、マイクロプロ
セツサによつて作動される。この時間が経過する
と、それらは遮断され、再生タンクはそのとき
ライン５を介して自動的にゆつくり再与圧され
る。 このサイクルはマイクロプロセツサまたは固定
タイマーにより定められたサイクル時間が経過す
るまで続き、それによつてマイクロプロセツサは
そのとき弁１０，１１をスイツチして、逆止め弁
１４′がライン５を開くように移動する間、入口
６から入る流入湿性気体がライン３からタンク
の上部に進みそれによつて逆止め弁１３′がライ
ン４を閉じるように移動し、その結果乾燥気体流
出はライン４が閉じられる間にタンクの下部か
ら乾燥気体送りライン２６に進むことができる
が、ただしいま通路１３７′，１３７，１４０お
よびオリフイス１３９′，１３９を介して弁１
３′を逆方向にバイパスするパージ気体の流れを
除く。パージ流はライン４を介して再生サイクル
にあるタンクの下部に進み、従つてベツドから
ライン２に上昇し、それよつて弁１７、弁１９、
および消音器２０に進み、ここでそれは大気に排
出される。このサイクルは再生時間サイクルが終
るまで続き、それによつてマイクロプロセツサは
パージ排気弁１７を閉じる。従つて、ライン４は
タンクをゆつくり再与圧する。このシステムは
マイクロプロセツサの定めたすなわち固定サイク
ル時間が経過するまでタンクの乾燥サイクルと
共に続き、それが終ると同時にマイクロプロセツ
サは弁１０，１１を逆にし、サイクルが再び開始
される。 通常、乾燥サイクルは、15〜350psigの程度の
超大気圧の気体で行われる。オリフイスは再生サ
イクルが吸着サイクルの行われる圧力から著しく
減少された圧力で行われることを保証する。 マイクロプロセツサ用の電気回路の接続は第３
図に示されている。マイクロプロセツサには、温
度および圧力変換器からのデータを集めるデータ
収集モジユールと、入出力データを受けて調節す
る入出力モジユールと、マイクロプロセツサと、
制御機能に用いられる情報を記憶するRAMおよ
びROM記憶装置とが含まれる。入口圧力センサ
ーP1も流量を確認するのに用いられ、パージおよ
び再生圧力センサーP3，P4は、入出力モジユール
と直結されるデータ収集モジユールに接続される
圧力変換器に接続される。入出力モジユールはマ
イクロプロセツサとも接続され、これは記憶装置
に接続される。 入口温度センサーT1、出口温度センサーT2、
およびパージ温度センサーT3は温度変換器に接
続され、これはさらにデータ収集モジユールに接
続される。 基本的なこれらのセンサーに加えて、変換器お
よびデータ収集モジユールにすべて接続される大
気圧センサー、ならびに出口圧力センサーP5も含
まれることがある。 随意である警報装置は、湿度センサーＨにより
湿度を検出し得るとともに、入口マニホルド弁１
０，１１，１７，１８のどれにでもある故障、お
よびセンサーのどれにでもある故障を検出し、そ
れによりマイクロプロセツサは警報信号を出すこ
とができる。警報装置は入出力モジユールに接続
される。 センサーによつて検出された読み、およびマイ
クロプロセツサによつて算出された値の視覚表示
装置も備えられるが、こうして例えば入口流量、
入口圧力、入口温度、および節約エネルギなどが
表示される。これらは入出力モジユールに接続さ
れる。 最後に、ソレノイド弁および継電器の形の入口
マニホルド７にある４個の弁を制御するシステム
制御装置は、入出力モジユールに接続される。 第３図に示されるマイクロプロセツサ制御装置
は次のように作動する： Ａ 操作データは、遠隔の圧力および温度変換器
からデータ収集モジユールに転送される。信号
はデイジタル量に変換され、入出力モジユール
に送られる。 Ｂ マイクロプロセツサは入出力モジユールから
のデータに命令して、ROM記憶装置に含まれ
るプログラムに基づきデータの計算を行う。計
算に用いられる暫定数字はRAM記憶装置、す
なわち「作業記憶装置」に記憶される。 Ｃ 適当な時間に、マイクロプロセツサはシステ
ム・ソレノイド弁継電器を制御する信号を入出
力モジユール介して送る。 Ｄ 操作データおよび「故障」信号は、視覚表示
装置に送られる。 第３図において、入口圧力差△Ｐは入口速度を
表わす。これにP1およびT1を加えたものが
SCFMで表わした入口流量である。 P3またはP4およびT3は、パージ・オリフイス
の大きさと気体を知ると、SCFMで表わした実際
のパージ流量の計算に用いられる。 再生圧力および温度P3またはP4およびT2は、
パージによつて除去される水の量を求めるのに用
いられる。 T2からT1を引いたものは、入口空気の湿度の
量を示す。代替として、T2はタンクおよび
におけるT2′ならびにT2″を用いる乾燥剤ベツド
で検出することができる。 入口圧力P1を知つてパージ・オリフイスの上流
圧力を計算し、またシステムの流量ならびに圧力
損失を計算することも第３図の変形で可能であ
る。この方式で要求される圧力変換器の数は１つ
少ない。 この場合、圧力変換器P3，P4が省略され、ダン
プ弁１９の前にあつて弁１７，１８に続く排気ラ
インに１つの圧力変換器P6を置いて代用される。
温度変換器は、圧力変換器P1，P2と共に同じまま
である。圧力変換器P6は、第１図のシステムのよ
うな入口の代わりに出口における再生タンクから
の再生圧力を測定する。 マイクロプロセツサは乾燥機の作動条件を正確
に検出し、検出された作動条件に基づき乾燥剤ベ
ツドを完全に再生するのに要するパージ流を精密
に計算し、そして固定時間に基づき乾燥機のサイ
クル時間を制御するとともに計算された所要のパ
ージ流に基づき再生時間を制御する。その結果、
最小のパージ気体が消費され、本乾燥機はほとん
どすべての応用について他の任意な形の乾燥装置
よりも一段と経済的に作動される。 マイクロプロセツサはその制御機能に加えて、
視覚表示装置に主要な操作データを表示すること
もできる。正確な作動のため乾燥機を監視するこ
ともできる。故障条件の場合に、マイクロプロセ
ツサは故障を診断して、警報表示器に輝く符号メ
ツセージを表示する。かくて、マイクロプロセツ
サは乾燥装置の維持を助けるとともに故障探究を
容易にする。 下記の機能が計算機制御装置によつて果たされ
る： Ａ 乾燥機作動条件の検出 ―入口圧力 ―入口流量 ―入口温度 ―吸着される水分 ―再生圧力 Ｂ パージの計算 ―完全再生に必要なパージ ―パージ流量 Ｃ 乾燥機作動の制御 ―固定時間に基づく室の切替 ―所要流の通過後のパージ中断 ―手動開始計画による乾燥剤ベツドの再調整 ―高い出口湿度による最大パージの供給（Ｈオ
プシヨンのみ） ―プラント空気システムの安全を助けるための
圧縮機停止連動装置の装備 Ｄ 瞬間操作データの表示 ―入口流量（SCFM） ―入口圧力（PSIG） ―入口温度（〓） ―蓄積エネルギの節約（KW―HR） Ｅ 故障条件の表示 ―高い出口湿度（Ｈオプシヨンのみ） ―切替の故障 ―センサーの故障 ―切替または逆止め弁の故障 ―電子回路の故障 ―低い入口圧力 ―過度の流量 ―過度の入口温度 ―消音器の汚れ 前に示されたとおり、各種の入口出口パージ・
センサーおよび再生センサーは、どのベツドが吸
着サイクルで、どのベツドが再生サイクルである
かにより、多機能を備えるが、その理由は例えば
与えられたセンサーが１つのサイクルで入口温度
を検出する一方、他のサイクルで出口温度を検出
するからである。どのセンサーがどのサイクルで
どの機能を検出するかは、本説明のこの部分から
明白である。 本発明の乾燥装置は、気体から水分を吸着する
ようにされた任意な形の吸着剤と共に使用するこ
とができる。活性炭素、アルミナ、シリカゲル、
マグネシア、各種金属酸化物、粘土、フラー土、
骨炭、およびモビルビーズ、その他同様な水分吸
着コンパウンドは乾燥剤として用いられる。 分子ふるいも使用できるが、その理由は多くの
場合にこれらが水分除去特性を持つからである。
この種の物質には、天然発生および合成の両ゼオ
ライト、数オングストローム（Å）単位の大きさ
から12〜15Åまたはそれ以上にわたり直径が変わ
る細孔を有するものが含まれる。斜沸石および方
沸石は、使用し得る代表的な天然ゼオライトであ
る。使用し得る合成ゼオライトには、米国特許第
2442191号および第2306610号に記載されたものが
含まれる。これらの物質はすべて乾燥剤として周
知であり、その詳細な説明は文献に見出される。 説明されかつ図示された乾燥機はすべて、パー
ジ流再生用であり、パージは湿性気体流入に逆ら
つて通る。これは周知のとおり、乾燥剤ベツドを
利用する最も有効な方法である。湿性気体が乾燥
剤ベツドを一方向に通過するにつれて、乾燥剤の
水分含有量は次第に減少し、水分の最小量はベツ
ドの出口端で通常吸着される。従つて、ベツドの
湿性部分からベツドの乾燥部分に水分が入り、そ
れにより再生サイクル時間が長くされるのをさけ
るために出口端から再生パージ気体を入れるのが
唯一の重要な工学的手法である。パージ流が出口
端に入れられると、そこに水分が存在するが、そ
れは少量であり、パージ流によつて除かれ、ベツ
ドの湿性端に下げられるであろう。かくて、ベツ
ドは次第に出口端から再生され、水分はすべて入
口端に現われるまでベツドに最小可能距離だけ運
ばれる。 それにもかかわらず、ある目的で、パージ流を
流入気体の流れと同一方向に通すのが望ましいこ
とである。本発明により、乾燥剤の水分含有量を
通常可能な以上に多くすることができるが、それ
はマイクロプロセツサの保護作用によるものであ
り、それによつてこれまで可能であつた以上に多
量の精密に測られた水分を一度に再生することが
できる。従つて多くの場合に、もしベツドがほと
んど飽和点に達したならば、それはパージ流が流
入端または出口端に入るとわずかな差を作るであ
ろうし、本発明は両作動形式を期待するが、もち
ろん大部分の場合は逆流再生が望ましい。 本発明者の意見で、下記の例は本発明による乾
燥機およびその作動方法の好適実施例を表わす
る： 例 各ベツドに75lbsの活性アルミナが含まれる、
長さ50in.直径8.25in.の２個の乾燥剤ベツドを持
つ、第２図に示される形式の２ベツド非加熱乾燥
機が、相対湿度70％、温度67〓〜70〓、および入
口圧力80psigで空気を乾燥させるのに用いられ
た。空気の皮相流れ速度は55ｔ／分であつた。 この装置を用いて行われた多数の乾燥サイクル
についてデータが収集された。そのデータから明
らかになつたのは、マイクロプロセツサが吸着剤
ベツドを完全に再生させるために再生サイクル時
間を適当に制御した点、およびこの制御が各ベツ
ドで５分、合計10分の固定サイクル時間によつ
て、流出気体内の安全水分量で乾燥サイクル時間
を終わらせることができた点である。またサイク
ルの異なる時間から明らかになつたのは、マイク
ロプロセツサがサイクル再生の長さを流入空気の
水分の量の変化に合うように、かつ各再生で必要
なパージを用いるだけでパージ流の量を切り下げ
ることによつて無駄なパージを減らすように調節
した点である。 本発明は乾燥剤乾燥機および気体を乾燥する方
法に重点を置いて説明されたが、この装置は適当
な吸着剤の選択によつて、気体混合物から１つ以
上の気体成分を分離するのに用いられることは当
業者にとつて明らかであると思う。このような場
合、吸着された成分は再生の間、熱を加えずに圧
力を減少して吸着剤から取り除かれる。かくて、
この方法は石油炭化水素の流れおよび同じものを
含む他の気体混合物から水素を分離し、窒素から
酸素を分離し、飽和炭化水素からオレフインを分
離するなどに用いられる。当業者はこの目的で使
用される吸着剤を知つている。 多くの場合、空気から水分を除くのに役立つ吸
着剤は、１つ以上の気体成分をその混合物から吸
着するのにも優先的に使用される。例えば活性炭
素、ガラスウール、吸着剤木綿、金属酸化物、お
よびアタパルジヤイトならびにベントナイトのよ
うな粘土、フラー土、骨炭、および天然ならびに
合成ゼオライトなどがある。ゼオライトは特に、
プロパンおよびさらに高いパラフイン炭化水素、
またはブテンあるいはさらに高いオレフインとの
混合物から、窒素、水素、およびエチレンやプロ
ピレンのようなオレフインを取り除くのに有効で
ある。ゼオライトの選択性は細孔の大きさまたは
材料に左右される。入手できる図書には利用でき
るゼオライトの選択的吸着度が示されているの
で、特定の目的での材料選択はむしろ簡単であ
り、本発明の部分を構成しない。
第１図は固定サイクル・タイマーによつてサイ
クルが制御される本発明による２ベツド下降流非
加熱式乾燥剤乾燥機の一つの実施例の概略図であ
り、第２図はコンピユータによつてサイクルが制
御される本発明による２ベツド下降流非加熱式乾
燥機のもう一つの実施例の概略図であり、第３図
は第２図の非加熱式乾燥剤乾燥機のマイクロプロ
セツサ・センサー／制御回路の詳細図であり、第
４図は第１図および第２図の乾燥機の入口マニホ
ルドにある入口空気圧力差弁組立体の縦断面詳細
図であり、第５図は第１図および第２図の入口マ
ニホルドにある排気圧力差弁組立体の縦断面詳細
図であり、第６図は乾燥機の後ろから見た第１図
の固定タイマー乾燥機の出口弁組立体の縦方向断
面の詳細図であり、第７図は第６図の出口弁組立
体の一部断面を表わす平面図であり、第８図は第
６図および第７図の出口弁組立体の一部断面を表
わす側面図であり、第９図は第２図のコンピユー
タ制御式乾燥機の出口弁組立体の一部断面を表わ
す詳細な背面図であり、第１０図は第２図のコン
ピユータ制御式乾燥機の出口弁組立体の一部断面
を表わす詳細な平面図であり、第１１図は第９図
および第１０図の出口弁組立体の縦断面で表わし
た詳細な端面図であり、第１２図は第１図および
第２図の乾燥機のダンプ弁組立体の縦断面の詳細
図であり、第１３図は第１２図の線１３―１３に
沿つて取られた第１２図のダンプ弁組立体の詳細
な横断面図である。 １……ベツド；，……容器（タンク）；１
０，１１，１３，１４，１５，１７，１８，１９
……流れ制御弁、５１，５３……サイクル互換制
御装置。
クルが制御される本発明による２ベツド下降流非
加熱式乾燥剤乾燥機の一つの実施例の概略図であ
り、第２図はコンピユータによつてサイクルが制
御される本発明による２ベツド下降流非加熱式乾
燥機のもう一つの実施例の概略図であり、第３図
は第２図の非加熱式乾燥剤乾燥機のマイクロプロ
セツサ・センサー／制御回路の詳細図であり、第
４図は第１図および第２図の乾燥機の入口マニホ
ルドにある入口空気圧力差弁組立体の縦断面詳細
図であり、第５図は第１図および第２図の入口マ
ニホルドにある排気圧力差弁組立体の縦断面詳細
図であり、第６図は乾燥機の後ろから見た第１図
の固定タイマー乾燥機の出口弁組立体の縦方向断
面の詳細図であり、第７図は第６図の出口弁組立
体の一部断面を表わす平面図であり、第８図は第
６図および第７図の出口弁組立体の一部断面を表
わす側面図であり、第９図は第２図のコンピユー
タ制御式乾燥機の出口弁組立体の一部断面を表わ
す詳細な背面図であり、第１０図は第２図のコン
ピユータ制御式乾燥機の出口弁組立体の一部断面
を表わす詳細な平面図であり、第１１図は第９図
および第１０図の出口弁組立体の縦断面で表わし
た詳細な端面図であり、第１２図は第１図および
第２図の乾燥機のダンプ弁組立体の縦断面の詳細
図であり、第１３図は第１２図の線１３―１３に
沿つて取られた第１２図のダンプ弁組立体の詳細
な横断面図である。 １……ベツド；，……容器（タンク）；１
０，１１，１３，１４，１５，１７，１８，１９
……流れ制御弁、５１，５３……サイクル互換制
御装置。
Claims (1)
- １ 第２気体と一以上の第１気体との混合気体中
から、第１気体の濃度を第２気体中の第１気体の
最大限定濃度以下に減少するに際し、第１気体に
優先的な親和力のある吸着剤の二つのベツドの中
の一つにその一端から他端にベツドに接触して混
合気体を通過し、第１気体をベツドに吸着し、前
記最大濃度以下の第１気体を有する気体流出物を
作り、かつ吸着が続くにつれて一端から他端まで
次第に減少するベツドの第１気体の濃度こう配と
吸着能力が減少するにつれて一端から他端までベ
ツド内を次第に進む濃度前線を定めるベツド内の
第１気体の増加する濃度とを作る一方、ベツド上
に吸着された第１気体を脱着するとともにベツド
内の第１気体の濃度前線の進行を逆にするために
吸着剤の二つのベツドの他方に流出する気体のパ
ージ流を通し、吸着のもう一つのサイクル用に他
のベツドを再生し、そしてさらに交互に一つのベ
ツドがサイクルの再生部分にあり他のベツドが吸
着部分にあるようにベツドを周期的に互換する気
体分留装置であつて、主構成部品として、吸着剤
ベツドを受け入れるとともに一つの容器がサイク
ルの吸着部分にある一方、他の容器がサイクルの
再生部分にあるように、そこに含まれる吸着剤ベ
ツドの交互な周期的吸着再生に適した最低２個の
容器と、吸着および再生の間のベツドのサイクル
互換を決定し信号するために選択された時間間隔
の経過を調時する装置；パイロツト気体口に於け
る気体圧力により作動され、各吸着剤ベツドに流
入する混合気体を閉じる常時開の空気作動式流量
制御弁と、パイロツト気体口に於ける気体圧力に
より作動され、再生される各吸着剤床のパージ流
を大気に導びくために開かれる常時閉の空気作動
式流量制御弁と；前記調時装置よりの信号に応答
して、パイロツト気体ラインを介して気体圧力を
供給して、前記常時開の空気作動式流量制御弁を
閉じると共に常時閉の空気作動式流量制御弁を開
き、さらに再生時間を制御し再生後気体圧力を中
断して前記常時閉の空気作動式流量制御弁を閉じ
て、パージ流の流出を止め、その後気体圧力を中
断して常時開の空気作動式流量制御弁を開くと共
に前記作動を繰返して、ベツドを交換するサイク
ル制御装置とからなることを特徴とする前記気体
分留装置。
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US05/954,812 US4247311A (en) | 1978-10-26 | 1978-10-26 | Downflow or upflow adsorbent fractionator flow control system |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5559824A JPS5559824A (en) | 1980-05-06 |
| JPS6259616B2 true JPS6259616B2 (ja) | 1987-12-11 |
Family
ID=25495960
Family Applications (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13862079A Granted JPS5559824A (en) | 1978-10-26 | 1979-10-26 | Flow controller of falling flow or rising flow adsorptive fraction instrument |
| JP57234895A Expired JPS6012084B2 (ja) | 1978-10-26 | 1982-12-28 | 気体分留装置 |
Family Applications After (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57234895A Expired JPS6012084B2 (ja) | 1978-10-26 | 1982-12-28 | 気体分留装置 |
Country Status (14)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4247311A (ja) |
| EP (2) | EP0072463B1 (ja) |
| JP (2) | JPS5559824A (ja) |
| AT (2) | ATE24417T1 (ja) |
| AU (1) | AU523648B2 (ja) |
| BR (1) | BR7906952A (ja) |
| CA (3) | CA1130219A (ja) |
| DE (2) | DE2967645D1 (ja) |
| DK (1) | DK150635C (ja) |
| ES (2) | ES485365A1 (ja) |
| FI (1) | FI793332A7 (ja) |
| NO (2) | NO157487C (ja) |
| PT (1) | PT70378A (ja) |
| ZA (1) | ZA795701B (ja) |
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- 1979-10-19 DE DE8282106809T patent/DE2967645D1/de not_active Expired
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- 1979-10-25 ZA ZA00795701A patent/ZA795701B/xx unknown
- 1979-10-25 NO NO793427A patent/NO157487C/no unknown
- 1979-10-25 FI FI793332A patent/FI793332A7/fi not_active Application Discontinuation
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- 1979-10-26 BR BR7906952A patent/BR7906952A/pt unknown
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| EP0072463B1 (en) | 1986-12-30 |
| ZA795701B (en) | 1980-11-26 |
| EP0072463A3 (en) | 1983-11-09 |
| DK150635C (da) | 1987-11-16 |
| EP0010704B1 (en) | 1985-02-13 |
| NO161540C (no) | 1989-08-30 |
| EP0072463A2 (en) | 1983-02-23 |
| NO793427L (no) | 1980-04-29 |
| PT70378A (en) | 1979-11-01 |
| AU523648B2 (en) | 1982-08-05 |
| EP0010704A1 (en) | 1980-05-14 |
| DK450679A (da) | 1980-04-27 |
| US4247311A (en) | 1981-01-27 |
| JPS6012084B2 (ja) | 1985-03-29 |
| CA1127559A (en) | 1982-07-13 |
| ATE11740T1 (de) | 1985-02-15 |
| NO161540B (no) | 1989-05-22 |
| BR7906952A (pt) | 1980-06-24 |
| ATE24417T1 (de) | 1987-01-15 |
| JPS58196824A (ja) | 1983-11-16 |
| CA1127558A (en) | 1982-07-13 |
| ES489665A0 (es) | 1980-11-01 |
| ES8100097A1 (es) | 1980-11-01 |
| AU5212079A (en) | 1980-05-01 |
| DE2967645D1 (en) | 1987-02-05 |
| NO842487L (no) | 1980-04-29 |
| DE2967389D1 (en) | 1985-03-28 |
| ES485365A1 (es) | 1980-09-01 |
| FI793332A7 (fi) | 1981-01-01 |
| JPS5559824A (en) | 1980-05-06 |
| NO157487B (no) | 1987-12-21 |
| CA1130219A (en) | 1982-08-24 |
| NO157487C (no) | 1988-03-30 |
| DK150635B (da) | 1987-05-04 |
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