JPS6271900A - テクネチウム−９９ｍ発生器 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は担体上に吸着されたモリブデン−９９に基づく
改良されたテクネチウム−９９ｍ発生器、かかる発生器
の製法、およびテクネチウム−９９ｍを過テクネチウム
酸塩の形態で含有する溶出液を得るためのそれらの使用
に関する。

テクネチウム−９９ｍは核医学診断において放射性核種
として最もしばしば用いられる。これはその適用にとっ
てその核物理的性質が最適であるからでちる（半減期が
＆０時間と短かい。

何ら粒子性の放射がなくそして１−エネルギーが１４０
　ｋｅＶと好都合である）。このものはモリブデン−９
９／テクネチウム−９９ｍ発生器から容易（′トかつ簡
単に得られうる。

現在最も広く用いられる型の発生器においては、核崩壊
によシ同位元素テクネチウム−９９ｍを連続的に形成す
るモリブデン−９９をモリブデン−９９モリブデートと
して酸化アルミニウムカラムに吸着させる。化学的にパ
ーテクネテートとして存在するテクネチウム−９９！Ｉ
Ｉ＋は等張塩化ナトリウム溶液で洗浄することによりモ
リブデン−９９から分離される。いわゆる分裂そリプデ
ンが今日モリブデン−９９としてほとんど独占的に用い
られている。仁のものはウラニウム−２３５の核崩壊で
得られる分解生成物理−＠物から単離されそして非常に
高い傷異的な活性を有する。それにより発生器から少量
の塩化ナトリウム溶液中に高いテクネチウム−９９２２
］活性を得ることが可能である。

分裂モリブデンを導入することは少量のみ（１〜２１）
の酸化アルミニウムが発生器中において用いられること
を可能にし、それによυテクネチウムー９９ｍの溶離に
必要な最小量の塩化ナトリウム溶液を数−（約５ｍ）ま
でに限定できた。

使用準備のできた発生器に負わされるべき最低の要件は
Ｄｘｘｘ　６８５４　（１９８５年１月）にまとめられ
ているっそれによれば、ｒｃ−９９ｍの溶離しうる活性
は２４時間間隔で溶離する場合７０チを下塘わるべきで
なかった。それにより溶出液の品質はある種の要件を必
要とする。これら限界値をできるだけ低く保つことが当
然望ましい。

これは特にモリブデン−９９についてあてはまり、この
ものは発生器において高い活性で含有されそして溶出液
中にては６６．０時間という長い半減期ゆえに人間での
使用に際しては不必要な照射負荷を来すものである３ 分裂モリブデン特に比較的高いＭＯ−９９活性を有する
Ａ！ｏ　−９９／Ｔｃ　−９９ｍ発生器が収量損失また
は時として収量崩落さえも生ずる傾向があるこ七は知ら
ｉｚている（ヨーロッパ特許Ｂ　Ｏ，０１４，９５７号
）。この作用は、例えばプラスチック製溶離剤容器から
食塩溶液中に入りうる溶離剤中への有機不純物によって
さらに強められる。

これら収量損失を回避するために、収量安定剤が用いら
れる。鋼（ＩＩ）イオンがこの安定化効果を有すること
が知られている。

しかしながらここで、溶出液中・＼の銅の流入を長期間
阻止するには少量の酸化アルミニウムでは不充分である
という困難が生じた。

西ドイツ特許公開公報第１．９２９．０６７号には溶離
剤に酢ｅ１Ｍ　＜ＴＩ）を添加することが記載されてい
る。最小量としては０．００１容量係が必要で、酢（ｉ
ｌ　’＝Ｍ　（ＩＩ）の場合１０μ？　７’７　＝Ｃｕ
（ＩＩ）　乙５　ｊ’Ｖ　ｌ’ｍｌであることが理解さ
れるべきである。前記西ドイツ特許公開公報の優先権主
張日において慣用であったものと反対に、少量のみの酸
化アルミニウム不：含有する現代的な発生器にとっては
、前記した最小濃度の銅（ＩＩ）を使用する場合でさえ
も、これは溶出液中への銅の前記した流入を阻止するに
は充分ではない。その上、０ｕ（ＩＩ）五５μｍ／−の
溶離剤が常に安定した高い収量を保証できるわけではな
いことも見出された。

溶出液中への銅イオンの流入を阻止するために、ヨーロ
ッパ特許８０，０１４，９５７号には、比較的大量の銅
（Ｉｔ）を酸化アルミニウムに固定せしめる方法が記載
されている。しかしながらこの方法は発生器の製造にお
いて付加的な工程を必要とし従って費用がかかる。

今、珪酸マグネシウムならびにアミノ基で修飾されたシ
リカゲルが、銅（ｎ）イオンをしっかりと結合できるテ
クネチウム−９９ｍ発生器用の好都合な担体物質である
ことが見出された。従って本発明は珪酸マグネシウムお
よび／またはアミノ基で修飾されたシリカゲルを含有す
る担体に吸着されたモリブデン−９９に基づくデクネテ
ウムー９９ｍ発生器に関するものである。

さらに、アミノ基で修飾されたシリカゲルが放射性モリ
ブデン−９９を吸若しうろことも見出された。従って溶
出液中のＭＯ−９９含量がＭｏ−”９　１μｃｉ／Ｔｃ
−９９ｍ　　ｉＣ１以下まで低下されうる。従って本発
明の態様の−っはその担体物質がアミノ基で修飾さり、
＝ｔシリカゲルからなるテクネチウム−９９ｍ発生器に
関する。しかしながら本発明の好ましい態様では付加的
に酸化アルミニウムをも含有する。

珪酸マグネシウムに基づ〈本発明による発生器はｈτ０
−９９を吸着させるために付加的に酸化アルミニウムを
含有する。１種類以上の担体物質を含有するかかる発生
器では、担体物質を混合しそして慣用の装置にかかる混
合物を充填することが原則的に可能である。しかしなが
ら異方る物質は一般に異なる粒度をイ（゛するので、特
別の措毀、例えば−緒に粉砕によｊ２、充填物中に「水
路」が開いたままでおることのないよう留Ｍ、シなけれ
ばならない。それゆえ異なる物質を層状に発生器に充填
することが一般に好都合である。「層状」とはここでは
、異なる物質を、数個の交互に配列した層となすことを
意味しうるが、しかしそれぞれ物質を単一の層の形態と
なすことが好都合である。

一つの発生器中に珪酸マグネシウムのみならずアミノ基
で修飾されたシリカゲルを使用することが原則的に可能
である。しかしながら一般にこの２種類のうちの１釉類
のみが用いられよう。

好ましくは珪酸マグネシウムまたはアミノ基で修飾され
たシリカゲルは最下層として発生器カラムに導入される
。次にその上に酸化アルミニウムの層がおかれる。

ヨーロッパ特許ＢＯ，ＯＩＡ、９５７号記載の発明を利
用して、最上層に６１　（ＩＩ）を負荷した酸化アルミ
ニウム’ｋ　’Ａｊ人し、その下に酸化アルミニウムの
層そしてその下に本発明による担体物質の層が続く発生
器を調製することもできる。

第１図および第２図に概略的でかつ必ずしも寸法的には
正も６′でない本発明の態様の２種類を示す３ 第１図において、（１）は担体物質が充填されるカラム
で凌、す、矢印は溶離方向（上から下へ）ｆＩＣＭ−す
。（２）および（３）　Ｈ異ガる担体物質の層を意′＃
：Ｌ　１すなわち好ましい態様においては酸化アルミニ
ウムが層（２）としてそして珪酸マグネシラ！・または
アミノ基で修飾された７１ツカゲルが層（６）として用
いらハる。

第２図においＣは３種類の異々る物９（２ハ（６）およ
び（４１が使用される３ａの層を備えた相当する配置を
示す。

本発明のこの局面における好ましい態様においては、（
４）は銅（ＩＩ）を負荷された酸化アルミニウムの層、
（２）は酸化アルミニウムの層そして（３）は珪酸マグ
ネシウムま九はアミノ基で修飾されたシ９カゲルの層で
ある。

核種発生器の技術的な発達は知られておりそして例えば
西ドイツ特許１，６１４，４８６号幡よび相当する米国
特許第３，３６９，１２１号）または英国特許第１，１
８６，５８７号に記載〜されている。それゆえここでは
詳細は省略する。

担体物質の量は発生器の寸法および充填の如何による。

これらは簡単表予備実験により容易に計算される。

珪酸マグネシウムとしては天然に存在する生成物例えば
苦土かんらん石、頑火輝石、蛇紋石、蛇紋石アスベスト
、タルク、板温石または海泡石、および相当する合成生
成物、オルト珪酸マグネシウム、ジ珪酸マグネシウムま
たはポリ珪酸マグネシウム（これら後者は鎖、帯寸たは
眉（葉）状冑造を有する）が適当である。かかる物質は
例えばクロマトグラフィーエ椙に用いられる。

アミノ基で修飾されたシリカゲルも同様にクロマトグラ
フィ一工程にとって通常の担体物質である。好ましい形
態においてはアミノ基を１．３−プロピル゛アミノ基と
して含有する。しかしながら酸性化合物用の吸着剤とし
て用いられるような、例えば第二または第三アミノ基を
有する他の担体物質も可能である。

以下の実施例によυ本発明をよシ詳細に説明する。

発生器カラムの製造には下記担体物質が用いられた。す
なわち、酸化アルミニウム８、酸性、スーパー活性（Ｆ
ｊｉｏｄｅｌ　ａｓ　Ｈａｅｎ社製品）；カラムクロマ
トグラフィー用Ｆｌｏｒｉ６１１”　（Ｍｅｒｃｋ社１
、１品）、以下「珪酸−ＭｇＪと称す；　液体クロマド
グ２フィー用ＬｉＣｈｒｏｐｒｅｐ”　ＮＨ２（Ｍｅｒ
ｃｋ社製品）、以１「シリカゲル」と称す。溶離剤とし
ては種々の量の塩化銅頓）三水化物を含有する生理食塩
溶液が用いられた。銅（ＩＩ）の測定は比色定量により
行われ、その検出下限は０．１　’ｐｐｍである。

実施例　１ 同じ条件下に溶離することにより、担体物質が銅（ＩＩ
）イオンをいかなる程度に保有しうるか確認された。溶
出液第１〜８はすべての場合に銅を含有し７なかった。

下記第１表に示されるように、珪酸マグネシウムおよび
シリカゲルは酸化アルミニウムよりもはるかにより良好
に銅（ＩＩ）を捕捉しうる。

第１表 ａ）　Ａ！２０＝　　１．２１　１０ｐｐｍ　　　−−
ダ、２　−ａ、ｓ　　１１５＃　　〜（Ｌ２−Ｃｌ３　
１　１ ｂ）１ｍ−Ｊ５３０＋＋ｖ１０ｐｐｍ　　−−−−−１
５Ｆ−−−−− ３０＃−−−−− Ｃ）　シリカゲル　ｓｏｏｑｓｏｐｐｍ　　　　　−−
−−−１００＃　　　−−−−− 想−Ｍｇｉ５０η２０＃−−−−− ３０＃−−−−− シリカ務　１５０１１１Ｆ４０　　Ｉ　　　　　−−−
−−５０＃−−−−− １）銅含有食塩溶液で溶離するに先立ちカラムにモリブ
デン酸アンモニウムｃＬ５■を充填し−た。

実施例　２ ガラスカラムに珪酸−Ｍｇ１５０ｍｑを充填しそしてそ
の上に酸化アルミニウム９００■を積層させる。このカ
ラムにＭｏ　−９９を充填しそしてＣｕコｉ２Ｘ　２Ｈ
２０を２０μｖ／ｒ１１を含有する生理食塩溶液を用い
て各操作口に溶離する。塩化鋼（ＩＩ）の添加に先立ち
塩化ナトリウム溶液を充填に慣用に用いられるｐｖｃ箔
と一緒にオートクレーブ中で滅菌した。その際強い収量
低下をもたらしうる溶離剤中の有機汚染が起ることが知
られている。

比較のために、酸化アルミニウムのみを含有しそして銅
■）を含まない溶離剤で溶離し九カラムを検査した。第
２表にその結果を示す。

比較発生器では明らかな収率減少を示すが、これは本発
明による試験発生器においては、溶出液中へのとるに足
る量の銅（［）の存在を伴うことなく銅（ＩＩ）を添加
することにより阻止される。

実施例　３ ガラスカラム中にシリカゲル１０５■を加えそしてその
上に酸化アルミニウム１．０９を積層させる。発生器カ
ラムにＩＡｏ　−９９を充填しセして縁作日毎に溶離す
る。有機不純物を負荷した溶離剤（実施例２参照）に塩
化鋼（ＩＩ）三水化物を加える。

比較のためにガラスカラムの１２に酸化アルミニウム１
．２ｇを、そしてもう一方のものにシリカゲル１０５■
および酸化アルミニウム１．Ｏｆを充填した。この比較
発生器を銅を含まない。

有機不純物を負荷した溶離剤で溶離した。

溶出液においてテクネチウム−９９ｍおよびモリブデン
−９９の含量、および溶離剤が銅（ＩＩ）を含有する場
合は鋼（ＩＩ）の含量について測定する第３表にその結
果をまとめる。Ｔｃ−９９ｍの収率はＭＯ−９９活性に
基づくチであり、モリブデン−・９９含量はＴｃ−９９
ｍ活性に基づ＜　ｐｐｍでありセして銅（ｉｆ）含量は
ｐｐｍで示される。

第　　５　　表 ＋’ＤＫｌ：ｏ−９９ ６７６ｍロー ＣＡＤにＭｏ−９９ ８１ｍＣ１ ＣＤにＭｏ−９９２０ｐｐｍ＊　Ｔｃ−９９ｍの収率　
　７７．１Ｂ５．５　７７．１ＣＩ、に、ＭＯ−９９２
０ｐｐｍ＊Ｔｃ−９９ｍの収率　　７７．５　８５．４
　７６．６Ｍ０−９９　（ｐｐｍ）　　　＜１＜１　　
　＜１ＣＤ＝計算日＝溶離第２日、月曜日 ＊　ｃ’ｕ（Ｉｔ）はいずれの溶出液中にも見出され々
かつ：そ。

溶　　　　　ｃＷ　　　　　日　　　　　殻交６７．２
　　５１，０　　２７．６　　５１ｓ、９　　１７．４
　　　１　　υ、７　　　　ａ０７ａ７　　７８．９　
　７＆８　　　Ｂ５．６　　５５．６　　２３．４　　
１４．１＜１　　　＜１　　　＜１　　　＜１　　＜’
１　　　＜１　　　２７６．９　　　７ａ４　　７７．
４　　８５．０　　７６．９　　７　６．３　　７６．
２〈１　　〈１　　く、１＜１　　　＜１＜１　　　＜
’１７６．４　　７５．９　　７６．１　　　８２．９
　　７６．７　　７７．０　　７６．９＜１　　＜１　
　　＜１　　　＜１　　＜１　　　＜１　　　＜１７　
Ｚ６　　７　ン’、６　　７７．６　　８５．０　　７
５．３　　７　　乙、９　　７　３，８７７．５　　７
ａ０　　７ａ５　　８４，９　　　７７．１　　７６．
８　　７６．０＜１　　　＜１　　　＜１　　　＜ｊ　
　　＜１　　　＜１　　　＜１第５表では下記のことが
示される。

１）シリカゾルの使用により溶出液中のＭｏ−９９含お
−が１　ｐｐｍ以下に低下する３ ２）シリカゲルの使用により溶離剤中に銅（ＩＩ）が添
加でき、それによりｌ”ｃ　−９９ｍの収率がとるに足
る量の銅（Ｉｌ）が溶出液中に、検出されうることなく
均等に高いままである。

６）シリカゲルの使用により溶離剤中における免（Ｉｌ
ｌｌｌ含液小含量２３　ｐｐｍ以上に上昇されつる。

実施例　４ 発生器カラムをヨーロッパ特許Ｂ　Ｏ，０＋　Ｊ９５７
号の記載に従って調製した。し、かじながらいぐつかの
ものは最下層として付加的にシリカゲルを含有する。こ
れにＭＯ−９９を充填しそして操作日毎に生理食塩溶液
で溶離する。第４表にその結果を示す。

第４表ではヨーロッパ特許ｎＯ，０１４，９５７号記載
の方法を用いる場合にも溶出液中におけるＭＯ−９９の
含量の低下があることが示される。

いずれのに）田液中にも：ｕ（ＩＩ）は見出されなかっ
た。

４図面のｆｉ！１１スな説明 第１図および第２図は本発明による発生器の概略図を示
す。

第１図において、（１）は担体物質が充填されるカラム
であり、矢印は溶離方向（上から下へ）を示す４（２）
および（３）　ｉｉ：異なる担体物質の層を意味する。

第２因においては３１１類の異なる物質（２）、　（３
）および（４）が使用さ−する３種の層を備えた配置を
示す。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １）モリブデン−９９と銅（II）イオンとを結合させう
   る担体上に吸着されたモリブデン−９９を包含し、担体
   物質の少くとも１種類がアミノ基で修飾されたシリカゲ
   ルであるかまたは珪酸マグネシウムであるところのテク
   ネチウム−９９ｍ発生器。 ２）担体物質がアミノ基で修飾されたシリカゲルからな
   る前記特許請求の範囲第１項記載の発生器。 ３）担体物質の１種類として酸化アルミニウムを含有す
   る前記特許請求の範囲第１項記載の発生器。 ４）担体物質が本質的に酸化アルミニウムおよびアミノ
   基で修飾されたシリカゲルからなる前記特許請求の範囲
   第１項記載の発生器。 ５）付加的に珪酸マグネシウムを含有する前記特許請求
   の範囲第４項記載の発生器。 ６）担体物質が本質的に酸化アルミニウムおよび珪酸マ
   グネシウムからなる前記特許請求の範囲第１項記載の発
   生器。 ７）モリブデンが吸着される担体が溶離の方向において
   上層を形成しそして珪酸マグネシウムが下層を形成する
   溶離カラムからなる前記特許請求の範囲第１項記載の発
   生器。 ８）下層がアミノ基で修飾されたシリカゲルをも含有す
   る前記特許請求の範囲第７項記載の発生器。 ９）溶離の方向において、上層がモリブデン−９９およ
   び銅（II）イオンが吸着された酸化アルミニウムであり
   、中層が酸化アルミニウムでありそして下層が珪酸マグ
   ネシウムである溶離カラムからなる前記特許請求の範囲
   第１項記載の発生器。 １０）溶離の方向において、上層がモリブデン−９９お
   よび銅（II）イオンが吸着された酸化アルミニウムであ
   り、中層が酸化アルミニウムでありそして下層がアミノ
   基で修飾されたシリカゲルである溶離カラムからなる前
   記特許請求の範囲第１項記載の発生器。 １１）担体物質に吸着されたモリブデン−９９を含有す
   る発生器を銅（II）イオンを含有する水溶液で溶離する
   ことによりテクネチウム−９９を製造するにあたり、担
   体物質の少くとも１種類がアミノ基で修飾されたシリカ
   ゲルであるかまたは珪酸マグネシウムであることからな
   る改良。 １２）担体物質がアミノ基で修飾されたシリカゲルから
   なる前記特許請求の範囲第１１項記載の方法。 １３）担体物質の１種類として酸化アルミニウムを含有
   する前記特許請求の範囲第１１項記載の方法。 １４）担体物質が本質的に酸化アルミニウムおよびアミ
   ノ基で修飾されたシリカゲルからなる前記特許請求の範
   囲第１１項記載の方法。 １５）付加的に珪酸マグネシウムを含有する前記特許請
   求の範囲第１４項記載の方法。 １６）担体物質が本質的に酸化アルミニウムおよび珪酸
   マグネシウムからなる前記特許請求の範囲第１１項記載
   の方法。 １７）モリブデンが吸着された担体が溶離の方向におい
   て上層を形成しそして珪酸マグネシウムが下層を形成す
   るカラムを溶離することからなる前記特許請求の範囲第
   １１項記載の方法。 １８）下層がアミノ基で修飾されたシリカゲルをも含有
   する前記特許請求の範囲第１７項記載の方法。 １９）溶離の方向において、上層がモリブデン−９９お
   よび銅（II）イオンが吸着された酸化アルミニウムであ
   り、中層が酸化アルミニウムでありそして下層が珪酸マ
   グネシウムであるカラムを溶離することからなる前記特
   許請求の範囲第１１項記載の方法。 ２０）溶離の方向において、上層がモリブデン−９９お
   よび銅（II）イオンが吸着された酸化アルミニウムであ
   り、中層が酸化アルミニウムでありそして下層がアミノ
   基で修飾されたシリカゲルであるカラムを溶離すること
   からなる前記特許請求の範囲第１１項記載の方法。