JPS6284755A - 生体中の結石を接触せずに粉砕する方法および装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は結石に衝撃波を簗申させて生体中の結石をこれ
と接触せずに粉砕する方法及び装置に係わる。

〔従来の技術〕

このような方法及び装置はドイツ公開公報箱３３１２０
１４号及び未公開のドイツ特許出願第３４４３２９５号
から公知である。この公知例では、誘導性を有し、らせ
んコイルまたはフラット・ストリップ・コイルとして形
成され、部分球面状を呈する導電体を採用している。こ
のコイルに、例えば火花ギャップによるコンデンサ放電
でパルスを作用させると、薄い絶縁層によってコイルか
ら隔離された金属膜中に反対方向の電流が発生し、この
金属膜を弾く。膜は伝達媒と接触しているから、金庫膜
が弾かれることで衝撃波が発生し、膜が部分球面状であ
るから前記衝撃波は集束させられる。

金庫膜に接続している筐体部分に発生するおそれのある
回折や反射を防止するためには金属膜の放射側を部分球
面状中空室として形成し、この中空室に伝達媒を収容す
る。

他の公知装置は圧力波発生手段としての水中火花ギャッ
プ及び衝撃波を結石に集束する楕円ミラーで作用する。

衝撃波発生手段として圧電素子または磁気ひずみ素子を
利用することも公知である。

公知の処置方法においては例外なく衝撃波を集束させる
必要があるが、物理的理由から、負圧パルスの発生を完
全に回避することはできない。この場合、負圧パルスが
一定の強さを超えると、負圧パルスが被処置生体中に、
特に衝撃波に貫通された組織中に空洞を形成する、即ち
、微小な裂は目が発生し、組織損傷を招く。

〔発明が解決しようとする問題点〕

本発明の目的は組織損傷が起こらないように頭書の方法
及び装置を改良することにある。このためには、集束系
の縁端回折波の作用に起因する負圧パルスを防止しなけ
ればならない。

〔問題点を解決するための手段〕

本発明では、頭書の方法において衝撃波の圧力プロフィ
ルを位置的に外側にむかって下降させることによって上
記目的を達成する。衝撃波の縁端強度をこのように弱め
ることにより、縁端回折波を、従って組織損傷を招く負
圧パルスを著しく弱めることができる。同時に、衝撃波
圧力プロフィルをこのように下降させることで、衝撃波
の発生及び形態が著しく改善される。

本発明の特に好ましい実施態様では、衝撃波の圧力を経
時的に先ず急上昇させたのち、再び下降させる。このよ
うな三角パルス形状の衝撃波圧力プロフィルを採用すれ
ば、負圧パルス発生の可能性をさらに軽減することがで
きる。即ち、経時的に三角形を画く圧力プロフィルは位
置的に外側にむかって現われる圧力プロフィル下降の効
果を強化する。

衝撃波の励起密度または励起強度を、あるいはこの２つ
のパラメータを同時に調整することによって圧力プロフ
ィルを制御することが好ましい。

その場合、衝撃波発生の態様、即ち、衝撃波発生システ
ムがコイル状システムか、圧電システム力、磁気ひずみ
システムか、あるいは水中火花放電手段及び楕円形集束
手段を含むシステムかは重要な問題ではない。なぜなら
、いずれのシステム−であっても、なんらかの方法で励
起密度及び励起強度を制御できるからである。

本発明の方法を実施するための本発明の装置にあっては
、衝撃波圧力プロフィルを、位置的には外側にむかって
次第に下降させると共に、必要に応じて経時的に先ず急
上昇させたのち下降させるための手段を設ける。この手
段もまた、コイル状素子でも圧電素子でも磁気ひずみ素
子でもよく、あるいは衝撃波集束素子及び水中火花放電
手段またはパルス発生器でもよい。

本発明装置の特に好ましい実施例は一方の側が薄い絶縁
層によって扁平導電体から隔離され、他方の側が伝達媒
に圧接させられている金属膜を含み、前記導電体は部分
球面として形成され、一定の強さ及び長さの電気的パル
スを供給される。このような装置において作動中に負圧
パルスの発生、即ら組織損傷を防止するためには、導電
体のターン密度を外側にむかって次第に小さくなるよう
にするか、導電体の導線太さを外側にむかって次第に大
きくするか、または導電体を個別巻線または個別コイル
で構成すればよい。これらの方法を組合わせることによ
り縁端部ぼかし効果を強化して組＃Ｉａ損傷の危険性を
さらに一段と軽減することができる。

ドイツ公開公報第３３１２０１４号に開示されている頭
書の装置にあっては、金属膜が部分球面状の導電体と境
を接し、導電体は導線をらせん状に巻いたコイルの形態
を呈し、コイルの中心及びコイルの外縁からコイル導線
の始端がそれぞれ引出されている。

従来このような膜／コイル集合体の製造は多大の困難を
伴い、大部分が手作業で行われた。特に、らせんコイル
中心部の弯曲が強いため、コイル導線の絶縁コーティン
グが損傷し、破壊または短絡の危険性が高くなるため、
コイルが使用不能に陥ることが多かった。金属膜、特に
その中心部に作用する応力が大きいため、疲れ破壊が発
生し、これちまたコイル／膜集合体を使用不能に陥らせ
る結果となった。いずれにしても公知のコイル／膜集合
体にすぐれた耐用寿命を与えることは不可能であった。

そこで、本発明の他の目的は公知の膜／コイル集合体の
耐用寿命を改善することにある。

この目的は膜／コイル集合体において導線の内側始端を
コイル中心からずらすことで達成される。

このようにすれば導線の曲率半径が比較的大きくなるか
ら、コイル中心部に鋭角的な弯曲部は存在しなくなり、
導線の絶縁コーティングが損傷することもなくなる。コ
イル中心からコイル内側始端までの距離は主として使用
する導線の断面積に応じて異なり、適当なコイル試験に
よって最適化することができる。

本発明の特に好ましい実施例では、膜が伸縮ひだを含む
。この伸縮ひだは円形、放射状またはらせん状に構成す
ればよい。このような伸縮ひだを組込むことにより、膜
が充分に伸張できるから、膜が破損する危険性は少な（
なる。

〔実施例〕

本発明のその他の好ましい実施態様は特許請求の範囲第
２項〜第２５項、及び本発明の実施例を示す添付図面に
沿った以下の説明から明らかになるであろう。

第１図には２つの筐体部分１ａ及び１ｂから成り、一方
の筐体部分１ｂが中空であり、例えば水のような流体で
満たされている筺体１を示した。

筐体部分１ｂの中空室２は取付リング４を介してねじ５
で筐体部分に密着した弾性カバー３によって閉鎖されて
いる。カバー３はクッション状の突出部３ａを有し、境
界線で略示した接触面６に沿って被処置部位と密着する
か、または継手流体を介して当接する。カバー３は例え
ばゴム弾性材から成る。筐体部分ｌｂ内の中空室２は管
継手７を介して、中空室内の流体を常時一定の静止圧に
維持するための、図示しない圧力供給源と連通している
。問題は差圧だけであるから、部分球面状外壁１１の前
、膜９の後方に限定される空間に、中空室２内の圧力に
対して一定の負圧が維持されるように構成してもよいこ
とはいうまでもない。その場合にも膜９は導電体１２に
圧接させられる。

筐体部分１ｂ及び筺体部分１ａはねじ８によ−って結合
されている。その場合、両筒体部分間に金属膜９及び電
気絶縁材から成る絶縁ホイル１０が挟持される。°前記
両部材９，１０は中空室２内の流体圧下に筐体部分１ａ
の部分球面状外壁１１に圧接させられ、前記外壁１１は
図示実施例の場合、主として導電ワイヤ、例えば銅線コ
イルから成る導電体１２の外側境界によって形成される
。中空室２内に正圧を維持する代りに、またはこれに加
えて、適当な構成により、膜９の中空室２とは反対の側
に負圧を供給して膜９を筐体部分１ａに圧接させる方式
も考えられる。コイルは部分球面状外壁１１の軸線内に
位置する中央の始端ターン１２ａを起点として筐体部分
１ａの内側部分球面１３に最外端ターン１２ｂまでらせ
ん状に個々のターンを巻着することによって得られる。

このように形成された導電体１２はらせん状のフラット
フィルの形態を呈し、その始端ターン１２ａ及び終端タ
ーン１２ｂはそれぞれ端子１４，１５を介してエネルギ
ー源と接続し、前記エネルギー源からコイルに短いパル
スが供給される。図示実施例の場合、このパルス供給は
、充電後、火花ギャップ１７を介してコンデンサ１６を
放電させることによって行われる。

火花ギャップ１７を介してコンデンサ１６が放電すると
、導電体１２を短く、かつ高周波数のパルスが流れる。

その結果、金属膜９中に逆の電流が発生し、これによっ
て膜９が弾かれ、中空室２内の流体へ強力な衝撃波が発
射される。導電体１２、これに密着している絶縁層１０
及び金属膜９が部分球面状に形成されているから、衝撃
波は中空室２内の流体中に広がり、カバー及び突出クッ
ション３ａを通って体表６を貫通し、図示実施例の場合
には腎臓内の石である被処理結石１８に達する。

従って、衝撃波は部分球面１３　、１１の焦点２０にお
いて結石１８に衝突し、公知の態様で反復作用すること
によって結石を粉砕する。コンデンサ１６及び火花ギャ
ップ１７の代りに、他の適当なパルス発生手段、例えば
高周波数パルスを形成できるように制御されるパルス発
生器を利用してもよい。

第１図から明らかなように、軸線２５は部分球面１１　
、１３の中心点及び焦点２ｏを通り、外側ゾーン２６は
部分球面１１　、１３及び焦点２０によって形成される
円錐台の周面付近に位置する、同じく第１図から明らか
なように、図示の装置では導電体１２は互いに密接した
ターンから成るのではなく、個々のターンの間隔が外側
にむかって、即ち、部分球面１１　、１３にむかって次
第に広くなっている。

このように構成することにより、発生する衝撃波の圧力
プロフィルはシステム軸線２５から外側ゾーン２６にむ
かって弱くなる。衝撃波のこのような圧力プロフィル下
降を第２図に例示した。

即ち、第２図のグラフにおいて、横軸は例えば第１図の
構成によって発生させた衝撃波のシステム軸線からの半
径方向距離ｒ、縦軸は衝撃波の圧力ｐである。第２図に
関連して考察したいのは衝撃波の外側ゾーンだけである
から、第２図のグラフでも横軸を中断しであることから
も明らかなように、この外側ゾーン３０だけを示しであ
る。この外側ゾーン３０は第１図の縁辺ゾーン２６にほ
ぼ対応し、この第１図の軸線２５は第１図のグラフにお
けるゼロ点と一致すると考えることができる。ただし、
原理的には第２図に関する説明はそのまま衝撃波のすべ
てのゾーンに通用することができる。第２図に画いた曲
線３１は第１図の説明に関連してすでに述べたように、
圧力プロフィルの降下を示す。それぞれの用途に最適な
局部的圧力分布パターンは実験及び／または計算によっ
て見つけることができる。衝撃波の縁辺ゾーン３０にお
けるこのような圧力プロフィル下降３１により、この縁
辺ゾーンに縁辺回折波がなくなり、従って、負圧パルス
も形成されず、また、経時変化に関して衝撃波全体の形
態が改善される。負圧パルスを防止することで、例えば
処置すべき腎臓を中心とする組織の損傷が回避される一
方、衝撃波の形態を改善することで例えば腎臓結石のよ
うな結石の粉砕効果も同時に増大する。

第２図に示すような圧力プロフィル下降によって得られ
る効果、即ち、負圧パルスを極力抑制して組Ｈｉ損傷を
軽減するという効果はコイル１２に供給されるパルスを
、一定の経時的圧力経過を示すように制御することによ
ってさらに著しく−１めることができる。特に好ましい
このような圧力経過を示すのが第３図である。

第３図のグラフにおいて、横軸は時間ｔであり、縦軸は
衝撃波の圧力ｐである。グラフに記入されている曲線は
圧力上昇３５及びこれにつづく圧力降下３６を含む。そ
の場合、圧力上昇３５は圧力降下３６よりもはるかに急
な勾配を示す。時間ｔに亘って圧力ｐが図示のような経
過を示す場合、負圧パルスの抑制する上でいかなる場合
にも最適の経過であるとは限らないが、衝撃波の圧力が
最初に急上昇したのち、ゆっくりと下降するのはいつの
場合にも好ましい。個々の用途において、経時圧力経過
の最適形態は実験及び／または計算によって求めること
ができる。第１図に関連して述べたような、コンデンサ
１６及び火花ギャップ１７から成る構成の代りに、導電
体１２を作動させるためにほとんど任意の電気パルスを
発生させることのできるパルス発生器を採用してもよい
。

第１図に示した装置では、導電体１２のターン密度を小
さくすることによって第２図に示す圧力プロフィル下降
が達成される。ただし、例えば、第１図の装置を第４図
のように構成することにより、パターンの異なる圧力プ
ロフィル下降を得ることもできる。

第４図では、金属膜９が絶縁ホイル１０に当接し、絶縁
ホイル１０は導電体１２を介して筐体部分１ａと結合し
ている。筐体部分１ａの内側は部分球面１３を具備する
。導電体１２の巻着ワイヤの直径が一定である第１図の
場合と異なり、第４図ではワイヤ径が変化する。即ち、
軸線２５に近いワイヤは軸線２５から遠い位置のワイヤ
よりも細い。即ち、ワイヤ径は軸線２５から外方へ遠ざ
かるに従って太くなる。このように外側にむかって次第
に太くなるようにワイヤを形成すれば、すでに述べたよ
うに外方にむかってターン密度を疎にする場合と同じ効
果が得られる。導電体１２としてワイヤの代りに、例え
ば導電帯材を圧延することによって製造過程で簡単に太
さを調整することのできる矩形断面の導電帯を使用して
もよい。

さらにまた、導電体１２の個々のターンの間隔が外方に
むかって次第に広くなるという第１図の特徴を、導電体
１２の個々のターンの太、さが外方にむかって次第に太
くなる第４図の特徴と組合わせ、ここでも導線の代りに
導電帯を利用することも可能である。ターン密度が疎に
なるために生ずるギャップを、導電帯の場合なら例えば
対応の絶縁帯のような絶縁材で、または個々のターンの
比較的幅広い導電ワイヤまたは導電帯によって適宜ふさ
げばよい。

第２図の圧力プロフィル下降を得る別の方法として、導
電体１２を、一定の強さ及び長さの電気的パルス（１０
１４〜１０１８）の作用を受ける個別巻線または個別コ
イル（第１２図における１２°　、１２“°　。

１２“、１２″′）で導電体１２を構成してもよい。そ
の場合、個々の巻線を互いに同心的に、またはその他の
態様で部分球面１３に配列する。個々の巻線を同心関係
に配列した場合には、システム軸線に近いコイルには高
い放電電流を作用させ、外側ゾーンのコイルには低い放
電電流を作用させることが特に好ましい。そのためには
、例えば、個々のコイルを、パルス発生装置のそれぞれ
のコイルに対応する直列及び／並列回路で作動させる。

及び／またはワイヤの太さに変化を持たせる。及び／ま
たはコイルの各部に対して、引出されたタップライン（
第１３図）及び分路により強さの異なる電流を作用させ
ることによって達成できる。個々の巻線の間隔に変化を
与えるように構成してもよい。個々のコイルを同心関係
に配列しない場合には、部分球面１３の内側ゾーンに外
側ゾーンよりも多い巻線を配列することが好ましい。す
べての個別巻線の外形は例えば、足形、三角形、多角形
など任意である。ワイヤ太さ及び／または駆動パルスの
強さを巻線ごとに変えることによってこの構成をさらに
多様化することができる。同心関係に配列する場合も、
同心関係に配列しない場合も個々の巻線の形状は必ずし
も円形でなくてもよい。

第１図に示す装置において、衝撃波の形態を改善するた
め中空室２を円錐台形に形成した場合、この円錐台に変
化を与えることによって第２図に示すような圧力下降を
得ることが好ましい。−このような変化を与える場合に
は例えば円錐台をカバー３にむかって広げるか、あるい
は円錐台を非円形化すればよい。例えば、円錐台の４面
に緩衝材を塗布することにより、円錐台の壁面緩衝効果
に変化を加えることも可能である。また、円錐台形を採
用する場合、円錐台１面から中空室へピン状構造物を突
出させ、これによって衝撃波を散乱させることにより、
衝撃波圧力を低下させることもできる。円錐形中空室を
採用する場合にも、上記方式を導電体１２に関して述べ
た方式と組合わせることも可能である。

すでに述べたように、第２図のような圧力プロフィル下
降は導電体１２を星形に構成することによって実現する
ことができる。同様に、導電体の外形ではなく、第１図
に示した装置の他の構成部分に適当な変更を加えても実
現できる。特に中空体を円Ｓｋｉ台形に構成する場合、
例えばカバー３または中空体と星形など、非円形に形成
すればよい。

その場合、三角形、四角形など多角形構成（Ｆｉｇ。

１５）を採用し、圧力プロフィル下降のための方式とし
て以上に述べた種々の構成を組合わせてもよい。適当な
緩衝システム、吸収装置または散乱体によって衝撃波を
縁端にむかって所要の態様で弱めることも可能である。

以上、第１図に示す装置に関連して本発明を説明したが
、金属膜９を部分球面状に構成せず、扁平に形成した装
置と本発明を併用することも可能である。このような装
置では、金属膜で発生した衝撃波を反射器及びレンズを
利用して結石に集束しなければならない。ただし、この
ような装置の場合でも、第２図のように圧力プロフィル
下降を実現するための方法として以上に述べた構成をす
べて利用できるから、ここでも本発明によって負圧パル
スの発生、従って、組織損傷を防止することができる。

コイル状素子から成る導電体に代わる他の衝撃波発生源
として、点状、線状、曲線状、扁平、特に円形の、また
曲面状の発生源を採用してもよい。

その場合、このような発生源からの衝撃波を、反射器及
び／またはレンズ系で結石に集束し、拡散。

吸収などの衝撃波制御をも併用して導波に変化を加える
。また、導波、特に集束のために使用される手段を極°
めて有効な態様で圧力プロフィル下降にも利用すること
ができる。衝撃波発生源としては、必要とする波形に応
じて、例えば圧電または磁気ひずみ素子（第１４図）、
または水中火花放電を利用すればよい。衝撃波の縁辺ゾ
ーンにおける衝撃波、特に圧力プロフィル変化の制御は
、上記素子を採用する場合、個々の素子の作動電圧を変
化させ、個々の素子の配列密度を変化させ、個々の素子
の構造サイズまたは構造形態を選択することによって実
現することができる。

集束手段、例えば、反射器及び／またはミラーを含むシ
ステムにおいては、補足的または選択的な手段として、
集束装置の構造形態及び／または構造サイズを変えるこ
とによって衝撃波の圧力プロフィル変動を制御すること
ができる。その場合、集束手段、例えば、レンズまたは
反射器を星形、三角形または多角形、あるいは角部に丸
みを与えた形状に構成することが特に好ましい。２次的
な緩衝、吸収または散乱手段によって縁辺における圧力
を弱めることも可能であることはいうまでもない。

基本的には、すべての衝撃波発生及び集束システムにお
いて、衝撃波の位置的及び経時的圧力プロフィルは衝撃
波発生源の局部的励起密度及び／または局部的励起強さ
及び／または構造形態及び／または構造サイズまたは集
束手段の構造形態及び／または構造サイズの選択するこ
と、及び／または拡散中の衝撃波の緩衝、吸収または散
乱と半径方向に変化させることによって制御することが
できる。

第５図及び第６図にも生体中の結石をこれと接触せずに
粉砕する電磁装置の主要な構成を略示した。金属膜１０
０はコイル１１０と境を接し、このコイル１よらせん状
に巻かれた導線１９０から成り、その内側起点１２０及
び外端１７０はコイル端子１３０に達している。コイル
中心１６０はほぼ円形の金属膜１００の中心とほぼ一致
する。コイル１１０の端子１３０に電流パルス、が供給
されると、ｌ１ｍ１ＯＯ＆３コイル１１０から突き離さ
れる。図示の実施例では膜／コイル集合体１００　、１
１０の両側には別の物質が存在し、特に１ｉｌｏｏが固
定されているから、膜１００がコイル１１０から突き離
されることによって発生する衝撃を伝達し、適当な装置
によって粉砕すべき結石に集中させることができる。

第５図の実施例では扁平な膜１００がこれも同じく扁平
なコイル１１０と境を接している。従って、コイルに電
流パルスが作用すると、先ず平行な衝撃波が発生し、こ
れがレンズ１５０により、粉砕すべき結石と一致する焦
点１４０に簗申させられる。

これに対して第６図の例では、部分球面状膜１００゛が
同じく部分球面状のコイル１１０’と当接し、従って、
コイル１１０°に電流パルスが作用すると、粉砕すべき
結石と一致する焦点１４０に集束装置を必要とせずに集
中する衝撃波が発生する。

第５図及び第６図から明らかなように、導線１９０の内
側起点１２０はコイル１１０　、１１０”の中心１６０
に位置せず、この中心から外れている。この事実は第７
図にも図示した。

第７図は第５図または第６図のコイルの俯徴図である。

ここでは判り易くするためコイル１１０の個々のターン
を互いに接触した状態ではなく、間隔を保つ状態で示し
である。また、導線１９０の内側起点１２０を含み、か
つコイル中心１６０に最も近いコイル１１０の第１ター
ンだけを示しである。コイル起点１２０がコイル中心１
６０から外れていることが重要である。

このようにコイル起点１２０をコイル中心１６０から外
すことにより、導線１９０の曲率半径が過度に小さくな
ることはなく、従ってコイル１１０の絶縁が破損するこ
とはない。また、導線１９０に鋭角的な弯曲部分が現わ
れるのを回避できるから、コイル１１０に電流パルスが
作用した時に破壊や短絡が起こる危険性は著しく軽減さ
れ、従って、コイルの信頼性及び耐用寿命が改善される
。さらに、従来のような、コイル中心における困難な手
作業によるコイル巻きが不要になるから、内側コイル起
点１２０をコイル中心１６０から外すことによってコイ
ルの機械巻きが可能になる。

第８図、第９図及び第１０図は第５図及び第６図にそれ
ぞれ示した金！１１！　１００　、１００’の３通りの
実施態様を示す。第８図、第９図及び第１０図において
、参照番号１８０は伸縮ひだである。この伸縮ひだは第
８図では円形、第９図では放射状、第１０図では円形で
ある。

第８〜１０図の伸縮ひだ１８０は種々の態様で製造する
ことができる。例えば適当な波形ひだ、によって図示の
構造を製造でき、金属膜１００の材料厚に変化を与える
ことで伸縮ひだ１８０を形成することも可能である。後
者の場合、膜１００を複数ホイル層で構成するのが特に
好ましい。

第８〜１０図に示した伸縮ひだ１８０を利用すれば、コ
イル１１０に電流パルスが作用して膜１００がコイル１
１０から突き離される時、膜１００の負荷が小さく、し
かも膜１００が伸張できる。即ち、膜が過度の応力、従
って破損から保護されると同時に、膜１００による衝撃
波の形成が促進される。従来は特に膜１００の中心に存
在した膜１００の高い応力が伸縮ひだ１８０によって著
しく軽減されるから、伸縮ひだ１８０によって特に膜１
００の耐用寿命が著しく改善される。

最後にあらためて強調すべきことは、本発明が第５図に
示すような扁平なｌＩ５！！／コイル集合体だけでなく
、その他の形態の集合体、例えば第６図または第１図に
示ずような部分球面状集合体にも応用できるということ
である。第５図及び第６図に示すような円形断面を有す
る導線の代りに、例えば部分球面形状となるように中ぐ
りまたは切削加工された断面が矩形の導電帯を使用して
もよい。

本発明はまた、すでに述べたように、円形の構成に雨足
されるものではなく、例えば星形または多角形構成にも
応用できる。

本発明の特に好ましい用途は、第１〜４図に関連して述
べたように、生体、特に人体内の腎臓結石の非接触粉砕
である。

以下余白

【図面の簡単な説明】

第１図は人体内の結石を、これと接触せずに粉砕する装
置の実施例を略示する断面図、第２−図はシステム軸線
からの半径方向距離ｒと圧力プロフィルｐの関係を示す
グラフ、第３図は時間ｔと圧力プロフィルｐの関係を示
すグラフ、第４図は本発明装置の他の実施例を示す第１
図装置からの部分図、第５図は特に生体中の結石を粉砕
するための衝撃波を発生させるのに電磁装置を利用する
ことのできる扁平な膜／コイル築合体を略示する側面図
、第６図は第１図または第４図の装置を利用することが
できる部分球面状膜／コイル集合体を略示する側面図、
第７図は第５図または第６図のコイルの１つを略示する
俯徹図、第８図〜第１０図は第５図または第６図の金属
膜の１つを略示する俯徹図であり、第１１図は星状パタ
ーンが６（囚の菱形コイルの配置によって達成されてい
る星形コイルの配置を示し、第１２図、第１３図および
第１４図は本発明による装置の実施例をそれぞれ示す図
であり、第１５図は正方形の断面ヰのコーンを有する装
置用コイル配置を示す図である。 １・・・筐体、　　　　　　　　２・・・中空室、３・
・・カバー、　　　　　　　９　、１００・・・金属膜
、１０・・・絶縁ホイル、　　　１２・・・導電体、１
３・・・内側部分球面、　　１４　、１５・・・端子、
１６・・・コンデンサ、　　　　１７・・・火花ギャッ
プ、１８・・・結石、　　　　　　１９・・・腎臓、２
０・・・焦点、　　　　　　２５・・・システム軸線、
１００・・・コイル、　　　　　１８０・・・伸縮ひだ
、１９０・・・導線。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、結石に衝撃波を集中させて生体中の結石を接触せず
   に粉砕する方法において、衝撃波圧力プロフィル（ｐ）
   を位置的に（ｒ）外側にむかって下降させる（３１）こ
   とを特徴とする方法。 ２、衝撃波圧力（ｐ）を経時的に（ｔ）先ず急上昇させ
   （３５）、次いで再びゆっくりと下降させる（３６）こ
   とを特徴とする特許請求の範囲第１項に記載の方法。 ３、圧力プロフィル（ｐ）を制御するため、衝撃波の励
   起密度を調節することを特徴とする特許請求の範囲第１
   項または第２項に記載の方法。 ４、圧力（ｐ）をを制御するため、衝撃波の励起強さを
   調節することを特徴とする特許請求の範囲第１項から第
   ３項までのいずれか１項に記載の方法。 ５、衝撃波圧力プロフィル（ｐ）を位置的に（ｒ）外側
   へむかって下降させる（３１）ための第１手段（１２）
   を設けたことを特徴とする結石に衝撃波を集中させて生
   体中の結石を接触せずに粉砕する装置。 ６、衝撃波圧力プロフィル（ｐ）を経時的に（ｔ）先ず
   急上昇させたのち下降させる（３６）ための第２手段（
   １７）を設けたことを特徴とする特許請求の範囲第５項
   に記載の装置。 ７、第１手段（１２）が電気的パルスの作用下に衝撃波
   を発生させる少なくとも１つのコイル素子を含むことを
   特徴とする特許請求の範囲第５項または第６項に記載の
   装置。 ８、第１手段（１２）が電気的パルスの作用下に衝撃波
   を発生させる少なくとも１つの圧電素子を含むことを特
   徴とする特許請求の範囲第５項または第６項に記載の装
   置。 ９、第１手段（１２）が電気的パルスの作用下に衝撃波
   を発生させる少なくとも１つの磁気ひずみ素子を含むこ
   とを特徴とする特許請求の範囲第５項または第６項に記
   載の装置。 １０、第１手段（１２）が少なくとも１つの衝撃波集束
   素子を含むことを特徴とする特許請求の範囲第５項また
   は第６項に記載の装置。 １１、第１手段（１２）の外形が多角形、特に星形であ
   ることを特徴とする特許請求の範囲第７項から第１０項
   までのいずれか１項に記載の装置。 １２、第２手段（１７）が電圧と接続して電気的パルス
   を発生させる少なくとも１つの火花ギャップを含むこと
   を特徴とする特許請求の範囲第６項に記載の装置。 １３、第２手段（１７）が電源電圧と接続して電気的パ
   ルスを発生させる少なくとも１つのパルス発生器を含む
   ことを特徴とする特許請求の範囲第６項に記載の装置。 １４、第２手段（１７）から発生した電気的パルスが第
   １手段（１２）に作用することを特徴とする特許請求の
   範囲第７項から第１０項までのいずれか１項または特許
   請求の範囲第１２項または第１３項に記載の装置。 １５、衝撃波を発生させるため、反力を作用させる伝達
   媒と境を接する金属膜を設け、該金属膜を薄い絶縁層に
   よって、支持体の端面に設けた扁平かつらせん状の導電
   体（１２）から隔離し、前記導電体が一定の強さ及び長
   さの電気的パルスを供給されると共に、外側にむかって
   小さくなるターン密度を有し、前記導電体（１２）の金
   属膜と隣接する側が部分球面状を呈し、伝達媒の圧力下
   に金属膜が前記部分球面に圧接するように構成したこと
   を特徴とする特許請求の範囲第５項に記載の装置。 １６、衝撃波を発生させるため、反力を作用させる伝達
   媒と境を接する金属膜を設け、該金属膜を薄い絶縁層に
   よって、支持体の端面に設けた扁平かつらせん状の導電
   体（１２）から隔離し、前記導電体が一定の強さ及び長
   さの電気的パルスを供給されると共に、外側にむかって
   小さくなるターン密度を有し、前記導電体（１２）の金
   属膜と隣接する側が部分球面状を呈し、外側にむかって
   大きくなる導体太さを有し、伝達媒の圧力下に金属膜が
   前記部分球面に圧接するように構成したことを特徴とす
   る特許請求の範囲第５項に記載の装置。 １７、衝撃波を発生させるため、反力を作用させる伝達
   媒と境を接する金属膜を設け、該金属膜を薄い絶縁層に
   よって、支持体の端面に設けた扁平かつらせん状の導電
   体（１２）から隔離し、前記導電体（１２）の金属膜と
   隣接する側が部分球面状を呈し、伝達媒の圧力下に金属
   膜が前記部分球面に圧接し、前記導電体（１２）が一定
   の強さ及び長さの電気的パルスを供給される個別巻線ま
   たは個別コイルから成ることを特徴とする特許請求の範
   囲第５項に記載の装置。 １８、金属膜及びこれと境を接し、らせん状に巻かれた
   導体から成るコイルを含み、生体内の結石をこれと接触
   せずに粉砕する電磁装置用の 膜／コイル集合体において、導体（１９）の内側起点（
   １２）がコイル（１１）の中心（１６）よりも外側に位
   置することを特徴とする膜／コイル集合体。 １９、膜（１０）が伸縮ひだ（１８０）を含むことを特
   徴とする特許請求の範囲第１８項に記載の集合体。 ２０、伸縮ひだ（１８０）を円形に構成したことを特徴
   とする特許請求の範囲第１９項に記載の集合体。 ２１、伸縮ひだ（１８０）を放射状に構成したことを特
   徴とする特許請求の範囲第１９項に記載の集合体。 ２２、伸縮ひだ（１８０）をらせん状に構成したことを
   特徴とする特許請求の範囲第１９項に記載の集合体。 ２３、伸縮ひだ（１８０）を波形に構成したことを特徴
   とする特許請求の範囲第１９項から第２２項までのいず
   れか１項に記載の集合体。 ２４、膜（１０）がホイル層セットから成ることを特徴
   とする特許請求の範囲第１８項から第２３項までのいず
   れか１項に記載の集合体。 ２５、第１手段として、衝撃波の拡散路中に音波緩衝シ
   ステム、吸収システムまたは拡散システムを設けたこと
   を特徴とする特許請求の範囲第５項に記載の集合体。