JPS6265014A - 不均等な光源を像平面上に映すための光学的システム - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は均等な照明を表面に提供するためのシステムに
関し、更に詳細には、不均等な光源からの光線が平らな
表面を均等に照明するように向けられるシステムに関す
る。

ｆ’凸　＊ｆｆｉ　　仕ｊＧ’Ｒｆｔｔｋｎｎ４１ＭＪ
ｋ　　ｌ　　　１−　２　　Ｌ　　Ｊ−？　　ｖｒｎｗ
ｒ、ｗ光源を使用している種々の適用があり、そのため
には表面の共通な照明が望ましい０例えば、映画を見る
ために像を反射スクリーン上に投射するときある程度の
均等性が望ましい、これ等の適用のいくつかは表面の照
明の高い均等性を必要としないが、他のものは必要とす
る０例えば、表面上に形成されるべきラインが１ミクロ
ン程度離して作られることができるマイクロ回路の９１
造方法におけるフォトレジストを露出する工程は照明の
高度の均等性を必要とする。

一般的に、照明されるべき平面上に光源を映し出す多く
のシステムは光源からの尤の均等な放射があるときのみ
その表面の均等な照明を生成する。

しかし乍ら、いくつかの源からの放射線の角度分布（ａ
ｎｇｕｌａｒ　　ｄｉｓＬｒｉｂｕＬｉｏｎ）は空間分
布（ｓｐａｔｉａｌｄｉｓＬｒｉｂｕｔｉｏｎ）よりも
より均等である。即ち、部内の種々の点は異なる強さを
有しているが、各々の点からの放射線の角度分布は大質
的に均等である。この事実は第１図及びｔＪｒＪ２図に
示された如％を来祐術のシステムに利用されてきた。

第１図に示された従来技術のシステムにおいて、源１０
から放射される光線は、光源を対物レンズ１８上に映す
レンズ１２及び１４より成っているコンデンサーレン：
Ｘ１６を通過する。レンＸ’１８からの射線（ｒａｙ）
は規準レンズ２０を通過し、そして平らな表面２２を照
明する。

このシステムにおいて、像平面２２上の照明の均等性は
コンデンサーレンズのセット１６から米る光の均等性に
依存しており、このコンデンサーのセット１６は更に源
１０からの放射線の角度分布の均等性に依存している。

このシステムにおいて、像平面２２における光の変化は
約５％よりも大きく、これはいくつかの目的のために十
分に均をではない。

第２図に示された従来技術のシステムでは、像平面２２
における光の均等性は視野レンズ２４ｍ。

２４ｂ及び２４ｃを具備している複合（ｃｏｍｐｏｓｉ
ｔｅ）レンＸ：２４を用い第１図のコンデンサーレンズ
の１部を取替えることによって改良された。これ等の視
野レンズの各々はレンズ２６ｍ、２６ｂ及Ｖ２６ｃｅＪ
［している対応する対物レンズ２６上に源の像を生成し
、レンズ２６ａ、２６ｂ及び２６ｃの各々は更に像平面
２２上にその聞達した視野レンズの像を生成する。ｌｋ
光レンズ２８は対物レンズからの像を平面２２における
１つの像内に没入する１ｆ！能に役立つ。

第２図に示されたシステムの如き、従来＃！を術のシス
テムは平らな表面上に実質的に均等な光を生成するのに
有効であった。しかし乍ら、そ、のシス・　テムによっ
て必要であるレンＸの組合せは複雑であり、且つ商値で
あり、そして表面上の照明の高い均等性を提供する簡単
なシステムが望ましい。

！Ｍ雑なレンズの配置を有していないが焦点合せレンズ
をその代りに有しているシステムが光源からの光線を所
望の方向に向けるために従来技術において使Ｊｌされて
きた。このようなシステムの実施例が「放射線を発生す
るＶｔｊｌ　（Ａ　ｐｐａｒａｔｕｓ　　ａｎｄＭｅｔ
ｈｏｄ　　　ｆｏｒ　　　Ｇｅｎｅｒａｔｉｎｇ　　　
Ｒａｄｉａｔｉｏｎ）Ｊと題するスベロ（ｓｐｅｒｏ）
等に討する米国特許ｆｊＳ３，８７２．３４９号に開示
されている。スベロ等に開示されたシステムにおいて、
マイクロ波発生プラズマ光源がり７ンクターの焦、αに
又はその近くの放物面のリフレクター内側に配置されて
いる。源からの光線は平行様式に外方に反射される。米
国特許第３，８７２，３４９号に開示された如きシステ
ムの１つの目的は物体上に落ち照明の均等性に関係なく
照射される物体に小米る限り多くの放射される光を向け
ることであった。楕円の又は放物面のリフレクターの如
き焦点介せリフレクターの焦点における光源は表面を均
等に照明しないということは公知であるから、表面上に
均等な照明を提供する場合に尤源及Ｖ焦点合せす７レク
！−の可能性は従来技術において認められなかった。

問題点を解決するための手段 ここに開示された本発明は、放物線の不均等なエミッタ
ーであり、焦点合せリフレクターの焦点における又はそ
の近くに配置されているボリューム（Ｖｏｌｕｍｅ）源
から放射される光線が表面上に均等な照明を提供するよ
うな方法で組合っている通路内で反射されるという予期
しない発見に基づいている。

従って本発明の１つの目的は不均普な光源を使眉する表
面を均等に照射する光学的システムを提供することであ
る。

本発明によれば、 光線を反射するための焦点合せリフレクターと、源のボ
リューム全体に亘り点から点に光の空間的に不均等な光
の放射を有しており、焦点合せリフレクターの焦点にお
いて又はその近くで該焦点合せリフレクターの前に配置
されているボリューム光源と を具備している表面を均等に照明するための光学的シス
テムが提供される。

本発明の１見地において、光源は発光ブスの囲まれた本
体を具備しており、その水平線（ｈｏｒｉｚｏｎ）が、
中心に関して、Ｉ（ｐｏｌｅ）の近くでより明るく見え
、赤道（ｅｑｕａｔｏｒ）の近くで薄暗く、又は逆に赤
道の平面の近くの位置から見たとき他の近くで薄暗くそ
して赤道の近くでより明るく見える、この場合に極が１
（電、ζ合せリフレクターの軸線上にある源の表面を指
示しており、赤道が源の幾何学的中心を通り、且つ該焦
点合せリフレクターの軸線に垂′直な平面における鉄源
の表面上の点を表わしており、そして水平線は源の外側
の任意の点から見た源の周囲である。

本発明の更に他の見地において、規準レンズは像平面上
に均等な照明及びテレセントリック（ｔｅｌｅｃｅｎｔ
ｒｉｃ）照明の双方を提供するために、焦点合せリフレ
クターから反射される光線を規準するために設けられて
いる。この規準レンズは像平面に平行な平面において、
且つ焦点合せリフレクターの制限開口が規準レンズの焦
点にある又はその近くにあるように光源からのある距離
において、像平面と光源との間に配ｒａされている。

本文に説明されているシステムによって達成される像平
面の光照明の均等性は、楕円の又は放物線の典型的なリ
フレクターの如き焦点合せリフレクターの焦点における
光源が表面を均等に照明しないという事実から見て予期
されない。

本文に説明したシステムは高度の均等性を達成し、なお
構成部品は比較的簡単である。このシステムはマイクロ
回路を作るための工程においてホトレノストを露出する
場合に特に有用である。

本文に使用されている如き用語［焦点合せリフレクター
（ｆｏｃｕｓｉＢ　　ｒｅｆｌｅｃｔｏｒ）Ｊは回転表
面又はほぼ回転表面を規定する反射表面のことを言い、
且つ楕円の、放物面の、球形の及び他の算術的にあまり
規定できないリフレクターを含んでいる。

例えば、有用である焦点介せリフレクターは、共通の軸
線の周りの一連のリング又は平らなセグメンＦを組立て
ることによって構成されることがで終た。楕円のリフレ
クターは理論的には最もよいが、しかし乍ら、１Ｊ７レ
クターから像の平面までの距離とリフレクターの焦点和
綴との比が約５よりも大きい（即ち、５：１以上の像の
比のとき）のが最もよく、楕円のリフレクターと放物面
のリフレクターとの間に実際的な差はない。

用語（テレセントリック）と言うのは、射線の角度分布
が像平面上のすべての点において同じであることを言う
。

用語［制限開口（ｌｉｍｉｔｉｎｇ　　ａｐｅｒｔｕｒ
ｅ）Ｊと言うのは焦点合せリフレクターの周囲によって
囲まれた面積、又は焦点合せリフレクター前にある任意
のより制限されている開口を言う。

実施例 本発明は他の平均等放物＃Ｉａの使ＪＴＪにもくろまれ
ているが、本システムは無電極光源と共に使用°するの
に特によみ適合されており、そして本発明はこめような
システムを説明することによって詳細に例示されている
。無電極光源は公知であり、且つ例えば米国特許ｗＳ４
，４８５．３３２号に記載されている。一般的に、プラ
ズマ形成媒体を含んでいるパルプがリフレクター及びメ
ツシュを具備しているマイクロ波空洞内に配置されてお
り、そしてマイクロ波エネルギーがランプを励起するた
めに空洞に結合される。

本発明の実施において、光源がラジオ周波数からマイク
ロ波に及ぶ範囲の電磁波によって付勢される電磁結合さ
れた無電極ランプが使用されることができる。

第３図に示された如きシステムにおいて、放物線部３０
がプラズマ形成媒体で充たされた球形の融解石英パルプ
によって例示されており、プラズマ形成媒体はマイクロ
波空洞３４に結合されているマイクロ波エネルギーによ
って励起される。空洞３４は１方側をスクリーン３６に
よって、そして他方の側をリフレクター３２によってお
おわれており、その光軸は２−２である。スクリーン３
６と焦点合せリフレクター３２の周辺３３を電気的に接
続している円筒状本体３５は非反射性の導電性内面を有
している。パルプ３０から放射する光線はリフレクター
３２から規準レンズ３８の方に反射され、そして像平面
４０上にぶつかる。

点Ａはシステムの光軸が像平面４０を通過する点である
。光は主として球形の［３０の表面から放射するが、射
線（ｒａｙ）は源３０の中心から点へまでトレース（Ｌ
ｒａｃｅ）されることができる、実際にパルプ３０の中
心からトレースされ、そしてリフレクター３２に当たる
放射線は点Ａまでトレースされる。

像平面４０上の点Ｂに達する射線の分析は第４図及び第
５図に関連して示されているように簡単ではない、第４
図及び第５図は、ＩＪ７レクター３２の最も縁から反射
後点Ｂに達する４つの射線の詳細を示している。第４図
に示された如く、射線１及び３は第５図に示された射ｌ
ｌＡ２及び４と同様に、源３０の表面から切線方向に放
射する。これ等の射線は、源３０からトレースされ、且
つ像平面４０上の点Ｂに達するすべての射線が源から切
線方向に放射するので、点Ｂに達するこれ等の射線を代
表している。更に、リフレクター３０の最も縁から反射
する射線は点Ｂよりも遠いＡ点からの像平面４０に当た
らない、Ｂ点は円上にあり、その円は全リフレクター３
０によって照射される像平面のその部分の境界であり、
そしてその円は均等に照射される像平面のその部分の周
囲である。

焦点合せリフレクターの周囲が一定の直径及び位置の円
であるとき、像平面内の点Ｂを通る円は光源の中心が焦
点合せリフレクターの周囲の平面にあると軽最大であり
、そしてリフレクターは光源のためのその位置に適応す
るように設計される。

光源はリフレクターの周囲を規定する平面に又はその近
くにあるのが理想的である。

第６図及（７１１７図は第４図及び第５図にｌ１ａＬで
おり、そして源の表面から放射し、第４図及び第５図に
示された射［１乃至４よりもその中心に近い点でリフレ
クター３２に当たり、そして已に達する射線５．６．７
及び８を示している。源３０から切線方向に放射し、射
線７と同じ点でリフレクター３２に当たる１６図に示さ
れた射線９は、点Ｂよりも第３図の点Ａから離れた点で
像平面に当たり、そして照明の有用な領域外に落ちる。

従って、リフレクター３２のより中心領域はリフレクタ
ー３２の外方部分よりもリフレクター３２のより中心領
域が像平面上に源のより大きい像を生成する。

第３図のマイクロ波空洞は、システムの光軸に一致して
いる空洞の軸線に平行な振動電場を生ずるためにマイク
ロ波によって駆動される。バルブ３０内のガスはこの場
によって励起されて、そして第８ｂ図、第８ｃ図及び第
８ｄ図に示された如き強さのパターンを有している光を
放射する。

第８ｂ図は第８図のフィンｅ−ｅによって示された如き
電場に垂直な方向から源をみて、且つ第８図のラインｘ
−ｘによって示された如き電場に垂直な方向にパルプを
走査している測光器によって測定したときの強さパター
ンを示している。かくの如く明らかにされたｉさパター
ンは、源が放射性ガスめ中空球形シェルであり、且つ源
の中心のガスがより多くの放射線を提供しないという事
実から生じている。源は、表面層の見掛上のより厚い厚
さのため表面がある角度で見られると柊より強く見える
。

第８ｃ図は源がラインｅｅに沿って電場に平行な方向に
走査されるとき幾分異なる強さパターンを示している。

このパターンは、場が表面に平ｆｆである場合源はより
明るく、そして場が表面に垂直である場合源が領域にお
ける比較的冷い、幾分吸収性のブスの層によってカバー
されるという事実から生ずる。

第８ｄ図は、電場に平行な方向から源を見ている測光器
を用いてｆＩＳ８　ａ図のラインｙ−ｙに沿って源の中
心を通る通路に沿った走査結果を示している。その結果
得られた強さパターンは源の前述の論理結果である。

前述の如す源が、球の外観を有しており、その水平線は
中心に比較して、赤道の近くでより明るく、そして極の
近くでより暗い、この場合極はリフレクターの軸線上に
ある源の点であり、赤道はリフレクターの軸線に垂直な
平面における源の表面上の大きな円であり、そして水平
線は源の外側の任意の点から見た源の周囲である。

所望により、明るさ及びＷＩ暗さの相対位置は光軸に垂
直な電場と共に周辺に分極された（ｐｏｌａｒｉｚｃｄ
）マイクロ波の場の使用によって逆にされることができ
る。

光源は球形である如く説明したが、他の幾何学的形状を
有する光源が使用されることができる。

例えば、艮球円、又はＨｉ球の艮球円形状の光源が使用
されることができる。しかしながら、実質的に球形又は
長球円形状からの逸脱は利点を提供しない。

ＷＳ９図乃至第１４図は像平面内にあり、且つ第３図の
、αＡ及びＢを通過する線に沿った光の強さを例示して
いる。第９図は第４図及ゾｔＩｓ５図の点１によって反
射された光によるこのフィンの強さに対する寄与（ｃｏ
ｎｔｒｉｂｕｔｉｏｎ）を例示している。

第１０図は第４図及Ｖ第５図の点３による光の寄与を例
示しており、そして第１１図は点２及び４による寄与を
例示している。これ等の強さのパターンは上記の如き源
の強さのパターンの結果である。、α１．２．３及び４
の寄与の合計が点Ａ及びＢを通るラインの多少均等な照
明である。

第１２図は第６図及び第７図の点５に基づいている。

ｔＩＳ１３図は点７に基づいており、そして第１４図は
点６及び８に基づいている。これ等の点はＡ及びＢを通
るラインのより大きな長さを照明する。

点５．６．７及び８の寄与の合計が点Ｂと同様に点へに
接近又はより接近したすべての点に討するラインのかな
り均等な照明である。

＋７７レクター上に無限数の点があり、そして、代表的
な１つのみについて説明するが、楕円リフレクターは、
源の不均等性を削除して照明の均等性を生ずるように源
からの光を分布することは理解されるであろう、システ
ムの軸対称により、Ａ及びＢを通るラインに沿う照明の
均等性が像平面上のすべての点に加えられ、これ等の点
はもはやＡ％Ｂのへだたりはない。

第１５図は赤道平面に近い位置５０からみたときボリュ
ーム（ｖｏｌｕｍｅ）光源３０の極４４．４６、赤道４
０及び水平線４２の位置を例示するために提供されてい
る。

上記の如く、像平面を均等に照明するために源からの光
を十分によく同じような方法で像平面上に反射する楕円
のリフレクター以外のリフレクターが使用されることが
できる。これ等のリフレクターは放物面状の、球形の、
又は他の算術的に明確に定義づけられない平面を含んで
いる。

像平面は規準レンズなしで均等に照明されるが、いくつ
かの目的のために像平面に当たるすべての尤＃ｉに対し
てテレセントリック（ｔｅｌｅｃｅｎｔｒｉｃ）、即ち
像平面内のすべての点で射線の角度分布が同一であるこ
とが重要である。光線は、リフレクターの制限開口が規
準レンズの焦点に又はその近くにあるように光源からの
ある距離において、像平面と光源との間に規準レンズを
挿入することによってテレセントリックにされることが
できる。

本発明について説明したが、次の大側は本発明をより詳
細に例示するために提供されている。

第３図に従って構成されたシステムは、直径３゜フイン
チ（約９４−論）、幅２インチ（約５１−■）の円筒状
の壁によっておおわれたマイクロ波空洞と、円筒の１力
の端におけるスクリーンと、他方の端の放物面のリフレ
クターとを有している。放物面のリフレクターは円筒の
軸線上にその焦点を有している。ａは水ｌＩｌガス（ｍ
ｅｒｃｕｒｙ　　ｇａｓ）を満しりｔ＜ルプであり、且
つ２００ナノメータから２４０ナノメータの波長で紫外
線光を生成するために１゜５ｋｍのパワーレベルを有し
ているマイクロ波によって付勢される。放物面のリフレ
クターの軸線と一致している細線を有している規準レン
ズが放物面のリフレクターの焦点から２４インチ（約６
１０−）に配置されている０Ｍ４点は焦点合せリフレク
ターの周囲によって規定された平面にある。像平面上の
照明レベルは有効１４１′ｉ積を４％以上超えないだけ
変化する。

放物面のリフレクターはリフレクターから像平面までの
距離と焦点から像平面までの距離との比が充分大きく、
従って楕円のリフレクターと放物面リフレクターとの間
に実際上の差がないので、その容易な適用性により本実
施例に説明されたシステムに使用される。

【図面の簡単な説明】

第１図は不均等放射線源を使用する表面を均等に照明す
るための１つの従来技術の概略的な図である。 第２図は、不均等放射線源を使用している表面を均等に
例示するための他の従来技術の概略的な図である。 第３図は不均等な光源を使用している表面を均等に使用
名するための本発明のシステムの概略的な図である。 第４図及Ｖ第５図は本発明による光源及１楕円のリフレ
クターの配置を示しており、且つ楕円の表面に当たる光
線の通路を例示しているそれぞれ側面図及び正面図の概
略的な図である。 ｆＪＳｅ図及び第７図は、第４図及びｊｌｓ図に示され
ているよりも中心に近い点でリフレクターに当たる光線
の通路を例示している本発明による光源及び関連する楕
円のリフレクターを示している、それぞれ側面図及び正
面図の概略的な図である。 １８図はマイクロ波空洞内の光源の側面図の概略的な図
である。 第８ａ図はＩｒ５８図の光源の正面図の概略的な図であ
る。 第８ｂ図はマイクロ波電場に垂直な方向から第８図のｘ
−Ｘ線に沿って源を見て測光器によって測定したとき第
８図の光源に対す°る光のｇ！ｉさの変化を示している
グラフである。 第８ｃ図はマイクロ波電場に平行なうインに沿って電源
を見て測光器によって測定したと鰺の第８図の光源に対
する光の変化を示しているグラフである。 第８ｄ図は第８ａ図のｙ−ｙ＃ｉに沿って電源を見て測
光器によって測定したときの第８図の光源に討覗する光
の強さの変化を示しているグラフである。 第９図乃至第１４図は像平面内にあり、且つ第３図の点
Ａ及びＢを通過するラインに沿う光の強さの変化を例示
している。 第１５図は赤道の近くの位置からの極、赤道、及び水平
線の相対位置を例示している。 １０・・・源 １６・・・コンデンサーレンズ １８・・・Ｎ吻しンズ ２０・φ拳規準レンズ ２２．４０φ−・像平面 ２４ｍ、２４ｂ、２４ｃ・・・視野レンズ２８・・・集
光レンズ ３０・・・放射線源 ３２・・・＋７７レクター ３４・・・マイクロ波空洞 ３５・・・円筒状本体 ３６・・・スクリーン 図面の浄書（内容に変更なし） 対 ！＆Ｓ 狼之 鬼ζ 手続補正沓動式） 昭和６１年１０月３日

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、像平面上に均等で、且つテレセントリックな照明を
   提供するために、不均等な光源を像平面上に映すための
   光学的システムにおいて、 焦点合せリフレクターと； 該源のボリューム全体に亘り点対点からの光の空間的に
   不均等な放射を有しており、該焦点合せリフレクターの
   焦点において又はその近くに該焦点合せリフレクターの
   前に配置されているボリューム光源と、 該像平面に平行であり、且つ該リフレクターの制限開口
   が該レンズの焦点にあり、又は焦点の近くにあるように
   、該光源からある距離における平面において、該像平面
   と該光源との間に配置されている規準レンズであつて、
   これによつて該光源から放射する光が該像平面上に均等
   で、且つテレセントリックな照明を提供する規準レンズ
   と、を具備することを特徴とするシステム。 ２、該光源が球形である特許請求の範囲第１項記載のシ
   ステム。 ３、像平面上に均等な照明を提供するために不均等な光
   源を該像平面上に映すための光学的システムにおいて： 光線を反射するための焦点合せリフレクターと；該焦点
   合せリフレクターの軸線上に配置されており、且つ該焦
   点合せリフレクターの焦点上に又はその近くに配置され
   ている光源とを具備しており、 該源が発光ガスの囲まれた本体を具備しており、赤道の
   平面の近くの位置から見たとき、該囲まれた本体の水平
   線が、中心と比較して、極の近くでより明るく、そして
   赤道の近くで薄暗く、又は赤道の近くでより明るく、極
   の近くで薄暗い、但しこの場合該極は焦点合せリフレク
   ターの軸線上にある源の点であり、該赤道が該源の幾何
   学的中心を通り、且つ該焦点合せリフレクターの軸線に
   垂直な平面における該源の表面上の点を表わしており、
   該水平面が該源の外側の任意の点から見た源の周囲であ
   る、 ことを特徴とする光学的システム。 ４、該平面上に均等な照明を提供するために不均等な光
   源を像平面上に映すための光学的システムにおいて： 光線を反射するための焦点合せリフレクターと；該焦点
   合せリフレクターの軸線上に配置されており、且つ該焦
   点合せリフレクターの焦点上に又はその近くに配置され
   ている光源とを具備しており、 該源が球の外見を有しており、赤道の平面に近い位置か
   ら見たとき該球の水平線が、中心に比較して、極の近く
   でより明るく、該赤道の近くで薄暗く、又は該赤道の近
   くでより明るく、該極の近くで薄暗い、但しこの場合該
   極は該焦点合せリフレクターの軸線上にある該源の点で
   あり、該赤道が該焦点合せリフレクターの軸線に垂直な
   平面における該源の表面上の大きな円であり、該水平線
   が該源の外側の任意の点から見た源の周囲であることを
   特徴とする光学的装置。 ５、該リフレクターの制限開口が該レンズの焦点に、又
   はその近くにあるように該像平面に平行であり、且つ該
   光源からのある距離における平面において像平面と光源
   との間に配置された規準レンズを更に含んでおり、これ
   によつて該源から放射する光が該像平面上に均等な、且
   つテレセントリック照明を提供する特許請求の範囲第３
   項及び第４項記載の光学的システム。 ６、該光源が無電極ランプを具備している特許請求の範
   囲第１項、第３項又は第４項記載の光学的システム。 ７、該光源がジオ周波数からマイクロ波周波数の周波数
   範囲で電磁放射線によつて付勢される特許請求の範囲第
   １項、第３項又は第４項記載の光学的システム。 ８、該光源がマイクロ波空洞内に配置されたプラズマ形
   成媒体を含むバルブであり、そして該焦点合せリフレク
   ターが該マイクロ波空洞を規定している表面の１部分を
   形成している特許請求の範囲１項、第３項又は第４項記
   載の光学的システム。 ９、該焦点合せリフレクターが楕円のリフレクターであ
   る特許請求の範囲第１項、第３項又は第４項記載の光学
   的システム。 １０、該焦点合せリフレクターが放物面のリフレクター
   である特許請求の範囲第１項、第３項又は第４項記載の
   光学的システム。 １１、該焦点合せリフレクターが共通の軸線の周りに配
   置された一連のリング又は平らなセグメントを具備して
   いる特許請求の範囲第１項、第３項又は第４項記載の光
   学的システム。