JPS6280021A - 高分子樹脂からなる延伸フイルム - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は一１気テープ、銀塩写真フィルムなどの情報記
録媒体、コンデンサーなどの電気部品、グラフィックデ
ー１〜用品、あるいは包装用材Ｆ１などに用いられる高
分子樹脂フィルムに関するものである。

［従来の技術］ 高分子）開店からなる延伸フィルムは（以下フィルムと
称す）は磁気テープ、フロッピーディスク、光記録媒体
、銀塩写真などの基材フィルムとして広く使用されてい
る。

近年記録媒体に対し情報の高密度記録化の要請が強く、
それに伴って基材となるフィルム表面に対する改良が強
く望まれている。例えば磁気テープ、磁気ディスクの高
密度記録媒体である薄膜型磁気記録媒体では磁気ヘッド
とのスペーシングロスによる記録、再生時の損失が非常
に重要となるため、表面をより平滑にし、スペーシング
ロスを極力少なくすることが強く要請されている。この
ためには基材となるフィルムかより平滑で必る必要があ
る。この要請は光記録用の媒体としてもしかりでおる。

ところでフィルム表面が平滑になるとフィルムの滑りが
悪くなり、フィルムの製造工程あるいは記録層を形成す
る加工工程でフィルムが走行しにくくなるという正大な
問題が生じる。

つまり、表面が平滑でおることと、フィルムの易滑性と
は相反する性質にある。しかしながら、情報記録媒体の
基材としてのフィルムには表面がより平滑でより易滑で
あるというこの相反する性質を満足せしむる要求が強く
されている。

またざらに情報記録媒体としての耐久性の向上がさらに
一層望まれていることから基材であるフィルムと記録層
との接着性の向上が強く要請されており、フィルムの易
接着性への改質の要求も強い。

このよ−うな要求に対しいくつかの改善の試みがなされ
ている。

最も一般的に検問されているのは炭酸カルシウムや醸化
ケイ素の微粒子をポリマ中に添加する方法であるが、こ
の方法では微粒子で形成される表面の突起か大きすぎる
欠点がある。ざらに現在該粒子の超微細化が進み、これ
らを均一にポリマ中に添加する方法が精力的に検討され
ているが、今のところこれらの超微粒子を添加したフィ
ルムでは表面の平滑性は良くなるものの、漬り性か不充
分である。

これら微粒子を添加する方法とは全く違った方法として
、例えば特開昭５９−３５９２０号では未延伸シー１〜
に人気中でコロナ放電処理し、次いで延伸することによ
って易滑化する方法が開示されている。本発明者らは種
々の実験を試みたが、その効果は極めて低く、実用的な
性能要求を満足する乙のではない。また易接着化の効果
はほとんど認められなかった。

さらに特公昭６０　５１８３＠には平滑なポリエステル
フィルムの両面に、シリコーン、スチレン−ブタジェン
ゴムの少なくとも一種類と水溶性高分子とからなるもの
を主成分とするミミズ状被膜を形成した易滑性のポリエ
ステルフィルムが開示されている。

しかしながら、該方法ではフィルム表面に形成される不
連続被膜の厚さおよび形が不均一なため、要求されてい
る表面の均一性と易滑性の点て今−歩不足している。さ
らにまた不連続被膜とフィルム基材とが同一樹脂でない
ため基材と被膜との接着性に難がおること、および接着
性の改良効果が認められない欠点がある。

また接着性の改良方法とは例えばりＳＰ３．０１８．１
８９あるいはＢＰｌ、　２５２．９３５に開示されてい
るごとく、人気中でコロナ放電処理する方法が一般に知
られているが、該方法では改質効果が不充分で必る上知
時間のうちに効果が消失することか知られている。

ＵＳＰ４．０７２．７６９にはポリエチレンテレフタレ
ートフィルムをＮｏガスあるいはＮＯ２ガスの存在下で
低温プラズマで処理し、易接着化する方法が開示されて
いる。低温プラズマ処理はコロナ放電処理に比べ初期の
改質効果は高いが、コロナ放電処理同様経口的に効果が
低下していくこと、および処理費用が高いなどの問題が
あり、実用化されるに至っていない。

［発明が解決しようとする問題点コ 本発明の目的とするところは、前述のような高分子樹脂
のもつ表面の特性の欠点を改良し、かつその改良された
表面特性が経口的に劣化することのない優れた表面特性
を有するフィルムを提供するものである。

［問題点を解決するための手段］ 本発明とは、フィルム表面にほぼ一定に配列された、オ
スミック酸に可染で、かつ該フィルムと一体をなす超微
細な凸部を有し、該凸部の配列方向に垂直に切断した断
面を観察した時、該凸部の高さが３０〜５００Å、幅が
１００〜５０００Å、表面の長さ１μｍ当りの該凸部の
存在個数が０゜５〜５０個であることを特徴とする高分
子４樹脂フイルム（以下フィルムと称す）でおる。

本発明でいう高分子樹脂とは溶融押出法、溶液流延法、
カレンダー法などによって成形されシーＩ・となり、次
いで延伸することによって薄ようのフィルムとなりうる
高分子樹脂である。このような高分子樹脂としては、ポ
リエチレン必るいはポリプロピレンなどのオレフィン樹
脂、ポリスチレンおよびその共重合体樹脂、ポリカーボ
ネート、セルロースア廿チー１〜樹脂、ポリエチレンテ
レフタレートなどのポリエステル樹脂、ナイロン１１な
どのポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリフェニレン
オキザイド、ポリフェニレンスルファイド、ポリエーテ
ルスルホンなどのポリスルボン樹脂、ウレタン樹脂など
、あるいはこれらの共重合体、またはこれらと他の七ツ
マ−との共重合体、ざらにはこれらの混合樹脂などをそ
の代表的な例として挙げることができる。なお当然のこ
とながらこれらの樹脂に安定剤、滑剤、有機あるいは無
機粒子、色素、顔料、紫外線吸収剤、可塑剤などを加え
てもよい。

ところで通常フィルムに要求される基本的な特性は機械
的特性でおり、薄ようで、かつ強靭であることが要求さ
れる。このことから高分子樹脂としては結晶性高分子で
おることが望ましいが、結晶性高分子は非晶質状態から
成形、延伸によって結晶化していくにつれて、接着性、
滑り性などの表面特性が著しく悪くなる欠点がある。

しかしながら本発明のフィルムはフィルムに要求される
基本的な特性を損うことなく、従来のフィルムに比べ著
しく優れた表面特性を有することから本発明の高分子樹
脂としては結晶性高分子樹脂でおることかより好ましい
。

このため、高分子樹脂の中、１４に製膜性に優れかつフ
ィルムに要求される強靭性、透明性、可撓性などに優れ
た結晶性のオレフィン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリエス
テル樹脂が好ましく、このような樹脂としてはポリプロ
ピレン、エチレン−プロピレン共重合体、プロピレン−
ブテン共重合体、エチレン−プロピレン−ブテン３元共
重合体などのオレフィン樹脂、およびナイロン−６、ナ
イロン−６６、ナイロン−６１０、ナイロン−１１、ノ
イロンー１２、ナイロン−６／６６共重合体などの結晶
性脂肪族ポリアミド樹脂、さらにはポリエチレンテレフ
タレートに代表される芳香族ジカルボン酸とアルキレン
グリコールからなるポリエステル樹脂などをその代表的
な例として挙げることができる。

なかでも芳香族ジカルボン酸を主たる酸成分として、ア
ルキレングリコールを主たるグリコール成分とするポリ
エステル樹脂を用い作られたフィルムは良好な接着性を
もち、かつ経口的な低下か認められず、ざらに易滑性を
有する極めて優れた表面をもつフィルムが得られること
から、本発明にとって最も好ましい樹脂である。

このようなポリエステル樹脂の具体例としては、テレフ
タル酸、イソフタル酸、ナフタレンジカルボン酸、ジフ
ェノキシエタンジカルボン酸、ジフェニルジカルボン酸
、ジフェニルエーテルジカルボン酸、ジフェニルスルホ
ンジカルボン酸、ジフ工二ルケ］〜ンジカルボン酸、ア
ンスラセンジカルボン酸、α、β−ビス（２−クロフェ
ノキシ）エタン−４，４−ジカルボン酸などの芳香族ジ
カルボン酸を酸成分とし、エチレングリコール、トリメ
チレングリコール、テ１−ラメチレングリコール、ペン
タメチレングリコール、ヘキサメチレングリコール、ヘ
キシレングリコールなどのアルキレングリコールをグリ
コール成分とするポリエステル樹脂か挙げられる。これ
らのうち、特にテレフタル酸とエチレングリコールから
なるポリエチレンテレフタレート樹脂が望ましい。

これらのポリエステル重合体中に表面の平滑性を損わな
い程度の極めて微小な無＠必るいは有機の粒子を添加し
ても構わない。例えば極めて微小なコロイダルシリカ粒
子などを少量添加することができる。ただし添加に際し
てはこれらの粒子が二次凝集を行なわないよう十分注意
する必要かある。

本発明のフィルムの特徴は、フィルム表面の一部にオス
ミック酸可染な超微細な凸部が該フィルムと一体に形成
されていることにあり、理由は明らかではないが該凸部
が表面に存在することによって易滑性および易接着性が
発現する。

本発明でいう一体とはオスミック酸可染層と基材フィル
ムとが高分子結合をもって一体化、より好ましくは化学
結合をもって一体化していることを意味し、オスミック
酸可染層が基材フィルムの改質によって形成されたもの
でおることが最も好ましい。

本発明のフィルムは電界放射型走査電子顕微鏡にてフィ
ルム表面を観察するか、または超薄切片のフィルム表層
部断面をオスミック酸染色後、透過型電子顕微鏡にて観
察することによって同定できる。第１図（ａ）、（ｂ）
、（Ｃ）は本発明の二軸延伸ポリエステルフィルムの表
層部面面の拡大モデル図でおる。斜線部がオスミック酸
可染部で、（ａ）では凸部以外の表層もオスミック酸に
可染されたフィルムであり、（ｂ）はほぼ凸部のみがオ
スミック酸に染色可能に形成されている場合で、これら
はフィルムに対する要求性能に応じ、製造条件の変更に
よって作ることができる。（Ｃ）は微小な粒子を含んだ
フィルムについて拡大モデル図でおり、黒くぬりつぶし
た部分が粒子でおる。

微小粒子のみでは突起が小さすぎ易滑化しないが、図の
ごとくオスミック酸可染の凸部が形成されると、微小粒
子の形成する突起に比べ該凸部の方が高さが低いにもか
かわらず驚くべきことに著しく易滑化する。なお第１図
はモデル図であり、本発明のフィルムを正確に再現した
ものではない。

図中においてＨ２はオスミック酸可染部の厚さを示す。

オスミック酸可染部の厚さは３０大以上５００Å以下が
好ましく、３０大未満では易滑性、接着性ともに性能不
足と必る。５００人を越えると表面の平滑性が損われる
とともにオスミック酸可染部と基材間の凝集力が低下し
、実質的な接着力か低下する。

第２図は本発明のフィルムの代表的な表面のモデル図で
ある。ドツトをうった部分がオスミック酸可染の凸部を
表わす。

本発明のフィルムのより好ましい性質はオスミック酸可
染の凸部が第２図のごとくほぼ一定の方向にほぼ一様に
配列していることにより効果的に発現される。少なくと
も形成された凸部の個数で５０％以上の凸部がこのよう
に一定の方向に配列することで易滑性がより向上する。

配列する方向は易滑性を向上させる点でほぼフィルムの
長手方向または幅方向が好ましく、より好ましくい方向
は幅方向である。

ここでいう長手方向または幅方向への配列とは第３図に
示すごとく凸部の長手方向がフィルムの長平方向（ＭＤ
）あるいは幅方向（ＴＤ）となす角（０）が±３０度以
内であることをさし、より好ましい角度範囲は±１５度
以内でおる。

本発明のフィルムではフィルムの平滑性、易滑性はフィ
ルム表面の凸部のサイズに依存する。本発明のフィルム
では凸部の配列方向に平行に切断した断面から観察した
フィルム表面のオスミック酸可染の凸部の高さが３０〜
３００Å、幅１００〜５０００大で、かつその個数が表
面１μｍ当り０．５〜５０個存在することが好ましく、
より好ましい範囲は高さ５０〜３００Å、幅１００〜３
０００Å、個数１〜２０個である。凸部の高さが３０人
未満、個数０．５個未満では易滑性が不充分で必り、ま
た高さが３００人を越え、かつ個数が５０個を越えると
表面の平滑性が失われ、また、接着［生もなくなる。

ここでいう凸部のサイズとは第２図のフィルムを長手方
向（ＭＤ）に平行に切断し、第１図のような断面を得た
場合のＨｌを高さ、Ｗを幅としたものである。

またフィルムを表面から観察した場合、上記のような幅
、高さのナイスを有し、かつ長さが１００Å〜２μｍの
オスミック酸可染の凸部がフィルム表面の１μＴｒ１２
当り１０〜５０個存在することが好ましい。ここでいう
長さとは凸部の長手方向の長さ、つまり第２図のＬの長
さを指す。

本発明のフィルム表面に形成されたオスミック酸可染の
凸部は上記サイズのみに限定されるものではなく、少な
くとも上記サイズの凸部が占める面積か前凸部の占める
面積の５０％以上になる数だけあればよい。

本発明のフィルム表面の好ましい表面特性は表面粗さが
０．０００５〜０．０１０Ｃ１ｍＲａてフィルム同志の
静摩隙係数が０．３〜３．０１’９つ、より好ましい範
囲は表面粗さ０．００１〜０゜００５μｍＲａ、静摩擦
係数０．５〜２．０て必る。このような表面は形成され
る凸部の大きざ、個数、および高分子樹脂に添加する粒
子の大きさ、量等を調節するとによって形成することが
できる。

本発明のフィルム表面に形成されたオスミック酸可染の
凸部の物質は限定されないが、接着性の点から該凸部が
基材フィルムの表面改質によって形成されたものである
ことか好ましい。

フィルム表面が改質されると一般にフィルムとフィルム
の間の滑り性の向上が見られるが、本発明のフィルムで
はこのような表面の化学的組成変化に伴う改質効果に加
え、表面に凸部が形成されることから、その改質効果は
著しい。特に易滑性の改良効果は驚くへきものがある。

表面改質によって形成されたオスミック酸可染の凸部を
有する表面（以下改質表面と称す）をもった本発明のフ
ィルムでは、フリエ−変換赤外分光によるＡＴＲ法で測
定した改質表面の赤外吸収スペクトルと、該改質表面を
切除してできた表面基材の高分子樹脂の赤外吸収スペク
トルには本質的な有意な差は見出Ｌ！′ない点が特色の
１つである。

またＸ線光電子分光装置（以下ＥＳＣＡと称す）による
通常の測定では該改質表面に各ピークの積分強度に生じ
るわずかな変化を見出すことは可能かも知れないが、基
材の高分子樹脂と異なった新たなピークの存在は見出せ
ない。

通常の表面改質がなされたフィルム表面、必るいはフィ
ルム表面に別の樹脂をコーティングした表面は上記のよ
うな赤外吸収法おるいはＥＳＣＡ法によって該表面と基
材の高分子樹脂との間に明確な差異を見出すことが可能
である。

本発明のフィルムの改質表面と基材て必る高分子樹脂と
の有意な差は、ＥＳＣＡによって光電子脱出角度が２０
度になるような極めて表層のみを測定する手法によって
検出できる。

分子鎖中に酸素原子を含む高分子樹脂からなる本発明の
フィルムでは、その改質表面の炭素原子のピーク積分強
度Ｃ１，と酸素原子のピークの積分強度Ｏ１Ｓとの比Ｏ
１Ｓ／Ｃ１Ｓが非改質（基材でおる高分子樹脂〉の○Ｉ
ｓ／ＣＩｓの５０％以上９５％以下であることが好まし
く、より好ましくは７０％以上９０％以下である。Ｏ１
Ｓ／Ｃ１Ｓが５０％未満になるとフィルム表面の平滑性
が失われ、また改質層と基材の高分子樹脂との間の凝集
力が低下し、接着性が低下する。９５％を越えると易滑
［生および接着性の効果とも得られない。

一般に何らかの表面改質を行なうとＯＩｓ／Ｃ１ｓは未
改質表面に比へ増加する。本発明のフィルムでは逆に減
少している特徴があり、理由は定かではないが、接着性
能の経時的安定性の良い原因の一つと思われる。

通常何らかの表面処理を施すと水に対する接触角が大き
く変化するが、本発明のフィルムでは通常の未処理のフ
ィルムと比較して１０度以内のわずかな接触角変化しか
示さない。このことも易接着効果の経時変化の少ない原
因と考えられる。

本発明のフィルムはコロナ放電処理あるいは低温プラズ
マ処理などの後加工による表面処理によってさらに著し
く接着性が改善されるが、この場合は当然のことなから
Ｏ１Ｓ／Ｃ１，あるいは接触角などは上記範囲からはず
れる。

なお本発明のフィルムにおいて、オスミック酸可染の凸
部を有する改質層は必ずしもフィルム表面の全面に設け
る必要はなく、片面あるいは表面の一部のみに設けたも
のであってもよい。

本発明のフィルムの製造方法は特に限定されないが、好
ましい製造方法は未延伸あるいは延伸された高分子樹脂
シートを低温プラズマ処理し、次いで少なくとも１回以
上の延伸を施す方法である。

ここでいうシートとは高分子樹脂を溶融押出法、溶液流
延法あるいはカレンダー法などによって成形された未延
伸シート、あるいはさらに延伸を施した広幅および長尺
で、かつ厚みの厚いシー１〜状物を言う。また、フィル
ムとは該シー１−を低温プラズマ処理した後、少なくと
も一回以上の延伸を施し、場合によっては熱固定のため
の熱処理を施した薄ようの成形体を言う。このためフィ
ルムではシートに比べより広幅、長尺化しており、かつ
厚みが薄く、薄よう化している。また、結晶性高分子樹
脂では一般に配向結晶化し、かつ結晶化度が高くなり、
フィルム化することにより、より強靭な機械的特性を有
するようになる。

低温プラズマ処理とは、低圧下のガス雰囲気下に高電圧
を印加することによって開始、持続する放電、いわゆる
グロー放電にシートをさらにし、グロー放電中に生成し
た電子、イオン、励起原子、励起分子、ラジカル、紫外
線などの活性粒子でシートを処理するものである。

ガス圧力は１　Ｘ　１０−３Ｔｏｒｒから５０ｒｏｒｒ
か好ましく、ガス圧力が１　Ｘ　１０−３Ｔｏｒｒ未満
になるとシート表面が着色し、延伸によって表層が劣化
し、接着性能か低下する傾向にある。また５　Ｑ　Ｔｏ
ｒｒを越える場合は処理効果かあまり認められない。特
に５　ｘ　１０　’Ｔｏｒｒ以上Ｑ、５ｒｏｒｒでは処
理効果が著しく、より好ましいガス圧力領域である。

放電を開始、持続させるために印加される高電圧の周波
数は特定されるものではなく、直流、低周波、高周波、
マイクロ波などが使用できるが、特に５０ＫＨｚから５
００ＫＨｚの高周波を用いて処理し、作られたフィルム
は表面特性の改良効果は著しく、より好ましい周波数で
ある。

低温プラズマ処理する装置、特に電極形状、電極配置な
どについては特に限定されるものではないが、シートの
ごとく、広幅、長尺で、かつ高分子樹脂からなるものを
処理することから、例えば特開昭５２−１４７５９３に
開示したような非対称の電極を有する装置がより好まし
い。

また工業生産的見地からしてシートを連続的に大気中か
ら低圧の低温プラズマ処理装置内に導入、低温プラズマ
処理し、大気中へ導出する、いわゆるエアーツーエア一
方式で低）扁プラズマ処理するとともに、かつ高分子樹
脂を成形、低温プラズマ処理、延伸と連続、−貫してフ
ィルムを製造することがより好ましい。フィルムを連続
、−貫して製造しなかった場合、つまりシー１−を一度
巻きとり、低温プラズマにかけたり、あるいは低温プラ
ズマ処理復一度シートを巻きとり、延伸するなどすると
、シー］・が清らないため、シート同志の擦過によりシ
ート表面が傷つき、表面の平滑さか失われてしまう。こ
のことから平滑で易滑な表面特性を有するフィルムを得
ようとする場合は上述のごとく、連続、−貫してフィル
ムを製造することが最も望ましい。

低温プラズマ処理で用いられるガスはフィルムの要求性
能に応じ、無機ガス、有機化合物蒸気あるいはこれらの
混合物のいずれでも用いることができる。

無機ガスは特定のガスに限定されるものではなく、例え
ばＨ２、Ｈｅ、Ｎｅ、Ａｒ、Ｋｒ、Ｘｅ、Ｎ２、空気、
Ｎ２０．Ｎ２０．Ｎｏ、Ｎ２Ｏ４、Ｎ２Ｏ３、Ｇｏ、Ｃ
Ｏ２、Ｎ＋−１Ｓ、ＳＯ２、ＣＩ２、ＣＦ４などのフレ
オンガス、あるいはこれらの混合ガスなどが挙げられ、
フィルムの要求性能に応じ適宜選択すればよい。なかで
もＨｅ、Ａｒ、Ｎ２、Ｃｏ、ＣＯ２、Ｎ２０、空気、あ
るいはこれらを含む混合ガスは安定して種々の表面特注
を発現できることから、より好ましいガスである。

また０２．０３あるいはこれらを多量に含むガスを用い
た場合はシートをフィルム化する際の熱逸理によって接
着性か低下したり、おるいは易滑効果が発現しないなど
、一部の表面特性の改良効果が認められず、このような
特性を求める場合は、０２あるいは０３のカスへの混入
率は５０モル％以下、より好ましくは３０モル％以下、
可能な限り少ないことが望ましい。

また有機化合物蒸気は特に限定されるものではなく、使
用雰囲気温度において適度な蒸気圧を有し、かつフィル
ムの要求する表面性能を発現せしむるものでおればよく
、例えばメチルアルコール、エチルア・ルコール、キシ
レン、１−ルエンなどの一般有機溶媒、エチレン、アレ
チレン、塩化ビニル、スチレン、アリルアルコール、ア
クリル酸（メタクリル酸）、アクリル酸エステル（メタ
クリル酸エステル〉などの不飽和単量体、とニルシラン
、トリメチルメ１〜キキシシラン、１−リメチルクロル
シラン、ヘキサメチルシラザン、γ−（２−アミノエチ
ル）アミノプロピルトリメトキシシシランなどのシラン
化合物、四フッ化エチレン、六フフ化プロピレン、モノ
クロロ１〜リフロロエチレンなどのフッ素化合物などが
挙げられるが、本発明に用いられる有機化合物はこれら
のものに限定されるものではない。

本発明の低温プラズマ処理で用いられるカスはフィルム
に要求される表面特性に応じ、適宜選定すれば良いが、
有機化合物蒸気おるいは該蒸気と無機カスとの混合ガス
を用いた場合は低温プラズマ処理後の延伸によって表面
の平滑性が失われ、不透明化したり、あるいは接着性が
逆に悪化することが多く、フィルム表面に要求される表
面特性を発現せしめるうえでは無機ガスを用いることか
より好ましい。

次に、本発明の高分子樹脂フィルムの製造方法を詳細に
説明する。

ます目的とする高分子樹脂をその樹脂に応じた方法で成
形、シー１〜化する。例えばポリエチレンテレフタレー
トでは２７０’Ｃから３００’Ｃで溶融押出し、８０’
Ｃ以下の冷却トラム上にキャス１〜して無延伸シー１〜
とする。

次いで、該シー１へはそのままの状態、おるいはざらに
延伸されたのら、低温プラズマ処理を行なう。プラズマ
処理前の延伸方法は特に限定されるものではなく、フィ
ルムに要求される表面特性を最も何与しやすいように延
伸する方法であればよい。

成形したシートをそのまま低温プラズマ処理するか、あ
るいは延伸後低温プラズマ処理するかはフィルムに要求
される性能および製造工程を考慮して選択すればよいが
、未延伸おるいは一軸延伸した状態で低温プラズマ処理
するほうがより好ましい。また我々の実験によると結晶
性高分子樹脂では結晶化度の低い段階で低温プラズマ処
理する方が表面改質効果が著しく、より好ましい。例え
ばポリエチレンテレフタレート樹脂では結晶化度が５０
％以下、より好ましくは４５％以下のシートに低温プラ
ズマ処理することが望ましい。

低温プラズマ処理されるシーｉ〜の面は特に限定される
ものではなく、フィルムの用途に応じ適宜選択すればよ
い。またシー１〜の両面を処理してもよく、ざらにはシ
ートの端部のみを残して処理するなどの工夫を施しても
よい。

このようにして低温プラズマ処理されたシー１へは次い
で少なくとも一回以上の延伸を施してフィルムを形成す
るのである。延伸の方法および条件は特に限定されるも
のではなく、該シー１−に適した方法で延伸すればよい
。例えばポリエチレンテレフタレート樹脂では逐次二軸
延伸法であればまず７５°Ｃ〜１１０℃で縦方向へ２〜
４倍延伸し、次いで９０°Ｃ〜１２５°Ｃで横方向へ３
〜６倍延伸することによって、機械的強度の優れたポリ
エチレンテレフタレートフィルムか得られる。また二軸
延伸後１２０’Ｃ〜１６５°Ｃで縦方向へ１．２〜２．
０倍、横方向へ１．１〜１．５倍延伸することによって
さらに機械的強度の優れたフィルムを作ることもできる
。なお低温プラズマ処理前に縦方向へ延伸しておいた場
合は横方向のみへ延伸するだけでもかまわない。

さらに同時二軸延伸法の場合は７５°Ｃ〜１１０°Ｃで
各軸１．５〜４．０倍で、かつ面積倍率が６〜２５倍と
なるように延伸すればよい。

一般に高分子樹脂フィルムでは延伸後熱処理することに
よって該フィルムの種々の特性の熱的安定性が向上する
。本発明のフィルムにおいても熱処理を施すことはより
好ましい方法である。熱処理の方法および条件は特に限
定されるものではなく、該フィルムに適した方法であれ
ばよい。例えばポリエチレンテレフタシー１〜フイルム
は１８０°Ｃ〜２３５°Ｃで熱処理することによって熱
収縮率などの小さな優れたフィルムが１ｑられる。

本発明のフィルムのオスミック酸可染層の厚さ、オスミ
ック酸可染の凸部のリイズ、Ｏｘｓ　／　Ｃｌｓの値な
ど、あるいはこれらによって決まる表面特性は低温プラ
ズマ処理の条件およびフィルムの製造条件によって決定
される。

［発明の作用・効果］ 本発明のフィルムはオスミック酸可染な超微細な凸部を
表面に有し、かつ該凸部がほぼ一定の方向に配列し、さ
らには該凸部を有する表面の０１Ｓ／Ｃ１Ｓが基材ポリ
マのＯ１Ｓ／Ｃ１，の５０％から９５％の範囲にある化
学組成の表面を有することから、極めて表面が平滑であ
るにもかかわらず易滑性を有し、さらに接着性にも優れ
ている。オスミック酸可染であることがどのような役割
を果たすか不明であるが、一般に高分子フィルムを表面
改質するとオスミック酸に可染化することから、表面が
何らかの改質作用をうけ、さらに凸部が形成されたこと
によって易滑性が発現したものと考えられる。さらにま
た該表面が上記のようなＯ１Ｓ／Ｃ１，からなる化学組
成を有する表面であることが易接着性が経時的に安定し
ていることに寄与しているものと思われる。

従来よりフィルムにコロナ放電処理や低温プラズマ処理
を施し、接着性を改善する方法は知られているが、該方
法では本発明のようなオスミック酸可染の凸部は形成さ
れず、また接着性能が経時的に低下する欠点のあること
が良く知られている。

また本発明のフィルムの驚くべき性質は、通常フィルム
の段階でコロナ放電処理や低温プラズマ処理したフィル
ムはガラス転移温度より高い温度にざらされると一挙に
その改質効果を失うが、本発明のフィルムは熱処理工程
でガラス転移温度より極めて高い温度で熱処理を受けな
がら、なおかつ接着性の改善効果が発現することである
。

本発明のフィルムは従来のフィルムに比へ著しく接着性
に優れ、かつ接着性の経口的劣化が著しく少なく、さら
に平滑で、かつ滑り性に優れた表面特性を有している。

このため、本発明のポリエステルフィルムはコンデンサ
ーなどの電気部品、磁気テープ、フロッピーディスクな
どの磁気記録用ベースフィルム、ジアゾフィルム、銀塩
写真フィルムなどの写真用ベースフィルム、ビールフィ
ルムなどのグラフイックアーｉ〜用ベースフィルムなど
として優れている。

［特性の測定方法・評価基準］ 本発明のフィルムの表面特性の測定方法および評価基準
は次の通りである。

（１）接着性 ＜１＞−Ａ　　アルミニウム蒸着力 ベルジＶ型高真空蒸着装置（日本真空技術株式会社製Ｅ
ＢＨ−６型）を用いて約１　Ｘ　１０’ｍｍＨｇの真空
度でＡαを約１１００ｎの厚さに蒸着し、Ａα蒸着面に
ニチバン株式会社製市販セロファン粘着テープを貼合け
て９０’剥離したあとのＡα残存付着面積で評価した。

評価判定の基準は次の通り。

Ａα残存付着面積（％）　　　残存指数１００％　　　
　　　　　５ ９０％以上１００％未満　　　　４ ７５％以上９０％未満　　　　　３ ５０％以上７５％未満　　　　　２ ５０％未満　　　　　　　１ 指数が３以上ならば実用接着力として十分である。

＜１）−８磁性塗膜の接着力 下記の磁性塗料を塗布した試料の塗布面側にニチバン株
式会社製市販レロファン粘着テープを貼合せ、９０’剥
離した必との磁性塗膜の残存付着面積で評価した。評価
判定は、上のアルミニウム蒸着力と同じの５段階指数に
よった。

［磁性塗料］ 強磁性合金粉末（Ｆｅ−ＣＯ）　　　３００重量部亜針
Ｊｙｊ末（平均粒径２μｍ）２５　　〃けルロースアセ
テー１〜ブチレー１〜３０　ｌ／ポリイソシアネート化
合物　　１８０　！！（ディスモデュールＬ−７５＞ エポキシ樹脂　　　　　　　　　２５１１シリコーン油
　　　　　　　　　　４　７／レシチン　　　　　　　
　　　　　５　〃トルエン（溶剤）　　　　　　２００
　〃メチルエチルケトン（溶剤）　２００　〃酢酸エチ
ル（溶剤＞　　　　　　１００　　〃＜ｉ＞−ｃ　　印
刷インキ接着力 フィルムにセロファンテープ用印刷インキ（東洋インキ
株式会社製“ＣＧ　−Ｓ　Ｔ　”白）を、メータリング
バーを用いて、固形分で約３ｇ／ＴＴ１２になるように
塗布し、６０°Ｃ・１分間熱風乾燥し、上のアルミニウ
ム蒸着テス１〜と同様、セロファン粘看テープ剥離テス
１へを行ない５段階指数による評価を行なった。

（２）接着性の経時変化 フィルムを５０’Ｃ１８３％ＲＨ下の雰囲気に３力月間
放置後、前述の接着性のテストを行なった。

（３）滑り性 ＡＳＴＭ−Ｄ−１８９４Ｂ−６３に従い、スリップテス
ターを用い静摩隙係数（μＳ）を測定した。

＜４）表面粗さ　Ｒａ（μｍ） 触針式表面粗さ計（ＥＴｉＯ１小坂仙究所製）による測
定値を示す（カットオフ０．２５ｍｍ、測定値４１Ｔｌ
１１１での値。ただし、ＪＩＳ−Ｂ−０６０１による）
。

＜５）ＥＳＣＡＳＣ法 国際電気株式会社製のＥＳＣＡスペクトロメータＥＳ−
２０００型を用い、フィルム表面のエステル基に滞底す
る炭素１Ｓ軌道（Ｃ１５）スペクｌ〜ルと酸素１　ｓ　
’ｉｈ　Ｊ　（０１Ｓ）スペクトルを測定し、各々のピ
ークの積分強度の比を求めた。測定は光電子脱出角度が
２０度になるように試料をセットして行なった。また試
料は表面が汚染されているため、測定前にまずアセトン
を用い超音波を利用して３０分間洗浄し、次いでｎ−へ
ブタンおよびフレオンを用い同様にして各々３０分間洗
浄し、ざらにフレオン蒸気およびイソプロピルアルコー
ル蒸気で各々３０分間蒸気洗浄し、試料表面の汚染物を
除去した。

（６）赤外吸収スペクトルの測定法 ＤＩＧＩＬＡＢ　Ｉｎｃ、　（米国）製のＦＴＳ−１２
０にＷＩＬＫＳ　Ｉｎｃ、　（米国）￥ＡのＡＴＲ付属
装置をつけ、高屈折率媒体としてＫＲ３５を用い反射角
６０度で測定した。なお測定前に上記方法で試料を洗浄
した。

（７）断面および表面の観察法 株式会社日立製作所製の透過型電子顕微鏡Ｈ−６００型
を用い、フィルムの超計り片の表層部断面をオスミック
酸染色によって観察した。観察倍率は写真倍率で１０万
倍で行なった。

表面は株式会社日立製作所製の電界放ｑ４型走査電子顕
微鏡Ｓ−８００型を用い観察した。観察倍率は写真倍率
で３万倍で行なった。

（８）微分干渉顕微鏡による表面観察法フィルム表面に
アルミニウムを蒸着し、日本光学工業株式会社製の微分
干渉顕微鏡（製品名：０１丁ｌＰＨ０ＴＯ）を用い、倍
率２５００倍で観察した。

以下、実施例に基づいて本発明をより詳細に説明する。

実施例１〜５ テレフタル酸ジメヂルとエチレングリコールを常法によ
りエステル交換、重縮合ぜしめ、内部粒子および外部粒
子ともに含まないポリエチレンデレフタレー１〜樹脂を
製造した。

該樹脂を２８５°Ｃで溶融押出し、６０’Ｃの冷却ドラ
ム上にキャス１〜して無延伸シートとじた後、Ａｒガス
の低温プラズマで処理した。処理は高電圧を印加した棒
状の電極群とシートを送膜し、かつ接地電極となってい
る電極対をもつ内部電極方式の低温プラズマ装置を用い
、Ａｒガス圧力Ｏ１Ｑ　’ｌ　ｒｏｒｒ、高周波電源周
波数１１０ＫＨｚ、−次側出力電圧４ＫＶの条件で、シ
ート速度を４ｍ／ｍｉｎ　、７ｍ／ｍｉｎ　、　１０ｎ
／ｍｉｎ　、　１Ｓｍ／ｍｉｎ　、　１６ｍ／ｍｉｎと
かえ該シー１〜の両面を処理した。

次いで該処理シートを常法の逐次二軸延伸法によって、
まず、周速差をもたせた一対のロール間において９０℃
でタテ（長手）方向に３．３倍延伸後、テンターに送り
込み、両端をクリップで保持しつつ、９５°Ｃでヨコ（
幅）方向に３．５倍延伸し、同じくテンター内で幅方向
に５％弛緩させつつ、２１８°Ｃで５秒間熱処理して、
厚み１５μｍのポリエチレンテレフタレートニ軸延伸フ
ィルムを得た。なお該フィルムの製造は低温プラズマ処
理を含め、全工程を連続して行なった。このようにして
１テられたフィルムの巻き取り性は非常に良かった。

各々のフィルムについて赤外吸収、ＥＳＣＡの測定およ
び電子顕微鏡による断面と表面の観察、ざらに微分干渉
顕微鏡による表面の観察を行なった。

赤外吸収スペク１〜ルはいずれのサンプルもプラズマ処
理せずに製膜したフィルム（比較例１）との間に有意な
差は認められなかった。ＥＳＣＡ測定における各々のフ
ィルム表面のＯ１Ｓ／Ｃ１，と比較例１のフィルム表面
の０１Ｓ／Ｃ１，の％比を表１に示す。

電子顕微鏡による断面の観察において、いずれもオスミ
ック酸可染の凸部を有することを確認した。第５図にシ
ー１〜速度１０ｍ／ｍｉｎで低温プラズマ処理した実施
例３のフィルムの断面写真を示す。

いずれのフィルムの断面も第４図の写真に類似のパター
ンをしており、低温プラズマ処理速度の速いものは第１
図（ａ）、遅いものは第１図（ｂ）のパターンでめった
。オスミック酸可染の最大凸部の高さを表１に示す。

各々のフィルムを電子顕微鏡で観察したところ、凸部は
凸部の長手方向がフィルムの幅方向に約０度をなす角度
でほぼ一様に配列していた。第５図に実施例３のフィル
ムの表面写真を示す。実施例３のフィルム表面を微分干
渉顕微鏡で観察したところ第６図の写真のごとく、フィ
ルムの長手方向にほぼ垂直な線状の窪みが観察された。

またシート速度７ｍ／ｍｉｎで低温プラズマ処理した実
施例２のフィルムでは第７図の写真のごとく細長い凸部
がフィルムの長手方向にほぼ垂直に並んでいることが観
察された。

ざらに各々のフィルムの接着性、滑り性および表面粗さ
を測定した。これらの結果を表１に示す。

表１のごとく表面にオスミック酸可染の凸部を有してい
ない比較例１のフィルムに比べ接着性および滑り性に優
れている。但し、凸部の高さが１００人未満では若干滑
り性が悪くて、３００人を越すと若干表面が粗くなる。

比較例１，２ 低温プラズマ処理の工程を除き実施例１と同様にて二軸
延伸ポリエチレンテレフタレー１−フィルムを製造した
。比較例１では低温プラズマ処理を省略し、比較例２て
は低温プラズマ処理の代りに大気中で５０Ｗ　・ｍｉｎ
／７１２のエネルギー密度でコロナ放電処理した。

これらのフィルムは滑らず、このため最後の巻きとり工
程でしわになり巻きとることができなかった。そこで巻
きとり工程前で少量のナンプルを採集し、評価した。

各々のフィルムを電子顕微鏡で断面および表面観察した
がいずれも表面にオスミック酸可染の凸部の形成は見ら
れなかった。

各々のフィルムの接着性、滑り性および表面の粗さの測
定結果を表１に示す。これらのフィルムは表面が極めて
平滑であるが、滑り性および接着性が劣っている。

比較例３ 比較例１て採集した少量のフィルムを実施例３と同一条
件で低温プラズマ処理した。

本処理フィルムを電子顕微鏡で断面および表面を観察し
たところ、表層にオスミック酸可染の層か形成されてい
たが、凸部の形成は見られなかった。本処理フィルムの
評価結果を第１表に示す。

本フィルムの滑り性はデータ上は比較例１および２と同
じ数値であるが、手で滑らせたところ比較例１および２
のフィルムに比べよく滑った。たたし、実施例１〜５に
比べれば著しく悪かった。

実施例６ テレフタル酸ジメチルとエチレングリコールを常法によ
りエステル交換、重縮合せしめ、ざらに平均粒径４５０
μｍのコロイダルシリカを０．　２重量％添加したポリ
エチレンテレフタシー１〜樹脂を製造した。

該樹脂を２８５℃で溶融押出し、６０’Ｃの冷却ドラム
上にキャストして無延伸シートとした後、該シートの片
面をＡｒガスの低温プラズマで処理した。ガス圧力およ
び一次側出力電圧を除いては実施例１と同一装置を用い
、同一条件で低温プラズマ処理した。本実施例ではガス
圧力Ｑ、１Ｔｏｒｒ１−次側出力電圧７ＫＶ、シート速
度１５ｍ／ｍｉｎで低湿プラズマし処理した。

該低温プラズマ処理シー１〜を次いで実施例１と同様に
して逐次二軸延伸し、１５μｍの二軸延伸ポリニスデル
フィルムを得た。なお該フィルムの製造は低温プラズマ
処理を含め、全工程を連続して行なった。

このようにして得られたフィルムの巻き取り性は非常に
よかった。このフィルム滑り性および表面粗さを測定し
、その結果を第２表に示す。

第２表のごとく本フィルムは表面が平滑で、かつ滑り性
に優れている。

電子顕微鏡で断面を観察したところオスミック酸可染の
凸部の形成が確認された。

実施例７ 実施例６においてＡｒガスに代えｌ〜リメチルクロルシ
ラン（（ＣＨ３）３Ｓｉ（４）とＡｒの）捏合ガスを用
いて低温プラズマ処理した。低温プラズマの条件はガス
組成比Ａｒ：（トリメチルクロルシラン）＝７０モル％
：３０モル％、ガス圧力Ｑ、　００２ｒｏｒｒ、−次側
出力電圧２．５ＫＶで、他の条件は実施例６と同一条件
で行なった。

こうして得られたフィルムは第２表のごとく良好な滑り
性を示した。

第２表 実施例８ 実施例６で用いたポリエチレンテレフタシー１〜樹脂を
２８５°Ｃで溶融押出し、６０°Ｃの冷却ドラム上にキ
ャストして無延伸シートとした後、周速差をもたせた一
対のロール間で９０℃でタテ（長手）方向に３．３倍延
伸したシートを実施例６と同一の方法、条件でその片面
を低温プラズマで処理した。次いで該処理シー１〜をテ
ンターに送り込み、両端をクリップで保持しつつ、９５
℃でヨコ（幅）方向に３．５倍延伸し、同じくテンター
内で幅方向に５％弛緩させつつ、２１８°Ｃで熱処理し
て、厚み１５μｍのポリエチレンテレフタシー１−二軸
配向フィルムを得た。

本フィルムを電子顕微鏡にて観察したところ、フィルム
長手方向に平行にオスミック酸可染の凸部が形成されて
いた。

このフィルムの表面粗さおよび滑り性を測定したところ
、Ｒａｇ、ｏｏａμｍ、μＳ１．５と表面が平滑で、か
つ滑り性に優れていた。

実施例９ テレフタル酸ジメチルとエチレングリコールを常法によ
りエステル交換、重縮合せしめ、かつ該反応の過程にお
いて析出した触媒の一部を微粒子（内部粒子１．３重間
％）として含むポリエチレンテレフタレート樹脂を２８
５℃で溶融押出し、６０℃の冷却ドラム上にキャストし
て無延伸シートとした後、Ａｒガスの低温プラズマで処
理した。

処理は高電圧を印加した棒状の電極とシートを送膜し、
かつ接地電極となっている電極対をもつ内部電極方式の
低温プラズマ装置を用い、△ｒガス圧力Ｑ、　２■ｏｒ
ｒ、高周波電源周波数１１０ＫＨ２、−次側出力電圧４
ＫＶ、シート速度１５ｍ／ｍｉｎの条件で該シートの片
面を処理した。

次いで該処理シートを常法の逐次二軸延伸法によって、
まず、周速差をもたせた一対のロール間において９０°
Ｃでタテ（長手〉方向に３．３倍延伸後、テンターに送
り込み、両端をクリップで保持しつつ、９５°Ｃでヨコ
（幅）方向に３．５倍延伸し、同じくテンター中で幅方
向に５％弛緩させつつ、２１８℃で５秒間熱処理して、
厚み１５μｍのポリエチレンテレフタシー１−二軸延伸
フイルムを得た。

本フィルム表面にはオスミック酸可染の凸部が形成され
ていた。

このフィルムの接着性ならびにその経時変化の評価を行
ない、その結果を第３表に示す。この結果から、本発明
で得たフィルムは接着性（Ａσ蒸着力、磁性塗料接着力
、印刷インキ接着力）ならびに経時安定性が優れている
ことがわかる。

実施例１０〜］５ 実施例９において、Ａｒガスプラズマに代え、Ｎ２、Ｃ
Ｏ２、Ｇｏ、Ｎ２０．ＮＨ３、空気を用いてシートを低
温プラズマ処理し、ポリエチレンテレフタシー１−二軸
配向フイルムを得た。フィルムの製造条件はガスの種類
を代えた以外は全て同じである。

各フィルムの表面にはいずれもオスミック酸可染の凸部
が形成されていた。

これらのフィルムの接着性ならびにその経時変化の評価
結果を第３表に示す。第３表のごとく本発明で得たフィ
ルムはいずれも接着性ならびに経時安定性に優れていた
。

比較例４〜１０ 実施例９においてシートの段階で低温プラズマ処理ぜず
、従来の方法で厚さ１５μｍのポリエチレンテレフタレ
ートフィルムを製膜した。

次いで該フィルムを実施例つと同じ条件で各種のガス（
Ａｒ、Ｎ２　、ＣＯ２、Ｃｏ、Ｎ２０．ＮＨ３、空気）
を用いて低温プラズマ処理した。

なお実施例９〜１５と比較例４〜１０の差異は実施例で
はシー１〜の段階で低温プラズマ処理したのに対し、実
施例１〜７はフィルムの段階で低温プラズマ処理した違
いのみで、各々の各工程の条件は全て同じである。

各フィルム表面および断面を電子顕微鏡で観察したとこ
ろ、オスミック競可染層の形成は認められたものの、凸
部の形成は認められなかった。

各フィルムの接着性ならびにその経時変化の評価結果を
第３表に示す。第３表のごとく、これらのフィルムは初
期接着性は優れているが、経時的な性能の低下が著しい
。

比較例１１ 実施例９と同様にして成形したシートを５０Ｗ・ｍｉｎ
／７ｙ１２のエネルギーでコロナ放電し、次いで実施例
つと同様にして逐次二軸延伸法によって厚さ１５μｍの
二軸延伸ポリエステルフィルムを１１だ。

このフィルムの接着性の評価結果を第３表に示す。この
結果から明らかなように本比較例の方法では接着力の改
善効果は全く見られなかった。

比較例１２ 比較例９と同様にして従来の方法で製膜した厚さ１５μ
ｍのポリエチレンテレフタシー１〜フイルムを５０Ｗ　
・ｍｉｎ／１１１２のエネルギーでコロナ放電処理した
。

該処理フィルムの接着性の評価結果を第３表に示す。こ
の結果から明らかなように接着力の若干の改善効果は認
められるものの、まだ不充分であり、かつ経口後はその
効果が完全に消失していた。

第３表

【図面の簡単な説明】

第１図（ａ＞、（ｂ）、（Ｃ）は本発明のフィルムの表
層部所面の拡大模式図で、斜線部はオスミック酸可染の
改質層であり、Ｈｌはオスミック酸可染の凸部の高さ、
Ｗは幅、Ｈ２はオスミック酸可染層の厚さを表わす。同
図（Ｃ）の・はフィルムに添加された粒子を表わす。第
２図は本発明の一実施態様のフィルムの表面の模式図で
おり、ドラ１〜をうった部分はオスミック醒可染の凸部
である。Ｌはオスミック酸可染の凸部の幅である。 第３図はオスミック酸可染の凸部の配列の方向を示す説
明図である。第４図は本発明の一実施態様のフィルムの
断面の粒子構造を示す電子顕微鏡写真であり、第５図は
同じく表面の粒子構造を示す電子顕微鏡写真である。第
６図および第７図は各々本発明の一実施態様のフィルム
の表面の粒子構造を微分干渉顕微鏡で観察した写真であ
る。

Claims (9)

【特許請求の範囲】
1. （１）フィルム表面にほぼ一定の方向に配列された、オ
   スミック酸に可染で、かつ該フィルムと一体に形成され
   た超微細な凸部を有し、該凸部の配列方向に垂直に切断
   した断面を観察した時、該凸部の高さが３０〜５００Å
   、幅が１００〜５０００Å、表面長さ１μｍ当りの該凸
   部の存在個数が０．５〜５０個であることを特徴とする
   高分子樹脂からなる延伸フィルム。
2. （２）オスミック酸可染の凸部の高さが５０Å〜３００
   Å、幅が１００Å〜３０００Å、表面の長さ１μｍ当り
   の該凸部の個数が１〜２０個であることを特徴とする特
   許請求の範囲第（１）項記載の高分子樹脂からなる延伸
   フィルム。
3. （３）凸部の長さが１００Å〜２μｍであり、フィルム
   表面１μｍ＾２当りの該凸部の個数が１０〜５０個であ
   ることを特徴とする特許請求の範囲第（１）項記載の高
   分子樹脂からなる延伸フィルム。
4. （４）オスミック酸可染の凸部が該高分子樹脂の表面改
   質による改質層によって形成されてなることを特徴とす
   る特許請求の範囲第（１）項記載の高分子樹脂からなる
   延伸フィルム。
5. （５）オスミック酸可染の凸部の少なくとも５０％以上
   がフィルムの長手方向または幅方向に対し±３０°以内
   に配列されていることを特徴とする特許請求の範囲第（
   １）項記載の高分子樹脂からなる延伸フィルム。
6. （６）表面粗さが０．０００５〜０．０１００μｍＲａ
   、フィルム同志の静摩擦係数が０．３〜３．０であるこ
   とを特徴とする特許請求の範囲第（１）項記載の高分子
   樹脂からなる延伸フィルム。
7. （７）オスミック酸可染の凸部を有する表面をＸ線光電
   子分光装置（ＥＳＣＡ）にて光電子脱出角度が試料に対
   して２０度になるように測定した時、該表面の炭素原子
   の積分強度Ｃ＿１＿Ｓと酸素原子の積分強度Ｏ＿１＿Ｓ
   の比Ｏ＿１＿Ｓ／Ｃ＿１＿Ｓが基材の高分子樹脂のＯ＿
   １＿Ｓ／Ｃ＿１＿Ｓの５０％以上９５％以下であること
   を特徴とする特許請求の範囲第（１）項記載の高分子樹
   脂からなる延伸フィルム。
8. （８）高分子樹脂が芳香族ポリエステル樹脂であること
   を特徴とする特許請求の範囲第（１）項記載の高分子樹
   脂からなる延伸フィルム。
9. （９）高分子樹脂がポリエチレンテレフタレートである
   ことを特徴とする特許請求の範囲第（１）項記載の高分
   子樹脂からなる延伸フィルム。