JPS628696Y2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPS628696Y2 JPS628696Y2 JP1981005336U JP533681U JPS628696Y2 JP S628696 Y2 JPS628696 Y2 JP S628696Y2 JP 1981005336 U JP1981005336 U JP 1981005336U JP 533681 U JP533681 U JP 533681U JP S628696 Y2 JPS628696 Y2 JP S628696Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- valve body
- valve
- fluid
- isolation
- flow rate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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- Lift Valve (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
この考案は流量調節弁に関するもので、特に、
流量調節弁の弁体の改良に関するものである。
流量調節弁の弁体の改良に関するものである。
一般に公知の流量調節弁は第１図に示すよう
に、弁箱体１の入口側と出口側との間に設けた弁
座２に弁体３を押圧して流体をしや断し、ボンネ
ツト４の上部に取付けた図示していない駆動装置
によつて弁棒５を介して弁体３を昇降し、流量を
調節する構造である。
に、弁箱体１の入口側と出口側との間に設けた弁
座２に弁体３を押圧して流体をしや断し、ボンネ
ツト４の上部に取付けた図示していない駆動装置
によつて弁棒５を介して弁体３を昇降し、流量を
調節する構造である。
第１図において弁の入口圧力P1が高い場合、弁
体３を微少に開き流量を調節する際に、流体は矢
印ａで示すように弁体３の斜線に示すシール面Ａ
に直面して衝突するように弁体３と弁座２との間
隙より噴出するが、高速度のジエツト噴流とな
り、キヤビテー（気泡）を発生し、キヤビテーは
シール面Ａに衝突した瞬間に崩壊しシール面Ａに
キヤビテーシヨンエロージヨンの損傷を与えると
共に、キヤビテーの崩壊時にキヤビテーシヨン騒
音を生じる欠点があつた。これ等の欠点は流体の
入口圧力P1と出口圧力P6との差が大きければ大き
い程大となつている。
体３を微少に開き流量を調節する際に、流体は矢
印ａで示すように弁体３の斜線に示すシール面Ａ
に直面して衝突するように弁体３と弁座２との間
隙より噴出するが、高速度のジエツト噴流とな
り、キヤビテー（気泡）を発生し、キヤビテーは
シール面Ａに衝突した瞬間に崩壊しシール面Ａに
キヤビテーシヨンエロージヨンの損傷を与えると
共に、キヤビテーの崩壊時にキヤビテーシヨン騒
音を生じる欠点があつた。これ等の欠点は流体の
入口圧力P1と出口圧力P6との差が大きければ大き
い程大となつている。
この対策として弁の入口側或は出口側に、多数
の孔を穿孔した多孔板の抵抗体を取り付けて、弁
入口側と出口側の圧力差を小さくすることによつ
てジエツト噴流の流速を減速する方法や、流体を
複雑な通路に導き、通路内で流体の流速を減速す
る方法が計られている。しかしこの様な方法の場
合、弁体３の開度を大きくして流量を多く流す必
要を生じた場合、多孔板の抵抗或は通路の抵抗に
よつて流量調節範囲に制限を受ける欠点があつ
た。弁開度を大きくして流量が多くなると、弁の
入口圧力P1と出口圧力P6の差が小さくなり、弁体
に損傷を与えなくなるので抵抗体は無い方が好ま
しい。この考案は、弁を微少開度開いた時に、特
に高差圧状態での流量調節時に弁体のシール面の
損傷を防止することを目的とし、弁体に内蔵され
た隔離室に流体を導き、隔離室によつて減圧され
た流体を弁体３と弁座２との間の通路に導き、減
速された流体を流出させる事によつて、弁体及び
その周辺の部材に損傷を与える事がなくて小流量
の調節を可能とし、又大流量を流す場合には第１
図に示す一般に公知の流量調節弁と同じ機能を発
揮することのできる流量調節弁を特徴としてい
る。
の孔を穿孔した多孔板の抵抗体を取り付けて、弁
入口側と出口側の圧力差を小さくすることによつ
てジエツト噴流の流速を減速する方法や、流体を
複雑な通路に導き、通路内で流体の流速を減速す
る方法が計られている。しかしこの様な方法の場
合、弁体３の開度を大きくして流量を多く流す必
要を生じた場合、多孔板の抵抗或は通路の抵抗に
よつて流量調節範囲に制限を受ける欠点があつ
た。弁開度を大きくして流量が多くなると、弁の
入口圧力P1と出口圧力P6の差が小さくなり、弁体
に損傷を与えなくなるので抵抗体は無い方が好ま
しい。この考案は、弁を微少開度開いた時に、特
に高差圧状態での流量調節時に弁体のシール面の
損傷を防止することを目的とし、弁体に内蔵され
た隔離室に流体を導き、隔離室によつて減圧され
た流体を弁体３と弁座２との間の通路に導き、減
速された流体を流出させる事によつて、弁体及び
その周辺の部材に損傷を与える事がなくて小流量
の調節を可能とし、又大流量を流す場合には第１
図に示す一般に公知の流量調節弁と同じ機能を発
揮することのできる流量調節弁を特徴としてい
る。
以下に、図示する実施例に関してこの考案を説
明する。第２図はこの考案の流量調節弁の一実施
例を示し、第１図の円部分の拡大断面図で、弁
体を微少開度に開いた状態を示している。図示の
ように、弁体３内に隔離室を形成するために、椀
状の分離弁体６と円筒状の壁を有する隔離リング
７，８が設けられ、分離弁体６は弁体３から弁入
口側に向つて延長するねじ棒９の先端（図で下
端）にねじ付けられて弁体３の主部との間に隔離
室１０を形成し、この隔離室内において、隔離リ
ング７，８がその中心をねじ棒に支持するとによ
つて弁体に固定されて、隔離リングはその円筒状
の壁で隔離室１０内を多数の小室に仕切つてい
る。
明する。第２図はこの考案の流量調節弁の一実施
例を示し、第１図の円部分の拡大断面図で、弁
体を微少開度に開いた状態を示している。図示の
ように、弁体３内に隔離室を形成するために、椀
状の分離弁体６と円筒状の壁を有する隔離リング
７，８が設けられ、分離弁体６は弁体３から弁入
口側に向つて延長するねじ棒９の先端（図で下
端）にねじ付けられて弁体３の主部との間に隔離
室１０を形成し、この隔離室内において、隔離リ
ング７，８がその中心をねじ棒に支持するとによ
つて弁体に固定されて、隔離リングはその円筒状
の壁で隔離室１０内を多数の小室に仕切つてい
る。
分離弁体及び隔離リングには隔離室内及び外へ
流体の通過を許す小流路すなわち孔及び隙間が設
けられている。図示例では、分離弁体６に入口側
と隔離室１０内とを連通する小孔１１、隔離リン
グ７の下端縁と分離弁体６との間の隙間１２、隔
離リング７に小孔１３、隔離リング７と隔離リン
グ８の下端縁との間の隙間１４が設けられて、弁
箱体１の入口側から弁座２と弁体３との間の間隙
１５へ流体の通過を許すようになつている。
流体の通過を許す小流路すなわち孔及び隙間が設
けられている。図示例では、分離弁体６に入口側
と隔離室１０内とを連通する小孔１１、隔離リン
グ７の下端縁と分離弁体６との間の隙間１２、隔
離リング７に小孔１３、隔離リング７と隔離リン
グ８の下端縁との間の隙間１４が設けられて、弁
箱体１の入口側から弁座２と弁体３との間の間隙
１５へ流体の通過を許すようになつている。
これらの孔の大きさ、個数並びに隙間の寸法
H1，H2等は弁の入口圧力流量の調節範囲によつ
て決定される。
H1，H2等は弁の入口圧力流量の調節範囲によつ
て決定される。
作用を説明すると、入口圧力P1の流体は分離弁
体６に穿孔された小孔１１を通過する際に流体抵
抗によつて圧力損失を生じ、圧力P2に減圧され
る。更に大きさH1の隙間１２を通過した流体も
同様に圧力がP3に低下する。この様に流体が通路
を流れて隔離室を移動する毎に圧力はP4，P5と次
第に減圧され、弁体３と弁座２との隙間１５を通
過する流体は入口圧力P1より低下した低い圧力P5
となつて流出することになり、流体の流速は減速
される。第２図に示すような微少開度の時、減
圧、減速された流れはシール面Ａに直面して衝突
することなく、シール面Ａの斜面に沿つて隙間１
５を流れ、キヤビテーシヨン損傷を防止する。な
お、第２図に示す矢印Ｃの流体はＬ寸法の直線環
状部Ｂを流れ、シール面Ａに直面して衝突する方
向に流れるが、弁座２と分離弁体６の環状部隙間
は加工公差範囲の微少隙間であり、流体の通過面
積は少なく、隙間１５を流れる流量に比較して矢
印Ｃの流量は微少のため、矢印Ｃの流体は隙間１
５の流体によつて流れ方向が変更されシール面に
衝突することはない。このようにしてシール面の
損傷は防止され、弁体に損傷を与える事なく、小
流量の調節が可能である。
体６に穿孔された小孔１１を通過する際に流体抵
抗によつて圧力損失を生じ、圧力P2に減圧され
る。更に大きさH1の隙間１２を通過した流体も
同様に圧力がP3に低下する。この様に流体が通路
を流れて隔離室を移動する毎に圧力はP4，P5と次
第に減圧され、弁体３と弁座２との隙間１５を通
過する流体は入口圧力P1より低下した低い圧力P5
となつて流出することになり、流体の流速は減速
される。第２図に示すような微少開度の時、減
圧、減速された流れはシール面Ａに直面して衝突
することなく、シール面Ａの斜面に沿つて隙間１
５を流れ、キヤビテーシヨン損傷を防止する。な
お、第２図に示す矢印Ｃの流体はＬ寸法の直線環
状部Ｂを流れ、シール面Ａに直面して衝突する方
向に流れるが、弁座２と分離弁体６の環状部隙間
は加工公差範囲の微少隙間であり、流体の通過面
積は少なく、隙間１５を流れる流量に比較して矢
印Ｃの流量は微少のため、矢印Ｃの流体は隙間１
５の流体によつて流れ方向が変更されシール面に
衝突することはない。このようにしてシール面の
損傷は防止され、弁体に損傷を与える事なく、小
流量の調節が可能である。
尚、一定量の小流量を流す場合、第１図に示す
一般に公知の弁とその考案による弁の弁開度を比
較した場合、この考案による弁は入口圧力P1より
低い圧力P5の流体を流す為に一般に公知の弁より
弁開度は大きく開かれており、弁座を通過する流
体の流速は大きく減速され弁体及びその周辺の部
材に損傷を与えない。第３図は第２図に示す弁開
度より開度を大きくした場合の流体の流れを示し
ている。第３図に示すように分離弁体６と隔離リ
ング８と間の隙間１７を通る隔離室を通過したｂ
の流量より弁座２と分離弁体６との間の隙間１６
を通るａの流量が大であり、この割合は弁の開度
が開く程大きくなり、流量が多くなれば一般に公
知の弁と同様な流量調節を行なうことが出来る。
一般に公知の弁とその考案による弁の弁開度を比
較した場合、この考案による弁は入口圧力P1より
低い圧力P5の流体を流す為に一般に公知の弁より
弁開度は大きく開かれており、弁座を通過する流
体の流速は大きく減速され弁体及びその周辺の部
材に損傷を与えない。第３図は第２図に示す弁開
度より開度を大きくした場合の流体の流れを示し
ている。第３図に示すように分離弁体６と隔離リ
ング８と間の隙間１７を通る隔離室を通過したｂ
の流量より弁座２と分離弁体６との間の隙間１６
を通るａの流量が大であり、この割合は弁の開度
が開く程大きくなり、流量が多くなれば一般に公
知の弁と同様な流量調節を行なうことが出来る。
第４図は隔離リング８の変形８ａを示し、隔離
リング８ａは側壁を有しているので小孔１７ａが
隙間１７の代りを、また隔離リングの小孔１２ａ
が第２図の場合の隙間１２の代りをしている。作
用効果は第２及び３図のものと変らない。一般に
流量調整弁は流量調節のみを主目的とし、弁閉鎖
時のシール性能を要求しない場合と、流量調節及
び弁閉鎖時のシール性能を共に要求する場合とが
あり、この考案の流量調節弁は後者に属し、シー
ル性の保持のためシール面の損傷があつてはなら
ない。この考案は公知の多孔板、オリフイスの効
果を分離弁体によつて最大限に利用し、シール面
のキヤビテーシヨン損傷を防止するものであり、
シール性保持の実用上効果が顕著である。
リング８ａは側壁を有しているので小孔１７ａが
隙間１７の代りを、また隔離リングの小孔１２ａ
が第２図の場合の隙間１２の代りをしている。作
用効果は第２及び３図のものと変らない。一般に
流量調整弁は流量調節のみを主目的とし、弁閉鎖
時のシール性能を要求しない場合と、流量調節及
び弁閉鎖時のシール性能を共に要求する場合とが
あり、この考案の流量調節弁は後者に属し、シー
ル性の保持のためシール面の損傷があつてはなら
ない。この考案は公知の多孔板、オリフイスの効
果を分離弁体によつて最大限に利用し、シール面
のキヤビテーシヨン損傷を防止するものであり、
シール性保持の実用上効果が顕著である。
第１図は一般に公知の流量調節弁を微少開度開
いた時の流体の流れを示す縦断面図、第２図はこ
の考案の弁体を微少開度開いた時に弁体内を流れ
る流体の流路を示す第１図の円内に相当する部
分の拡大部分断面図、第３図は第２図の弁体開度
を大きく開いた場合の流体の流れを示す部分断面
図、第４図は隔離リングの他の実施例の第２図と
同様の拡大部分断面図である。 １……弁箱体、２……弁座、３……弁体、４…
…ボンネツト、５……弁棒、６……分離弁体、
７，８，８ａ……隔離リング、９……ねじ棒、１
０……隔離室、１１，１２ａ，１３……小孔、１
２，１４……間隙、１５……弁体と弁座との間の
隙間、１６……分離弁体と弁座との間の隙間、１
７……隔離リングと分離弁体との間の隙間。
いた時の流体の流れを示す縦断面図、第２図はこ
の考案の弁体を微少開度開いた時に弁体内を流れ
る流体の流路を示す第１図の円内に相当する部
分の拡大部分断面図、第３図は第２図の弁体開度
を大きく開いた場合の流体の流れを示す部分断面
図、第４図は隔離リングの他の実施例の第２図と
同様の拡大部分断面図である。 １……弁箱体、２……弁座、３……弁体、４…
…ボンネツト、５……弁棒、６……分離弁体、
７，８，８ａ……隔離リング、９……ねじ棒、１
０……隔離室、１１，１２ａ，１３……小孔、１
２，１４……間隙、１５……弁体と弁座との間の
隙間、１６……分離弁体と弁座との間の隙間、１
７……隔離リングと分離弁体との間の隙間。
Claims (1)
- 弁体と別体に形成されて弁体の入口側端に開放
端をほぼ接するように、かつ弁体が微少開度の間
は前記開放端外周の直線環状部が弁座口内周に接
するように、弁棒先端のねじ棒に固着され内部に
隔離室を形成する椀状の分離弁体と、円筒状の壁
を有し前記弁体と前記分離弁体との間で前記ねじ
棒に固着されて前記壁によつて前記隔離室内を多
数の小室に区切る隔離リングと、前記分離弁体及
び前記隔離リングに設けられ前記多数の小室間及
び前記隔離室内と外部とを連通する小流路とを備
える流量調節弁。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1981005336U JPS628696Y2 (ja) | 1981-01-20 | 1981-01-20 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1981005336U JPS628696Y2 (ja) | 1981-01-20 | 1981-01-20 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS57119167U JPS57119167U (ja) | 1982-07-23 |
| JPS628696Y2 true JPS628696Y2 (ja) | 1987-02-28 |
Family
ID=29803715
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1981005336U Expired JPS628696Y2 (ja) | 1981-01-20 | 1981-01-20 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS628696Y2 (ja) |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5514128U (ja) * | 1978-07-12 | 1980-01-29 |
-
1981
- 1981-01-20 JP JP1981005336U patent/JPS628696Y2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS57119167U (ja) | 1982-07-23 |
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