JPS6264830A - ポリシラン−シロキサンオリゴマ−および共重合体並びにこれらの製造方法 - Google Patents
ポリシラン−シロキサンオリゴマ−および共重合体並びにこれらの製造方法Info
- Publication number
- JPS6264830A JPS6264830A JP61160978A JP16097886A JPS6264830A JP S6264830 A JPS6264830 A JP S6264830A JP 61160978 A JP61160978 A JP 61160978A JP 16097886 A JP16097886 A JP 16097886A JP S6264830 A JPS6264830 A JP S6264830A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- siloxane
- polysilane
- copolymer
- terminated
- oligomer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 title claims description 60
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 9
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical class [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 25
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 18
- -1 siloxanes Chemical class 0.000 claims description 14
- 238000009833 condensation Methods 0.000 claims description 13
- 230000005494 condensation Effects 0.000 claims description 13
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 12
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 claims description 12
- 229920001400 block copolymer Polymers 0.000 claims description 10
- 229920000548 poly(silane) polymer Polymers 0.000 claims description 10
- 229920005604 random copolymer Polymers 0.000 claims description 10
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M acrylate group Chemical group C(C=C)(=O)[O-] NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 9
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 9
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 claims description 8
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 239000011734 sodium Substances 0.000 claims description 8
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 7
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical group [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 5
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 5
- 239000004205 dimethyl polysiloxane Substances 0.000 claims description 5
- 229920000435 poly(dimethylsiloxane) Polymers 0.000 claims description 5
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 4
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 claims description 4
- GBAQKTTVWCCNHH-UHFFFAOYSA-N 3-[dichloro(methyl)silyl]propyl prop-2-enoate Chemical group C[Si](Cl)(Cl)CCCOC(=O)C=C GBAQKTTVWCCNHH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 claims description 3
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 claims description 3
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 claims description 2
- MROCJMGDEKINLD-UHFFFAOYSA-N dichlorosilane Chemical compound Cl[SiH2]Cl MROCJMGDEKINLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 230000003301 hydrolyzing effect Effects 0.000 claims 1
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 20
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 17
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 17
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 12
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 8
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 6
- 239000000463 material Substances 0.000 description 6
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 6
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 5
- LIKFHECYJZWXFJ-UHFFFAOYSA-N dimethyldichlorosilane Chemical compound C[Si](C)(Cl)Cl LIKFHECYJZWXFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 5
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 5
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 5
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 206010034972 Photosensitivity reaction Diseases 0.000 description 4
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 4
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 4
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 4
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 4
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 4
- 230000036211 photosensitivity Effects 0.000 description 4
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 4
- LMGYOBQJBQAZKC-UHFFFAOYSA-N 1-(2-ethylphenyl)-2-hydroxy-2-phenylethanone Chemical compound CCC1=CC=CC=C1C(=O)C(O)C1=CC=CC=C1 LMGYOBQJBQAZKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 3
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 3
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 3
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004581 coalescence Methods 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- 238000000921 elemental analysis Methods 0.000 description 2
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 2
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 2
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 2
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 2
- KWGKDLIKAYFUFQ-UHFFFAOYSA-M lithium chloride Chemical compound [Li+].[Cl-] KWGKDLIKAYFUFQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 2
- 229920000555 poly(dimethylsilanediyl) polymer Polymers 0.000 description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 2
- 230000008569 process Effects 0.000 description 2
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 2
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 2
- 238000001308 synthesis method Methods 0.000 description 2
- RTCLHEHPUHREBC-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,2,3,3,4,4,5,5,6,6-dodecamethylhexasilinane Chemical compound C[Si]1(C)[Si](C)(C)[Si](C)(C)[Si](C)(C)[Si](C)(C)[Si]1(C)C RTCLHEHPUHREBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YJLUBHOZZTYQIP-UHFFFAOYSA-N 2-[5-[2-(2,3-dihydro-1H-inden-2-ylamino)pyrimidin-5-yl]-1,3,4-oxadiazol-2-yl]-1-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)ethanone Chemical compound C1C(CC2=CC=CC=C12)NC1=NC=C(C=N1)C1=NN=C(O1)CC(=O)N1CC2=C(CC1)NN=N2 YJLUBHOZZTYQIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 1
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- 229910008048 Si-S Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910006336 Si—S Inorganic materials 0.000 description 1
- UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M Sodium bicarbonate Chemical class [Na+].OC([O-])=O UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- OBNDGIHQAIXEAO-UHFFFAOYSA-N [O].[Si] Chemical compound [O].[Si] OBNDGIHQAIXEAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 239000013040 bath agent Substances 0.000 description 1
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 230000002902 bimodal effect Effects 0.000 description 1
- 230000008033 biological extinction Effects 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 235000011089 carbon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001805 chlorine compounds Chemical class 0.000 description 1
- DMEXFOUCEOWRGD-UHFFFAOYSA-N chloro-[chloro(dimethyl)silyl]oxy-dimethylsilane Chemical compound C[Si](C)(Cl)O[Si](C)(C)Cl DMEXFOUCEOWRGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 238000010908 decantation Methods 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- KTQYJQFGNYHXMB-UHFFFAOYSA-N dichloro(methyl)silicon Chemical compound C[Si](Cl)Cl KTQYJQFGNYHXMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GNEPOXWQWFSSOU-UHFFFAOYSA-N dichloro-methyl-phenylsilane Chemical compound C[Si](Cl)(Cl)C1=CC=CC=C1 GNEPOXWQWFSSOU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QFLLWLFOOHGSBE-UHFFFAOYSA-N dichloro-methyl-trimethylsilyloxysilane Chemical compound C[Si](C)(C)O[Si](C)(Cl)Cl QFLLWLFOOHGSBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000005187 foaming Methods 0.000 description 1
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 1
- 230000008014 freezing Effects 0.000 description 1
- 238000007710 freezing Methods 0.000 description 1
- 230000004927 fusion Effects 0.000 description 1
- 238000007429 general method Methods 0.000 description 1
- 239000011491 glass wool Substances 0.000 description 1
- 239000010797 grey water Substances 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- 238000010348 incorporation Methods 0.000 description 1
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 1
- 229920005684 linear copolymer Polymers 0.000 description 1
- 238000010907 mechanical stirring Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 239000005048 methyldichlorosilane Substances 0.000 description 1
- 239000002480 mineral oil Substances 0.000 description 1
- 235000010446 mineral oil Nutrition 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 description 1
- 239000003208 petroleum Substances 0.000 description 1
- PARWUHTVGZSQPD-UHFFFAOYSA-N phenylsilane Chemical class [SiH3]C1=CC=CC=C1 PARWUHTVGZSQPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002798 polar solvent Substances 0.000 description 1
- 229920002959 polymer blend Polymers 0.000 description 1
- 239000002861 polymer material Substances 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 238000012805 post-processing Methods 0.000 description 1
- XAEFZNCEHLXOMS-UHFFFAOYSA-M potassium benzoate Chemical compound [K+].[O-]C(=O)C1=CC=CC=C1 XAEFZNCEHLXOMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000010926 purge Methods 0.000 description 1
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 1
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- SBEQWOXEGHQIMW-UHFFFAOYSA-N silicon Chemical compound [Si].[Si] SBEQWOXEGHQIMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 229920005573 silicon-containing polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 1
- XHFLOLLMZOTPSM-UHFFFAOYSA-M sodium;hydrogen carbonate;hydrate Chemical class [OH-].[Na+].OC(O)=O XHFLOLLMZOTPSM-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000007711 solidification Methods 0.000 description 1
- 230000008023 solidification Effects 0.000 description 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 1
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 1
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
- UHUUYVZLXJHWDV-UHFFFAOYSA-N trimethyl(methylsilyloxy)silane Chemical compound C[SiH2]O[Si](C)(C)C UHUUYVZLXJHWDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G77/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
- C08G77/48—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule in which at least two but not all the silicon atoms are connected by linkages other than oxygen atoms
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G77/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
- C08G77/42—Block-or graft-polymers containing polysiloxane sequences
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G77/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
- C08G77/48—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule in which at least two but not all the silicon atoms are connected by linkages other than oxygen atoms
- C08G77/485—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule in which at least two but not all the silicon atoms are connected by linkages other than oxygen atoms containing less than 25 silicon atoms
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Silicon Polymers (AREA)
- Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、シロキサンとポリシラン特にポリ(ジメチル
シラン)とのオリゴマーおよび共重合体の製造に関する
。更に特定するに、本発明は、ユニークな光学的性質お
よび感光性を示すハロゲン末端オリゴマー並びにランダ
ム、ブロック、混成(ランダムとブロック)および変性
ブロック共重合体に関する。
シラン)とのオリゴマーおよび共重合体の製造に関する
。更に特定するに、本発明は、ユニークな光学的性質お
よび感光性を示すハロゲン末端オリゴマー並びにランダ
ム、ブロック、混成(ランダムとブロック)および変性
ブロック共重合体に関する。
本発明の背景
ポリシランは、広範な電子非局在化を示すけい素−けい
素結合と関連したいくつかの異例な特性ゆえに興味深い
。この異例な非局在化は、高い屈折率、紫外線周波数で
の高い吸光係数およびオレフィン様挙動と直接若しくは
間接的に関連づけられる。
素結合と関連したいくつかの異例な特性ゆえに興味深い
。この異例な非局在化は、高い屈折率、紫外線周波数で
の高い吸光係数およびオレフィン様挙動と直接若しくは
間接的に関連づけられる。
重合体フェニルシランは明らかに、今世紀の初めキラピ
ング(Kipping )により取得され、またポリ(
ジメチルシラン)としても知られるベルメチルポリシラ
ンは、1949年頃既に、Me、5iC12〔ここでM
eはメチル(CI(5)基を意味する〕をナトリウム縮
合するととKよって製造された。しかしながら、かかる
物質の光学的性質若しくは感光性を利用する、注目すべ
き応用物は何ら現われなかった。これは、ベンゼン、ト
ルエン、キシレンおよびナフサ石油シンナーの如き通常
の有機溶剤にはとんど又は全く溶けない高分子量シラy
重合体の取り扱いにくい性質の結果である。
ング(Kipping )により取得され、またポリ(
ジメチルシラン)としても知られるベルメチルポリシラ
ンは、1949年頃既に、Me、5iC12〔ここでM
eはメチル(CI(5)基を意味する〕をナトリウム縮
合するととKよって製造された。しかしながら、かかる
物質の光学的性質若しくは感光性を利用する、注目すべ
き応用物は何ら現われなかった。これは、ベンゼン、ト
ルエン、キシレンおよびナフサ石油シンナーの如き通常
の有機溶剤にはとんど又は全く溶けない高分子量シラy
重合体の取り扱いにくい性質の結果である。
この取り扱い困難という問題を排除するように重合体構
造を変性するいくつかの方策が講じられた。恐らく最も
よく知られているのは、1:2モル比のフェニルメチル
ジクロルシラントシメチルジクロルシランとをウルツー
フイツチツヒ縮合させ、それにより一つ置きのけい素原
子上でメチル基の代りにフェニル基を導入することによ
って誘導されろポリシランである。而して、フェニル基
の数が多くなると結晶性が急激に下がり、フェニル/メ
チル比が約1:3のときは、1(合体は非晶質で、融点
は200℃に近く、室温での有機浴剤によく溶ける。[
ポリシラスチレン」と呼称されるこの化合物は、ロバー
ト・ウェスト等により、ジャーナル・オブ・ジ・アメリ
カン・ケミカル・ソサイエテイ、103ニア352(1
981)で報告されている。
造を変性するいくつかの方策が講じられた。恐らく最も
よく知られているのは、1:2モル比のフェニルメチル
ジクロルシラントシメチルジクロルシランとをウルツー
フイツチツヒ縮合させ、それにより一つ置きのけい素原
子上でメチル基の代りにフェニル基を導入することによ
って誘導されろポリシランである。而して、フェニル基
の数が多くなると結晶性が急激に下がり、フェニル/メ
チル比が約1:3のときは、1(合体は非晶質で、融点
は200℃に近く、室温での有機浴剤によく溶ける。[
ポリシラスチレン」と呼称されるこの化合物は、ロバー
ト・ウェスト等により、ジャーナル・オブ・ジ・アメリ
カン・ケミカル・ソサイエテイ、103ニア352(1
981)で報告されている。
取り扱い困難という上記問題を排除する別の試みには、
メチル基を、エチル若しくはn−プロピル基の如き他の
炭化水素部分と置き換えることが含まれる。かかる置換
はいずれも、溶解性の問題を種々の度合いで解決するけ
れども、それによって、炭化水素対けい素化が高くなり
、そのためポリシランの光学的且つ熱的特性値が有意に
変動する。
メチル基を、エチル若しくはn−プロピル基の如き他の
炭化水素部分と置き換えることが含まれる。かかる置換
はいずれも、溶解性の問題を種々の度合いで解決するけ
れども、それによって、炭化水素対けい素化が高くなり
、そのためポリシランの光学的且つ熱的特性値が有意に
変動する。
本発明に従えば、基本的な一般式
%式%()
(ここでMeはメチル基であり、Rは低級アルキル又は
、アリールであり、mは4〜約60であり、nは1〜約
100であり、aおよびbは各々1〜約10であり、そ
してa単位とb単位は交互に配列している) を有する線状シラン−シロキサン共重合体が開発された
。本発明の共重合体は、オリゴマー、n=1〜9のラン
ダム(ミクロブロック)共重合体、n−10〜100の
ブロック(マクロブロック)共重合体および混成(ラン
ダムとブロック)共重合体の形状をなしうる。
、アリールであり、mは4〜約60であり、nは1〜約
100であり、aおよびbは各々1〜約10であり、そ
してa単位とb単位は交互に配列している) を有する線状シラン−シロキサン共重合体が開発された
。本発明の共重合体は、オリゴマー、n=1〜9のラン
ダム(ミクロブロック)共重合体、n−10〜100の
ブロック(マクロブロック)共重合体および混成(ラン
ダムとブロック)共重合体の形状をなしうる。
また、一般式
%式%()
(ココでMe、m、In、aおよびbは上に定義した通
りであり、R1は、或ろSi 原子上の低級アルキル
着しくはアリール基と、他のSi 原子上の、アクリ
レート、メタクリレート、ビニルおヨヒ他の不飽和官能
基よりなる群から選ばれる反応基にして、交互に存在し
うる) を有する変性共重合体も本発明の範囲内である。
りであり、R1は、或ろSi 原子上の低級アルキル
着しくはアリール基と、他のSi 原子上の、アクリ
レート、メタクリレート、ビニルおヨヒ他の不飽和官能
基よりなる群から選ばれる反応基にして、交互に存在し
うる) を有する変性共重合体も本発明の範囲内である。
本発明はまた、上記共1【合体の製造方法を包含する。
本発明方法のユニークな特徴は、先ずオリゴマーを形成
し次いで該オリゴマーをカップリングさせることによる
高分子量共重合体の逐次形成である。一般に、オリゴマ
ーは、ハロゲン化ジグロキザンとジハロシランとをリチ
ウム縮合で縮合させることにより製造され、高分子量シ
ラン−シロキサン共重合体はハロゲン末端オリゴマーを
ナトリウムで縮合させることにより製造される。換首す
るに、5i−0(シロキサン)結合は、リチウムでの縮
合によりポリシラン鎖中に導入され得、或いはポリシラ
ンはポリシロキサンによって封入されうる。
し次いで該オリゴマーをカップリングさせることによる
高分子量共重合体の逐次形成である。一般に、オリゴマ
ーは、ハロゲン化ジグロキザンとジハロシランとをリチ
ウム縮合で縮合させることにより製造され、高分子量シ
ラン−シロキサン共重合体はハロゲン末端オリゴマーを
ナトリウムで縮合させることにより製造される。換首す
るに、5i−0(シロキサン)結合は、リチウムでの縮
合によりポリシラン鎖中に導入され得、或いはポリシラ
ンはポリシロキサンによって封入されうる。
本発明のポリシラン−シロキサン共重合体は、光反応性
組成物、プロセスおよび応用物で用いることのできるユ
ニークな光学的性質および感光性を示す。
組成物、プロセスおよび応用物で用いることのできるユ
ニークな光学的性質および感光性を示す。
好ましい実施態様の説明
ポリシラン−シロキサン共重合体(本明細書中この用語
は、オリゴマー、ランダム共重合体、ブロック共重合体
、混成共重合体又は変性共重合体を含むものとして総称
的に用いられる)は、けい素−けい素(Si −St又
はシラン)結合4〜30個のブロックにして該ブロック
間にけい素−酸素(シロキサン)結合1〜100個を介
在させたものより成る。而して、少くとも4個(什学童
論的平均値)好ましくは少くとも5個若しくは6個の連
続Si−S+結合のあとシロキサン結合1個を介在させ
たものが本発明の重要部分をなす。
は、オリゴマー、ランダム共重合体、ブロック共重合体
、混成共重合体又は変性共重合体を含むものとして総称
的に用いられる)は、けい素−けい素(Si −St又
はシラン)結合4〜30個のブロックにして該ブロック
間にけい素−酸素(シロキサン)結合1〜100個を介
在させたものより成る。而して、少くとも4個(什学童
論的平均値)好ましくは少くとも5個若しくは6個の連
続Si−S+結合のあとシロキサン結合1個を介在させ
たものが本発明の重要部分をなす。
上記式IおよびIIにおいてaおよびbがn == 1
〜9のランダムで交互配列しているなら、その共重合体
はランダム若しくはミクロブロック共重合体と呼称され
る。かかる共重合体には、本質上均質な挙動(すなわち
シラン特性とシロキサン特性との組合せ)があり、而し
て該共1t合体はシリコーン溶剤に溶けず、T )f
Fその他の極性溶剤にのみ溶ける。もし、5t−O結合
が10個以上連続して存在する(すなわちn=10〜約
100)なら、その共重合体はブロック若しくはマクロ
ブロック共重合体と呼称される。このような共重合体は
、ヘキザメチルジンロキサンその他のシリコ−ン溶剤に
溶ける如きシロキサン特性(シリコーン若しくはシロキ
サン型挙動)をより多く示す傾向がある。
〜9のランダムで交互配列しているなら、その共重合体
はランダム若しくはミクロブロック共重合体と呼称され
る。かかる共重合体には、本質上均質な挙動(すなわち
シラン特性とシロキサン特性との組合せ)があり、而し
て該共1t合体はシリコーン溶剤に溶けず、T )f
Fその他の極性溶剤にのみ溶ける。もし、5t−O結合
が10個以上連続して存在する(すなわちn=10〜約
100)なら、その共重合体はブロック若しくはマクロ
ブロック共重合体と呼称される。このような共重合体は
、ヘキザメチルジンロキサンその他のシリコ−ン溶剤に
溶ける如きシロキサン特性(シリコーン若しくはシロキ
サン型挙動)をより多く示す傾向がある。
理解すべきは、ミクロブロック(n−1〜9)共重合体
とマクロブロック(n=10〜100)共重合体との間
の区切りが幾分恣意的であるということ、而してそれは
、均質挙動とシロキサン型挙動との間に性質上の断絶が
あり且つまた合成方法が変化する(塩素若しくはシラノ
ール末端オリゴマーとポリシロキサンオリゴマーとのカ
ップリングの如き結合によりマクロブロック共重合体同
士が一緒になる)ところの近似点として選定されたとい
うことである。実際上、断絶点は約6若しくは7の如き
低い値でありうる。
とマクロブロック(n=10〜100)共重合体との間
の区切りが幾分恣意的であるということ、而してそれは
、均質挙動とシロキサン型挙動との間に性質上の断絶が
あり且つまた合成方法が変化する(塩素若しくはシラノ
ール末端オリゴマーとポリシロキサンオリゴマーとのカ
ップリングの如き結合によりマクロブロック共重合体同
士が一緒になる)ところの近似点として選定されたとい
うことである。実際上、断絶点は約6若しくは7の如き
低い値でありうる。
ランダムとブロックの混成共1合体も赤本発明を構成す
る。例えば、重合体のポリシランに富む部分は、4〜3
0単位毎にシロキサン結合で無作為に遮断され次いでシ
ロキサン結合10〜100個連続したシロキサン部分へ
と推移しうる。仮想的例として下記のものを示すことが
できる:ランダム AAAAAFW清ん田ん精AAAA
I侶AAAAAA本発明のポリシラン−シロキサン共重
合体の基本的一般式は、高度に簡素化した既述の式Iに
よって表わすことができる。そこに使用せる記号Meは
メチル(CM、)基を表わす。Rは好ましくは、低級ア
ルキル(通常メチル)又はアリール(通常フェニル)で
あるが、他の有機基で置き換えうろことは当業者に理解
されよう。しかしながら、先に記した如く、炭化水素対
けい素化が高くなると、化合物の光学的熱待件値が有意
に変化するので、R基を小さく保つことは一般に望まし
い。
る。例えば、重合体のポリシランに富む部分は、4〜3
0単位毎にシロキサン結合で無作為に遮断され次いでシ
ロキサン結合10〜100個連続したシロキサン部分へ
と推移しうる。仮想的例として下記のものを示すことが
できる:ランダム AAAAAFW清ん田ん精AAAA
I侶AAAAAA本発明のポリシラン−シロキサン共重
合体の基本的一般式は、高度に簡素化した既述の式Iに
よって表わすことができる。そこに使用せる記号Meは
メチル(CM、)基を表わす。Rは好ましくは、低級ア
ルキル(通常メチル)又はアリール(通常フェニル)で
あるが、他の有機基で置き換えうろことは当業者に理解
されよう。しかしながら、先に記した如く、炭化水素対
けい素化が高くなると、化合物の光学的熱待件値が有意
に変化するので、R基を小さく保つことは一般に望まし
い。
式I中その両端のダッシュは、共重合体の未特定末端基
への結合を示している。普通、これらは、シランおよび
シロキサン化学における通常の反応体の性質上ハロゲン
又はヒドロキシル基であるが、特に下記変性共重合体を
形成するときは他の末端基も可能である。
への結合を示している。普通、これらは、シランおよび
シロキサン化学における通常の反応体の性質上ハロゲン
又はヒドロキシル基であるが、特に下記変性共重合体を
形成するときは他の末端基も可能である。
本発明の共重合体は線状共重合体であって、英国特許明
細書第675.921号および同第685648号のポ
リシラン−シロキサン物質の如く、加水分解性基3個を
有する単量体の導入により製せられる枝分れ若しくは架
橋樹脂物質とは区別される。本発明の共1合体中シラン
単位は各々少くとも4単位のブロックをなしているので
、隣接シロキサン単位からのけい素原子と一緒になると
、シロキサン結合で遮断される前に少くとも4個の連続
Si −Si結合があることになる。好ましくは、4〜
30個(より好ましくは5若しくは6〜30個)の連続
シラン単位があるが、それより多いシラン単位も可能で
ある。
細書第675.921号および同第685648号のポ
リシラン−シロキサン物質の如く、加水分解性基3個を
有する単量体の導入により製せられる枝分れ若しくは架
橋樹脂物質とは区別される。本発明の共1合体中シラン
単位は各々少くとも4単位のブロックをなしているので
、隣接シロキサン単位からのけい素原子と一緒になると
、シロキサン結合で遮断される前に少くとも4個の連続
Si −Si結合があることになる。好ましくは、4〜
30個(より好ましくは5若しくは6〜30個)の連続
シラン単位があるが、それより多いシラン単位も可能で
ある。
式I中nは、連続するシロキサン単位の数を示し、好ま
しくは1〜100範囲であるが、より多いシロキサン単
位が含まれうる。ランダム共重合体を形成する場合、1
〜9単位が、シラン単位少くとも4個のブロックを遮断
する。ブロック共重合体を形成する場合、各々約10〜
100単位のシロキサンブロックがシラン単位少くとも
4個のブロック(鎖状物)を遮断する。
しくは1〜100範囲であるが、より多いシロキサン単
位が含まれうる。ランダム共重合体を形成する場合、1
〜9単位が、シラン単位少くとも4個のブロックを遮断
する。ブロック共重合体を形成する場合、各々約10〜
100単位のシロキサンブロックがシラン単位少くとも
4個のブロック(鎖状物)を遮断する。
連続(遮断されない)シラン鎖およびシロキサン鎖(若
しくは単位)の数は明確な上限を有さないが、一般的に
aおよびbは各々約10より高くはない。いずれにせよ
、共重合体中シラン単位の総数はm x aであり、シ
ロキサン単位の総数はn×bである。熱論、上記の仮想
的例で示される如く、mおよびiは重合体鎖全体にわた
って変化しうる。
しくは単位)の数は明確な上限を有さないが、一般的に
aおよびbは各々約10より高くはない。いずれにせよ
、共重合体中シラン単位の総数はm x aであり、シ
ロキサン単位の総数はn×bである。熱論、上記の仮想
的例で示される如く、mおよびiは重合体鎖全体にわた
って変化しうる。
屈折率は、シラン単位数対シロキサン単位数の好適な尺
度である。なぜなら、シロキサンの屈折率は非常に低く
、またシランの屈折率は非常に高いからである。本発明
の共重合体をシラン−シロキサン含量で示すことができ
る。例えば、後記例2の共重合体は、(9ON)ジメチ
ルシラン−(10%)ジメチルシロキサン共重合体と呼
称しうる。
度である。なぜなら、シロキサンの屈折率は非常に低く
、またシランの屈折率は非常に高いからである。本発明
の共重合体をシラン−シロキサン含量で示すことができ
る。例えば、後記例2の共重合体は、(9ON)ジメチ
ルシラン−(10%)ジメチルシロキサン共重合体と呼
称しうる。
本発明の共重合体は別の単量体の編入により特定態様で
変性しうる。例えば、本発明のポリシラン−シロキサン
共重合体にアクリレート官能側基を編入しうる。このよ
うに変性したポリシラン−シロキサン共重合体は、大巾
に簡素化せる既述の一般式Hによって表わすことができ
る。
変性しうる。例えば、本発明のポリシラン−シロキサン
共重合体にアクリレート官能側基を編入しうる。このよ
うに変性したポリシラン−シロキサン共重合体は、大巾
に簡素化せる既述の一般式Hによって表わすことができ
る。
この式■中Tt’ は式1のRと同じでありうるが、シ
ロキサン単位の任意鎖中一つ置きのSi 原子上にあ
って、R1基は、アクリレート、メタクリレートその他
の不飽和置換基(特にビニル)から選ばれる反応基であ
りうる。
ロキサン単位の任意鎖中一つ置きのSi 原子上にあ
って、R1基は、アクリレート、メタクリレートその他
の不飽和置換基(特にビニル)から選ばれる反応基であ
りうる。
本発明の共重合体はユニークな光学的性質および感光性
を示し、種々の普通有機浴剤に可溶の液体若しくは固体
形状で製造することができる。特に、シラン−シロキサ
ン共重合体は放射軸に対し著しい感度を示す。その特定
構造ないし処方に依拠して、該共重合体は、非局在化に
より電子ビーム又は紫外線に応答し、アクリレート重合
若しくは架橋用光開始剤として挙動する。後記の例4お
よび例8は、アクリレート重合用開始剤として作用する
ときの本発明共1合体の光活性を例示する。
を示し、種々の普通有機浴剤に可溶の液体若しくは固体
形状で製造することができる。特に、シラン−シロキサ
ン共重合体は放射軸に対し著しい感度を示す。その特定
構造ないし処方に依拠して、該共重合体は、非局在化に
より電子ビーム又は紫外線に応答し、アクリレート重合
若しくは架橋用光開始剤として挙動する。後記の例4お
よび例8は、アクリレート重合用開始剤として作用する
ときの本発明共1合体の光活性を例示する。
本発明に従った共重合体の一般的合成方法は、ポリシラ
ン−シロキサン共重合体又はポリシランのハロゲン末端
オリゴマーを形成し次いでオリゴマー同士又はオリゴマ
ーと別の高分子量シラノール末端シロキサ7棟とをカッ
プリングさせることを包含する。合成方法は、わかりや
すくするため大巾に簡素化した下記等式により例示され
うる。
ン−シロキサン共重合体又はポリシランのハロゲン末端
オリゴマーを形成し次いでオリゴマー同士又はオリゴマ
ーと別の高分子量シラノール末端シロキサ7棟とをカッ
プリングさせることを包含する。合成方法は、わかりや
すくするため大巾に簡素化した下記等式により例示され
うる。
該等式には塩素化合物が一例として示されており、また
該化合物は斯界で最も一般的であるが、他のハロゲン化
化合物も用いうろことは理解されよう。
該化合物は斯界で最も一般的であるが、他のハロゲン化
化合物も用いうろことは理解されよう。
同様に、反応条件についても、それが当業者に明らかな
けい素化学の類似反応に似ているので、ここで詳述する
ことはしない。而して、特定重合体種の製造に関する特
定の反応条件は、後記例に基いて当業者が付加的日常実
験のみにより決定することができる。
けい素化学の類似反応に似ているので、ここで詳述する
ことはしない。而して、特定重合体種の製造に関する特
定の反応条件は、後記例に基いて当業者が付加的日常実
験のみにより決定することができる。
本発明の共1合体が画体か液体かは種々の要素に依存す
るが、重要性の高いものから挙げれば、該要素にはSi
−Si結合(該結合は固体に有利な「堅固な」結合で
ある)の数、R基の種類(例えばフェニルは固体に有利
である)および全1合度(DP)が含まれる。DPは容
易には調節されないが、ナトリウムカップリングの使用
によって、より高いDPがもたらされる。
るが、重要性の高いものから挙げれば、該要素にはSi
−Si結合(該結合は固体に有利な「堅固な」結合で
ある)の数、R基の種類(例えばフェニルは固体に有利
である)および全1合度(DP)が含まれる。DPは容
易には調節されないが、ナトリウムカップリングの使用
によって、より高いDPがもたらされる。
ポリシラン−シロキサンオリゴマーは、ハロゲン化ジシ
ロキサンとジハロシランとをリチウム縮合により縮合さ
せることによって調製されうる。
ロキサンとジハロシランとをリチウム縮合により縮合さ
せることによって調製されうる。
一般に、この反応は、テトラヒドロフラン(THF)の
如き有機溶剤にリチウム金属を分散させたものに反応体
を加えることにより室温で実施される。
如き有機溶剤にリチウム金属を分散させたものに反応体
を加えることにより室温で実施される。
液体オリゴマーは減圧下ストリッピング処理して溶剤を
除去する。この反応は、塩素末端ベルメチルポリシラン
−シロキサンオリゴマーを形成するジメチルジクロルシ
ランと1.3−ジクロルテトラメチルジシロキサンとの
下記反応式によって例示されうる: このポリシラン−シロキサンオリゴマーは、より高分子
量の共重合体が所望されるか或いはより低分子量の共重
合体が所望されるかに依って二つのルートのうちのいず
れかで本発明のランダム共重合体を形成するのに用いる
ことができる。より低分子量の共重合体(xく約10)
は、下記反応式 %式%() が示す如く、ハロゲン末端ポリシラン−シロキサンオリ
ゴマーをナトリウム縮合により縮合させることによって
形成されうる。
除去する。この反応は、塩素末端ベルメチルポリシラン
−シロキサンオリゴマーを形成するジメチルジクロルシ
ランと1.3−ジクロルテトラメチルジシロキサンとの
下記反応式によって例示されうる: このポリシラン−シロキサンオリゴマーは、より高分子
量の共重合体が所望されるか或いはより低分子量の共重
合体が所望されるかに依って二つのルートのうちのいず
れかで本発明のランダム共重合体を形成するのに用いる
ことができる。より低分子量の共重合体(xく約10)
は、下記反応式 %式%() が示す如く、ハロゲン末端ポリシラン−シロキサンオリ
ゴマーをナトリウム縮合により縮合させることによって
形成されうる。
より高分子量のランダム共重合体(x>約10)が望ま
しいときは、下記反応式 が示1−如く、オリゴマーを加水分解させることができ
る。
しいときは、下記反応式 が示1−如く、オリゴマーを加水分解させることができ
る。
後者の加水分解反応を敷えんして、ハロゲン末端ポリシ
ラン−シロキサンオリゴマーとシラノール末端有機官能
シロキサンおよびハロゲン化有機官能シランとを反応さ
せることにより、アクリレート若しくはメタクリレート
変性ポリシラン−シロキサン共重合体の如き変性共1合
体を形成することができる。これらは好ましくはシロキ
サンを有するブロック共重合体、特にシラノール末端ボ
リジメチルシロキサンである。この方法は、塩素末端ポ
リシラン−シロキサンオリゴマーと、シラノール末端ポ
リジメチルシロキサンおよび反応性官能メチルジクロル
シランとの下記反応式によって例示される: 別法として、共重合体は、ノ・ロゲン末端ベルメチルシ
ランオリゴマーから諌導されうる。後者は二つのルート
のうちいずれかで遂行されうる。一方のルートは、下記
一般式 が例示する如く環状ベルメチルシランを塩素化すること
を包含する。他のルートは、下記ジメチルジクロルシラ
ンの縮合: JI SiMe2C12−−→C1(S iMe2)mC1(
■)が例示する如く、ジメチルジハロシランをリチウム
縮合させることを包含する。
ラン−シロキサンオリゴマーとシラノール末端有機官能
シロキサンおよびハロゲン化有機官能シランとを反応さ
せることにより、アクリレート若しくはメタクリレート
変性ポリシラン−シロキサン共重合体の如き変性共1合
体を形成することができる。これらは好ましくはシロキ
サンを有するブロック共重合体、特にシラノール末端ボ
リジメチルシロキサンである。この方法は、塩素末端ポ
リシラン−シロキサンオリゴマーと、シラノール末端ポ
リジメチルシロキサンおよび反応性官能メチルジクロル
シランとの下記反応式によって例示される: 別法として、共重合体は、ノ・ロゲン末端ベルメチルシ
ランオリゴマーから諌導されうる。後者は二つのルート
のうちいずれかで遂行されうる。一方のルートは、下記
一般式 が例示する如く環状ベルメチルシランを塩素化すること
を包含する。他のルートは、下記ジメチルジクロルシラ
ンの縮合: JI SiMe2C12−−→C1(S iMe2)mC1(
■)が例示する如く、ジメチルジハロシランをリチウム
縮合させることを包含する。
次いで、ハロゲン末端ベルメチルシランオリゴマーは、
下記反応式 が例示する如く、本発明に従ってヒドロキシル末端ポリ
シラン−シロキサンランダム共重合体を形成すべく好ま
しくは飽和炭酸水素ナトリウム溶液中で加水分解されう
る。
下記反応式 が例示する如く、本発明に従ってヒドロキシル末端ポリ
シラン−シロキサンランダム共重合体を形成すべく好ま
しくは飽和炭酸水素ナトリウム溶液中で加水分解されう
る。
もしブロック共重合体が望ましいなら、加水分解は、下
記反応式 %式%) に示される如くシラノール末端ポリジメチルシロキサン
の如きシラノール末端有機官能シロキサンを用いて遂行
されろ。
記反応式 %式%) に示される如くシラノール末端ポリジメチルシロキサン
の如きシラノール末端有機官能シロキサンを用いて遂行
されろ。
本発明の共重合体、方法および使用を更に詳述するため
に非制限的特定例を以下に示す。特配せぬ限り、屈折率
および比重を25℃で測定した。
に非制限的特定例を以下に示す。特配せぬ限り、屈折率
および比重を25℃で測定した。
分子量の測定はGPCスチロゲルカラム(多孔性500
人および1000人)によって行ない、ピークポリスチ
レン分子量とポリシラン分子量との相関係数(tS〜3
)を適用した。
人および1000人)によって行ない、ピークポリスチ
レン分子量とポリシラン分子量との相関係数(tS〜3
)を適用した。
例 1
ベルメチルデカシランージンロキサンオリゴマー)”
の製造 1: 51四つロフラスコにガラス製機械攪拌
器、添加漏斗、ドライアイス冷却器および窒素パージを
取付けた。これにテトラヒドロフラン(THF):′
21中リチウム金属31 g(4,5モル)の分
散体を装入した。機械攪拌を開始し、1.3−ジクロル
□、 テトラメチルジシロキサン49m1(0,
25モル)とジメチルジクロルシラン242m1(2モ
ル) トの混合物(Wtj t 291 tnl )の
うち4omA!を加えた。
の製造 1: 51四つロフラスコにガラス製機械攪拌
器、添加漏斗、ドライアイス冷却器および窒素パージを
取付けた。これにテトラヒドロフラン(THF):′
21中リチウム金属31 g(4,5モル)の分
散体を装入した。機械攪拌を開始し、1.3−ジクロル
□、 テトラメチルジシロキサン49m1(0,
25モル)とジメチルジクロルシラン242m1(2モ
ル) トの混合物(Wtj t 291 tnl )の
うち4omA!を加えた。
約30分後、穏和な発熱が観察された。更に30分間混
合物をかき混ぜた。それは薄い緑色を呈した。上記混合
物の残部を加えた。色は漸次紫色に変わり次いで黒くな
った。この添加のあいだ、温度は50〜65℃であった
。総量291d混合物の添加時間は全体で5時間であっ
た。溶剤層をデカンテーションして塩を分離した。これ
をゼータ・フィルターパッドで炉遇し、減圧下40℃で
ストリッピング処理した。GPCは、生成物(オリゴマ
ー)が9〜18の平均重合度を有することを示した。オ
リゴマーはまた、t495の屈折率(23℃)およびQ
、89〜α90の密度(20℃)を有した。オリゴマー
は塩素で終端した。低粘度液体(オリゴマー)は230
nmで最大のUV吸収を示した。
合物をかき混ぜた。それは薄い緑色を呈した。上記混合
物の残部を加えた。色は漸次紫色に変わり次いで黒くな
った。この添加のあいだ、温度は50〜65℃であった
。総量291d混合物の添加時間は全体で5時間であっ
た。溶剤層をデカンテーションして塩を分離した。これ
をゼータ・フィルターパッドで炉遇し、減圧下40℃で
ストリッピング処理した。GPCは、生成物(オリゴマ
ー)が9〜18の平均重合度を有することを示した。オ
リゴマーはまた、t495の屈折率(23℃)およびQ
、89〜α90の密度(20℃)を有した。オリゴマー
は塩素で終端した。低粘度液体(オリゴマー)は230
nmで最大のUV吸収を示した。
例 2
ベルメチルデカシラン−ジシロキサン高分子物質の製造
250d三つロフラスコに電解ナトリウムビース2.3
fiとトルエン100′lLlを装入した。このフラ
スコにハーシュバーグ(Hersbberg )攪拌機
、添加漏斗および冷却器を設置した。上記の混合物を高
速でかぎ混ぜながら約100℃に加熱したのち60℃に
冷却することによって、ナトリウム分散体を製造した。
fiとトルエン100′lLlを装入した。このフラ
スコにハーシュバーグ(Hersbberg )攪拌機
、添加漏斗および冷却器を設置した。上記の混合物を高
速でかぎ混ぜながら約100℃に加熱したのち60℃に
冷却することによって、ナトリウム分散体を製造した。
例1からの塩素末端オリゴマー(22,5,!?)を3
0分間にわたって加えた。色が濃い紫に変わった。混合
物をかき混ぜながら60℃で4〜5時間加熱した。室温
に冷却後テトラヒドロフラン25m1!中水約2 ml
の混合物を緩徐に加えた。わずかな発泡が観察された。
0分間にわたって加えた。色が濃い紫に変わった。混合
物をかき混ぜながら60℃で4〜5時間加熱した。室温
に冷却後テトラヒドロフラン25m1!中水約2 ml
の混合物を緩徐に加えた。わずかな発泡が観察された。
紫色は薄くなったが、消えなかった。水25m1を加え
たところ、わずかに残っていた紫色が消失した。溶剤層
を分離し、水で2回洗浄し、次いで減圧下ス) IJツ
ビングした。得られた重合体物質の屈折率は23℃で1
499であり、比重は0.94であった。該物質は凝固
点18〜20℃の粘稠液体であり、240nmおよび2
55 nmでUV吸収を示した。GPCは、高分子1i
(4500〜9000)部分と出発物質に類似の分子量
部分(MW約500〜1000)よりなる、二つのモー
ドのある分布を示tまた。
たところ、わずかに残っていた紫色が消失した。溶剤層
を分離し、水で2回洗浄し、次いで減圧下ス) IJツ
ビングした。得られた重合体物質の屈折率は23℃で1
499であり、比重は0.94であった。該物質は凝固
点18〜20℃の粘稠液体であり、240nmおよび2
55 nmでUV吸収を示した。GPCは、高分子1i
(4500〜9000)部分と出発物質に類似の分子量
部分(MW約500〜1000)よりなる、二つのモー
ドのある分布を示tまた。
例 6
ベルメチルペンタシラン−ジシロキサン]j 合体ノ製
造 例1のオリゴマーを過剰の炭酸水素ナトリウム飽和水に
加え、24時間かき混ぜた。if重合体ヘキサンで抽出
し、濾過し、40℃でストリッピングした。化合物の屈
折率はt491であった。この物質は液体であり、10
℃に冷却されるまで凝固のきざしを示さなかった。元素
分析と、1225および1235での赤外ピーク比の比
較から、得られた重合体をベルメチルペンタシラン−ジ
シロキサン重合体と記しうろことがわかった。主なUV
吸収は235 nmであった。分子量は約4500〜9
000であった。
造 例1のオリゴマーを過剰の炭酸水素ナトリウム飽和水に
加え、24時間かき混ぜた。if重合体ヘキサンで抽出
し、濾過し、40℃でストリッピングした。化合物の屈
折率はt491であった。この物質は液体であり、10
℃に冷却されるまで凝固のきざしを示さなかった。元素
分析と、1225および1235での赤外ピーク比の比
較から、得られた重合体をベルメチルペンタシラン−ジ
シロキサン重合体と記しうろことがわかった。主なUV
吸収は235 nmであった。分子量は約4500〜9
000であった。
例 4
シラン−シロキサン1(合体によるUV開始アクリルオ
キシプロピルメチルジメチルジシロキサン共重合体を3
枚のガラススライドにフィルムとして塗布した。一枚は
共重合体のみのフィルムと1.、三枚用は共重合体にエ
チルベンゾイン5%を溶かしたもののフィルムとし、そ
して三枚用は共重合体に例2のシランシロキザン重合体
5Xを溶かしたもののフィルムとした。これら3枚のフ
ィルムラ大気下フュージョンD200’7ツ)UV線に
5秒間暴露した。共重合体のみの試料は何ら硬化を示さ
なかった。エチルベンゾインとシラン−シロキサン重合
体混合物は、各共重合体フィルムの重合を光開始した。
キシプロピルメチルジメチルジシロキサン共重合体を3
枚のガラススライドにフィルムとして塗布した。一枚は
共重合体のみのフィルムと1.、三枚用は共重合体にエ
チルベンゾイン5%を溶かしたもののフィルムとし、そ
して三枚用は共重合体に例2のシランシロキザン重合体
5Xを溶かしたもののフィルムとした。これら3枚のフ
ィルムラ大気下フュージョンD200’7ツ)UV線に
5秒間暴露した。共重合体のみの試料は何ら硬化を示さ
なかった。エチルベンゾインとシラン−シロキサン重合
体混合物は、各共重合体フィルムの重合を光開始した。
アクリレート官能シロキサンは光開始剤の存在でUV線
に敏感であった。
に敏感であった。
本例は、基本的な光開始剤であるエチルベンゾインに似
た態様で本発明のシラン−シロキサン共重合体が光開始
することを示している。
た態様で本発明のシラン−シロキサン共重合体が光開始
することを示している。
例 5
例1に記載したと同じ条件下で、テトラヒドロフラン中
27.9’のリチウム金属分散体にジメチルジクロルシ
ラン218m1とジクロルテトラメチルジシロキサン1
9.6 N/どの混合物を加えた。有機部分を分離後0
〜10℃で48時間貯蔵した。ドデカメチルシクロヘキ
ザシランの結晶が沈殿した。
27.9’のリチウム金属分散体にジメチルジクロルシ
ラン218m1とジクロルテトラメチルジシロキサン1
9.6 N/どの混合物を加えた。有機部分を分離後0
〜10℃で48時間貯蔵した。ドデカメチルシクロヘキ
ザシランの結晶が沈殿した。
この混合物を濾過して塩素末端オリゴマーを得た。
この物質は21℃でt501の屈折率を有した。
元素分析の結果、化学量論的にSi −0−Si結合1
つにつきSi −Si結合約15の比が示された。
つにつきSi −Si結合約15の比が示された。
また、本例のオリゴマーは2 is 5 nmおよび2
75nmでUV最大を示した。分子量は約500〜10
00であった。
75nmでUV最大を示した。分子量は約500〜10
00であった。
例 6
i、6−ジクロルテトラメチルジシロキサンの代りに1
3−ジクロル−1,3−ジフェニル−1,3−ジメチル
ジシロキサンを用いたほかは例1の方法を繰返した。反
応が類似態様で進行した。初期発熱後、反応混合物は褐
色になり、最終的に赤橙色になったのち塩化リチウムが
沈殿して混合物が透明になった。後処理により、分子′
jj1550〜1000.25℃での屈折率t547を
有するオリゴマーが得られた。それは235,250.
25 B、275および285 nmでUV最大吸収を
示した。
3−ジクロル−1,3−ジフェニル−1,3−ジメチル
ジシロキサンを用いたほかは例1の方法を繰返した。反
応が類似態様で進行した。初期発熱後、反応混合物は褐
色になり、最終的に赤橙色になったのち塩化リチウムが
沈殿して混合物が透明になった。後処理により、分子′
jj1550〜1000.25℃での屈折率t547を
有するオリゴマーが得られた。それは235,250.
25 B、275および285 nmでUV最大吸収を
示した。
例 7
例3に記載の条件下、例6のオリゴマーをナトリウムで
処理した。固体の重合体は約2500〜40000分子
量および15585の屈折率を有した。それはまた、2
35.250.258.275および285 nmで例
6と同様のUV最大吸収を示した。
処理した。固体の重合体は約2500〜40000分子
量および15585の屈折率を有した。それはまた、2
35.250.258.275および285 nmで例
6と同様のUV最大吸収を示した。
シラン−シロキサン共重合体の有意な特性の一つは、下
記例8に示すシリコーン重合体において光活性ブロック
を形成しうろことである。
記例8に示すシリコーン重合体において光活性ブロック
を形成しうろことである。
例 8
電磁攪拌機を備えた2501nlフラスコに未抑制(B
HT不含)テトラヒドロフラン25ytrlとOH含量
約2.5重量%のシラノール末端ポリジメチルシロキサ
ン(MW1700)6gを装入した。
HT不含)テトラヒドロフラン25ytrlとOH含量
約2.5重量%のシラノール末端ポリジメチルシロキサ
ン(MW1700)6gを装入した。
アクリルオキシプロピルメチル−ジクロルシラン(8g
)を加えた。この混合物を16時間かき混ぜた。例5か
らのベルメチルシラン−シロキサンオリゴマー(6g)
を加えたのち、50:50のTHF/水混合物1011
11を加えた。20分後、この混合物を分液漏斗に注ぎ
入れ、水で3回洗浄匂だ。1合体を減圧下40℃でスト
リッピングした。
)を加えた。この混合物を16時間かき混ぜた。例5か
らのベルメチルシラン−シロキサンオリゴマー(6g)
を加えたのち、50:50のTHF/水混合物1011
11を加えた。20分後、この混合物を分液漏斗に注ぎ
入れ、水で3回洗浄匂だ。1合体を減圧下40℃でスト
リッピングした。
得られた生成物は、予想された、(ベルメチルシラン−
ジシロキサン)−(アクリルオキシプロピルメチルシロ
キサン)−(ジメチルシロキサン)ブロック重合体のI
Rを示した。ブロック重合体の粘度は100〜20Oc
tsk であり、23℃での屈折率は1448であっ
た。
ジシロキサン)−(アクリルオキシプロピルメチルシロ
キサン)−(ジメチルシロキサン)ブロック重合体のI
Rを示した。ブロック重合体の粘度は100〜20Oc
tsk であり、23℃での屈折率は1448であっ
た。
この液体重合体をガラススライドの表面に被覆し、大気
中フュージョンD200ワット紫外線源に約1秒間暴露
した。この物質は硬化してフィルムを形成した。フィル
ムの屈折率はt454であった。
中フュージョンD200ワット紫外線源に約1秒間暴露
した。この物質は硬化してフィルムを形成した。フィル
ムの屈折率はt454であった。
アクリルオキシプロピルメチルジクロルシランを加えず
に例8を繰返したところ、変性物とは異なる単純ブロッ
ク共重合体が得られた。
に例8を繰返したところ、変性物とは異なる単純ブロッ
ク共重合体が得られた。
例 9
体水素置換物
頭上攪拌機、冷却器およびポット温度計を備えた121
四つロフラスコを窒累でガスシールした。
四つロフラスコを窒累でガスシールした。
このフラスコに乾燥テトラヒドロフラン8ノと棒状カリ
ウム815gを装入した。カリウムは、鉱油を除くため
に予めヘキサンで洗浄しておいた。
ウム815gを装入した。カリウムは、鉱油を除くため
に予めヘキサンで洗浄しておいた。
最大限にかき混ぜながら、不溶性高分子量ポリジメチル
シランを100Iずつ5回に分けて加え分散させた。ス
ラリーを加熱還流させた。数時間後、カリウムは溶解し
、小球物を形成した。続く3〜4日間、混合物はこはく
色になり、重合体が溶解した。混合物を2〜6週間還流
させたのちこれを冷却せしめた。該混合物をデカンテー
ションによりカリウム塩から分離し、ガラスウールで戸
遇し、次いで等容量のヘキサンに溶かした。溶液を、は
とんどのテトラヒドロフランが抽出されるまで水で十分
洗浄した。少量の固体重合体が沈殿した。
シランを100Iずつ5回に分けて加え分散させた。ス
ラリーを加熱還流させた。数時間後、カリウムは溶解し
、小球物を形成した。続く3〜4日間、混合物はこはく
色になり、重合体が溶解した。混合物を2〜6週間還流
させたのちこれを冷却せしめた。該混合物をデカンテー
ションによりカリウム塩から分離し、ガラスウールで戸
遇し、次いで等容量のヘキサンに溶かした。溶液を、は
とんどのテトラヒドロフランが抽出されるまで水で十分
洗浄した。少量の固体重合体が沈殿した。
これを沖別した。減圧下でヘキサンをストリッピングし
た。得られた液状重合体は22℃でt5561の屈折率
を有した。赤外は、2055cIIl−1での強い吸収
により立証される如くメチル基に取って代り水素置換が
導入された証拠を提示した。G P Cはλ(W)12
00を示した。
た。得られた液状重合体は22℃でt5561の屈折率
を有した。赤外は、2055cIIl−1での強い吸収
により立証される如くメチル基に取って代り水素置換が
導入された証拠を提示した。G P Cはλ(W)12
00を示した。
当業者により認識されるように、本発明の広い概念から
逸脱することなく、本発明の上記実施例に対して変更を
なしうる。それゆえ、本発明は、開示せる特定の実施態
様に限定されず、前掲特許請求の範囲によって画成され
る本発明の範囲および精神内にある全ての修正を包括す
ることは理解されよう。
逸脱することなく、本発明の上記実施例に対して変更を
なしうる。それゆえ、本発明は、開示せる特定の実施態
様に限定されず、前掲特許請求の範囲によって画成され
る本発明の範囲および精神内にある全ての修正を包括す
ることは理解されよう。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、一般式 〔(SiMe_2)_m〕_a〔(OSiMeR)_n
〕_b(ここでMeはメチル基であり、Rは低級アルキ
ル又はアリールであり、mは4〜約30であり、nは1
〜約100であり、aおよびbは各々1〜約10であり
、そしてa単位とb単位は交互に配列している) の線状ポリシラン−シロキサン共重合体。 2、nが1〜約9のランダム共重合体である、特許請求
の範囲第1項記載のポリシラン−シロキサン共重合体。 3、nが約10〜約100のブロック共重合体である、
特許請求の範囲第1項記載のポリシラン−シロキサン共
重合体。 4、オリゴマーである、特許請求の範囲第1項記載のポ
リシラン−シロキサン共重合体。 5、光反応性である、特許請求の範囲第1項記載のポリ
シラン−シロキサン共重合体。 6、共重合体が、いくらかのシロキサンにアクリレート
官能側基を編入させることにより変性される、特許請求
の範囲第1項記載のポリシラン−シロキサン共重合体。 7、一般式 〔(SiMe_2)_m〕_a〔(OSiMeR′)_
n)_b(ここでMeはメチル基であり、R′は、或る
Si原子上の低級アルキル若しくはアリール基と、他の
Si原子上の、アクリレート、メタクリレート、ビニル
および他の不飽和官能基よりなる群から選ばれる反応基
にして、交互に存在しており、mは4〜約30であり、
nは1〜約100であり、aおよびbは各々1〜約10
であり、そしてa単位とb単位は交互に配列している〕 の変性線状ポリシラン−シロキサン共重合体。 8、nが約10〜約100のブロック共重合体である、
特許請求の範囲第7項記載の変性ポリシラン、シロキサ
ン共重合体。 9、特許請求の範囲第2項に記載せる高分子量線状ポリ
シラン−シロキサンランダム共重合体の製造方法にして
、ハロゲン末端ポリシラン−シロキサンオリゴマーをナ
トリウム縮合により縮合させることを含む方法。 10、ハロゲン末端ポリシラン−シロキサンが、ハロゲ
ン化ジシロキサンとジクロルシランとのリチウム縮合に
よる縮合で調製される、特許請求の範囲第9項記載の方
法。 11、特許請求の範囲第2項に記載せる高分子量ポリシ
ラン−シロキサンランダム共重合体の製造方法にして、
ハロゲン末端ポリシラン−シロキサンオリゴマーを加水
分解させることを含む方法。 12、ハロゲン末端ポリシラン−シロキサンオリゴマー
が、ハロゲン化ジシロキサンとジクロルシランとのリチ
ウム縮合による縮合で調製される、特許請求の範囲第1
1項記載の方法。 13、特許請求の範囲第3項に記載せるポリシラン−シ
ロキサンブロック共重合体の製造方法にして、ハロゲン
末端ペルメチルシランオリゴマーとシラノール末端有機
官能シロキサンとを反応させることを含む方法。 14、シロキサンがシラノール末端ポリジメチルシロキ
サンである、特許請求の範囲第13項記載の方法。 15、特許請求の範囲第7項に記載せる変性ポリシラン
−シロキサン共重合体の製造方法にして、ハロゲン末端
ペルメチルシラン−シロキサンオリゴマーにシラノール
末端有機官能シロキサンおよびハロゲン化有機官能シラ
ンを反応させることを含む方法。 16、シランの有機官能価が、けい素原子1個につき少
くとも1個のアクリレート若しくはメタクリレートを含
む、特許請求の範囲第15項記載の方法。 17、シランがアクリルオキシプロピルメチルジクロル
シランである、特許請求の範囲第16項記載の方法。 18、シロキサンがシラノール末端ポリジメチルシロキ
サンである、特許請求の範囲第15項記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US754093 | 1985-07-11 | ||
| US06/754,093 US4626583A (en) | 1985-07-11 | 1985-07-11 | Polysilane-siloxane oligomers and copolymers and methods of making the same |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6264830A true JPS6264830A (ja) | 1987-03-23 |
| JPH0149734B2 JPH0149734B2 (ja) | 1989-10-25 |
Family
ID=25033462
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61160978A Granted JPS6264830A (ja) | 1985-07-11 | 1986-07-10 | ポリシラン−シロキサンオリゴマ−および共重合体並びにこれらの製造方法 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4626583A (ja) |
| EP (1) | EP0208972A3 (ja) |
| JP (1) | JPS6264830A (ja) |
Families Citing this family (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4761464A (en) * | 1986-09-23 | 1988-08-02 | Zeigler John M | Interrupted polysilanes useful as photoresists |
| DE3637402A1 (de) * | 1986-11-03 | 1988-05-05 | Basf Ag | Blockpolymere, die polysilan- und organische polymer-bloecke enthalten |
| EP0276986B1 (en) * | 1987-01-26 | 1993-03-17 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Organopolysiloxanes having silethylene linkages |
| FR2616436B1 (fr) * | 1987-06-10 | 1989-12-29 | Europ Propulsion | Copolymeres a liaisons si-n et si-si, polycarbosilazanes obtenus par pyrolyse desdits copolymeres et utilisation desdits polycarbosilazanes pour la preparation de carbonitrure de silicium |
| US5126419A (en) * | 1988-02-09 | 1992-06-30 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Light-sensitive polymer, method for preparing the same andmethod for forming patterns |
| JPH02204410A (ja) * | 1989-02-02 | 1990-08-14 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 紫外線吸収剤 |
| JP2541060B2 (ja) * | 1991-11-20 | 1996-10-09 | 信越化学工業株式会社 | 有機ケイ素化合物の製造方法 |
| US5312946A (en) * | 1992-04-13 | 1994-05-17 | General Electric Company | Siloxane fluid from methylchlorosilane residue waste |
| US5750588A (en) * | 1996-09-27 | 1998-05-12 | Three Bond Co., Ltd. | Radiation-curable silicone composition |
| KR20180013520A (ko) * | 2016-07-29 | 2018-02-07 | 에스케이하이닉스 주식회사 | 미세 갭필용 중합체 및 이를 이용한 반도체 소자의 제조 방법 |
| CN115926171A (zh) * | 2023-01-03 | 2023-04-07 | 中国人民解放军陆军炮兵防空兵学院 | 一种聚硅烷-聚硅氧烷弹性荧光闪烁体材料及其制备方法 |
Family Cites Families (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB675912A (en) * | 1949-09-02 | 1952-07-16 | Dow Corning Ltd | Improvements in or relating to organo-silicon resins and the baking of bread |
| GB689648A (en) * | 1949-09-02 | 1953-04-01 | Dow Corning Ltd | Improvements in or relating to organo-silicon resins and to the baking of bread |
| US2881197A (en) * | 1952-09-13 | 1959-04-07 | Tokyo Shibaura Electric Co | Process of preparing alkylalkoxy disilanes |
| US3264259A (en) * | 1963-08-01 | 1966-08-02 | Gen Electric | Organopolysiloxanes |
| US4310481A (en) * | 1980-07-23 | 1982-01-12 | Dow Corning Corporation | High yield silicon carbide pre-ceramic polymers |
| US4558111A (en) * | 1984-12-05 | 1985-12-10 | General Electric Company | Method for preparing acrylic functional halosilanes and halosiloxanes |
-
1985
- 1985-07-11 US US06/754,093 patent/US4626583A/en not_active Expired - Fee Related
-
1986
- 1986-06-27 EP EP86108793A patent/EP0208972A3/en not_active Withdrawn
- 1986-07-10 JP JP61160978A patent/JPS6264830A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0208972A2 (en) | 1987-01-21 |
| JPH0149734B2 (ja) | 1989-10-25 |
| EP0208972A3 (en) | 1988-05-11 |
| US4626583A (en) | 1986-12-02 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5484867A (en) | Process for preparation of polyhedral oligomeric silsesquioxanes and systhesis of polymers containing polyhedral oligomeric silsesqioxane group segments | |
| US5589562A (en) | Polymers containing alternating silsesquioxane and bridging group segments and process for their preparation | |
| US7446155B2 (en) | Cross-linked networks containing nanoscopic reinforcing domains | |
| US5614603A (en) | Thermosetting silicone resins | |
| JPH0297529A (ja) | パーフルオロアルキル基含有オルガノポリシロキサンの製造方法 | |
| EP1058707B1 (en) | Silyl and siloxyl substituted carborane compositions with unsaturated organic end groups | |
| JPH06184310A (ja) | 高屈折率のフェノール変性シロキサン | |
| CA1262987A (en) | Curable polysilarylene-polysiloxane copolymers | |
| JPS6264830A (ja) | ポリシラン−シロキサンオリゴマ−および共重合体並びにこれらの製造方法 | |
| JP2979145B1 (ja) | 新型含シルセスキオキサンポリマー及びその製造方法 | |
| US5969072A (en) | Silyl and siloxyl substituted carboranes with unsaturated organic end groups | |
| EP1380612A1 (en) | Silicon-containing copolymer and process for producing the same | |
| US3760030A (en) | Multiple sequence block copolymers of silicones and styrene | |
| US4079098A (en) | Process for the production of polyorganosiloxane block copolymers | |
| JPH0345629A (ja) | ビス―シリルアルコキシアリーレン化合物 | |
| EP0786488A2 (en) | Block hydrogen-modified silicone and process for producing the same | |
| JP3625912B2 (ja) | ケイ素含有共重合ポリマー及びその製造方法 | |
| US5288832A (en) | Poly(silethynylenedisiloxane) and method for the manufacture thereof | |
| JPH01217040A (ja) | オルガノポリシロキサン―ポリメチレンブロック交互共重合体及びその製造法 | |
| JP2651359B2 (ja) | 耐熱性ケイ素含有重合体の製造方法 | |
| JP3638694B2 (ja) | ケイ素含有共重合ポリマー及びその製造方法 | |
| JPH08245880A (ja) | 耐熱性フィルム及びその製造方法 | |
| JPS6323212B2 (ja) | ||
| JPH09296043A (ja) | 新しい含シルセスキオキサンポリマーとその製造方法、およびハードコート膜、耐熱性素材 | |
| JPH05125190A (ja) | コポリマーの製造方法 |