JPS628522A - イオンビ−ムエツチング装置 - Google Patents
イオンビ−ムエツチング装置Info
- Publication number
- JPS628522A JPS628522A JP14661685A JP14661685A JPS628522A JP S628522 A JPS628522 A JP S628522A JP 14661685 A JP14661685 A JP 14661685A JP 14661685 A JP14661685 A JP 14661685A JP S628522 A JPS628522 A JP S628522A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ion
- ion beams
- ion beam
- current density
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- Pending
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［発明の属する分野］
本発明は、イオンビームエツチング装置、特に、イオン
引き出し電極間の間隔を可変することにより照射イオン
ビームの電流密度および拡がり角を制御できるようにし
たイオンビームエツチング装置に関する。
引き出し電極間の間隔を可変することにより照射イオン
ビームの電流密度および拡がり角を制御できるようにし
たイオンビームエツチング装置に関する。
［従来技術］
従来、この種の装置においては、イオンビームの電流密
度や拡がり角等のイオン引き出し条件を変更したい場合
は、イオン引き出し電圧を変更していた。ところが、従
来の装置はイオンビームを引き出すための複数の引き出
し電極がイオン源と被エツチング材例えばウェハとの間
に固定されて装備されており、これらのイオン源とイオ
ン引き出し電極または引き出し電極同士の間隔は可変で
なかった。このため、イオン引き出し電極に印加される
引き出し電圧が決まると、それにより、これらのイオン
引き出し条件が同時に決定されることとなる。
度や拡がり角等のイオン引き出し条件を変更したい場合
は、イオン引き出し電圧を変更していた。ところが、従
来の装置はイオンビームを引き出すための複数の引き出
し電極がイオン源と被エツチング材例えばウェハとの間
に固定されて装備されており、これらのイオン源とイオ
ン引き出し電極または引き出し電極同士の間隔は可変で
なかった。このため、イオン引き出し電極に印加される
引き出し電圧が決まると、それにより、これらのイオン
引き出し条件が同時に決定されることとなる。
従って、例えば、イオンビームの電流密度はそのままと
し、拡がり角だけを変更したい等の要求には答えること
ができない。すなわち、従来の装置では、イオンビーム
の電流密度および拡がり角等の引き出し条件の細かな制
御ができないという欠点があった。
し、拡がり角だけを変更したい等の要求には答えること
ができない。すなわち、従来の装置では、イオンビーム
の電流密度および拡がり角等の引き出し条件の細かな制
御ができないという欠点があった。
［発明の目的コ
本発明は、上述従来形の問題点に鑑み、イオンビームの
電流密度や拡がり角等のイオン引き出し条件を、それぞ
れ細かく制御することができるイオンど−ムエッチング
装置を提供することを目的とする。
電流密度や拡がり角等のイオン引き出し条件を、それぞ
れ細かく制御することができるイオンど−ムエッチング
装置を提供することを目的とする。
［実施例の説明コ
以下、図面を用いて本発明の詳細な説明する。
第１図は、本発明の一実施例に係るイオンビームエツチ
ング装置の断面図を示す。なお、同図の装置はカウフマ
ン型であるが、本発明はこれに限ることなくＥＣＲ型等
の他の型の装置にも適用できる。第１図において、１は
イ゛オン源、２はアノード電極、３は直流電源である。
ング装置の断面図を示す。なお、同図の装置はカウフマ
ン型であるが、本発明はこれに限ることなくＥＣＲ型等
の他の型の装置にも適用できる。第１図において、１は
イ゛オン源、２はアノード電極、３は直流電源である。
また、４および５は引き出し電極、７は電極移動装置、
８は電極径！ｌｌ装置制御部、９は被エツチング材であ
るウェハ、１０はウェハホルダである。１１はウェハ９
に照射するイオンビームを示す。
８は電極径！ｌｌ装置制御部、９は被エツチング材であ
るウェハ、１０はウェハホルダである。１１はウェハ９
に照射するイオンビームを示す。
エツチングは、イオン源１でプラズマを発生させ、引き
出し電極４および５によってエツチングイオンを引き出
し、イオンビーム１１としてウェハ９に照射することに
より行なう。ここで、イオンのエネルギーは引き出し電
極４および５に加えられた電圧によって決定される。す
なわち、イオンビームの電流密度はこれらの電極に印加
される電圧により決定される。また、イオンビームの拡
がり角は引き出し電極５の位置によって決定される。
出し電極４および５によってエツチングイオンを引き出
し、イオンビーム１１としてウェハ９に照射することに
より行なう。ここで、イオンのエネルギーは引き出し電
極４および５に加えられた電圧によって決定される。す
なわち、イオンビームの電流密度はこれらの電極に印加
される電圧により決定される。また、イオンビームの拡
がり角は引き出し電極５の位置によって決定される。
この引き出し電極５は、引き出し電極移動装置７により
適当な位置に移動することが可能である。
適当な位置に移動することが可能である。
従って、イオンの電流密度とは独立にイオンビームの拡
がり角を制御することができる。さらに、イオンビーム
角の拡がり角を可変することによって、ウェハ９のエツ
チング表面へ入射するイオンビーム１１の入射角を可変
することができるので、エツチング角も制御することが
できる。
がり角を制御することができる。さらに、イオンビーム
角の拡がり角を可変することによって、ウェハ９のエツ
チング表面へ入射するイオンビーム１１の入射角を可変
することができるので、エツチング角も制御することが
できる。
第２図は、本発明の第二の実施例に係るイオンビームエ
ツチング装置の構成図を示す。なお、第１図と共通また
は対応する部分については同一の符号で示す。第２図に
おいて、６は第３の引き出し電極（アース電ＦＭ＞であ
る。第１図の実施例との相違点は引き出し電極が３つ存
在することである。それに伴い、直流電源３および電極
移動装置７を複数設けている。本実施例においては、移
動することができる引き出し電極が２つあるので、第１
の実施例よりも、より木目細かな制御をすることができ
る。
ツチング装置の構成図を示す。なお、第１図と共通また
は対応する部分については同一の符号で示す。第２図に
おいて、６は第３の引き出し電極（アース電ＦＭ＞であ
る。第１図の実施例との相違点は引き出し電極が３つ存
在することである。それに伴い、直流電源３および電極
移動装置７を複数設けている。本実施例においては、移
動することができる引き出し電極が２つあるので、第１
の実施例よりも、より木目細かな制御をすることができ
る。
［発明の効果］
以上説明したように、本発明によれば、イオン引き出し
電極のイオンビーム照射軸上の位置が可変であるため、
引き出し電極間の間隔を可変することができ、イオン加
速電圧により決定されるイオンビームの電流密度とは独
立にイオンビームの拡がり角を制御することができる。
電極のイオンビーム照射軸上の位置が可変であるため、
引き出し電極間の間隔を可変することができ、イオン加
速電圧により決定されるイオンビームの電流密度とは独
立にイオンビームの拡がり角を制御することができる。
第１図は、本発明の一実施例に係るイオンビームエツチ
ング装置の構成図、 第２図は、３つのイオン引き出し電極を持つイオンビー
ムエツチング装置の構成図である。 １：イオン源、２ニアノード電極、３：直流電源、４．
５．６：引き出し電極、７：電極移動装置、８：電極移
動装置制御部、 ９：被エツチングウェハ、１０：ウェハホルダ、１１：
イオンビーム。
ング装置の構成図、 第２図は、３つのイオン引き出し電極を持つイオンビー
ムエツチング装置の構成図である。 １：イオン源、２ニアノード電極、３：直流電源、４．
５．６：引き出し電極、７：電極移動装置、８：電極移
動装置制御部、 ９：被エツチングウェハ、１０：ウェハホルダ、１１：
イオンビーム。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 イオン源から引き出し電極により引き出したイオンを試
料に照射してエッチングを行なうイオンビームエッチン
グ装置において、 上記イオン引き出し電極のイオンビーム照射軸方向の位
置を可変する手段を設けたことを特徴とするイオンビー
ムエッチング装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14661685A JPS628522A (ja) | 1985-07-05 | 1985-07-05 | イオンビ−ムエツチング装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14661685A JPS628522A (ja) | 1985-07-05 | 1985-07-05 | イオンビ−ムエツチング装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS628522A true JPS628522A (ja) | 1987-01-16 |
Family
ID=15411764
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14661685A Pending JPS628522A (ja) | 1985-07-05 | 1985-07-05 | イオンビ−ムエツチング装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS628522A (ja) |
-
1985
- 1985-07-05 JP JP14661685A patent/JPS628522A/ja active Pending
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