JPS6274329U - - Google Patents

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JPS6274329U
JPS6274329U JP16680085U JP16680085U JPS6274329U JP S6274329 U JPS6274329 U JP S6274329U JP 16680085 U JP16680085 U JP 16680085U JP 16680085 U JP16680085 U JP 16680085U JP S6274329 U JPS6274329 U JP S6274329U
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JP
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particle beam
density
beam source
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relatively
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JP16680085U
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  • Physical Vapour Deposition (AREA)
  • Physical Deposition Of Substances That Are Components Of Semiconductor Devices (AREA)

Description

【図面の簡単な説明】
第1図は、この考案に係る分子線エピタキシー
装置の一例を示す概略図である。第2図は、補正
板の一例を示す正面図である。第3図は、補正板
上の分子線密度分布の一例を示す図である。第4
図は、従来の分子線エピタキシー装置の一例を示
す概略図である。 2……基板、4……分子線源、6……分子線、
18……補正板、20……貫通孔。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 粒子ビーム源からのある密度分布を持つ粒子ビ
    ームをターゲツトに照射するものにおいて、粒子
    ビーム源とターゲツトとの間の粒子ビームの経路
    上に複数の貫通孔を有する補正板を配置し、当該
    補正板の開口密度を、粒子ビーム源からの粒子ビ
    ームの密度が相対的に大きい所は相対的に小さく
    、粒子ビームの密度が相対的に小さい所は相対的
    に大きくしていることを特徴とする粒子ビーム密
    度分布の補正構造。
JP16680085U 1985-10-30 1985-10-30 Pending JPS6274329U (ja)

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JP16680085U JPS6274329U (ja) 1985-10-30 1985-10-30

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JPS6274329U true JPS6274329U (ja) 1987-05-13

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JP16680085U Pending JPS6274329U (ja) 1985-10-30 1985-10-30

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