JPS6263576A - ベンゾトリアゾール化合物及び該化合物からなる有機高分子のための光安定剤 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は感光性有機物質の劣化を防ぐために有用な選ば
れた液体２−アリール−２Ｈ−ベンゾトリアゾールおよ
びこのベンゾトリアゾールを含む安定化された組成物に
関する。

（従来の技術） ０−ヒドロキシフェニル−２Ｈ−ベンゾトリアゾール群
の紫外線吸収剤は有機物質の有効な光安定剤として以前
から知られており、相当の商業的成功をおさめてきな。

しかしながら、これまでに公知のこの群の２＝アリール
−２Ｈ−ベンゾトリアゾールは、ある環境下で、ある種
の基質との適合性が限定されており、安定化した組成物
音、温度を高めてシート、フィルム、ファイバーまたは
他の薄膜に加工する際に、しみ出し、昇華し、および／
または蒸発する傾向が非常に大きかった。同様に、この
ようなベンゾトリアゾールは、特に薄いフィルムまたは
コーティングのような製造した構造物から、特に使用中
に温度を高めた状態におかれた時に、蒸発または昇華に
よって過度に失われることもある。

ベンゾトリアゾールの構造を変更することにより適合性
を高め、蒸発による損失を少くする試みがなされてきた
。

米国特許第＆２３ｃＬ１９ａ号においては、ヒドロキシ
フェニル部位中でメチル基を高級アル基に置換して−る
。

米国特許第４．１２７，５８６号においては、２−アリ
ール−２Ｈ−ベンゾトリアゾール部位に更に変更を行な
っている。日本の特開昭５０−１５８５８８号では、２
−（２−ヒドロキシ−５−ａ、　　α−ジメチルベンジ
ル−５−メチル゛フェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾー
ルのような他のベンゾトリアゾール光安定化剤が開示さ
れている。

（発明が解決しようとする問題点） しかしながら、ベンゾトリアゾール紫外線吸収剤の技術
分野においては、高温での加工にさらされている間の安
定化組成物からの耐消失性を更に改良させるという、実
用上の目的及び要求が残されていた。

米国特許第４，２２６．７６３号には、揮発による消失
に対するベンゾトリアゾール光吸収剤の抵抗を増加させ
る試みが記載されている。該特許には、安定化組成物の
高温度加工中においても、また安定化組成物のコーティ
ングあるいはフィルム全外部の気候や光にさらすような
最終使用時においても、従来の２−アリール−２Ｈ−ベ
ンゾトリアゾールを含む安定化組成物と比較して、非常
に失われ難い２−（２−ヒドロキシ−５，５−ジ−α−
クミルフェニル）−２Ｈ（−ベンゾトリアゾールが記載
されている。この優れた性能は、成る基質及び加工溶媒
への相対的に低い溶解性を犠牲にして達成されている。

米国特許第４，２８４３２７号には、加工溶媒や基材に
対し、高い溶解性を示す２−（２−ヒドロキシ−３，５
−ジ−第三オクチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾ
ールが開示されているが、しかしそれは揮発による消失
に対し顕著な抵抗を示さない。

米国特許第４，２７８，５８９号には、置換基として２
個のα−クミル基又は２個の第三オクチル基をもつ化合
物ではできない、両性質のバランスをとることを試みて
、２−フェニル頂上に１個のａ−クミル基及び１個の第
三オクチル基を有するベンゾトリアゾールが開示されて
いる。溶解性及び蒸発による損失に対する抵抗性の良い
バランスを有するベンゾトリアゾールが得られているが
、本当に優れた性質を伴う光安定化剤として、ますます
多くを要求される市場で求められている各レベル程に顕
著ではない。

２Ｈ−ベンゾトリアゾールのベンゾ′ＩｊＩ±を、低級
アルキル基、低級アルコキシ基及ヒハロゲン原子で置換
することは、例えば米国特許第４．１２７，５８６号及
び特公昭５９−１７２．６５５号で知られているがベン
ゾ環上を高級アルキル基で置換することは知られていな
い。

伝統的に、高い光沢のコーティングを得るために、自動
車産業及び他の産業にお込てラッカー類が用いられてい
る。そのようなラッカー類は典型的に、適当な溶媒中に
溶解させた高分子量ポリマーからなっている。通常、塗
料の７０優を超える溶媒は焼付けによって蒸発し、ボＩ
Ｊマーフィルムを残す。

エネルギー及び環境の問題から、改良された塗装システ
ムとして、いわゆるハイソリッドエナメル（ｈｉｇｈ　
５ｏｌｉｄｓ　ｅｎａｍｅｌｓ　）が最近開発され、そ
れは、揮発性有機化合物（ＶＯＣ）を減少させようとい
う政策にかなうものである。ハイソリッドエナメルは典
型的に、メチルメタクリレート、ヒドロキシエチルメタ
クリレート、ブチルアクリレート及びスチレンの低分子
量コポリマーからなっている。側基のヒドロキシル基を
含むそのようなコポリマーは、その後、メラミン架橋樹
脂（比率約７：３）と混合される。

最終の架橋反応は、塗布された物品が焼付けされたとき
に起こる。ハイソリッドエナメルは、ラッカーと対比し
て、５０％より少ない溶媒を通常含んでいる。

これら溶媒の大部分はモノマーのポリマー化工程におい
て採用されている。一般的に総溶媒量の１０％以下の少
量の溶媒のみが、最終塗料へ後で加えられるホールドア
ウト（ｈｏｌｄ　ｏｕｔ　）溶媒として保留する。光安
定化添加物はこの状態で混合できるよう、このホールド
アウト溶媒に対し充分に溶解性でなければならな込。塗
料の粘性は、流布や垂下のような不都合を避けるための
臨界的要因であるため、溶媒の量を意図的に変えること
はできない。

（問題点を解決するための手段） 高溶解性というこれらの要求に答えるために轟該安定化
剤が開発された。これら製品もまた、樹脂との混和性及
び揮発度の欠如に関して、当分野の物質の現状にかなう
、及び／又は卓越するものである。

本発明は選択された２−（２−ヒドロキシエチル候）　
−２Ｈ−ベンゾトリアゾール光吸収剤に、及びそれによ
って安定化された有機物質に関する。

よシ詳しくは、本発明の２−（２−ヒドロキシフェニル
）−２Ｈ−ベンゾトリアゾールは次式Ｉ： 〔式中、 ＴＩは炭素原子数８ないし１８のアルキル基を表わし、 Ｔ、及びＴ３け独立して水素原子、ヒドロキシル基、炭
素原子数８ないし１８のアルキル基又は次式Ｉ： Ｅ。

（式中ｓ　Ｅｌ及びＥ２は独立して水素原子又は炭素原
子数１ないし４のアルキル基を表わし、そしてＥ３は水
素原子、ハロゲン原子又は炭素原子数１ないし４のアル
キル基を表わす）で表わされる基を表わし、 Ｔ４は水素原子又はヒドロキシル基を表わすが、但し、 Ｔ、、Ｔ３及びＴ４は同時に水素原子を表わさず、そし
て同時に’ｒ２．’ｒｓ及びＴ４のうち１個のみがヒド
ロキシル基を表わすことができる〕 で表わされる。

ＴＩ、’ｒ、又はＴ３が炭素原子数８ないし１８のアル
キルである場合、それは、例えば２−エチルヘキシル基
、ｎ−オクチル基、第三オクチル基、ｎ−ドデシル基、
第三ドデシル基又はｎ−オクタデシル基であってよい。

Ｅ、、　Ｅ、又ｉｉ′Ｅ３が炭素原子数１ないし４のア
ルキル基である場合、それは例えばメチル基、エチル基
、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基又は
第三ブチル基であってよい。

Ｅ３がハロゲン原子である場合、それはフッ素原子、臭
素原子、塩素原子又はヨウ素原子であってよく、好まし
くは塩素である。

Ｔ１は炭素原子数８ないし１２のアルキル基であるのが
好ましい。

Ｔ２及びＴ３（１’ｉ独立して炭素原子数８ないし１２
のアルキル基であるのが好ましく、最も好ましくは第三
オクチル基であり、また、式Ｕの基のＥｌ及びＥ２はお
のおのメチル基で、Ｅ３は水素原子又はｐ−メチル基で
あるのが好ましい；式■の基は、α、α〜ジメチルベン
ジル基であるのが最も好ましい。

Ｔ４は好ましくは水素原子である。

式１で表わされた範囲内の最も興味ある化合物は、Ｔ１
が炭素原子数８ないし１８のアルキル基を表わし、Ｔ２
及びＴ３が独立して炭素原子数８ないし１８のアルキル
基又は前記式■（式中、Ｅｌ及びＥ−は独立ｊ〜で水素
原子、メチル基又はエチル基を表わし、そしでＥ３は水
素原子、ハロゲン原子又は炭素原子数１ないし４のアル
キル基を表わす）で表わされる基を表わし、そしてＴ４
が水素原子を表わす化合物である。

本発明の化合物は、置換２−ニトロアニリンをジアゾ化
しく例えば亜硝酸ナトリウムにより）、次いで好ましく
は強塩基媒質中、適当なフェノールと結合させ中間体の
０−ニトロアゾベンゼンを製造する米国特許第４，２２
６，７６５号に示されている方法によって製造される。

このＯ−ニトロアゾベンゼン中間体は、亜鉛及びアルカ
リ、ヒドラジン、触媒による接触水素添加、及び同様の
ものを含む多くの慣用還元系のいずれかを用いる還元環
化反応により相応する２−アリール−２Ｈ−ベンゾトリ
アゾールに変えられる。この製造方法は次の反応式によ
り表わすことができる。

Ｈ ＋Ｍ　　　　　　　　　（■　　　　Ｔ！（ｖ）式■の
置換フェノールは公知であるか、又はそれ自体公知の方
法１例えば酸触媒の存在下。

オレフィンとフェノールのアルキル化により製造するこ
とができる。米国特許第４，２２６，７６５号に開示さ
れている２、４−ジ（ａ、　　α−ジメチルベンジル）
フェノールの製造が、典型的な例である。

式■の置換０−ニトロアニリンは公知であるか、又はそ
れ自体公知の方法、例えば酸触媒の存在下でジインブチ
レンのようなオレフィンを用いる０−ニトロアニリンの
直接アルキル化により、又はａ−ｎ−ドデシルアニリン
のようなアルキル化アニＩＪンからアミノ基のアセチル
化、続いてニトロ化、及び最終的に該アミンから保護ア
セチル基を加水分解により除去することにより製造する
ことができる。式■及びＶの出発物質の製造の詳細は実
施例中に記しである。

置換フェノール、０−ニトロアニリン、α−メチルスチ
レン、スチレン、ベンジルアルコール、及びそのような
物の如き種々の出発物質の多くは市販品目であるか又は
公知方法により容易に製造することができる。

次式■： 〔式中、Ｔ、、　Ｔ、、　”Ｔ３及びＴ４は上記で定義
した意味を表わす〕 の０−ニトロベンゼン中間体もまた新規化合物で、本発
明の一部を構成する。好ましい置換基Ｔは、式■の化合
物について上述したものと同じである。

本発明の化合物は広範囲にわたる有機ポリマーの有効な
光安定剤である。安定化され得るポリマーとしては下記
のものが挙げられる：１、　モノオレフィン及びジオレ
フィンかう誘導されるポリマー、例えば場合により架橋
していてもよいポリエチレン、ポリプロピレン、ポリイ
ンブチレン、ポリブテン−１、ポリメチルペンテン−１
、ポリインプレンもしくけポリブタジェン、並びにシク
ロオレフィン例えばシクロペンテンもしくけノルボルネ
ンのポリマー。

２−１）で示したポリマーの混合物、例えばポリプロピ
レンおよびポリインブチレンの混合物。

五　モノオレフィンおよびジ−オレフィン同士または他
のビニルモノマーとのコポリマー、タトエば、エチレン
／プロピレンコポリマー、プロピレン／ブテン−１コポ
リマー、プロピレン／インブチレンコポリマー、エチレ
ン／ブテン−１コポリマー、プロピレン／プダジエンコ
ボリマー、インブチレン／イソプレンコポリマー、エチ
レン／アルキルアクリレートコポリマー、エチレン／ア
ルキルメタクリレートコポリマー、エチレン／ビニルア
セテートコポリマーまたはエチレン／アクリル酸コポリ
マーおよびそれらの塩（イオノマー）ならびにエチレン
とプロピレンおよびジエン、たとえばヘキサジエン、ジ
シクロペンタジェンまたはエチリデンノルボルネンとの
ターポリマー。

東　ポリスチレン及びポリ−（ｐ−メチルスチレン）。

１　スチレンまたはａ−メチルスチレンとジエンまたは
アクリル誘導体とのコポリマー、たとえばスチレン／ブ
タジェン、スチレン／アクリロニトリル、スチレン／ア
ルキルメタクリレート、スチレン／マレイン酸無水物ま
たはスチレン／アクリロニトリル／メチルアクリレート
；スチレンコポリマーと他のポリマー、たとえば、ポリ
アクリレート、ジエンポリマーまたはエチレン／プロピ
レン／ジェンターポリマーから得られる耐衝重性樹脂混
合物：さらにまたスチレンのブロックコポリマー、たと
えば、スチレン／ブタジェン／スチレン、スチレン／イ
ソプレン／スチレン、スチＶン／エチレン／ブチレン／
スチレンマタはスチレン／エチレン／プロピレン／スチ
レン。

＆　スチレンのグラフトコポリマー、たとえば、スチレ
ンの結合したポリブタジェン、スチレンおよびアクリロ
ニトリルの結合したポリブタジェン、スチレン及びマレ
イン酸無水物の結合したポリブタジェン、スチレンおよ
ヒアルキルアクリレートもしくはメタクリレートの結合
したポリブタジェン、スチレンおよびアクリロニトリル
の結合したエチレン／プロピレン／ジェンターポリマー
、スチレンおよびアクリロニトリルの結合したポリアル
キルアクリレートもしくはポリアルキルメタクリレート
またはスチレンおよびアクリロニトリルの結合したアク
リ−レート／ブタジェンコポリマー、およびこれらと５
）に挙げたコポリマーとの混合物、たとえば、ＡＢＳ、
　ＭＢＳ、　ＡＳＡもしくはＡＥＳポリマーとして知ら
れるコポリマー混合物。

Ｚ　ハロゲン含有ポリマー、たとえばポリクロロプレン
、塩素化ゴムまたは塩素化もしくはクロロスルホン化ポ
リエチレン及びエヒクロロヒドリンのホモ及びコポリマ
ー、特ニハロゲン含有ビニル化合物から得られるポリマ
ー、たとえば、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、
ポリフッ化ビニルまたはポリフッ化ビニリデン；ならび
にこれらのコポリマー、たとえば塩化ビニル／塩化ビニ
リデン、塩化ビニル／酢酸ビニルまたは塩化ビニリチン
／酢酸ビニルコポリマー。

λ　ａ、β−不飽和酸およびその誘導体から誘導される
ポリマー、たとえばポリアクリレートおよびポリメタク
リレート、ポリアクリルアミドおよびポリアクリロニト
リル。

９．８）に挙げたモノマー同士のコポリマーまたは８）
に挙げた七ツマ−と他の不飽和モノマーとのコポリマー
、たとえば、アクリロニトリル／ブタジェンコポリマー
、アクリロニトリル／アルキルアクリレートコポリマー
、アクリロニトリル／アルコキシアルキルアクリレ−）
　コホＩＪマー、Ｔり’ｊロニ）　＋フル／ハロゲン化
ビニルコポリマーまたはアクリロニトリル／アルキルメ
タクリレート／ブタジェンターポリマー。

１０、　　不飽和アルコールおよびアミン着たけそれら
のアシル誘導体またはアセタールから誘導されるポリマ
ー、たとえばポリビニルアルコール、ポリ酢酸ビニル、
ポリステアリン酸ビニル、ポリビニルベンゾエート、ポ
リビニルマレエート、ポリビニルブチラール、ボリアＩ
Ｊルフタレートまたはポリアリルメラミン。

１１、環状エーテルのホモポリマーおよびコポリマー、
タトえばポリアルキレングリコール、ポリエチレンオヤ
シド、ボ１１プロピレンオキシドまたはこ九らとビス−
グリシジルエーテルとのコポリマー４ １２、　　ポリアセタール、たとえばポリオギシメチレ
ン、ならびにコモノマー、たとえばエチレンオキシドを
含有するポリオギシメチレン。

１五　ポリフェニレンオキシドおよびポリフェニレンス
ルフィド、並びにポリフェニレンオキシドとポリスチレ
ンの混合物。

１４、　　末端水酸基を有するポリエーテル、ポリエス
テル及びポリブタジェンと、脂肪族せたは芳香族ポリイ
ンシアネートとから誘導されるポリウレタン、並びにそ
れらの前駆物質。

１５、　　ジアミンおよびジカルボン酸から、および／
またはアミノカルボン酸もしくは相当するラクタムから
誘導されるポリアミドおよびコポリアミド、たとえばポ
リアミド４、ポリアミド６、ポリアミド６／６．ポリア
ミド６／１０、ポリアミド１１、ポリアミド１２、ポリ
−２，４，４−）リメチルへギサメチレンテレフタルア
ミドおよびポリ−ｍ−フェニレンインフタルアミド、並
びにこれらとポリエーテル、たとえば、ポリエチレング
リコール、ポリプロピレングリコールまたはポリテトラ
メチレングリコールとのコポリマー。

１＆　ポリ尿素、ポリイミド、ポリアミド−イミドおよ
びポリベンズイミダゾール。

１７、　　ジカルボン酸およびジアルコールから、およ
び／またはヒドロキシカルボン酸または相当するラクト
ンから誘導されるポリエステル、たとえば、ポリブチレ
ンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリ
−１，４−ジメチロールシクロヘキサンテレフタレート
、およびポリヒドロキシベンゾエート、ならびに末端水
酸基をもつポリエーテルから誘導されるブロックポリエ
ーテル−エステル。

１ａ　　ポリカーボネート及びポリエステル−カーボネ
ート。

１９、　　ポリスルホン、ポリエーテル−スルホン並び
にポリエーテルケトン。

２α　アルデヒドと、フェノール、尿素またはメラミン
とから誘導される架橋ポリマー、たとえば、フェノール
／ホルムアルデヒド樹脂、尿素／ホルムアルデヒド樹脂
およびメラミン／ホルムアルデヒド明所。

２Ｈ、　　乾性および不乾性アルキド明所。

２２、　　飽和および不飽和ジカルボン酸と多価アルコ
ールとの、ビニル化合物を架橋剤とする、コポリエステ
ルから誘導される、不飽和ポリエステル樹脂ならびにそ
のハロゲン原子を含む難燃性の変性樹脂。

２五　置換アクリル酸エステル、たとえば、エポキシア
クリレート、ウレタン−アクリレートまたはポリエステ
ル−アクリレートから９４される架橋性アクリル樹脂。

２４、　　メラミン樹脂、尿素樹脂、ポリイソシアネー
ト捷たはエボキン樹脂と混合したアルギド樹脂、ポリエ
ステル樹脂およびアクリレート樹１１旨。

２５、　　ポリエポキシド、たとえば、ビス−グリシジ
ルエーテルまたは脂環式ジエボキシドから誘導される架
橋エポキシ樹脂。

２＆　天然のポリマー、たとえば、セルロース、天然ゴ
ム、ゼラチンおよびそれらを重合同族体として化学変性
した誘導体、たとえば、酢酸セルロース、フロピオン酸
セルロース、セルロースブチレート並びにセルロースエ
ーテル、；＆トえばメチルセルロース。

２Ｚ　　上記のポリマーの混合物（ポリブレンド）、例
えばＰＰ／ＥＰＤＭ、ポリアミド６／ＥＰＤＭもＬ　＜
　ｆｄＡＢＳ、ＰＶＣ／ＥＶＡ、ＰＶＣ／ＡＢＳ、ＰＶ
Ｃ／ＭＢＳ、ＰＣ／ＡＢＳ、ＰＢＴＰ／ＡＢＳ。

本発明の化合物は、一般的２−アリール−２Ｈ−ベンゾ
トリアゾール光吸収剤として、光誘導劣化を受けやすい
有機基質の主材のための非常に効果的な安定化剤である
一方で、揮発、滲出又は昇華の原因となる高温加工中で
、安定化組成物からの消失に対する優れた抵抗を備える
当該化合物は、強制的に高められた温度で加工されるポ
リマー性基質の安定化に特に価値がある。

このように本発明の化合物は、ポリエステル、例えばポ
リ（エチレン　テレフタレート）、ポリ（ブチレン　テ
レフタレート）又はそれらのコポＩＪマー；ポリカーボ
ネート、例えばビスフェノールＡとホスゲンから誘導さ
れたポリカーボネート、又はそのコポリマー：ポリスル
ホン；ナイロン−６、ナイロン−６，６、ナイロン−６
゜１０及びその同族類のようなポリアミドならびにコポ
リアミド；熱硬化性アクリル樹脂；熱可塑性アクリル樹
脂；ポリエチレン、ポリプロピレン、コポリオレフィン
のようなポリオレフィン及びその同族類；及び高温の加
工及び製作を要するポリマー系を保護するための安定化
剤として特に有用である。

本発明の化合物は光安定作用を付与するために使用し得
るが、本発明の化合物は安定化組成物の製造においてし
ばしば他の安定化剤、他の光安定剤とさえ併せて使用す
ることができる。

安定剤はフェノール系酸化防止剤、顔料、着・色剤また
は染料、立体障害性アミンのような光安定剤、金属不活
性化剤等と共に使用し得る。

通常、本発明の安定剤は、特定の物質及び施用法により
変化するが、安定化された組成物の約１０５ないし約１
０重量％、特にはＱ、１ないし約５重量％で使用される
。有利な範囲は約ｃＬ５ないし約３重量％である。

式！及び式■の安定剤は成形品の製造前の任意の便利な
段階で従来技術により容易に有機材料中に混入できる。

例えば、安定剤は乾燥ボＩＪマーと混合してもよく、ま
たは安定剤の懸濁液、溶液もしくは乳濁液をポリマーの
溶液、懸濁液もしくは乳濁液と混合してもよい。本発明
による安定化されたポリマー組成物は、所望により（例
えば約Ｑ、１ないし約５重量％、好ましくは約０５ない
し約３重量％の濃度で）種々の常用の添加剤、例えば下
記に示したもの、特にフェノール系酸化防止剤もしくけ
光安定剤、またはそれらの混合物を含有することもでき
る。

１、　酸化防止剤 ２．６−シーｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール
、 ２−ｔｅｒｔ−ブチル−４，６−シメチルフエノール、 ２．６−シーｔｅｒｔ−ブチル−４−エチルフェノール
、 ２．６−シーｔｅｒｔ−ブチル−４−ｎ−ブチルフェノ
ール、 ２．６−シーｔｅｒｔ−ブチル−ａ−１−ブチルフェノ
ール、 ２．６−ジ−シクロペンチル−４−メチルフェノール、 ２−（α−メチルシクロヘキシル）−４，６−シメチル
フエノール、 ２．６−ジ−オクタデシル−４−メチルフェノール ２、４．６−ドリーシクロヘギシルフエノール２．６−
シーｔｅｒｔ−ブチル−４−メトキシメチルフェノール
。

２，６−シーｔｅｒｔ−ブチル−４−メトキシフェノー
ル、 ２．５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルーヒドロキノン、２．５
−ジ−ｔｅｒｔ−アミルーヒドロキノン、Ｚ、Ｓ−−、
＞フェニル−４−オクタデシルオキシフェノール。

類 ２．２′−チオ−ビス−（６−ｔｅｒｔ−ブチル−４−
メチルフェノール）、 ２．２′−チオ−ビス−（４−オクチルフェノール）、 ４．４′−チオ−ビス−（６−ｔｅｒｔ−ブチル−３−
メチルフェノール）、 ４．４′−チオ−ビス−（６−ｔｅｒｔ−ブチル−２−
メチルフェノール）。

２．２′−メチレン−ビス−（６−ｔｅｒｔ−ブチル−
４−メチルフェノール）、 ２．２′−メチレン−ビス−（６−ｔｅｒｔ−ブチル−
４−エヂルフ１ノール）、 ２．２′−メチレン−ビス−〔４−メチル−６〜（α−
メチルシクロへ古シル）−フェノール〕、２．２′−メ
チレン−ビス−（４−メチル−６−シクロヘキジルフエ
ノール）、 ２．２′−メチレン−ビス−（６−ノニル−４−メチル
フ１ノール）、 ２．２′−メチノン−ビス−（４，６−シーｔｅｒｔ−
ブチルフェノール）、 ２．２′−メチリデン−ビス−（４，６−シーｔｅｒｔ
−ブチルフェノール）％ ２．２′−エチリデン−ビス−（６−ｔｅｒｔ−ブチル
−４−イソブチルフェノール）、 ２．２′−メチレン−ビス−〔６−（α−メチルベンジ
ル）−４−／ニルフェノール〕、２．２′−メチレン−
ビーＣ−（６−（α，α−ジメチルベンジル）−４−ノ
ニルフェノール〕、４．４７−メチレン−ビス−（２，
６−ジ−ｔｅｒｔ　−ブチルフェノール）、 ４、４’　−メチｌ／　ｙ−ビＸ−（６−ｔｅｒｔ−ブ
チル−２−メチル７エ／−ル）、 １．１−ビス−（５−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキ
シ−２−メチルフェニル）−ブタン、２．６−ジ−（３
−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２−ヒドロキシベン
ジル）−４−メチルフェノール、 １．１．３−）リス＝（５−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒ
ドロキシ−２−メチルフェニル）−ブタン、 １．１−ビス−（５−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキ
ー／−２−メチルフェニル−５−ｎ−ドデシルメルカプ
トブタン、 エチレングリコール−ビス−（３，′５−ヒスー（Ｓ’
−ｔｅｒｔ−ブチル−４′−ヒドロキシ−フェニル）−
ブチレート、 ジー（３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メ
チルフェニル）−ジシクロペンタジェン、 ジーＣ２−（３’−ｔｅｒｔ−ブチル−２′−ヒドロキ
シ−５′−メチル−ベンジル）−６−ｔｅｒｔ−ブｆ４
−４−メチルーフェニル〕テレフタレート。

１、３．５−トυ−（５，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルー
４−ヒドロキシベンジル）−２，４，６−トリメチルベ
ンゼ〉′、 ジー（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルー４−ヒドロキシ
ベンジル）スルフィド、 インオクチル３．５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルー４−ヒド
ロキシベンジルーメルカゾト了セデート、ビス−（４−
ｔｅｒｔ−ブチル−５−・ヒト「１オキシ−２，６−ジ
メチルベンジル）ジチオールテトラフタレート、 １．３．５−１−　リス−（３，５−ジ−　ｔｅｒｔ−
ブチル−４〜ヒドロギシベンジル）インシアヌレート、 １．３．５−トリス−（４−ｔｅｒｔ−ブチル−３−ヒ
ドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）イソ７アヌレー
ト、 ジオクタデシル３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルー４−ヒ
ドロキンベンジル−ホスホネート、モノエチル３，５−
ジ−ｔｅｒｔ−ブチルー４−ヒドロキシベンジル−ホス
ホネートのカルシウム塩。

４−ヒドロギシーラウリン酸アニリド、４−ヒドロキシ
−ステアリン酸アニリド、２．４−ピスーオクチルメリ
カブト−６−（３゜５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルー４−ヒ
ドロキシアニリノ）−３−）リアジン、 オクチルＮ−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルー４−ヒ
ドロキシフェニル）−カーバメート。

け多価アルコールとのエステル類、その例は：メタノー
ル、 オクタデカノール、 ヘキサン−１，６−ジオール、 ネオペンチルグリコール、 チオジエチレングリコール、 ジエチレングリコール、 トリエチレングリコール、 ペンタエリトリトール、 トリス−ヒドロキシエチルシアヌレート、ジ−ヒドロキ
シエチル−ショウ酸アミド。

−価又は多価アルコールとのエステル、その例は： メタノール、 オクタデカノール。

ヘキサン−１，６−ジオール、 ネオペンチルグリコール、 チオジエチレングリコール、 ジエチレングリコール、 トリエチレングリコール、 ペンタエリトリトール、 トリス−ヒドロキシエチルイソシアヌレート、ジ−ヒド
ロキシエチル−シュウ酸ジアミド。

類、その例は： Ｎ、　Ｎ’−ジ−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルー４
−ヒドロキシフェニルブロビオニル）−へキサメチレン
ジアミン、 Ｎ、　Ｎ／−ジ−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルー４
−ヒドロキシフェニルプロピオニル）　−トＵ　メチレ
ンジアミン、 Ｎ、　Ｎ’−ジ−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルー４
−ヒドロキシフェニルプロピオニル）−ヒドラジン。

５′−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル、５’　−ｔｅｙｉ−ブチ
ル、５／−（１，１，５，３−テトラメチルブチル）、
５−クロロ−３′、５“−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル、５−
クロロ−３’　−ｔｅｒｔ−ブチル−５′−メチル、３
′−５ｅｔ−ブチル−５’　−ｔｅｒｔ−ブチル、４′
−オクトキシ、３／、　５／−ジ−ｔｅｒｔ−アミル及
び３′。

５′−ビス−（α、　ａ−ジメチルベンジル）誘導体。

えば４−ヒドロキシ、４−メトキシ、４−オクトキシ、
４−デシルオキシ、４−ドデシルオキシ、４−ベンジル
オキシ、４．２’、　４’−トリヒドロキシ及び２′−
ヒドロキシ−４，４′ジメトキシ誘導体。

エバ：サリチル酸４−ｔｅｒｔ−ブ千ルーフェニル、サ
リチル酸フェニル、すＩＪチル酸オクチルフェニル、シ
ベンソイルレゾルシノール、ビス−（４−ｔｅｒｔ−ブ
チルベンゾイル）−レゾルシノール、ペンソイルレゾル
シノール、３．５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルー４−ヒト°
ａキシ安息香ｅｌＮ　−２，ａ　−シー　ｔｅｒｔ　−
ブチルフェニルエステル及び６，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブ
チルー４−ヒドロキ’／安息香ｅヘキサデシルエステル
。

２．４　　アクリル酸エステル類、例えばα−シアノ−
β、β−ジフェニルアクリル酸エチル又バインオクチル
、ａ−シアノ−β−メチル−ｐ−メトキシ−桂皮酸メチ
ル又はブチル、ａ−カルボメトキシ−ｐ−メトキシ−桂
皮酸メチル及びＮ−（β−カルボメトキシ−β−シアン
ビニル）−２−メチル−インドリン。

２．５　　ニッケル化合物、例えばｎ−ブチ１アミン、
トリエタノールアミン又はＮ−シクロヘキシル−ジェタ
ノールアミンのような他の配位子を有する又は有しない
で１：１又は１：２錯体のような２．２′−チオ−ビス
−〔４−（１，１，！１．５−テトラメチルブチル）−
フェノール〕のニッケル錯体、ニッケルジブチル−ジチ
オカルバメート、メチル又はエチルのようなモノアルキ
ル−４−ヒドロキシ−３，５−シー　ｔｅｒｔ−ブチル
ベンジルホスホネートのニッケル塩、２−ヒドロキシ−
４−メチル−フェニル−ウンデシルケトンオキシムのよ
りなケトオキシムのニッケル錯体及び配位子を有ｆ　ル
又１ｄ　：ｆＴ　Ｌ、ない１−フェニル−４−ラウロイ
ル−５−ヒドロキシバラゾールのニッケル錯体。

２．６　　立体障害アミン類、例えばビス−（２゜２、
６．６−デトラメチルビベラジル）セバケート、ビス−
（１，２，２，６，６−ペンタメチル−ピペリジル）セ
バケート、ビス−（＋、２゜２、６．６−ベンタメチル
ビベＩＪジル）ｎ−グチル−５，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブ
チルー４−ヒドロキシベンジル−マロネート、、１−ヒ
ドロキシエチル−□２．２．６．６−テトラメチル−４
−ヒドロキシピペリジンとこはく酸の縮合物　Ｎ。

Ｎ’−（２，２，６，６−テトラメチルビベリジル）−
へキサメチレンジアミンと４−ｔｅｒｔ−オクチルアミ
ノ−２，６−ジクロロ−１，３，５−５−トリアジン、
の縮合物、トリス−（２，２゜６．６−テトラメチルビ
ベリジル）−ニトリロトリアセテート、テトラキス−（
２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル’）−
１，２゜３．４−ブタン−テトラカルボン酸及［１，１
’−（１，２−エタンジイル）−ビス−（５，５゜５．
５−テトラメチル−ピペラジノン）。

２．７　７ユウ醒ジアミド類、例えば４，４′−ジ−オ
クチルオキシオキサニリド、２．２’−ジ−オクチルオ
キシ−５，５′−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルーオキサニリド
、２−エトキシ−２′−エチル−オキサニリド、　Ｎ、
　Ｎ’−ビス−（３−ジメチルアミノプロピル）−オキ
ザルアミド、２−エトキシ−５−ｔｅｒｔ−ブチル−２
′−エチル−オキサニリド及び２−エトキシ−２′−エ
チル−５，４′−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルーオキサニリド
との混合物、及びオルト及びパラ−メトキシ−及び〇−
及びＰ−エトキシ−２置換オキサニリドの混合物。

工　金属不動態化剤、例えばＮ、　Ｎ’−ジフェニルシ
ュウ酸ジアミド、Ｎ−サリチラルーＮ′−サリチロイル
ヒドラジン、Ｎ、　Ｎ’−ビス−サリチロイルヒドラジ
ン、Ｎ、　Ｎ’−ビス−（３，５−ジ−　ｔｅｒｔ−ブ
チル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）−ヒドラ
ジン、３−サリチロイルアミノ−１，２，４−トリアゾ
ール及びビス−ベンジリデン−シュウ酸ジヒドラジン。

例工ば亜リン酸トリフェニル、亜すン酸ジフェニルアル
キル％東リン酸フェニルジアルキル、亜リン酸トリー（
ノニルフェニル）、能リン酸トリラウリル、亜リン酸ト
リオクタデシル、二連リン酸ジステアリルペンタニスト
リトール、亜リン酸トリス−（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−
ブチルフェニル）、二連リン酸ジイソデシルペンタエリ
トリトール、二連リン酸ジー（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−
ブチルフェニル）ペンタエリトリトール、二亜リン酸ト
リステアリルソルビトール及びテトラキス−（２，４−
ジ−　ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）　４．４７−ピフエ
ニレンジホスホニツト。

１　過酸化物を分解する化合物、例えばβ−チオ−ジプ
ロピオン酸のエステル、例、ｔ　ハラウリル、ステアリ
ル、ミリスチル又はトリデシルエステル、メルカプトベ
ンゾイミダゾール、２−メルカプトベンゾイミダゾール
の徂鉛塩、ジブチルジチオカルバミン酸亜鉛、二硫化ジ
オクタデシル及びテトラキス−（β−ドデシルメルカプ
ト）プロピオス酸ペンタエリトリトール。

又はリン化合物とともに銅塩、そして二価マンガン塩。

ピロリドン、ジシアンジアミン、トリアリルシアヌレー
ト、尿素誘導体、ヒドラジン誘導体、アミン、ポリアミ
ド、ポリウレタン、高級脂肪酸のアルカリ金属及びアル
カリ土類金属塩、例えばステアリン酸Ｃａ、ステアリン
酸Ｚｎ　、ステアリン酸Ｍｇ１　リシノール酸Ｎａ　。

パルミチン酸に１ピロカテコール酸アンチモン及Ｕピロ
カテコール−７−ス。

ａ　核剤、例えば４−ｔｅｒｔ−ブチル安息香酸、アジ
ピン酸及びジフェニル酢酸。

ム、ケイ酸塩、ガラス繊維、石綿、メルク、カオリン、
雲母、硫酸バリウム、金属酸化物及び水酸化物、カーボ
ンブラック及び黒鉛。

１α　その他の添加剤、例えば可塑剤、潤滑剤、乳化剤
、顔料、螢光増白剤、防炎剤、帯電防止剤及び発泡剤。

（実　施　例） 下記の実施例は単に本発明を説明するためのものであり
、いかなる方法によっても本発明の内容または範囲を限
定するものとして解釈されることはない。

実施例１ ４−第三オクチル−２−ニトロアニＩ７７冷却器、窒素
注入口、攪拌器、温度計及び添加漏斗を備えた２を反応
フラスコに無水塩化亜鉛２７２９（２，０モル）を入れ
る。そのフラスコ中を窒素雰囲気下とし、２２℃から４
０’Ｃに高めた温度で濃塩酸（１２Ｎ）１６６ＩＩ（２
，０モル）を１０分間かけて加える。次−でこれに０−
二トロアニリン２７６り（２，０モル）ヲ塊の生成ヲ避
けるため１５分間かけて加える。得られた濃厚赤色スラ
リーを６０℃に加熱し１次いでジイソブチレン４７４ノ
（５０モル）を１１０分間かけて、その間の温度ヲ６０
°から９０℃に上げて、除々に加える。その深い赤色流
状反応混合物を、薄層クロマトグラフィーによりＯ−ニ
トロアニリンの痕跡量のみが観察されるまで、環流によ
り更に１８時間加熱する。

粗生成物の固体を水を用いて２度すり砕き、次いで温め
たトルエン中に溶解する。そのトルエン層を下の水層か
ら分離し、次いで無水炭酸カリウムで乾燥する。減圧に
よりトルエンを除いて得られる固体を、エチンングリコ
ールで一度だけ次いで再びヘプタンで再結晶すると標記
生成物が、融点１０４〜１０７℃の固体として、７７．
２Ｆ（１α６％）の収量で得られる。生成物は薄層クロ
マトグラフィーで唯一のスポットを与える高純度のもの
である。

実施例２ ａ、　　Ｎ−アセチル−４−ｎ−ドデシルアニリ攪拌器
及び環流冷却器を備えた１ｔフラスコに、トルエ：／１
３８ｍ中に溶解したｐ−ｎ−ドデシルアニリン１５Ｚ５
り（０，５２５モル）ヲ入しル。

これに無水酢酸５Ｚ５ａＪを１５分間かけて加える。

温度は４０°から８０℃へと上昇する。全ての無水酢酸
を加えた後、その反応混合物を４０℃で３時間攪拌する
。次いで反応混合物を冷やして得られた組成物をエタノ
ール８００ａｔ／から再結晶すると、標記化合物１５１
．ＩＰが融点１００〜１０２℃の固体として得られる。

実施例２ａで得られたＮ−アセチル−４−ｎ−ドデシル
アニリン１４６ｙを氷酸酸１５０Ｆ！１ｔに溶解して、
攪拌器を備えた２を丸底フラスコに入れる。これに濃硫
酸３００ゼを、温度全６０℃に上げて加える。それから
該溶液に、外部冷却によって反応混合物を５５℃に保ち
ながら、濃硝酸（７０％）６６ゴ及び濃硫酸４２ｙｌの
溶液を１時間かけて滴下して加える。発熱が静捷った後
、その反応混合物を４５℃に加熱し、総反応時間を４時
間とする。その反応混合物を４１の氷上に注ぎ、そして
濾過により固体生成物を単離する。その粗生成物を石油
エーテルから数回再結晶し、融点７）〜７３℃の純生成
物５５．６Ｆを得る。

ｃ、４−ｎ−）”デシル撹拌−ニトロアニリン撹拌器及
び環流冷却器を備えた１１７ラスコ中で、Ｎ−アセチル
−４−ｎ−ドデシル−２−ニトロアニリン（実施例２ｂ
で製造したもの）６１．８ｆ、エタノール３２０ｔｐｔ
ｌ及び４０％水酸化カリウム水溶液６４　ｍｌ　ｆ環流
下で１時間加熱する。

反応混合物を冷却してから、１．５ｔの水中へ注ぐ。そ
の粗生成物を濾過により単離し、冷水で繰返し洗浄し、
そしてメタノールから再結晶する。標記生成物が、融点
６９〜７）℃の固体として収ｅ４ｓｙまで単離される。

元素分析値：　Ｃｌ８Ｈ３Ｑ　Ｎ２０ｘ計算値：Ｃ，７
α５４　；Ｈ，９，８６；Ｎ、　？、１４゜実測値：Ｃ
９７α５　；　Ｈ，９，７；　Ｎ、　９１゜実施例３ ２．４−ジ−（α，α−ジメチルベンジル）フェノール この中間体は、ｐ−トルエンスルホン酸モノハイドレー
ト触媒２５．７７（（１１３５モル）の存在下、フェノ
ール７ｏｓＢ５）　（ｚ　５モル）とα−メチルスチレ
ン１７７２．７Ｆ（１５モル）の混合物全反応させるこ
とにより得られる。この混合物を窒素雰囲気下、１４０
℃で２．５時間加熱する。その反応混合物を１１０℃に
冷却し、そしてトルエン１１２５ｍを加える。得られた
溶液を８０℃で、炭酸ナトリウム３７．５１及び塩化ナ
トリウム７５りの水溶液７５０ｄで洗浄した後、有機層
を塩化ナトリウム水溶液１０００ｃ／で三度洗浄し；次
いで無水硫酸す）　＋７ウムで乾燥し；濾過し、そして
減圧蒸留する。標記生成物が、沸点１７２〜１７５℃／
（Ｌｉ５〜Ｑ、１８ＩＩＩｙＩＨｇの主留分として、１
２２９８ｙ（理論値のａ　ｑ、　６　％　）の収電で得
られる。

該生成物１ｄ６５〜６５℃で溶融する。

実施例４ 攪拌器及び温度計を備えた１００ｄフラスコ中で、４−
第三オクチル−２−ニトロアニリン１５、Ｏｊｇ（（Ｌ
Ｄ６モル）をトルエン２０ゴに懸濁させる。これに２５
℃で濃塩酸ＩＺ３１（１，１８モル）を加える。その懸
濁液を３８℃で１時間攪拌し、次に水６ゴを加える。相
当する塩酸塩が粒状沈澱物として結晶化するにつれて、
混合物は濃厚となる。その混合物を０℃に冷却し、そし
て温度を一５℃ないし一２℃に保ちながら、水６ゴ中に
溶解した亜硝酸ナトＩＪウム４．Ｂｙ（０，０６２モル
）を３０分間要して加えることによりジアゾ化する。そ
の混合物を一２℃で１時間攪拌する。二層となる。合併
層は所望のジアゾニウムクロライドを含み、そしてその
ままで使用される。

実施例５ ５００−フラスコ中で、水酸化ナトリウムのベレット１
五６ノ（（１３４モル）をメタノール１６５１に溶解す
る。これに、２，４−ジ−（ａ、　　α−ジメチルベン
ジル）フェノール１＆５ｐ（Ｑ、０５モル）及びトルエ
ン２０ｄを加える。得られた溶液を０℃に冷却する。温
度を０℃に保ちながら、実施例４で製造したジアゾニウ
ムクロライド溶液（ｃＬ０６モル）を６時間かけて加え
る。ヘプタン（２０！ＩＬｔ　）　ｋ加えて移動度をよ
り良くする。２時間攪拌した後、酢酸１５ゴを加えて反
応混合物のｐＨを９にする。

層を分離するために水を加える。生成物がある有機上層
をへブタンで希釈し、水で洗浄し。

無水硫酸す）　ＩＪウムで乾燥し、そして減圧留去する
ことにより定量的収率で標記化合物が得られる。

実施例６ ３、Ｓ−ジ−（α、α−ジメチルベンジル）攪拌器、温
度計、環流冷却器及び窒素ガス注入口を備えた３００ａ
三ツ首フラスコに、実施例５の０−ニトロアゾベンゼン
中間体５１り（０，０５モル）及びトルエン１００コを
入れる。生じた溶液にイソプロパツール１５　ｔｔｌ　
及（ｊ　水１５罰を加える。窒素雰囲気下において、５
０％水酸化ナトリウム水溶液８）（Ｑ、１モル）ヲ加よ
る。亜鉛１１．６９（Ｑ、１７７グラム原子）を入れた
フラスコをグーチゴムチューブにより反応フラスコに連
結し、亜鉛粉末を基本的には１５分間隔で８等分したも
のを分配して反応混合物に加える。全ての亜鉛を加えた
後、その反応混合物を４７℃で一夜攪拌し、その後２時
間、環流温度に加熱する。次いで反応混合物を４５℃に
冷却し、そして５０チ硫酸水５０ｙで酸性にする。

亜鉛スラッジを濾過により除去する。生成物は有機層に
含まれており、該層を７０％硫酸２０ｙｔｌで３回、そ
して８８％蟻酸２０ｍ１で４回。

水で、食塩水で洗浄してから無水硫酸ナトリウムで乾燥
する。トルエン溶液ｉ　３０　Ｆに濃縮し、次いでイン
プロパツール８５１で希釈する。標記生成物が、融点１
４０〜１４２℃の白色固体として１１６ｙ（４ａ６％）
の収量で得られる。

元素分析値”ｓｓ　Ｈ４５Ｎｓ　Ｏ 理論値：　Ｃ，８１，５３；）ｌ、　（１０）ｏ　；Ｎ
、　７．５１゜実測値：　Ｃ，８１，６；）（、７，８
；Ｎ、　７．４゜実施例７ ４−第三オクチル−２−ニトロアニリンｆｆｉ当量の４
−ｎ−ドデシル−２−ニトロアニリンに換えて、実施例
４の一般的製法に従えば、標記のジアゾニウムクロライ
ド溶液が得られる。

４−ｎ−トｆシルー２−ニトロアニリンハ実施例１又Ｆ
ｉ２と同様にして調整できる。

実施例６の一般的製法を用いて、適当なジアゾニウムク
ロライド溶液と、例えば実施例３と同様にして調整され
る適当なフェノールと全選択することによね、以下の０
−ニトロアゾベンゼン中間体が得られる。

８　　第三オクチル＊　第三オクチル　　ａ−クミル９
　　第三オクチル＊　　Ｑ−クミル　　　第三オクチル
１０　　第三オクチル　　　第三オクチル　　第三オク
チル１１　　　　ｆｉ−ドデシル＊＊　ａ−クミル　　
　α−クミル１２　　　ｎ−ドデシル　　第三オクチル
　　α−クミル１５　　　　ｎ−ドデシル　　　ａ−ク
ミル　　　第三オフ千ル１４　　　　ｆｉ−ドデシル　
　第三オクチル　　第三オクチル＊　　実施例４のジア
ゾニウムクロライドから＊＊　　実施例７のジアゾニウ
ムクロライドから実施例１５ ５、　５−シー（α、α−ジメチルベンジル）実施例６
の一般的製法及び実施例１１の〇−二トロアゾベンゼン
中間体を用いて、標記生成物が非結晶固体として７２％
の収率で得られる。

元素分析値：　ＣａＨｓｓＮ３０ 理論値：　Ｃ，８１，９０；Ｈ，ａ６８　；Ｎ、　ｉ２
゜実測値：　Ｃ，８２，０；　Ｈ，９，０；Ｎ、　＆５
゜実施例１６〜２Ｈ 実施例６の一般的製法及び実施例８〜１０及び１２〜１
４の適当な０−二）ｏベンゼン中間体を用いて以下の２
Ｈ−ベンシト＋７アゾールを製造する。

実施例　　　　ＴＩ　　　　　　　　Ｔｔ　　　　　　
　Ｔｓ１６　　　第三オクチル　　　第三オクチル　　
ａ−クミル１７　　　第三オクチル　　　Ｑ−クミル　
　　第三オクチル１８　　　第三オクチル　　　第三オ
クチル　　第三オクチル１９　　　　ｎ−ドデシル　　
　第三オクチル　　ａ−クミル２０　　　　ｎ−ドデシ
ル　　　α−クミル　　第三オクチル２Ｈ　　　　ｎ−
ドデシル　　　第三オクチル　　第三オクチル実施例２
２ ベンゾ）　ＩＪアゾール安定化剤の耐損失性安定化剤の
５０重量％損失に至る時間（分）を指示させるため、窒
素ガス流量１００Ｉ＋！４／分、共に２８０℃の等温に
て、並びに安定化剤の１０及び５０重量％損失が観察さ
れる温度を確かめるため、１０℃／分の加熱割合による
走査モードで、実施例６及び１５の２−（２−ヒドロキ
シフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール光安定化剤を
熱重量分析にかける。

実験データを下表に示す。

これらの結果は、示された安定化剤のシート、フィルム
、繊維又は他の加工膜を製造中のポリマー配合材の加工
工程における滲出又は揮発に対する耐性と密接に関係し
ている。

加工設備（例えばローラー、ガイド、オリフィス及び同
様備品）上に、滲出した又は揮発した安定化剤が存在又
は本質的に存在しないことは、連続的に操作される加工
設備の操業停止が求められるまでの時間全有意に増加さ
せ、そして莫大な実際上の及び経済上の節約は特定の安
定化剤の使用に関連があることを意味している。

ＴＧＡデータ ２８０℃の等温試験　　１０℃／分の走査試験実施例６
及び１５のベンゾトリアゾールは熱重量損失に対し非常
に耐性を示す。このことは、それらは昇華や滲出に対し
優れた耐性を示すこと全意味する。

安定化ポリマー組成物中に配合された本化合物は、加工
中においても優れた易加工性を与えなから、連続光誘導
劣化に対しより大きな保藤を伴って最終のポリマー薄膜
と結合してそこに残存する。

実施例２３ ３４０　ｎｍの光吸収 本発明の化合物は、モル吸光係数Ｅの測定から判るよう
に、３４０ｎｍにおいて、非常に高度光吸収を示す。

モル吸光係数 実施例６の化合物　　　　　　１ａ２００実施例２４ メチルメタクリレート、ヒドロキシエチルメタクリレー
ト、ブチルアクリレート及びスチレンから製造されたコ
ポリマー７０重量部、及び架橋剤としてヘギサキス　メ
トキシメチル　メラミン３０重量部、及びｐ−トルエン
スルホン酸ＣＬ１重量部からなるハイソリッド熱硬化性
アクリルエナメルに、実施例６の化合物２重量部を配合
する。次いでその得られた透明エナメルを、シルバーメ
タリック塗料で下塗りした鋼製パネル上に、クリヤーコ
ートとして噴霧する。

比較の目的で、安定化剤を入れない１個のサンプルを製
作した。

硬化した後のパネルを、フロリダ州の野外に１２ケ月間
さらす。そして光沢の保持率を測定する。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 （１）次式 I ： ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） 〔式中、 Ｔ＿１は炭素原子数８ないし１８のアルキル基を表わし
   、 Ｔ＿２及びＴ＿３は独立して水素原子、ヒドロキシル基
   、炭素原子数８ないし１８のアルキル基又は次式II： ▲数式、化学式、表等があります▼（II） （式中、Ｅ＿１及びＥ＿２け独立して水素原子又は炭素
   原子数１ないし４のアルキル基を表わし、そしてＥ＿３
   は水素原子、ハロゲン原子又は炭素原子数１ないし４の
   アルキル基を表わす）で表わされる基を表わし、 Ｔ＿４は水素原子又はヒドロキシル基を表わすが、但し
   、 Ｔ＿２、Ｔ＿３及びＴ＿４は同時に水素原子を表わさず
   、そして同時にＴ＿２、Ｔ＿３及びＴ＿４のうち１個の
   みがヒドロキシル基を表わすことができる〕 で表わされる化合物。 （２）前記式 I において、Ｔ＿１が炭素原子数８ない
   し１２のアルキル基である特許請求の範囲第１項記載の
   化合物。 （３）前記式 I において、Ｔ＿１が炭素原子数８ない
   し１８のアルキル基を表わし、Ｔ＿２及びＴ＿３が独立
   して炭素原子数８ないし１８のアルキル基。 又は前記式II（式中、Ｅ＿１及びＥ＿２は独立して水素
   原子、メチル基又はエチル基を表わし、そしてＥ＿３は
   水素原子、ハロゲン原子又は炭素原子数１ないし４のア
   ルキル基を表わす）で表わされる基を表わし、そしてＴ
   ＿４が水素原子を表わす特許請求の範囲第１項記載の化
   合物（４）前記式 I において、Ｔ＿２及びＴ＿３が独
   立して炭素原子数８ないし１２のアルキル基又は前記式
   II（式中、Ｅ＿１及びＥ＿２はおのおのメチル基を表わ
   し、そしてＥ＿３は水素原子又はｐ−メチル基を表わす
   ）で表わされる基を表わし、そしてＴ＿４が水素原子を
   表わす特許請求の範囲第１項記載の化合物。 （５）前記式 I において、Ｔ＿２及びＴ＿３が独立し
   て第三オクチル基又はα，α−ジメチルベンジル基を表
   わす特許請求の範囲第４項記載の化合物。 （６）５−第三オクチル−２−〔２−ヒドロキシ−３，
   ５−ジ−（α，α−ジメチルベンジル）フェニル〕−２
   Ｈ−ベンゾトリアゾールである特許請求の範囲第１項記
   載の化合物。 （７）５−ｎ−ドデシル−２−〔２−ヒドロキシ−３，
   ５−ジ−（α、α−ジメチルベンジル）フェニル〕−２
   Ｈ−ベンゾトリアゾールである特許請求の範囲第１項記
   載の化合物。 （８）光誘導劣化を受けやすい有機基材と、次式▲数式
   、化学式、表等があります▼（ I ） 〔式中、 Ｔ＿１は炭素原子数８ないし１８のアルキル基を表わし
   、 Ｔ＿２及びＴ＿３は独立して水素原子、ヒドロキシル基
   、炭素原子数８ないし１８のアルキル基又は次式II： ▲数式、化学式、表等があります▼（II） （式中、Ｅ＿１及びＥ＿２は独立して水素原子又は炭素
   原子数、ないし４のアルキル基を表わし、そしてＥ＿３
   は水素原子、ハロゲン原子又は炭素原子数、ないし４の
   アルキル基を表わす）で表わされる基を表わし、 Ｔ＿４は水素原子又はヒドロキシル基を表わすが、但し
   、 Ｔ＿２、Ｔ＿３及びＴ＿４は同時に水素原子を表わさず
   、そして同時にＴ＿２、Ｔ＿３及びＴ＿４のうち１個の
   みがヒドロキシル基を表わすことができる〕 で表わされる化合物の少なくとも１種からなる組成物。 （９）有機基材がポリマーである特許請求の範囲第８項
   記載の組成物。 （１０）ポリマーがアミノプラストである特許請求の範
   囲第８項記載の組成物。 （１１）アミノプラストが熱硬化性アクリル樹脂である
   特許請求の範囲第８項記載の組成物。 （１２）安定化化合物が５−第三オクチル−２−〔２−
   ヒドロキシ−３，５−ジ−（α，α−ジメチルベンジル
   ）フェニル〕−２Ｈ−ベンゾトリアゾールである特許請
   求の範囲第８項記載の組成物。 （１３）次式： ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、 Ｔ＿ｉは炭素原子数８ないし１８のアルキル基を表わし
   、 Ｔ＿２及びＴ＿３は独立して水素原子、ヒドロキシル基
   、炭素原子数８ないし１８のアルキル基又は次式II： ▲数式、化学式、表等があります▼（II） （式中、Ｅ＿１及びＥ＿２は独立して水素原子又は炭素
   原子数、ないし４のアルキル基を表わし、そしてＥ＿３
   は水素原子、ハロゲン原子又は炭素原子数１ないし４の
   アルキル基を表わす）で表わされる基を表わし、 Ｔ＿４は水素原子又はヒドロキシル基を表わすが、但し
   、 Ｔ＿２、Ｔ＿３及びＴ＿４は同時に水素原子を表わさず
   、そして同時にＴ＿２、Ｔ＿３及びＴ＿４のうち１個の
   みがヒドロキシル基を表わすことができる〕 で表わされる化合物。