JPS6276040A - 光磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
光磁気記録媒体の製造方法Info
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- JPS6276040A JPS6276040A JP21643285A JP21643285A JPS6276040A JP S6276040 A JPS6276040 A JP S6276040A JP 21643285 A JP21643285 A JP 21643285A JP 21643285 A JP21643285 A JP 21643285A JP S6276040 A JPS6276040 A JP S6276040A
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- glass
- glass plate
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(発明の技ifj分野〕
本発明1よ光ra気記録媒体のi′1造方法に係り、特
に右)復旧脂基板を使用した媒体とガラス基板を使用し
た媒体の特徴を兼備えた光f1気記録媒体の牛゛l造方
法に関する。
に右)復旧脂基板を使用した媒体とガラス基板を使用し
た媒体の特徴を兼備えた光f1気記録媒体の牛゛l造方
法に関する。
〔発明の技’+ji的背円とその問題点]高密度、大容
吊で、しかも記録、再生および消去が可能な記録媒体と
して、光磁気記録媒体が注目されている。光磁気記録媒
体は膜面に垂直方向に磁化容易軸を有するIa性体II
Qを記録層とし、レーザビーム等による熱エネルギーを
利用してE−1化反転の形で記録を行ない、再生はカー
効果のような磁気光学効果を利用して行なうものである
。このような光磁気記録媒体にあける記録層(A料とし
て1.t、TbCo、GdCo、’rbFe、GdTb
Fe、TbDyF”e等の弄土項−Jコ移金属非晶買合
金薄模が特に有望視されでいる。
吊で、しかも記録、再生および消去が可能な記録媒体と
して、光磁気記録媒体が注目されている。光磁気記録媒
体は膜面に垂直方向に磁化容易軸を有するIa性体II
Qを記録層とし、レーザビーム等による熱エネルギーを
利用してE−1化反転の形で記録を行ない、再生はカー
効果のような磁気光学効果を利用して行なうものである
。このような光磁気記録媒体にあける記録層(A料とし
て1.t、TbCo、GdCo、’rbFe、GdTb
Fe、TbDyF”e等の弄土項−Jコ移金属非晶買合
金薄模が特に有望視されでいる。
一方、光(6気記録媒体における基板材flとして1よ
、アクリル、ポリカーボネイ1〜等の有興)開局基板と
、無典材11であるガラス基(、々が検問されている。
、アクリル、ポリカーボネイ1〜等の有興)開局基板と
、無典材11であるガラス基(、々が検問されている。
光[0気記録媒体における基板は、通常の光記録媒体の
それと同様に1〜ラツキング、)A−カシングサーボ等
を確実に(jなうための案内溝が不可欠である。その点
、有I樹脂基板(よ案内溝のパク−ンが形成された金属
スタンパを使用して注形。
それと同様に1〜ラツキング、)A−カシングサーボ等
を確実に(jなうための案内溝が不可欠である。その点
、有I樹脂基板(よ案内溝のパク−ンが形成された金属
スタンパを使用して注形。
射出成形等を行なうことにより、容易に案内溝を形成す
ることができる。
ることができる。
しかしながら、有機樹脂基板上に記録層等を形成した光
磁気記録媒体は、通常の雰囲気中でも基板の吸湿による
膨張のため反り等の変形が大きく、記録再生特性上問題
となる。また、長期の信頼性(寿命)を調べるために高
温高湿下(70℃、RH90%)に晒した場合、基板の
熱膨張が大きいためと吸湿膨張により、記録層等が基板
から剥離するという問題があった。
磁気記録媒体は、通常の雰囲気中でも基板の吸湿による
膨張のため反り等の変形が大きく、記録再生特性上問題
となる。また、長期の信頼性(寿命)を調べるために高
温高湿下(70℃、RH90%)に晒した場合、基板の
熱膨張が大きいためと吸湿膨張により、記録層等が基板
から剥離するという問題があった。
これに対し、無機材料であるガラス基板は温度膨張係数
が小さく、吸湿の問題もないが、案内溝を形成すること
が非常に困難というのが大きな欠点である。また、研磨
による基板製作は、コスト高を招く。即ち、ガラス基板
を用いる場合には、少なくとも片面に光学研磨を施し、
レジストを1デ布して案内溝付のマスクで露光するか、
あるいは精密送り機構とレーザビーム発生源を備えた露
光装置によりレジストによる案内溝を形成した接、RI
E(リアクティブイオンエツチング装置)によりガラス
基板をエツチングして一枚一枚案内溝を形成しなければ
ならず、著しく量産性に欠ける。
が小さく、吸湿の問題もないが、案内溝を形成すること
が非常に困難というのが大きな欠点である。また、研磨
による基板製作は、コスト高を招く。即ち、ガラス基板
を用いる場合には、少なくとも片面に光学研磨を施し、
レジストを1デ布して案内溝付のマスクで露光するか、
あるいは精密送り機構とレーザビーム発生源を備えた露
光装置によりレジストによる案内溝を形成した接、RI
E(リアクティブイオンエツチング装置)によりガラス
基板をエツチングして一枚一枚案内溝を形成しなければ
ならず、著しく量産性に欠ける。
本発明はこのような従来の問題点に鑑みてなされたもの
で、基板の吸湿、熱膨張による変形や記録層等の剥離の
おそれがなく、しかも所産性に浸れた光磁気記録媒体の
製造方法を提供することを目的とする。
で、基板の吸湿、熱膨張による変形や記録層等の剥離の
おそれがなく、しかも所産性に浸れた光磁気記録媒体の
製造方法を提供することを目的とする。
本発明はこの目的を達成するため、第1に案内溝が形成
された有機樹脂基板上に、少なくとも膜面に垂直方向に
磁化容易軸を有する磁性体膜からなる記録層を形成した
後、両面にガラス板を接着することを特徴とする。
された有機樹脂基板上に、少なくとも膜面に垂直方向に
磁化容易軸を有する磁性体膜からなる記録層を形成した
後、両面にガラス板を接着することを特徴とする。
また、本発明は第2に案内溝が形成された有機樹脂基板
上に光反Di Iを形成した後、ガラス板を接着し、次
いで有機樹脂基板を剥離した後、光反fMR上に少なく
とも膜面に垂直方向に磁化容易軸を有する磁性体膜から
なる記録層を形成することを特徴とする。
上に光反Di Iを形成した後、ガラス板を接着し、次
いで有機樹脂基板を剥離した後、光反fMR上に少なく
とも膜面に垂直方向に磁化容易軸を有する磁性体膜から
なる記録層を形成することを特徴とする。
本発明によれば、案内溝が形成された有機樹脂基板上に
記録層等を形成したものを両面からガラス板で挟むこと
によって、有機樹脂基板の吸湿およびそれによる膨張の
問題がなくなり、さらに媒体全体の熱膨張係数はガラス
のそれに支配される。
記録層等を形成したものを両面からガラス板で挟むこと
によって、有機樹脂基板の吸湿およびそれによる膨張の
問題がなくなり、さらに媒体全体の熱膨張係数はガラス
のそれに支配される。
従って、媒体が反り等の変形を生じたり、記録層等が基
板から剥離することがなく、長期にわたり信頼性の高い
光磁気記録媒体が得られる。また、案内溝は有機樹脂基
板に注形、 DA出成形等により形成されるので、ガラ
ス基板に案内溝を形成する場合と比較して量産性が著し
く向上する。また、両面に接着されるガラス板は従来の
光磁気記録媒体における案内溝付ガラス基板のように案
内満面を研磨する必要がないので、この点力日らもコス
トダウンが期待できる。
板から剥離することがなく、長期にわたり信頼性の高い
光磁気記録媒体が得られる。また、案内溝は有機樹脂基
板に注形、 DA出成形等により形成されるので、ガラ
ス基板に案内溝を形成する場合と比較して量産性が著し
く向上する。また、両面に接着されるガラス板は従来の
光磁気記録媒体における案内溝付ガラス基板のように案
内満面を研磨する必要がないので、この点力日らもコス
トダウンが期待できる。
さらに、本発明によれば案内溝が形成された有機樹脂基
板上に光反射層を介してガラス板を接着し、有機樹脂基
板を剥離した後、光反射層上に記録層等を形成すること
によって、媒体としての基板はガラス基板となるから、
有様樹脂基板に見られる問題が本質的に解決される。ま
た、ガラスの熱膨張係数が低いことで光反rA筈の伸縮
はガラス板により制約され、光反射層の実質的な熱膨張
係数はガラスのそれと同じになるので、その上に形成さ
れる記録層さらには誘電体1等の熱膨張係数とも極めて
接近したものとなり、実用上十分な寿命特性が得られる
。また、媒体の基板としてガラス板を使用しながらも、
案内溝は有機樹脂基板に形成したものを光反射層に転写
することができることから、案内溝付ガラス基板を使用
する場合に比べて製造工程が非常に単純化され、所産性
が大きく向上する。
板上に光反射層を介してガラス板を接着し、有機樹脂基
板を剥離した後、光反射層上に記録層等を形成すること
によって、媒体としての基板はガラス基板となるから、
有様樹脂基板に見られる問題が本質的に解決される。ま
た、ガラスの熱膨張係数が低いことで光反rA筈の伸縮
はガラス板により制約され、光反射層の実質的な熱膨張
係数はガラスのそれと同じになるので、その上に形成さ
れる記録層さらには誘電体1等の熱膨張係数とも極めて
接近したものとなり、実用上十分な寿命特性が得られる
。また、媒体の基板としてガラス板を使用しながらも、
案内溝は有機樹脂基板に形成したものを光反射層に転写
することができることから、案内溝付ガラス基板を使用
する場合に比べて製造工程が非常に単純化され、所産性
が大きく向上する。
このように本発明によれば、光磁気記録媒体の長期信頼
性および量産性の著しい向上を図ることができる。
性および量産性の著しい向上を図ることができる。
(発明の実施例)
本発明に係る光磁気記録媒体の製造方法の第1の実施例
を第1図を参照して説明する。まず、第1図(a)に示
すような案内溝12を有する有償樹脂基板11を用意す
る。この基板11の材料は例えばアクリル、ポリカーボ
ネイト等であり、案内溝12は通常の注形、あるいは割
出成形等により容易に形成される。なお、基板11は我
緘的強度が大きいことと、後に接着されるガラス板の熱
膨張係数に対する抵抗力か小ざいものであることが望ま
しく、その観点から厚さは0.3〜1M稈度が適当であ
る。但し、あまり薄いと洗浄、取扱いが不便なので、0
.51M+程度が望ましい。
を第1図を参照して説明する。まず、第1図(a)に示
すような案内溝12を有する有償樹脂基板11を用意す
る。この基板11の材料は例えばアクリル、ポリカーボ
ネイト等であり、案内溝12は通常の注形、あるいは割
出成形等により容易に形成される。なお、基板11は我
緘的強度が大きいことと、後に接着されるガラス板の熱
膨張係数に対する抵抗力か小ざいものであることが望ま
しく、その観点から厚さは0.3〜1M稈度が適当であ
る。但し、あまり薄いと洗浄、取扱いが不便なので、0
.51M+程度が望ましい。
次に、第1図(b)に示すように有機樹脂基板11の案
内溝12が形成された面上に、第1の誘電体層13.膜
面に垂直方向に磁化容易軸を有する磁性体膜からなる記
録層14.第2の誘電体層15および光反fll=I牌
16を、例えば多元スパッタリング装置内で連続的に形
成する。ここで、第1の誘電体層13は記録用14のカ
ー回転角を等価的に大きくするための干渉層として作用
するもので、例えばBN、S i N、AgN、T i
N。
内溝12が形成された面上に、第1の誘電体層13.膜
面に垂直方向に磁化容易軸を有する磁性体膜からなる記
録層14.第2の誘電体層15および光反fll=I牌
16を、例えば多元スパッタリング装置内で連続的に形
成する。ここで、第1の誘電体層13は記録用14のカ
ー回転角を等価的に大きくするための干渉層として作用
するもので、例えばBN、S i N、AgN、T i
N。
SiO,Aり203等の厚さ1000人程度0簿喚が使
用される。
用される。
記録層14の…性体膜としては、前述したように丁bC
o、GdCo、TbFe、GdTbFe。
o、GdCo、TbFe、GdTbFe。
TbDyFe等の希土類−i!!移金屈非晶買合金簿膜
が使用される。例えばTbC0の場合を例にとると、T
bターゲットとCoターゲットを用い、2元同時スパッ
タリングにより記録層14を形成できる。Tb、!:C
oの組成比はそれぞれのターゲラ[−の投入電力によっ
てチり陣することができる。
が使用される。例えばTbC0の場合を例にとると、T
bターゲットとCoターゲットを用い、2元同時スパッ
タリングにより記録層14を形成できる。Tb、!:C
oの組成比はそれぞれのターゲラ[−の投入電力によっ
てチり陣することができる。
記録層14の膜厚は500人とした。
第2の誘電体層15は記録層14を保護するためのもの
で、第1の誘電体層13と同様のものか使用される。光
反射層16は光磁気記録媒体において通常設けられるも
ので、アルミニウム膜のような光反射率の高いものが使
用され、そのlag J$は1000人程度0簿当であ
る。
で、第1の誘電体層13と同様のものか使用される。光
反射層16は光磁気記録媒体において通常設けられるも
ので、アルミニウム膜のような光反射率の高いものが使
用され、そのlag J$は1000人程度0簿当であ
る。
そして、第1図(b)の構造の積層体両面に第1図(C
)に示すように、接着層178.17bをそれぞれ介し
てガラス板18a、18bを接着する。接W@17a、
17bは有機接着剤、例えば紫外線硬化樹脂(サンライ
ズメイセイ社製photo bond # 100等)
が使用される。ガラス板18a、18bは熱膨張係数が
誘電体層13゜15のそれに近いものほど好ましいが、
光磁気記録媒体の使用される温度が高々50℃であり、
また高温高湿試験下でも70〜80’C程度であること
を考えると、通常のガラス材であれば熱膨張係数が10
0X 10− ’ cm/℃以下なので、はとんどのも
のを使用できる。但し、レーザビームが入射される側の
ガラス板18bは、C、、/ Nの低下等を防ぐために
復屈折率の小さいガラス材料が望ましい。
)に示すように、接着層178.17bをそれぞれ介し
てガラス板18a、18bを接着する。接W@17a、
17bは有機接着剤、例えば紫外線硬化樹脂(サンライ
ズメイセイ社製photo bond # 100等)
が使用される。ガラス板18a、18bは熱膨張係数が
誘電体層13゜15のそれに近いものほど好ましいが、
光磁気記録媒体の使用される温度が高々50℃であり、
また高温高湿試験下でも70〜80’C程度であること
を考えると、通常のガラス材であれば熱膨張係数が10
0X 10− ’ cm/℃以下なので、はとんどのも
のを使用できる。但し、レーザビームが入射される側の
ガラス板18bは、C、、/ Nの低下等を防ぐために
復屈折率の小さいガラス材料が望ましい。
ここで、ガラス板18a、18bは光学研磨は不要であ
り、通常の板厚が0.5〜1mM程度の板ガラスをディ
スク状に加工するだけでよいので、数10枚を低融点の
ワックス等で貼り合せて外周加工および中心孔加工を実
施でき、安価に製作できる。
り、通常の板厚が0.5〜1mM程度の板ガラスをディ
スク状に加工するだけでよいので、数10枚を低融点の
ワックス等で貼り合せて外周加工および中心孔加工を実
施でき、安価に製作できる。
なお、このようにして得られた第1図(C)に示す光[
a気記録媒体は、ガラス板18a側からレーザビームを
照射することにより情報の記録再生が行なわれる。
a気記録媒体は、ガラス板18a側からレーザビームを
照射することにより情報の記録再生が行なわれる。
次に、ガラス118a、18bを第1図(c)のごとく
貼り合せる具体的な方法について、第2図を用いて説明
する。第2図に示すように真空槽21を透明シリコーン
ゴムあるいは薄いテフロンシートからなる可撓性を有す
る隔壁22で2つの至A、Bに仕切り、B室に而した紫
外線入射窓23b上にガラス板18bを設置し、所定量
の液状紫外線硬化樹脂24bを滴下する。第1図(b)
の槓苦体25を変形可能なテフロン製等の冶具26によ
って、位置出しができるように支持する。
貼り合せる具体的な方法について、第2図を用いて説明
する。第2図に示すように真空槽21を透明シリコーン
ゴムあるいは薄いテフロンシートからなる可撓性を有す
る隔壁22で2つの至A、Bに仕切り、B室に而した紫
外線入射窓23b上にガラス板18bを設置し、所定量
の液状紫外線硬化樹脂24bを滴下する。第1図(b)
の槓苦体25を変形可能なテフロン製等の冶具26によ
って、位置出しができるように支持する。
この積層体25−Fにも所定量の液状紫外線硬化樹脂2
4aを滴下した後、もう一つのガラス数18aを治具2
6の頂部に設置する。そして、A至に面して設けられた
紫外、線入q4窓23aからも紫外線を導入する。冶具
27はガラス板18a。
4aを滴下した後、もう一つのガラス数18aを治具2
6の頂部に設置する。そして、A至に面して設けられた
紫外、線入q4窓23aからも紫外線を導入する。冶具
27はガラス板18a。
18bおよび積層体25の中心孔のガイドであり、中心
出しのためのものである。
出しのためのものである。
このよう41装置を用いて、次の手順でガラス数18a
、18bを積層体25に貼り合せる。
、18bを積層体25に貼り合せる。
(1) 真空1f121のA、B両¥を同時に排気し
、液状紫外線硬化樹脂の脱泡を完全に行なう。
、液状紫外線硬化樹脂の脱泡を完全に行なう。
(2)Δ室を徐々に大気圧に戻し、ガラス板188゜1
8bおよび積層体25を隔壁22を介して大気圧で加圧
する。
8bおよび積層体25を隔壁22を介して大気圧で加圧
する。
(3) この加圧した状態で数分間放置し、紫外線硬
化樹脂24a、24b (第1図の接着層17a。
化樹脂24a、24b (第1図の接着層17a。
17b)を十分に薄く、均一化する。
(4)紫外線入l1)1窓23a、23bから紫外線を
照射し、紫外線硬化樹脂24a、24bを硬化させる。
照射し、紫外線硬化樹脂24a、24bを硬化させる。
(5) 室内に取出し、必要があれば再度紫外線を照
射して追硬化を行なう。
射して追硬化を行なう。
以上の工程により、有は樹脂基板11上に記録層14を
はじめとする各層が形成され、且つ全体が両面からガラ
ス板18a、18bにより挟まれ堅固に一体化された光
磁気記録媒体が得られる。
はじめとする各層が形成され、且つ全体が両面からガラ
ス板18a、18bにより挟まれ堅固に一体化された光
磁気記録媒体が得られる。
次に、第3図を参照して本発明に係る光磁気記録媒体の
製造方法の第2の実施例を説明する。まず、第3図(a
)に示すような案内溝32を有する有は樹脂基板31を
用意する。この基板31の材料は例えばアクリル、ポリ
カーボネイト等であり、案内溝32は通常の注形、ある
いは射出成形等により容易に形成される。
製造方法の第2の実施例を説明する。まず、第3図(a
)に示すような案内溝32を有する有は樹脂基板31を
用意する。この基板31の材料は例えばアクリル、ポリ
カーボネイト等であり、案内溝32は通常の注形、ある
いは射出成形等により容易に形成される。
次に、第3図(b)に示すように有償樹脂基板31の案
内溝32が形成された面上に、剥離層33を介して光反
tJI層34を形成する。剥離層33はに機樹脂基板3
1を後述する工程で剥離する際に有用なものであり、有
機樹脂基板31と熱膨張係数が大きく異なる金属酸化物
、金属窒化物。
内溝32が形成された面上に、剥離層33を介して光反
tJI層34を形成する。剥離層33はに機樹脂基板3
1を後述する工程で剥離する際に有用なものであり、有
機樹脂基板31と熱膨張係数が大きく異なる金属酸化物
、金属窒化物。
半導体酸化物、半導体窒化物等の材料からなり、スパッ
タリング法等により50〜500人程度の膜厚に形成さ
れる。光反剣騎34は光反射率の高い金属材料が使用さ
れる。一実施例では剥離1響33としてSiN膜をスパ
ッタリング法により200人の厚さに形成し、光反[J
34としてはアルミニウム膜をやはりスパッタリング法
により1000人の厚さに形成した。
タリング法等により50〜500人程度の膜厚に形成さ
れる。光反剣騎34は光反射率の高い金属材料が使用さ
れる。一実施例では剥離1響33としてSiN膜をスパ
ッタリング法により200人の厚さに形成し、光反[J
34としてはアルミニウム膜をやはりスパッタリング法
により1000人の厚さに形成した。
次に、第3図(C)に示すように光反射層34上に接着
層35を介してガラス板36を接着する。
層35を介してガラス板36を接着する。
接着層35は有機接着剤、〃1えば紫外線硬化樹脂(サ
ンライズメイセイ社製photo bond # 10
0等)が使用される。ガラス板36は熱膨張係数が後述
する誘電体層のそれに近いものほど好ましいが、光…気
記録媒体の使用される温度が高々50℃であり、また高
温高湿試験下でも70〜80°C程度であることを考え
ると、通常のガラス材であれば熱膨張係数が100x
10− ’ cttr/ ’C以下なので、はとんどの
ものを使用できる。ここで、ガラス板36は光学研磨は
不要であり、通常の板厚が0.5〜1 mm程度の板ガ
ラスをディスク状に加工するだけでよいので、数10枚
を低融点のワックス等で貼り合せて外周加工および中心
孔加工を実施でき、安価に製作できる。
ンライズメイセイ社製photo bond # 10
0等)が使用される。ガラス板36は熱膨張係数が後述
する誘電体層のそれに近いものほど好ましいが、光…気
記録媒体の使用される温度が高々50℃であり、また高
温高湿試験下でも70〜80°C程度であることを考え
ると、通常のガラス材であれば熱膨張係数が100x
10− ’ cttr/ ’C以下なので、はとんどの
ものを使用できる。ここで、ガラス板36は光学研磨は
不要であり、通常の板厚が0.5〜1 mm程度の板ガ
ラスをディスク状に加工するだけでよいので、数10枚
を低融点のワックス等で貼り合せて外周加工および中心
孔加工を実施でき、安価に製作できる。
次に、石層樹脂基板31と剥離層33との熱膨張係数の
差を利用し、第3図(C)の積層体を例えば70〜80
℃P1.度に加熱することにより剥llFm33を境に
して石層樹脂基板31を剥餌する。この工程により第3
図(d)に示すような、カラス板36上に接着層35を
介して光反射筈34が形成きれたものが取出される。
差を利用し、第3図(C)の積層体を例えば70〜80
℃P1.度に加熱することにより剥llFm33を境に
して石層樹脂基板31を剥餌する。この工程により第3
図(d)に示すような、カラス板36上に接着層35を
介して光反射筈34が形成きれたものが取出される。
次に、第3図(e)に示すように光反射時34上に、第
1の誘電体層37.膜面に垂直方向に磁化容易軸を有す
る磁性体膜からなる記録層38゜第2の誘電体層39を
、例えば多元スパッタリング装置内で連続的に形成する
。ここで、第2の誘電体層39は記録層38のカー回転
角を等価的に大きくするための干渉層として作用するも
ので、例えばBN、SiN、AβN、 T i N、
S I O。
1の誘電体層37.膜面に垂直方向に磁化容易軸を有す
る磁性体膜からなる記録層38゜第2の誘電体層39を
、例えば多元スパッタリング装置内で連続的に形成する
。ここで、第2の誘電体層39は記録層38のカー回転
角を等価的に大きくするための干渉層として作用するも
ので、例えばBN、SiN、AβN、 T i N、
S I O。
Ag2’03等の厚さ1000人程度0薄膜が使用され
る。
る。
記録層38の磁性体膜としては前jホしたように、Tb
Co、GdCo、丁bFe、GdTbFe。
Co、GdCo、丁bFe、GdTbFe。
TbDyFe等の希土類−1ff移金属非晶質合金薄膜
が使用される。例えばTbCoの場合を例にとると、T
bターゲットとC○ツタ−ットを用い、2元同時スパッ
タリングにより記録層38を形成できる。TbとCOの
組成比はそれぞれのターゲットの19人電力によって制
ttpすることができる。
が使用される。例えばTbCoの場合を例にとると、T
bターゲットとC○ツタ−ットを用い、2元同時スパッ
タリングにより記録層38を形成できる。TbとCOの
組成比はそれぞれのターゲットの19人電力によって制
ttpすることができる。
記録層38の膜厚は500人とした。
第1の誘電体層37は記録層38を保護し記録層38の
性能を高めるためのもので、第2の誘電体層3つと同様
のものが使用される。実施例では第1および第2の誘電
体図37.39とも、6u厚1000人の3i3N<摸
を形成した。
性能を高めるためのもので、第2の誘電体層3つと同様
のものが使用される。実施例では第1および第2の誘電
体図37.39とも、6u厚1000人の3i3N<摸
を形成した。
なお、このようにして得られた第3図(e)に示す光磁
気記録媒体は、第2の誘電体層39側からレーザビーム
を照則することにより情報の記録再生が(牙なねれる。
気記録媒体は、第2の誘電体層39側からレーザビーム
を照則することにより情報の記録再生が(牙なねれる。
次に、第3図(C)の工程において光反射層34とガラ
ス板36とを貼り合せる置体的な方法について、第4図
を用いて説明する。第4図に示すように真空槽41を透
明シリコーンゴムあるいは薄いテフロンシートからなる
可換性を有する隔壁42で2つの室A、Bに仕切り、B
至に而した紫外線入射窓43上にガラス板36を設置し
、所定量の液状紫外I!硬化樹脂44を滴下する。第3
図1>の積層体45を変形可能なテフロン製等の治具4
6によって、位置出しができろように支持する。
ス板36とを貼り合せる置体的な方法について、第4図
を用いて説明する。第4図に示すように真空槽41を透
明シリコーンゴムあるいは薄いテフロンシートからなる
可換性を有する隔壁42で2つの室A、Bに仕切り、B
至に而した紫外線入射窓43上にガラス板36を設置し
、所定量の液状紫外I!硬化樹脂44を滴下する。第3
図1>の積層体45を変形可能なテフロン製等の治具4
6によって、位置出しができろように支持する。
このような装置を用いて、次の手頃でガラス板36を!
、!!層体45に貼り合せる。
、!!層体45に貼り合せる。
(1) 真空槽41のA、B雨空を同時に排気し、液
状紫外線硬化樹脂の抑泡を完全に行なう。
状紫外線硬化樹脂の抑泡を完全に行なう。
(2)A室を徐々に大気圧に房し、ガラス板36および
積層体45を隔壁42を介して大気圧で加圧する。
積層体45を隔壁42を介して大気圧で加圧する。
(3) この加圧した状態で数分間放置し、紫外線硬
化樹脂44(第3図の接着層35)を十分に薄く、均一
化する。
化樹脂44(第3図の接着層35)を十分に薄く、均一
化する。
(4) 紫外線入射窓43から紫外線を照則し、紫外
線硬化樹脂44を硬化させる。
線硬化樹脂44を硬化させる。
(5) 室内に取出し、前述のように熱膨張係数の差
を利用して有Ij31樹脂基板31を剥@層33を介し
て剥離する。
を利用して有Ij31樹脂基板31を剥@層33を介し
て剥離する。
以上のようにして、本実施例によれば案内溝のない平坦
なガラス板36を基板とし、その上に案内溝を有する光
反射層34や記録層38をはじめとする各層が形成され
た光磁気記録媒体がiqられる。
なガラス板36を基板とし、その上に案内溝を有する光
反射層34や記録層38をはじめとする各層が形成され
た光磁気記録媒体がiqられる。
第5図は第3図の実施例を変形した実施例であり、第3
図(e)の工程の後、ガラス板36と反対側の面、すな
わち第2の誘電体層39 、、t:に接着層51な介し
てガラス板52を接着したものであため、さらに高信頼
性、長寿命の光磁気記録媒体が得られる。なお、第5図
の媒体では記録再生時にガラス板52をレーザビームが
通過するが、ガラス板52は記録層38とは誘電体層3
9および接肴苦51を介して離れているため、表面の若
干の凹凸は記録再生に影響を与えず、従ってガラス板5
2の光学研磨がエサであることはいうまでもない。
図(e)の工程の後、ガラス板36と反対側の面、すな
わち第2の誘電体層39 、、t:に接着層51な介し
てガラス板52を接着したものであため、さらに高信頼
性、長寿命の光磁気記録媒体が得られる。なお、第5図
の媒体では記録再生時にガラス板52をレーザビームが
通過するが、ガラス板52は記録層38とは誘電体層3
9および接肴苦51を介して離れているため、表面の若
干の凹凸は記録再生に影響を与えず、従ってガラス板5
2の光学研磨がエサであることはいうまでもない。
第1図は本発明に係る光R1気記録媒体の製造方を大の
第1の実施例を説明するj:めの工程図、第2図は同実
施(り1で使用する装置の断面図、第3図1ま本発明に
係る光り社気証録媒体の)り造方法の第2の実施例を説
明するための工程図、第4図は同実施例で使用する装置
の断面図、第bFF’wは第3図の実施例を変形した実
施例の最終工程を示す図である。 11.31・・・有機樹脂基板、12.32・・・案内
溝、13.15.37.39・・・誘電体、苦、14゜
38・・・記録層、16.34・・・光反射層、178
゜17b、35.51=・・接着層、18a、18b。 36.52・・・ガラス板、21.41・・・真空層、
22.42・・・隔壁、23a、23b、43−・・紫
外線入射窓、24a、24b、44・・・液状紫外線硬
化樹脂、25.45・・・積層体、26,27.−46
・・・冶具。 出願人代理人 弁理士 鈴汀武ら l1lIUv 第3図 第4図 第5図
第1の実施例を説明するj:めの工程図、第2図は同実
施(り1で使用する装置の断面図、第3図1ま本発明に
係る光り社気証録媒体の)り造方法の第2の実施例を説
明するための工程図、第4図は同実施例で使用する装置
の断面図、第bFF’wは第3図の実施例を変形した実
施例の最終工程を示す図である。 11.31・・・有機樹脂基板、12.32・・・案内
溝、13.15.37.39・・・誘電体、苦、14゜
38・・・記録層、16.34・・・光反射層、178
゜17b、35.51=・・接着層、18a、18b。 36.52・・・ガラス板、21.41・・・真空層、
22.42・・・隔壁、23a、23b、43−・・紫
外線入射窓、24a、24b、44・・・液状紫外線硬
化樹脂、25.45・・・積層体、26,27.−46
・・・冶具。 出願人代理人 弁理士 鈴汀武ら l1lIUv 第3図 第4図 第5図
Claims (2)
- (1)案内溝が形成された有機樹脂基板上に、少なくと
も膜面に垂直方向に磁化容易軸を有する磁性体膜からな
る記録層を形成した後、両面にガラス板を接着すること
を特徴とする光磁気記録媒体の製造方法。 - (2)案内溝が形成された有機樹脂基板上に光反射層を
形成した後、ガラス板を接着し、次いで前記有機樹脂基
板を剥離した後、前記光反射層上に少なくとも膜面に垂
直方向に磁化容易軸を有する磁性体膜からなる記録層を
形成することを特徴とする光磁気記録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21643285A JPS6276040A (ja) | 1985-09-30 | 1985-09-30 | 光磁気記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21643285A JPS6276040A (ja) | 1985-09-30 | 1985-09-30 | 光磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6276040A true JPS6276040A (ja) | 1987-04-08 |
Family
ID=16688457
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21643285A Pending JPS6276040A (ja) | 1985-09-30 | 1985-09-30 | 光磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6276040A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5667887A (en) * | 1989-03-28 | 1997-09-16 | Seiko Epson Corporation | Magneto-optical media |
-
1985
- 1985-09-30 JP JP21643285A patent/JPS6276040A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5667887A (en) * | 1989-03-28 | 1997-09-16 | Seiko Epson Corporation | Magneto-optical media |
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