JPS628500A - High frequency heating antenna - Google Patents
High frequency heating antennaInfo
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- JPS628500A JPS628500A JP60147194A JP14719485A JPS628500A JP S628500 A JPS628500 A JP S628500A JP 60147194 A JP60147194 A JP 60147194A JP 14719485 A JP14719485 A JP 14719485A JP S628500 A JPS628500 A JP S628500A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。(57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
本発明は、核融合装置のプラズマ加熱に用いられる高周
波加熱用アンテナの改良に関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Technical Field of the Invention] The present invention relates to improvements in high-frequency heating antennas used for plasma heating in nuclear fusion devices.
重水素（Ｄ）とトリチウム（Ｔ）のＤ−Ｔ反応を利用し
た核融合装置は、例えば第６図に示す如く構成されてい
る。同図において符号１０１は内部にプラズマ１０２を
封じ込め、かつ高真空状態を維持するトーラス状の真空
容器であって、この真空容器１０１の内側にはプラズマ
１０２を包囲するようにブランケット１０３が一体に設
けられている。このブランケット１０３は内部にトリチ
ウム増殖材としてのリチウムを収容し、このリチウムを
冷却する冷却材流路（図示せず）を備えている。そして
、このブランケット１０３はプラズマ１０２から放射さ
れる高エネルギーの中性子と上記リチウムを反応させて
トリチウムを生成させ、このとき発生する熱エネルギー
を前記冷却材流路を流れる冷却材を介して外部へ取り出
す構成となっている。A nuclear fusion device that utilizes the DT reaction between deuterium (D) and tritium (T) is configured as shown in FIG. 6, for example. In the figure, reference numeral 101 denotes a torus-shaped vacuum container that confines plasma 102 inside and maintains a high vacuum state, and a blanket 103 is integrally provided inside this vacuum container 101 so as to surround plasma 102. It is being This blanket 103 contains lithium as a tritium breeding material therein, and is equipped with a coolant flow path (not shown) for cooling the lithium. The blanket 103 reacts the high-energy neutrons emitted from the plasma 102 with the lithium to generate tritium, and extracts the thermal energy generated at this time to the outside via the coolant flowing in the coolant flow path. The structure is as follows.
前記真空容器１０１の周囲には、真空容器１０１のトロ
イダル方向にトロイダルコイル１０４が配設され、また
ボロイダル方向にボロイダルコイル１０５が配設されて
いる。これらのトロイダルコイル１０４及びボロイダル
コイル１０５は磁界発生コイルを形成するもので、各コ
イル１０４ 、１０５および真空容器１０１は架台１０
６上に設置されている。Around the vacuum container 101, a toroidal coil 104 is arranged in the toroidal direction of the vacuum container 101, and a voloidal coil 105 is arranged in the voloidal direction. These toroidal coils 104 and voloidal coils 105 form magnetic field generating coils, and each coil 104, 105 and vacuum container 101 are connected to the pedestal 10.
It is installed on 6.
一方、真空容器１０１の中央部には中心支柱１０７が真
空容器１０１の中空部を上下に貫通して立設されている
。この中心支柱１０７には変流器コイル１０８が巻回さ
れており、前記磁界発生コイルと共に変流器を構成して
いる。この変流器は磁界発生コイルに大電流を流して真
空容器１０１の内部に磁界を発生させるもので、真空容
器１０１内のプラズマ１０２は上記磁界によって生じる
電流でジュール加熱されるようになっている。On the other hand, in the center of the vacuum container 101, a center support 107 is provided vertically penetrating the hollow portion of the vacuum container 101. A current transformer coil 108 is wound around this central column 107, and forms a current transformer together with the magnetic field generating coil. This current transformer generates a magnetic field inside the vacuum vessel 101 by passing a large current through a magnetic field generating coil, and the plasma 102 inside the vacuum vessel 101 is Joule heated by the current generated by the magnetic field. .
また、真空容器１の周囲にはイオンサイクロトロン共鳴
加熱（ＩＣＲＦ）装置と呼ばれる高周波２次加熱装置１
０９が設置されている。この高周波２次加熱装置１０９
は、プラズマ１０２の回りに複数の高周波加熱用アンテ
ナ（以下、ループアンテナという）を設け、これらのル
ープアンテナに高周波電流を周軸給電線を介して供給す
ることにより真空容器１０１内のプラ１７１０２をさら
に加熱するように構成されている。なお、第６図中１１
０は真空排気装置、１１１は遮蔽体を示す。 。Also, a high frequency secondary heating device 1 called an ion cyclotron resonance heating (ICRF) device is installed around the vacuum container 1.
09 is installed. This high frequency secondary heating device 109
In this method, a plurality of high-frequency heating antennas (hereinafter referred to as loop antennas) are provided around the plasma 102, and a high-frequency current is supplied to these loop antennas via a circumferential feed line to heat the plastic 17102 in the vacuum vessel 101. It is configured to further heat. In addition, 11 in Figure 6
0 indicates a vacuum evacuation device, and 111 indicates a shield. .
第７図ないし第９図は従来のループアンテナの基本構造
を示すもので、このループアンテナ５０１は中心導体５
０２．リターン導体５０３およびファラデーシールド５
０４から構成されている。中心導体５０２はプラズマ１
０２に面して設置され、周軸給電線３０１の内部導体３
０２が接続されている。またリターン導体５０３は中心
導体５０２の後方に設置され、周軸給電線３０１の外部
導体３０３が接続されている。7 to 9 show the basic structure of a conventional loop antenna, and this loop antenna 501 has a central conductor 5
02. Return conductor 503 and Faraday shield 5
It consists of 04. The center conductor 502 is the plasma 1
02, and the internal conductor 3 of the circumferential feeder line 301
02 is connected. Further, the return conductor 503 is installed behind the center conductor 502, and is connected to the outer conductor 303 of the circumferential feed line 301.
これらの中心導体５０２及びリターン導体５０３は、第
８図に示す如くその終端部において短絡用導体５０５に
て連結されており、リターン導体５０３は高周波２次加
熱装置１０９から供給される高周波電流の帰路となって
いる。そして、前記ファラデーシールド５０４はプラズ
マ加熱に寄与しない不要電場成分を短絡するもので、中
心導体５０２を取り囲むようにコの字状に形成され、そ
の両端部はリターン導体５０３に固定されている。These center conductor 502 and return conductor 503 are connected at their terminal ends by a short-circuiting conductor 505, as shown in FIG. It becomes. The Faraday shield 504 short-circuits unnecessary electric field components that do not contribute to plasma heating, and is formed in a U-shape to surround the center conductor 502, with both ends fixed to the return conductor 503.
このような基本構造のループアンテナ５０１は、プラズ
マ１０２からの中性子の衝突による熱負荷を軽減するた
めに核融合装置の第１′壁１１２より外側に設置される
。そして、ファラデーシールド５０４の内部にはプラズ
マ１０２からの熱□負荷や−γ線、あるいは中性子によ
る核発熱を冷却するために冷却流路４０３が形成され、
この冷却流路４０３に冷却媒体（例えば水）を流して熱
負荷を軽減する構造となっている。The loop antenna 501 having such a basic structure is installed outside the first wall 112 of the fusion device in order to reduce the heat load due to collision of neutrons from the plasma 102. A cooling channel 403 is formed inside the Faraday shield 504 to cool down the heat load from the plasma 102, -γ rays, or nuclear heat generated by neutrons.
The structure is such that a cooling medium (for example, water) is allowed to flow through this cooling channel 403 to reduce the heat load.
上記浴却媒体は第９図に示す如くリターン導体−５０３
に接続された冷却媒体供給配管４０１よりリターン導体
５０３内の冷却媒体供給チャンネル４０２を介して前記
ファラデーシールド５０４内の冷却流路４０３へ供給さ
れる。そして冷却流路４０３内を流通した後、リターン
導体５０３内の冷却媒体排出チャンネル４０４へ流れ、
ざらにリターン導体５０３に接続された冷却媒体排出配
管４０５より外部へ排出される。なお、冷却媒体供給チ
ャ多ネル４０２内の冷却媒体の一部は、リターン導体５
０３に形成された冷却流路４０６を通って中心導体５０
２内の冷却流路４０７へ流れ、さらにリターン導体５０
３内の冷却流−路４０８を経て前記冷却媒体排出チャン
ネル４０４へ流れるようになっている。The bathing medium is connected to the return conductor-503 as shown in FIG.
The cooling medium is supplied from a cooling medium supply pipe 401 connected to the cooling medium through a cooling medium supply channel 402 in a return conductor 503 to a cooling passage 403 in the Faraday shield 504 . After flowing through the cooling channel 403, it flows to the cooling medium discharge channel 404 within the return conductor 503,
The coolant is discharged to the outside through a coolant discharge pipe 405 roughly connected to the return conductor 503 . Note that a portion of the cooling medium in the cooling medium supply channel 402 is transferred to the return conductor 5.
The center conductor 50 passes through the cooling channel 406 formed in the
2 to the cooling channel 407, and further to the return conductor 50.
3 through a cooling flow path 408 to the cooling medium discharge channel 404.
ところで、このような従来のループアンテナではファラ
デーシールド５０４がリターン導体５０３に固定されて
いるため、プラズマ１０２のポ８０イダル磁場と鎖交す
る短絡回路を形成する。By the way, in such a conventional loop antenna, since the Faraday shield 504 is fixed to the return conductor 503, a short circuit interlinked with the poidal magnetic field of the plasma 102 is formed.
第１０図はファラデーシールド１本当りについて形成す
る短絡回路を示したもので、この短絡回路にはプラズマ
・ディスラプション（プラズマが急激に消滅する現象）
時のボロイダル磁場Ｂｐの急激な変化により電ＩＩが誘
起される。この誘導電流■はトロイダル磁場ＢＴ及びボ
ロイダル磁場Ｂｐと作用して大きな電磁力Ｆ１．Ｆ２を
発生する。特に、トロイダル磁場ＢＴによる電磁力Ｆ１
はファラデーシールド全体をボロイダル方向に大きく変
形させるため、リターン導体５０３との結合部に大きな
応力が発生し、前記熱負荷と相まって゛ファラデーシー
ルド５０４のひび割れや破断等につながる可荒性がある
。Figure 10 shows a short circuit formed for one Faraday shield, and this short circuit is caused by plasma disruption (a phenomenon in which plasma rapidly disappears).
Electron II is induced by a sudden change in the voloidal magnetic field Bp. This induced current ■ interacts with the toroidal magnetic field BT and the boroidal magnetic field Bp, causing a large electromagnetic force F1. Generate F2. In particular, the electromagnetic force F1 due to the toroidal magnetic field BT
Since the Faraday shield as a whole is greatly deformed in the voloidal direction, a large stress is generated at the joint with the return conductor 503, which, combined with the thermal load, causes the Faraday shield 504 to become rough, leading to cracking or breakage.
本発明はこのような事情に鑑みなされたもので、その目
的とするところはファラデーシールドの変形、ひび割れ
、破断等を防止し、信頼性の高い高周波加熱用アンテナ
を提供することにある。The present invention was made in view of the above circumstances, and its purpose is to provide a highly reliable high-frequency heating antenna that prevents deformation, cracking, breakage, etc. of the Faraday shield.
本発明は上記の目的を達成するために、ファラデーシー
ルドとリターン導体の結合部近傍の各ファラデーシール
ド間に板状のファラデーシールド・サポートを設けたこ
とを特徴とするものである。In order to achieve the above object, the present invention is characterized in that a plate-shaped Faraday shield support is provided between each Faraday shield near the joint between the Faraday shield and the return conductor.
以下、図面を参照して本発明の一実施例を触明する。 Hereinafter, one embodiment of the present invention will be explained with reference to the drawings.
第１図ないし第４図は本発明によるループアンテナの一
実施例を示すもので、このループアンテナ２０１はプラ
ズマに面して設置される中心導体２０２と、この中心導
体２０２の後方に設置されるリターン導体２０３と、プ
ラズマ加熱に寄与しない不要電場成分を短絡するファラ
デーシールド２０４から構成されている。上記中心導体
２０２には周軸給電線３０１の内部導体３０２が接続さ
れ、リターン導体２０３には周軸給電ｌｌ３０１の外部
導体３０３が接続されている。また、これらの中心導体
２０２及びリターン導体２０３はその終端部において短
絡用導体２０５（第２図参照）にて連結されており、リ
ターン導体２０３は高周波２次加熱装置１０９から供給
される高周波電流の帰路となっている。′一方、前記フ
ァラデーシールド２０４は中心導体２０２を取り囲むよ
うにコの字状に形成され、その両端部はリターン導体２
０３に固定されている。このファラデーシールド２０４
とリターン導体２０３の結合部近傍の各ファラデーシー
ルド間には、板状のファラデーシールド・サポート２０
６が設けられている。このファラデーシ−ルド・サポー
ト２０６はリターン導体２０３と一体化されており、各
ファラデーシールド・サポート２０６とファラデーシー
ルド２０４との間には第４図に示す如く各ファラデーシ
ールド間に発生する電位差を短絡するため、寸法吸収性
の優れた電気接触ガスケット２０７が設置されている。1 to 4 show an embodiment of a loop antenna according to the present invention, and this loop antenna 201 has a central conductor 202 installed facing the plasma, and a central conductor 202 installed behind the central conductor 202. It consists of a return conductor 203 and a Faraday shield 204 that short-circuits unnecessary electric field components that do not contribute to plasma heating. The inner conductor 302 of the circumferential feed line 301 is connected to the center conductor 202, and the outer conductor 303 of the circumferential feed line 11301 is connected to the return conductor 203. The center conductor 202 and the return conductor 203 are connected at their terminal ends by a shorting conductor 205 (see FIG. 2), and the return conductor 203 is connected to the high-frequency current supplied from the high-frequency secondary heating device 109. I am on my way home. 'On the other hand, the Faraday shield 204 is formed in a U-shape so as to surround the center conductor 202, and both ends thereof are connected to the return conductor 2.
It is fixed at 03. This faraday shield 204
A plate-shaped Faraday shield support 20 is installed between each Faraday shield near the joint of the return conductor 203 and the return conductor 203.
6 is provided. This Faraday shield support 206 is integrated with the return conductor 203, and between each Faraday shield support 206 and the Faraday shield 204, the potential difference generated between each Faraday shield is shorted as shown in FIG. Therefore, an electrical contact gasket 207 with excellent dimensional absorption properties is installed.
また、ループアンテナ２０１はアンテナケース２０８に
収納され°、核融合装置の第１壁１１２より外側に設置
される。そして、ファラデーシールド２０４の内部には
冷却流路４０３が形成され、この冷却流路４０３に冷却
媒体（・例えば水）を流して熱負荷を軽減する構造とな
っている。Further, the loop antenna 201 is housed in an antenna case 208 and installed outside the first wall 112 of the fusion device. A cooling channel 403 is formed inside the Faraday shield 204, and the structure is such that a cooling medium (for example, water) is allowed to flow through the cooling channel 403 to reduce the thermal load.
上記冷却媒体は第３図に示す如くリターン導体２０３に
接続された冷却媒体供給配管４０１よりリターン導体２
０３内の冷却媒体供給チャンネル４０２を介して前記フ
ァラデーシールド２０４内の冷却流路４０３へ供給され
る。そして冷却流路４０３内を流通した後、リターン導
体２０３内の冷却媒体排出チャンネル４０４へ流れ、さ
らにリターン導体２０３に接続された冷却媒体排出配管
４０５より外部へ排出さ 。The cooling medium is supplied to the return conductor 2 from the cooling medium supply pipe 401 connected to the return conductor 203 as shown in FIG.
The cooling medium is supplied to the cooling passage 403 in the Faraday shield 204 through a cooling medium supply channel 402 in the Faraday shield 204 . After flowing through the cooling channel 403, the coolant flows to a coolant discharge channel 404 in the return conductor 203, and is further discharged to the outside from a coolant discharge pipe 405 connected to the return conductor 203.
れる。な伺、冷却媒体供給チャンネル４０２内の冷却媒
体の、一部は、す°ターン導体２０３に形成された冷却
流路４０６を通って中心導体２０２内の冷却流路４０７
へ流れ、さらにリターン導体２０３内の冷却流路４０８
を経て前記冷却媒体排出チャンネル４０４へ流れるよう
になっている。It will be done. Note that a part of the cooling medium in the cooling medium supply channel 402 passes through the cooling passage 406 formed in the turn conductor 203 and enters the cooling passage 407 in the center conductor 202.
and further into the cooling channel 408 in the return conductor 203.
The cooling medium is allowed to flow through the cooling medium discharge channel 404 through the cooling medium.
上記の如く構成されるループアンテナ２０１は、第５図
に示すようにプラズマのボロイダル磁場Ｂｐと鎖交して
電気的に一巡する短絡回路を形成し、プラズマディスラ
プション時に誘導電流Ｉが流れる。この誘導電流Ｉは前
述した如くトロイダル磁場Ｂｙ及びボロイダル磁場Ｂｐ
と作用して大きな電磁力Ｆｌ 、Ｆ２を発生し、この電
磁力によってファラデーシールド２０４をボロイダル方
向に大きく変形させる。しかし、本実施例ではファラデ
ーシールド２０４は、ファラデーシールド・サボ−ト２
０６によって支持されているためボロイダル方向の変形
を抑制できる。なお、ファラデーシールド２０４には熱
負荷によるトロイダル方向の熱膨張も作用するが、ファ
ラデーシールド・サポート２０６はトロイダル方向には
何んら拘束していないので熱膨張による応力の発生はな
い。As shown in FIG. 5, the loop antenna 201 configured as described above interlinks with the voloidal magnetic field Bp of the plasma to form an electrical short circuit, and an induced current I flows during plasma disruption. As mentioned above, this induced current I is caused by the toroidal magnetic field By and the boroidal magnetic field Bp.
act to generate large electromagnetic forces Fl and F2, and the Faraday shield 204 is greatly deformed in the voloidal direction by this electromagnetic force. However, in this embodiment, the Faraday shield 204 is connected to the Faraday shield sabot 2.
06, deformation in the voloidal direction can be suppressed. Note that thermal expansion in the toroidal direction due to thermal load also acts on the Faraday shield 204, but since the Faraday shield support 206 is not restrained in any way in the toroidal direction, no stress is generated due to thermal expansion.
以上述べたように本発明によれば、ファラデーシールド
とリターン導体の結合部近傍の各ファラデーシールド間
７に板状のファラデーシールド・す、ボートを設けたこ
とにより、プラズマ・ディスラプション時に発生する電
磁力によってファラデーシールドとリターン導体の結合
部にひび割れや破断等が発生するのを防止できる。As described above, according to the present invention, a plate-shaped Faraday shield boat is provided between each Faraday shield in the vicinity of the joint between the Faraday shield and the return conductor, thereby preventing plasma disruption from occurring during plasma disruption. It is possible to prevent cracks, breaks, etc. from occurring at the joint between the Faraday shield and the return conductor due to electromagnetic force.
さらに本発明によれば、組立ての際ファラデーシールド
はファラデーシールド・サポート間に設置すればよいの
で寸法精度の向上が期待でき、製作コストを低減できる
。Further, according to the present invention, since the Faraday shield can be installed between the Faraday shield and the support during assembly, dimensional accuracy can be expected to be improved and manufacturing costs can be reduced.
第１図ないし第５図は本発明によるループアンテナの一
実施例を示し、第１図は全体斜視図、第２図は縦断面図
、第３図は横断面図、第４図はファラデーシールドとリ
ターン導体の結合部近傍を示す斜視図、第５因はループ
アンテナに作用する電磁力を示す斜視図、第６図は核融
合装置の概略図、第７因、ないし第１０図は従来のルー
プアンテナを示し、第７図は全体斜視図、第、８図は縦
断面図、第９図は横断面図、第１０図はループアンテナ
に作用する電磁力を示す斜視図である。
１０２・・・プラズマ、１０９・・・高周波２次加熱装
置。
２０１・・・ループアンテナ、２０２・・・中心導体、
２０３・・・リターン導体、２０４・・・ファラデーシ
ールド、２０５・・・短絡用導体、２０６・・・ファラ
デーシールド・サポート、２０７・・・電気接触ガスケ
ット、３０１・・・周軸給ＮＩ。
出願人代理人 弁理士 鈴江武彦
第１図
第３図
ｊ１４図
第７図
第９図
第１０図1 to 5 show an embodiment of the loop antenna according to the present invention, in which FIG. 1 is an overall perspective view, FIG. 2 is a vertical cross-sectional view, FIG. 3 is a cross-sectional view, and FIG. 4 is a Faraday shield. The fifth factor is a perspective view showing the electromagnetic force acting on the loop antenna, the fifth factor is a schematic diagram of the nuclear fusion device, and the seventh to tenth factors are conventional 7 is an overall perspective view, FIGS. 8 and 8 are longitudinal cross-sectional views, FIG. 9 is a cross-sectional view, and FIG. 10 is a perspective view showing electromagnetic force acting on the loop antenna. 102... Plasma, 109... High frequency secondary heating device. 201... Loop antenna, 202... Center conductor,
203... Return conductor, 204... Faraday shield, 205... Short circuit conductor, 206... Faraday shield support, 207... Electrical contact gasket, 301... Circumferential shaft feed NI. Applicant's agent Patent attorney Takehiko Suzue Figure 1 Figure 3 j 14 Figure 7 Figure 9 Figure 10
Claims (4)
ら周軸給電線を介して高周波電流が供給される中心導体
と、この中心導体の後方に設置され前記高周波電流の帰
路となるリターン導体と、前記中心導体を取り囲むよう
にコの字状に形成されたファラデーシールドとを具備し
た高周波加熱用アンテナにおいて、前記ファラデーシー
ルドとリターン導体の結合部近傍の各ファラデーシール
ド間に板状のファラデーシールド・サポートを設け、前
記ファラデーシールドを支持することを特徴とする高周
波加熱用アンテナ。(1) A central conductor that is installed facing the plasma and to which a high-frequency current is supplied from the high-frequency secondary heating device via a circumferential feeder line, and a return conductor that is installed behind this central conductor and serves as a return path for the high-frequency current. and a Faraday shield formed in a U-shape so as to surround the center conductor, wherein a plate-shaped Faraday shield is provided between each Faraday shield near the joint between the Faraday shield and the return conductor. - A high-frequency heating antenna characterized in that a support is provided to support the Faraday shield.
導体と一体化されていることを特徴とする特許請求の範
囲第（１）項記載の高周波加熱用アンテナ。(2) The high-frequency heating antenna according to claim (1), wherein the Faraday shield support is integrated with a return conductor.
ーシールドとの間に電気接触ガスケットを介して設けら
れることを特徴とする特許請求の範囲第（１）項記載の
高周波加熱用アンテナ。(3) The high-frequency heating antenna according to claim (1), wherein the Faraday shield support is provided with an electrical contact gasket interposed between the Faraday shield and the Faraday shield.
ン共鳴加熱装置であることを特徴とする特許請求の範囲
第（１）項記載の高周波加熱用アンテナ。(4) The high-frequency heating antenna according to claim (1), wherein the high-frequency secondary heating device is an ion cyclotron resonance heating device.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60147194A JPH0746151B2 (en) | 1985-07-04 | 1985-07-04 | High frequency heating antenna |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60147194A JPH0746151B2 (en) | 1985-07-04 | 1985-07-04 | High frequency heating antenna |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS628500A true JPS628500A (en) | 1987-01-16 |
| JPH0746151B2 JPH0746151B2 (en) | 1995-05-17 |
Family
ID=15424687
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60147194A Expired - Lifetime JPH0746151B2 (en) | 1985-07-04 | 1985-07-04 | High frequency heating antenna |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0746151B2 (en) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01169898A (en) * | 1987-12-25 | 1989-07-05 | Japan Atom Energy Res Inst | High-frequency heater |
| CN102543223A (en) * | 2012-02-15 | 2012-07-04 | 中国科学院等离子体物理研究所 | ICRF (Ion Cyclotron Resonance Frequency) antenna structure with angle-adjustable faraday shield cooling tube |
-
1985
- 1985-07-04 JP JP60147194A patent/JPH0746151B2/en not_active Expired - Lifetime
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| JPH01169898A (en) * | 1987-12-25 | 1989-07-05 | Japan Atom Energy Res Inst | High-frequency heater |
| CN102543223A (en) * | 2012-02-15 | 2012-07-04 | 中国科学院等离子体物理研究所 | ICRF (Ion Cyclotron Resonance Frequency) antenna structure with angle-adjustable faraday shield cooling tube |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0746151B2 (en) | 1995-05-17 |
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