JPS6285419A - 還元再酸化型半導体磁器コンデンサ - Google Patents
還元再酸化型半導体磁器コンデンサInfo
- Publication number
- JPS6285419A JPS6285419A JP22562685A JP22562685A JPS6285419A JP S6285419 A JPS6285419 A JP S6285419A JP 22562685 A JP22562685 A JP 22562685A JP 22562685 A JP22562685 A JP 22562685A JP S6285419 A JPS6285419 A JP S6285419A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electrode
- reduction
- type semiconductor
- reoxidation
- internal
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- Pending
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- Ceramic Capacitors (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
この発明は還元再酸化型半導体磁器コンデンサに関する
。
。
(従来技術)
この発明の興味ある従来の還元再酸化型半導体磁器コン
デンサの一例が、たとえば特開昭57−144116号
に開示されている。第5図に示す従来の還元再酸化型半
導体磁器コンデンサ1は、板状の還元再酸化型半導体磁
器ユニット2を含み、還元再酸化型半導体磁器ユニット
2は、その一端面で露出する半導体部分2aとその両生
面および他端面で露出する再酸化層2bとを含む。さら
に、還元再酸化型半導体磁器ユニット2の半導体部分2
aの表面には、第1の電極3が形成され、さらに、再酸
化層2bの表面には、第2の電極4が形成される。そし
て、第1の電極3および第2の電極4間に静電容量が形
成される。この還元再酸化型半導体磁器コンデンサ1で
は、その等価回路を第6図に示すように、その還元再酸
化型半導体磁器ユニット2の再酸化層2bによる容量C
sの2倍の容量のコンデンサが得られ、大容量化が期待
できる。
デンサの一例が、たとえば特開昭57−144116号
に開示されている。第5図に示す従来の還元再酸化型半
導体磁器コンデンサ1は、板状の還元再酸化型半導体磁
器ユニット2を含み、還元再酸化型半導体磁器ユニット
2は、その一端面で露出する半導体部分2aとその両生
面および他端面で露出する再酸化層2bとを含む。さら
に、還元再酸化型半導体磁器ユニット2の半導体部分2
aの表面には、第1の電極3が形成され、さらに、再酸
化層2bの表面には、第2の電極4が形成される。そし
て、第1の電極3および第2の電極4間に静電容量が形
成される。この還元再酸化型半導体磁器コンデンサ1で
は、その等価回路を第6図に示すように、その還元再酸
化型半導体磁器ユニット2の再酸化層2bによる容量C
sの2倍の容量のコンデンサが得られ、大容量化が期待
できる。
(発明が解決しようとする問題点)
しかしながら、このような従来の還元再酸化型半導体磁
器コンデンサでは、還元再酸化型半導体ユニットの半導
体部分による抵抗すなわち等価直副抵抗が大きいため、
その高周波特性が劣るだけでなく、設計、51算通りの
大容置が得られない。
器コンデンサでは、還元再酸化型半導体ユニットの半導
体部分による抵抗すなわち等価直副抵抗が大きいため、
その高周波特性が劣るだけでなく、設計、51算通りの
大容置が得られない。
それゆえに、この発明の主たる目的は、小型で大容量の
還元再酸化型半導体磁器コンデンサを1に出することで
ある。
還元再酸化型半導体磁器コンデンサを1に出することで
ある。
(問題点を解決するための手段)
この発明は、半導体部分および表面に露出する再酸化層
を有する還元再酸化型半導体磁器ユニットと、前記半導
体部分の表面に形成される少なくとも2つの電極とを含
む還元再酸化型半導体磁気コンデンサにおいて、前記ユ
ニットの内部半導体部分に形成されかつ前記電極の1つ
に接続される内部電極を含むことを特徴とする、還元再
酸化型半導体磁器コンデンサである。
を有する還元再酸化型半導体磁器ユニットと、前記半導
体部分の表面に形成される少なくとも2つの電極とを含
む還元再酸化型半導体磁気コンデンサにおいて、前記ユ
ニットの内部半導体部分に形成されかつ前記電極の1つ
に接続される内部電極を含むことを特徴とする、還元再
酸化型半導体磁器コンデンサである。
(作用)
内部電極が還元再酸化型半導体ユニットの半導体部分内
に形成されているので、その内部抵抗と容量とが内部電
極および第2の電極間に並列接続された形となる。さら
に、内部電極は前記第2の電極とは別の第1の電極に接
続されているので、第1の電極および第2の電極間で並
列接続された内部抵抗と容量とが取り出される。
に形成されているので、その内部抵抗と容量とが内部電
極および第2の電極間に並列接続された形となる。さら
に、内部電極は前記第2の電極とは別の第1の電極に接
続されているので、第1の電極および第2の電極間で並
列接続された内部抵抗と容量とが取り出される。
(発明の効果)
この発明によれば、内部抵抗が並列接続された形で取り
出されるので、その等価直列抵抗を小さくできる。その
ため、高周波特性の劣化を抑制でき、計算通りの容量を
得ることができる。しかも、コンデンサを形成すべき電
極の対向面積が大きくなるので、小型大容量の還元再酸
化型半導体磁器コンデンサが得られる。
出されるので、その等価直列抵抗を小さくできる。その
ため、高周波特性の劣化を抑制でき、計算通りの容量を
得ることができる。しかも、コンデンサを形成すべき電
極の対向面積が大きくなるので、小型大容量の還元再酸
化型半導体磁器コンデンサが得られる。
この発明の上述の目的、その他の目的、特徴および利点
は、図面を参照して行う以下の実施例の詳細な説明から
一層明らかとなる・う。
は、図面を参照して行う以下の実施例の詳細な説明から
一層明らかとなる・う。
(実施例)
第1図はこの発明の一実施例を示す断面図である。この
還元再酸化型半導体磁器コンデンサIOは、板状の還元
再酸化型半導体磁器ユニット12を含む。この還元再酸
化型半導体磁器ユニット12は、半導体部分12aおよ
び半導体部分12aの全周を被覆する再酸化層12bを
含み、半導体部分12aは露出することなく、再酸化層
+2bはその両生面および両端面で露出されている。な
お、この再酸化層12bは、コンデンサを形成するため
に必要な誘電率を有する。
還元再酸化型半導体磁器コンデンサIOは、板状の還元
再酸化型半導体磁器ユニット12を含む。この還元再酸
化型半導体磁器ユニット12は、半導体部分12aおよ
び半導体部分12aの全周を被覆する再酸化層12bを
含み、半導体部分12aは露出することなく、再酸化層
+2bはその両生面および両端面で露出されている。な
お、この再酸化層12bは、コンデンサを形成するため
に必要な誘電率を有する。
さらに、第1の電極14が、還元再酸化型半導体磁器ユ
ニット12の再酸化層12bの表面に形成される。この
場合、第1の電極14は、ユニット12の一端部分の表
面に形成される。
ニット12の再酸化層12bの表面に形成される。この
場合、第1の電極14は、ユニット12の一端部分の表
面に形成される。
一方、第2の電極16が、第1の電極14から間隔を隔
てて、再酸化層!2bの表面に形成される。
てて、再酸化層!2bの表面に形成される。
また、還元再酸化型半導体磁器ユニット12の半導体部
分12aの内部には、内部電極18が形成され、この内
部電極18の一端は、第1の電極14に接続される。
分12aの内部には、内部電極18が形成され、この内
部電極18の一端は、第1の電極14に接続される。
これによって、第1の電極14および内部電極18間に
は、還元再酸化型半導体磁器ユニット12の内部抵抗と
容量とが並列接続された形となる。
は、還元再酸化型半導体磁器ユニット12の内部抵抗と
容量とが並列接続された形となる。
さらに、その並列接続された内部抵抗と容量とが、第1
の電極14および第2の電極16間で取り出される。
の電極14および第2の電極16間で取り出される。
したがって、この還元再酸化型半導体磁器コンデンサ1
0では、第5図に示す従来例に比べて、内部抵抗が並列
に接続された形となり、その等価直列抵抗を小さくでき
、その結果、その高周波特性の劣化を少なくでき計算通
りの容量のものが得られる。しかも、従来例に比べて、
コンデンサを形成すべき電極の対向面積が大きくなるの
で、大容量となる。
0では、第5図に示す従来例に比べて、内部抵抗が並列
に接続された形となり、その等価直列抵抗を小さくでき
、その結果、その高周波特性の劣化を少なくでき計算通
りの容量のものが得られる。しかも、従来例に比べて、
コンデンサを形成すべき電極の対向面積が大きくなるの
で、大容量となる。
」■
まず、BaTiO387モル%、BaZrO313モル
%の組成比率からなる原料で、還元再酸化型半導体磁器
ユニット12の材料となる肉厚500μm、たて7mm
、よこ9mmの大きさのセラミックグリーンシートを、
2枚形成した。
%の組成比率からなる原料で、還元再酸化型半導体磁器
ユニット12の材料となる肉厚500μm、たて7mm
、よこ9mmの大きさのセラミックグリーンシートを、
2枚形成した。
そして、一方のセラミックグリーンシートの主表面中央
に、内部電極18の材料となるパラジウムなどの高融点
金属材料を主体とする電極ペーストを、たて6mm、よ
こ8mmの大きさで印刷した。
に、内部電極18の材料となるパラジウムなどの高融点
金属材料を主体とする電極ペーストを、たて6mm、よ
こ8mmの大きさで印刷した。
それから、電極ペーストの印刷面が内側になるように、
2枚のセラミックグリーンシー1・を積み重ねて、80
℃、 20 t /cJで圧着した。
2枚のセラミックグリーンシー1・を積み重ねて、80
℃、 20 t /cJで圧着した。
さらに、その圧着物の一端部を切断して、その一端から
電極ペーストを露出させ、1350℃で2時間焼成した
。
電極ペーストを露出させ、1350℃で2時間焼成した
。
次に、その焼成物を、水素15容量%、窒素85容量%
の還元雰囲気中で、1100℃で1時間還元熱処理して
半導体化し、半導体部分12aを形成した。
の還元雰囲気中で、1100℃で1時間還元熱処理して
半導体化し、半導体部分12aを形成した。
ついで、900℃の空気中で1時間熱処理して半導体部
分12aの表面に再酸化層12bを形成し、還元再酸化
型半導体磁器ユニット12を形成した。
分12aの表面に再酸化層12bを形成し、還元再酸化
型半導体磁器ユニット12を形成した。
そして、還元再酸化型半導体磁器ユニット12の表面に
、第1の電極I4および第2の電JK16の材料となる
たとえば銀などの電極ペーストを、塗布して焼付けた。
、第1の電極I4および第2の電JK16の材料となる
たとえば銀などの電極ペーストを、塗布して焼付けた。
なお、この場合、ユニソ1−12内の電極ペーストが内
部電極】8として形成され、第1の電極14はこの内部
電極18に接続される。
部電極】8として形成され、第1の電極14はこの内部
電極18に接続される。
この還元再酸化型半導体磁器コンデンサ10は、第2図
に示すように、たて5.3m■、よこ6.51、厚さ0
.75m5の寸法で形成された。また、この還元再酸化
型半導体磁器コンデンサ10では、第1の電極14がそ
の一端から中央に向けて0゜511+の寸法で形成され
、第2の電極16が第1の電極I4から0.8mmのギ
ャップを隔てて形成され、さらに、内部電極18がたて
4.61.よこ5゜21A■の寸法で形成された。
に示すように、たて5.3m■、よこ6.51、厚さ0
.75m5の寸法で形成された。また、この還元再酸化
型半導体磁器コンデンサ10では、第1の電極14がそ
の一端から中央に向けて0゜511+の寸法で形成され
、第2の電極16が第1の電極I4から0.8mmのギ
ャップを隔てて形成され、さらに、内部電極18がたて
4.61.よこ5゜21A■の寸法で形成された。
この還元再酸化型半導体磁器コンデンサ10の電極14
および第2の電極16間の静電容量を測定したところ、
その容量は300nFであった。
および第2の電極16間の静電容量を測定したところ、
その容量は300nFであった。
これは、この実施例と同じ大きさで内部電極のない従来
の還元再酸化型半導体磁器コンデンサに比べて、2〜4
倍の容量が得られたことになる。また、その等個直列抵
抗は、従来のものに比べて、小さかった。
の還元再酸化型半導体磁器コンデンサに比べて、2〜4
倍の容量が得られたことになる。また、その等個直列抵
抗は、従来のものに比べて、小さかった。
なお、上述の実験例では、第1の電極14を非オーム性
電極で形成し、内部電極18は高融点金属材料を主体と
する電極ペーストで形成したが、この発明では、第1の
電極14をたとえばアルミニウムなどを主体とする電極
ペーストを焼き付けたオーム性焼付電極で形成してもよ
いし、内部電極18を溶融金属を注入して形成してもよ
い。
電極で形成し、内部電極18は高融点金属材料を主体と
する電極ペーストで形成したが、この発明では、第1の
電極14をたとえばアルミニウムなどを主体とする電極
ペーストを焼き付けたオーム性焼付電極で形成してもよ
いし、内部電極18を溶融金属を注入して形成してもよ
い。
また、第4図に示すように、複数個積層した積層型とし
て、大容量化を図ってもよい。
て、大容量化を図ってもよい。
さらに、還元再酸化型半導体磁器ユニットの形状や電極
の形状を任意に変更してもよい。
の形状を任意に変更してもよい。
第1図はこの発明の一実施例を示す断面図である。
第2図はこの発明の実験例を示す平面図である。
第3図は第1図実施例の変形例を示す断面図である。
第4図は、第1図実施例のさらに別の変形例を示す断面
図である。 第5図は従来の還元再酸化型半導体磁器コンデンサを示
す断面図である。 第6図は第5図に示す従来例の等価回路図である。 図において、10は還元再酸化型半導体磁器コンデンサ
、12は還元再酸化型半導体磁器ユニット、12aは半
導体部分、12bは再酸化層、14は第1の電極、16
は第2の電極、18は内部電極を示す。 特許出願人 株式会社 村田製作所 代理人 弁理士 岡 1) 全 啓 (ばか1名)
図である。 第5図は従来の還元再酸化型半導体磁器コンデンサを示
す断面図である。 第6図は第5図に示す従来例の等価回路図である。 図において、10は還元再酸化型半導体磁器コンデンサ
、12は還元再酸化型半導体磁器ユニット、12aは半
導体部分、12bは再酸化層、14は第1の電極、16
は第2の電極、18は内部電極を示す。 特許出願人 株式会社 村田製作所 代理人 弁理士 岡 1) 全 啓 (ばか1名)
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 半導体部分および表面に露出する再酸化層を有する還
元再酸化型半導体磁器ユニットと、前記半導体部分の表
面に形成される少なくとも2つの電極とを含む還元再酸
化型半導体磁気コンデンサにおいて、 前記ユニットの内部半導体部分に形成されかつ前記電極
の1つに接続される内部電極を含むことを特徴とする、
還元再酸化型半導体磁器コンデンサ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22562685A JPS6285419A (ja) | 1985-10-09 | 1985-10-09 | 還元再酸化型半導体磁器コンデンサ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22562685A JPS6285419A (ja) | 1985-10-09 | 1985-10-09 | 還元再酸化型半導体磁器コンデンサ |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6285419A true JPS6285419A (ja) | 1987-04-18 |
Family
ID=16832254
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP22562685A Pending JPS6285419A (ja) | 1985-10-09 | 1985-10-09 | 還元再酸化型半導体磁器コンデンサ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6285419A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009252790A (ja) * | 2008-04-01 | 2009-10-29 | Seiko Epson Corp | 圧電材料および圧電素子 |
| JP2009252789A (ja) * | 2008-04-01 | 2009-10-29 | Seiko Epson Corp | 圧電材料および圧電素子 |
-
1985
- 1985-10-09 JP JP22562685A patent/JPS6285419A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009252790A (ja) * | 2008-04-01 | 2009-10-29 | Seiko Epson Corp | 圧電材料および圧電素子 |
| JP2009252789A (ja) * | 2008-04-01 | 2009-10-29 | Seiko Epson Corp | 圧電材料および圧電素子 |
| US8102100B2 (en) * | 2008-04-01 | 2012-01-24 | Seiko Epson Corporation | Piezoelectric material and piezoelectric element |
| US8395302B2 (en) | 2008-04-01 | 2013-03-12 | Seiko Epson Corporation | Piezoelectric material and piezoelectric element |
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