JPS629278A - 超伝導シ−ルド体 - Google Patents

超伝導シ−ルド体

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Publication number
JPS629278A
JPS629278A JP14897685A JP14897685A JPS629278A JP S629278 A JPS629278 A JP S629278A JP 14897685 A JP14897685 A JP 14897685A JP 14897685 A JP14897685 A JP 14897685A JP S629278 A JPS629278 A JP S629278A
Authority
JP
Japan
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layer
super conductive
resin
conductive body
epoxy resin
Prior art date
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Pending
Application number
JP14897685A
Other languages
English (en)
Inventor
Yasuharu Yamada
康晴 山田
Mikio Takagi
高木 幹雄
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shimadzu Corp
Original Assignee
Shimadzu Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Shimadzu Corp filed Critical Shimadzu Corp
Priority to JP14897685A priority Critical patent/JPS629278A/ja
Publication of JPS629278A publication Critical patent/JPS629278A/ja
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) この発明は、5QLJID(超伝導量子干渉装置)磁力
計などに使用される超伝導シールド体に関する。
(先行技術とその問題点) SQLJIDii力計によって微小磁束を測定する場合
、たとえばモノボール(磁気単極子)の検知を行なおう
とする場合などにおいては、周辺機器からの誘導電磁波
や地磁気の影響を阻止して精密な測定を行なわねばなら
ない関係上、なんらかの手段による磁気シールドを必要
とする。このような目的に使用される磁気シールド体と
しては、パーマロイなどの高透磁率合金を使用したもの
や、超伝導体を使用した超伝導シールド体などがある。
このうち、前者では、液体ヘリウムを充填した極低温容
器の周辺に、高透磁率合金によって形成された大型の磁
気シールド体を設けねばならない関係上、材料費や加工
費が相当に高価となる。また、そのようにして多額の費
用をかけても、磁気シールド効果はあまり大きくはない
という欠点がある。
一方、後者では、液体ヘリウム中に、鉛(Pb)やニオ
ブ(Nb )などの超伝導体によって形成された超伝導
シールド体を浸し、それによってピックアップコイルな
どを包囲している。ところが、pbなとの第1種超伝導
体では、磁界磁1i(Hc)が大きく、高磁場に至るま
でマイスナー状態が維持されるために高いシールド効果
が得られるという利点がある反面、機械的に軟弱である
ために取扱いがむづかしく、長期間にわたって使用する
と傷などによってピンホールが生じてしまうという問題
がある。また、化学的にも不安定であって、酸化その他
の化学的変性を受は易いという欠点がある。
他方、Nbなどの第2種超伝導体を用いた場合には、上
記のような機械的・化学的不安定性はあまり問題になら
ないが、第2種超伝導体の本質上、下部臨界磁場(Hc
l)が小さいために、比較的低い磁場でボーテックスの
侵入があり、このボーテックスの変動によって、シール
ド体内部での磁場に歪みが生じてしまう。また、Nbな
どは材料が高価であって、加工性も悪いという問題もあ
る。
(発明の目的) この発明は、上記のような問題を克服するためになされ
たもので、機械的にも化学的にも安定であって、取扱い
も容易であり、安価で磁気シールド効果の高い超伝導シ
ールド体を提供することを目的とする。
(目的を達成するための手段) 上記の目的を達成するため、この発明にかかる超伝導シ
ールド体は、第1種超伝導体層と樹脂補強層との積層構
造を有するものとして形成されている。
(実施例) 第1図は、この発明の超伝導シールド体を利用すること
のできる装置の一例としての、SQU ID磁力計の基
本的構成を示す図である。同図において、被測定系(図
示せず)からの微小磁束は、Nb 1DNb Ti輪な
どによって形成されたピックアップコイル1と鎖交し、
この微小磁束は、上記ピックアップコイル1とに接続さ
れたインプットコイル2の磁束へと変換される。ジョセ
フソン接合3を有する5QUID素子4は、このインプ
ットコイル2からの磁束の大きさに応じて、そのインダ
クタンスがratm的に変化する。
一方、RF(ラジオ周波数)発振器5からタンク回路6
に対して与えられたRF雷電流、この5QUID素子4
のインダクタンス変化によって変調を受け、その変調波
はRF増幅器7によって増幅された後、検出部8におい
て検出され、それによって被測定系の”磁束が測定され
る。これらのうち、インプットコイル2.5QUID素
子4およびタンク回路6を含む磁気結合系9と、ピック
アップコイル1とは、液体ヘリウムLHe中に浸されて
いる。また、超伝導シールド体10は、ピックアップコ
イル1を包囲するような容器状とされており、以下に示
すような超伝導シールド体として形成される。
第2図は、この発明の一実施例である超伝導シールド体
の構成を部分断面図として示す図である。
同図において、この超伝導シールド体20は、Pbなど
の第1種超伝導体W422の表裏両面に、樹脂補強層と
しての゛エポキシ樹脂層21.23をそれぞれ設けた積
層構造として構成されている。そして、このエポキシ樹
脂層21.23はガラス基布にエポキシ樹脂を含浸させ
たエポキシ板として形成されている。もっとも、樹脂補
強層は、このようなエポキシ樹脂層に限らず、種々のF
RP(繊維強化プラスチック)などを用いて形成するこ
ともできる。
第3図は、上記の構造を有する超伝導シールド体を利用
した筒状シールド体30の部分斜視図である。これは、
111図の磁気結合系9などのシールドに適するように
、中空部31のまわりを上記積層構造で包囲した構造を
有している。
これらの実施例かられかるように、第1種超伝導体層2
2はエポキシ樹脂層21.23によって補強されている
ため、シールド体全体としての機械的強度が大きいばか
りでなく、このエポキシ樹脂層21.23が第11超伝
導体層22を化学的にも保護していることになる。
そして、外部磁場が小さいときには、第1種超伝導体層
22がマイスナー状態を保ち、高い磁気シールド効果を
呈する。もっとも、外部磁場が臨界磁場Hc  (10
’ A/m 〜125G程度)に達すれば常伝導状態へ
と相転移し、シールド効果は消失してしまうが、通常の
外部磁場は数百mQ程度であるため、実用上はほとんど
問題はない。
ところで、周知のように、超伝導シールド体では、極め
て小さな隙間からも外部磁束が侵入するという性質があ
る。このため、この発明に従って超伝導シールド体を形
成する場合においても、第1種超伝導体層相互の接続部
分に隙間が生じないようにすることが重要になってくる
。
第4図はこのような隙間を防止するための処理(端部処
理)の−例を示す図である。そして、同図では、第1種
超伝導体122aとエポキシ樹脂1i21a、23aと
によって構成された積層体40と第1種超伝導体1!2
2bとエポキシ樹脂層21b、23bとによって構成さ
れた積層体41との接続を想定している。この場合には
、第1種超伝導体層22a、22bをそれぞれ積層体4
0゜41の端部から突出させ、それらを互いに密着させ
た状態で、エポキシ樹111121aの外向に沿って折
り返すことによって、隙間の発生を防止することができ
る。このような折り返しを行うことによって、第1種超
伝導体層22a、22bの端部を融着するなどの困難な
処理を行なわずに、端部処理が達成される。
なお、上記実施例では第1種超伝導体層の両面に樹脂補
強層を設けて機械的・化学的な補強・保護を高めている
が、片面だけに設けてもよく、逆に、4層以上の積層構
造としてもよい。
(発明の効果) 以上説明したように、この発明によれば、第1種超伝導
体層と樹脂補強層との積層構造としていることによって
、第1種超伝導体の高いシールド性と経済性に、樹脂補
強層による補強・保護効果が相乗的に加わるため、機械
的にも化学的にも安定であって、取扱いも容易であり、
安価で磁気シールド効果の高い超伝導シールド体を得る
ことができる。
【図面の簡単な説明】
第1図はこの発明の超伝導シールド体を利用することの
できる5QLIID磁力計の基本的構成を示す図、第2
図はこの発明の実施例の部分断面図、第3図はこの発明
の実施例である超伝導シールド体を用いて形成された筒
状シールド体を示す図、第4図は端部処理を例示する図
である。 1・・・ピックアップコイル、4・・・SQU I D
jll子、21.21a、21b、23,23a、23
b・・・エポキシ樹脂層 2.22a、22b・・・ 第1種超伝導体層特許出願
人 株式会社島津製作所 第4rj!J 2b

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)第1種超伝導体層と樹脂補強層との積層構造を有
    する超伝導シールド体。
  2. (2)前期樹脂補強層はエポキシ樹脂層である、特許請
    求の範囲第1項記載の超伝導シールド体。
JP14897685A 1985-07-05 1985-07-05 超伝導シ−ルド体 Pending JPS629278A (ja)

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JP14897685A JPS629278A (ja) 1985-07-05 1985-07-05 超伝導シ−ルド体

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JP14897685A JPS629278A (ja) 1985-07-05 1985-07-05 超伝導シ−ルド体

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JPS629278A true JPS629278A (ja) 1987-01-17

Family

ID=15464889

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JP14897685A Pending JPS629278A (ja) 1985-07-05 1985-07-05 超伝導シ−ルド体

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01128497A (ja) * 1987-11-12 1989-05-22 Mitsubishi Cable Ind Ltd 電気装置
JPH0226296U (ja) * 1988-08-08 1990-02-21
JPH02299295A (ja) * 1989-05-15 1990-12-11 Ngk Insulators Ltd 超電導磁気シールド板

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS4923594A (ja) * 1972-06-23 1974-03-02
JPS56164170A (en) * 1980-05-22 1981-12-17 Seiko Epson Corp Liquid crystal compound

Patent Citations (2)

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