JPS6295128A - 多相向流式反応器装置及びその操作 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は液相をガス状反応剤で処理することからなる接
触反応器操作に関する。特に、本発明は連続向流条件下
触媒多孔質固定床中で多相反応剤を接触させるための技
法に関し、反応器中の起泡を制御するための方法及び操
作を包含する。

［従来の技術・問題点］ 液体反応剤とガス状反応剤の化学反応はそれらの両相間
の緊密な接触を得る点に障害が存在する。

所望の反応が接触反応であり、流動相と固体触媒の接触
が必要である場合には、該反応は更に複雑になる。反応
器中に固体触媒の多孔質固定床をもつ多くの多相反応器
装置が開発された０例えば米国特許第４，１２６，５３
９号［プラー（Ｄｅｒｒ）らコ、同第４．２３５，８４
７号［スコツト（Ｓｃｏｔｔ）］、同第４４，８３，２
７１号［ガーウッド（Ｇａｒｗｏｏｄ）ら］及び同第４
４，９６，５３８号明細書［チェノ（Ｃｈｅｎ）ら］に
示されているように固定床反応器は通常多相が触媒上を
並流的に通過するように配置されている０石油精製工業
において、多相接触反応器装置は液体装入原料、特に留
出油、潤滑油、重質油区分、残さ油等の脱ロウ、水素化
、脱硫、水素化クラッキング、異性化及び他の処理に使
用される。液体−ガス混合物と固体触媒を接触させるた
めの他の既知の技法は米国特許第２．７１７，２０２号
、同第３，１８６，９３５号、同第４，２２１，６５３
号及び同第４，２６９，８０５号明細書に開示されてい
るようなスラリー触媒、沸騰床及び向流式装置を含む。

従来の反応器装置は特定の要求に対しては満足のいくも
のであったが、多くの固定床用途についての効率的な多
相接触を達成することは困難であった。

流不均−分配パターンを最小限にすることができ且つ下
方へ沈降する液相中に分散した上方へ移動するガスの最
適体積割合を提供することができるガス−液体泡を維持
するために制御された流れ条件下で多相反応器を操作す
ることが有利である。

［問題点を解決するための手段〕 従って、本発明は液相反応剤をガス状反応剤で処理する
ための向流式連続接触反応器において、固体触媒の多孔
質固定床をもつ密封型反応器外殻： 多孔質固定床より実質上高い位置に液体流を導入し、且
つ該液体流を重力により多孔質固定床を下方に流下させ
る上部液体挿入口； 密封型反応器外殻から処理した液体を回収する下部液体
排出口； 多孔質固定床より低い位置に設置され、混合相反応帯域
を下方へ流れる液体と向流的に接触するガス状反応剤を
圧力条件下で導入し、それによってガス状反応剤を固体
触媒と緊密に接触する液相に分散するガス挿入口； 密封型反応器外殻の多孔質固定床上からガスを回収する
上部ガス排出口； 多孔質固定床上の起泡帯域に設置され、ガス−液体泡混
合物の泡の位置を検出して泡位置を示す信号表示を発生
する泡位置検出器：及び泡位置検出器と操作可能に接続
されて泡位置信号に応答し、液体流の流れを制御して多
孔質固定床上の泡の位置を調節し、それによって泡状の
液相からの分散したガスの解放を可能とし且つ上部ガス
排出口中に過剰の液体が同伴されるのを防止する流体処
理制御装置を備えてなることを特徴とする液相反応剤を
ガス状反応剤で処理するための向流式連続接触反応器を
提供するにある。

他の実施態様において、本発明は上述の反応器を使用す
ることを特徴とする固体粒子の多孔質固定床をもつ多相
接触反応器中での重質石油装入原料の接触水素化クラッ
キング、接触脱ロウまたは接触脱硫方法を提供するにあ
る。

［作　用〕 反応剤流体類を接触させるための向流式操作は種々の利
点をもつ、単一点ガス流入装置では、反応剤ガスが多孔
質床より低い位置の垂直反応器の下部の反応剤ガス導入
地点から上方へ上昇する場合、反応剤ガスは比較的低い
濃度の反応性液体成分と接触する。ガス流入地点で、反
応剤ガス濃度は最高となる。ガスが上方へ移動すると、
ガス状反応剤が消耗され不活性蒸気及び／または副産物
蒸気の相対濃度が増加する。同様に、処理される液体が
消耗され上昇するガス状相と接触する反応器装置の上端
部で該液体は通常より反応性である。

すなわち、向流２相系の反応剤濃度勾配は反対となる６
代表的な多相反応器装置において、触媒帯域の平均ガス
／液体体積比は操作条件下で約１／４〜４／１である。

反応剤が消耗するためにガスの体積が減少する反応にお
いて、体積比すなわち液体／ガス体積比は液体装入原料
が反応器を下方へ重力降下する場合にｍ著に増加する。

多量の水素を消費する反応においては、触媒床の種々の
高さのところに多数の反応ガス装入用格子を設置するこ
とが望ましい。

通常、任意のある地点での未反応ガスの量は液相の嵩密
度の少なくとも２０％の混合相嵩密度を提供するに充分
な量とすべきである（反応状態で）。

蒸気生成物、断熱性加熱または膨張もまた体積に影響を
及ぼすことがある。

多相反応器装置は均一な分布を達成して操作することが
好都合である。液体流量を余り少なくしすぎると、多孔
質床の触媒表面は液体皮膜で被覆される；しかじ、この
細流型は反応剤泡の所望の分散特性の代わりにガス相が
過度のチャンネリングを生ずる９両反応剤相の流速を強
制的に制御する。泡の形成及び解放は液体粘度、表面張
力及び組成の関数である。泡の位置を検出し且つ制御す
ることによって、反応器の適正な操作を達成することが
できる。

固定触媒床を通過する反応剤流の望ましい均一な流れを
維持するために、液相及びガス状相の充分な流路を設置
しなければならない、連続操作において、反応剤ガス／
液体装入原料比及び触媒に対する反応剤の空間速度を慎
重に考慮しなければならない、触媒の分布及び成形が適
性である場合に固体の多孔質床を通過する均一垂直流を
得ることができる。反応帯域の空隙体積は触媒形状及び
装填技法の関数である。球状固体の緻密充填床は予め設
定した反応器体積に最大量の触媒を装填するために使用
できるが、特に、２相の自流が必要な場合には、この低
空隙率は流体の流れを妨害することがある。触媒床は高
体積空隙率、通常床の１／２以上をもつことが好都合で
ある。０．５〜０．９の空隙率は粗く充填した多葉状押
出成形物または円筒状押出成形物を使用して達成するこ
とができる。ラシッヒリング（ＲａｓｃｈｉｇｒｉｎＦ
ｌ）等のような中空状リングに支持された触媒は液体が
重力により多孔質床を下方に通過することを可能にし、
またガス相は湿潤した触媒と接触する分散気泡を形成し
て稠密な液体中を上昇し、物置移動及び接触現象を増大
する。

触媒の寸法は操作条件及び反応器の構造に依存して本発
明の概念の範囲内で種々変化させることができる。接触
反応帯域の低空間速度すなわち低滞留時間が許容できる
場合、１〜５ＩＩＩｌ＊の平均最大寸法をもつ小さな触
媒を使用することができる。

しかし、特に押出成形物、リング、くら形充填物または
他の接触物質が望ましい場合、例えば０．５〜２ｃＩ１
１のより大きい寸法の触媒を使用することが好ましい。

比較的小さな触媒粒子は無作為に装填して均一性を確実
にすることができ、また比較的大きな支持された触媒は
幾何学模様に積み重ねて最適に床を利用することができ
る。

反応器の形状は連続操作装置の設計に重要な考慮すべき
問題である。反応器の最も簡単な形誓において、垂直円
筒状圧力容器は触媒保持装置を備え且つ向流流体流につ
いて操作可能に接続されている。触媒床の長さ／有効直
径（Ｌ／Ｄ）比的１／１〜２０／１をもつ代表的な垂直
反応器が好適である。１個の床または績み重ねた一連の
床を同−反応器外殻中に保持することができる。均一な
水平断面をもつ反応器を本明細書に開示するが、球形反
応器、テーパ付き容器等のような他の非均−形態を使用
することができる。

［実　施　例］ 本発明の１実施態様を添付図面を用いて説明する。

第１図は液相をガス状反応剤で処理するための自流式連
続接触反応器装置を示すものである。密対型反応器外殻
（１０）は固体触媒の多孔質固定床（１２）をもつ。上
部液体挿入口（１４）は触媒床よりかなり高い位置に液
体流を導入し、該液体流が床中を重力で下方へ流下して
反応器外殻から処理した液体を回収する下部液体排出口
（１６）に向かうように設置されている。ガス挿入口（
２０）は触媒床より低い位置に設置されており、混合相
反応帯域中を下方に流れる液体と向流的に接触するよう
な圧力条件下でガス状反応剤流を導入し、それによって
ガス状反応剤は固体触媒と緊密に接触する液相中に分散
される。ガスは触媒床（１２）の上の反応剤解放帯域（
２２）及び上部ガス排出口（２４）を通過した後、反応
器外殻（１０）から回収される。

泡位置検出器（３０）は触媒床上の泡帯域の中間位置Ｈ
，とＨ２の間に設置されており、ガス−液体泡混合物の
位置を検出して泡位置の信号表示を発生する。流体処理
制御装置（３２）は制御モジュールにより提供され、泡
位置信号に応答し、流体の流れを制御して触媒上の泡位
置を調節し、それによって泡の液相から分散したガスを
解放することができ、また上部ガス排出口からの液体の
過度の同伴を防止する。流体処理制御装置（３２）は液
体排出口バルブ（３４）を備え、泡の位置が上昇した場
合には増加した速度で処理した液体を回収する。

液体及びガス反応剤の装入原料速度は比例的に制御する
ことができ、またさもなければ液体装入バルブ３６及び
／またはガス装入バルブ３８を操作するために制御モジ
ュールを所定の状態に設定することができる。挿入口の
流れの制御は泡の境界線すなわち泡の位置並びに反応剤
の割合を変化させるため使用することができる。

垂直反応器の１部分を示す第２図及び第３図は本発明に
使用する接触反応器をより詳細に記載するものである。

第２図は適宜ストリッピング帯域（１２０）へ装入した
装入原料を導入するための上部液体挿入口（１１４）を
もつ反応器（１１０）の頂部である。潤滑油脱ロウ及び
穏やかな脱硫のような代表的な用途において、予熱した
液体装入原料はストリッピング帯域の上部へ導入され、
触媒床から上昇する生成物ガス流で向流ストリッピング
することにより装入原料は揮発性成分、及び溶解且つ同
伴される汚染物をストリッピングする。ガス流は密封型
反応器の圧力に応答する背圧調整装置（１４０，）を備
えることができる頂部ガス排出口（１２５＞を通過して
反応器から取り出さる。更に、所望であれば、ストリッ
ピングガスを導管（１１８）によりストリッピング帯域
の低部へ導入することができる。ストリッピングガスの
旦は流出する液体装入原料を生成物ガス及び付加旦のガ
スで飽和し、且つ同伴する水、Ｈ２Ｓ及び水蒸気等のよ
うな汚染物の所望の除去を行なうために充分な量である
。ストリッピング帯域の温度及び圧力はほぼ触媒床の望
ましい条件である。装入原料ストリッピングは本発明の
全ての場合において必要なものではないことを理解され
たい。

ストリッピング装置から（ストリッピング装置を使用し
ない場合には装入原料給源から直接）下方へ流れる液体
装入原料は触媒床へ液体を散布する水平分配器（１３０
）を通過する。水平分配器（１３’ｏ）はガス上昇管（
１３２）を備え、ガスを水平分配器を通して上昇させ、
上方へ送る。代表的な水平分配器は更に水平分配器（１
３０）の上部表面から下方の第３図に記載する解放帯域
へ液体流を均一に流すための、寸法をもつ孔すなわちオ
リフィス（１３５）が間隔を置いて設置されている。

第３図は代表的な垂直反応器外殻（２１０）の低部の垂
直断面を示すものである。触媒粒子床（２１２＞は語法
からの触媒の損失を防止する保持装置（２１５）をもつ
触媒支持格子（２１４）により垂直反応器外殻（２１０
＞の中央部分に保持されている。処理した液体は多数の
液体収集管＜２１７）、ブレナム室（２１８）、排出口
導管（２１６）及び液　　　　一体制御バルブ（２３４
）を介して回収される。流れ均等化制限を液体収集管（
２１７）に使用して均等な回収を確実にすることができ
る。反応ガスをガススパージャ−型挿入口（２２０）を
通して触媒床低部へ注入する。この装置は実質上均一な
ガス気泡流を得るために既知の方法のノズルをもつ格子
を使用することができる。触媒床低部へ注入されたガス
は下降液液流中を通って、泡を形成すなわち発泡する。

この泡は液体装入原料の嵩密度の２０〜８０％の嵩密度
（反応条件で）をもつことができ、また通常液相内に分
散したガス気泡をもつ連続液相より実質上なる。触媒粒
子床（触媒床）（２１２）より上の帯域（２２２）で、
上昇するガスは２相泡から解放されてくる。部位置検出
器（すなわち泡境界位置制御装置＞（２３０＞は圧力タ
ップ間の流体の圧力差を測定することによって密度を検
出し、触媒床の頂部以上のＨ、−）１２間の所望の位置
Ｉ（で泡−ガス境界を維持するために反応器低部の液体
排出口バルブ（液体制御バルブ）（２３４）からの液体
流及び／または反応剤ガス挿入口バルブ（２３８）を調
節する。

はっきりとした境界は存在しないことがあり、むしろ嵩
密度の垂直勾配が解放帯域中で支配的であることを理解
されたい。嵩密度のこの勾配を反応器低部からの液体流
を調節するために使用することができる。部位置検出器
（２３０）は解放帯域内の泡−ガス境界の位置を検出す
るための種々の技法のものを使用することができる。垂
直反応器外殻の解放帯域に近接してその上部及び下部に
圧力差測定用タップを設置することが適当であるが、照
射ゲージ（ｒａｄｉａｔｉｏｎ　Ｆｉａｕｇｅ）のよう
な他の検出器も使用できる。

触媒粒子は上昇するガス気泡により容易に移動すること
がない例えば６　ｍｍ（１／　４インヂ）のような寸法
であるべきである。反応器触媒床の頂部及び恐らく中間
点を横切る触媒固定スクリーンを設けることが触媒の移
動を最小限にするために有用である。触媒床間に再分配
手段を備えた多数の触媒床は若干の用途において有用で
ある。同様に所望の泡嵩密度を形成且つ維持するための
機械的装置も有用である。回転式ディスク接触装置のよ
うな装置がこの目的に適合する。

本発明技法は種々の眉間接触反応、特に、加温下での重
質油の水素含有ガスによる処理に適合する。水素を使用
する工業的な操作、特に石油の精製は１０〜５０モル％
またはそれ以上の不純物、通常軒質炭化水素類及び窒素
を含有するりサイクル不純ガスを使用する。上述のよう
な反応剤ガス類は本発明、特に加圧下での高温水素化及
び水添分解に利用することができ且つ有用である。

原油の精留により石油から誘導された潤滑油の精製にお
いて、一連の接触反応器を使用して過酷な水素化処理、
転化反応、及び硫黄及び窒素成分の除去を行なうことが
でき、また１個または２個以上の反応器中で潤滑油装入
原料成分を水素化クラッキング及び異性化することがで
きる。これは種々の反応条件化で異なる触媒と接触させ
る水素化脱ロウ及び／または水素１ヒ（穏やがな水素化
処理）が続いて行なわれる。米国特許第４，２８３，２
７１号明細書にガーウッドらにより開示された３工程潤
滑油精製方法が本発明による自流式処理に適合する。こ
の変形方法を第４図に概略的に記載する。

該変形において、ロウ質潤滑油石油区分を水素反応剤含
有ガス流と向流的に第１工程（過酷な水素化処理、クラ
ッキング等）へ導入する。第１工程からの生成ガスは転
化された硫黄及び／または窒素を含有し、これらの硫黄
及び／または窒素は収着塔で除去された後で、該生成ガ
スは第１工程の低部からの液体と向流接触するために第
２工程の低部へ導入される。第２工程での脱ロウの後、
ガス及び液体流を合併して第３工程の穏やかな水素化処
理反応器を並流降下させる。処理した潤滑油液体生成物
を相分離装置から回収する。（ｌｉ費した水素な排ガス
として回収するか、または浄化して既知の方法でリサイ
クルすることができる。

［発明の効果］ 本発明は以下に記載する利点をもっ： ■触媒と接触する液体の滞留時間が通常の並流式下降流
反応器または同伴上昇流反応器より長い。

■向流パターンは条壁のガスを必要性が余りなく、また
従来の混合相並流の流れ不均一分配特性を軽減する； ■上方へ流れるガス気泡が下方へ移動する液相含有泡を
撹拌するために作用し、それによってガス相、液体相及
び固体（触媒）相間の緊密な接触が促進される。

【図面の簡単な説明】

第１図は固定触媒床、主要な流れ、及び制御部材をもつ
垂直反応器を示す概略図であり、第２図はストリッピン
グ帯域及び分配帯域を示す垂直反応器の頂部垂直断面図
であり、第３図は第２図の頂部分帯域と一線をなす本発
明による向流式触媒床を示す垂直部分断面図であり、第
４図は重質油の全精製操作を示す操作概略図である。図
中＝１０・・・密封型反応器外殻（反応器外殻）、１２
・・・多孔質固定床（触媒床）、１４・・・上部液体挿
入口、１６・・・下部液体排出口、２０・・・ガス挿入
口、２２・・・反応剤解放帯域、２４・・・上部ガス排
出口、３０・・・泡位置検出器、３２・・・液体処理制
御装置、３４・・液体排出口バルブ、３６・・・液体装
入バルブ、３８・・・ガス装入バルブ、１１０・・・反
応器、１１４・・上部液体挿入口、１２０・・・ストリ
ッピング帯域、１２５・・頂部ガス排出口、１３０・・
水平分配皿、１３２・・・ガス上昇管、１３５・・・オ
リフィス（孔〉、１４０・・・背圧調整装置、２１０・
・・垂直反応器外殻、２１２・・触媒粒子床（触媒床）
、２１４・・・触媒支持格子、２１５・・・保持装置、
２１６・・・排出口導管、２１７・・液体収集管、２１
８・・・ブレナム室、２２０　＝、ガススパージャ−型
挿入口、２２２・・・帯域、２３０・・・泡位置検出器
（泡境界位置制御装置）、２３４・・・液体排出口バル
ブ（液体制御バルブ）、２３８・・・ガス挿入口バルブ
、Ｉ・・・第１工程、■・・・第２工程、■・・・第３
工程。 、モー□ 特許出願人代理人　曽　我　道　照　−７−一□ ＦＩＧ、　　４

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、液相反応剤をガス状反応剤で処理するための向流式
   連続接触反応器において、 固体触媒の多孔質固定床（１２）をもつ密封型反応器外
   殻（１０）； 多孔質固定床（１２）より実質上高い位置に液体流を導
   入し、且つ該液体流を重力により多孔質固定床（１２）
   を下方に流下させるための上部液体挿入口（１４）； 密封型反応器外殻（１０）から処理した液体を回収する
   下部液体排出口（１６）； 多孔質固定床より低い位置に設置され、混合相反応帯域
   を下方へ流れる液体と向流的に接触するガス状反応剤を
   圧力条件下で導入し、それによつてガス状反応剤を固体
   触媒と緊密に接触する液相に分散するためのガス挿入口
   （２０）； 密封型反応器外殻（１０）の多孔質固定床（１２）の上
   部からガスを回収する上部ガス排出口 （２４）； 多孔質固定床（１２）上の起泡帯域に設置され、ガス−
   液体泡混合物の位置を検出して泡位置を示す信号表示を
   発生する泡位置検出器（３０）；及び泡位置検出器（３
   ０）と操作可能に接続されて泡位置信号に応答し、液体
   流の流れを制御して多孔質固定床（１２）上の泡位置を
   調節し、それによって泡状の液相からの分散したガスの
   解放を可能とし且つ上部ガス排出口（２４）中に過剰の
   液体が同伴されるのを防止する流体処理制御装置（３２
   ）を備えてなることを特徴とする液相反応剤をガス状反
   応剤で処理するための向流式連続接触反応器。 ２、流体処理制御装置（３２）が下部液体排出口（１６
   ）に設置され、泡の位置の上昇に伴って処理した液体の
   回収速度を増大させるための液体排出口バルブ（３４）
   を備える特許請求の範囲第１項記載の反応器。 ３、密封型反応器外殻（１０）が触媒含有垂直円筒形圧
   力容器よりなる特許請求の範囲第１項または第２項記載
   の反応器。 ４、固体触媒が０．５ｃｍ以上の平均寸法及び０．５以
   上の空隙率をもつ特許請求の範囲第１項から第３項まで
   のいずれか１項に記載の反応器。 ５、密封型反応器外殻（１０）が液体装入原料と流出ガ
   スと接触させるための頂部ストリップング帯域を備える
   特許請求の範囲第１項から第４項までのいずれか１項に
   記載の反応器。 ６、液体を反応器断面に均一に供給するための分配器が
   起泡帯域上の密封型反応器外殻（１０）の上部帯域に備
   えられる特許請求の範囲第１項から第５項までのいずれ
   か１項に記載の反応器。 ７、分配器が水平分配板よりなり、該分配板が均一な間
   隔に該板に設置された多数の液体オリフィス及び上昇管
   （１３２）を備え、低部反応器帯域から出るガスを分離
   することができる特許請求の範囲第１項から第６項まで
   のいずれか１項に記載の反応器。 ８、泡位置検出器が起泡帯域の予め設定された垂直に位
   置する地点の圧力差を測定して泡位置を検出する泡位置
   検出器である特許請求の範囲第１項から第７項までのい
   ずれか１項に記載の反応器９、固体触媒粒子の多孔質固
   定床をもつ多相接触反応器中での重質石油装入原料の接
   触水素化クラッキング、接触脱ロウまたは接触脱硫方法
   において、固体触媒の多孔質固定床（１２）をもつ密封
   型反応器外殻（１０）；多孔質固定床（１２）より実質
   上高い位置に液体流を導入し、且つ該液体流を重力によ
   り多孔質固定床（１２）を下方に流下させるための上部
   液体挿入口（１４）；密封型反応器外殻（１０）から処
   理した液体を回収する下部液体排出口（１６）；多孔質
   固定床より低い位置に設置され、混合相反応帯域を下方
   へ流れる液体と向流的に接触するガス状反応剤を圧力条
   件下で導入し、それによってガス状反応剤を固体触媒と
   緊密に接触する液相に分散するためのガス挿入口（２０
   ）；密封型反応器外殻（１０）の多孔質固定床（１２）
   の上部からガスを回収する上部ガス排出口（２４）；多
   孔質固定床（１２）上の起泡帯域に設置され、ガス−液
   体泡混合物の位置を検出して泡位置を示す信号表示を発
   生する泡位置検出器（３０）；及び泡位置検出器（３０
   ）と操作可能に接続されて泡位置信号に応答し、液体流
   の流れを制御して多孔質固定床（１２）上の泡位置を調
   節し、それによって泡状の液相からの分散したガスの解
   放を可能とし且つ上部ガス排出口（２４）中に過剰の液
   体が同伴されるのを防止する流体処理制御装置（３２）
   を備えてなる反応器を使用することを特徴とする固体触
   媒粒子の多孔質固定床をもつ多相接触反応器中での重質
   石油装入原料の接触水素化クラッキング、接触脱ロウま
   たは接触脱硫方法。 １０、流体処理制御装置（３２）が下部液体排出口（１
   ６）に設置され、泡の位置の上昇に伴って処理した液体
   の回収速度を増大させるための液体排出口バルブ（３４
   ）を備える特許請求の範囲第９項記載の方法。 １１、密封型反応器外殻（１０）が触媒含有垂直円筒形
   圧力容器よりなる特許請求の範囲第９項または第１０項
   記載の方法。 １２、固体触媒が０．５ｃｍ以上の平均寸法及び０．５
   以上の空隙率をもつ特許請求の範囲第９項から第１１項
   までのいずれか１項に記載の方法。 １３、密封型反応器外殻（１０）が液体装入原料と流出
   ガスと接触させるための頂部ストリップング帯域を備え
   る特許請求の範囲第９項から第１２項までのいずれか１
   項に記載の方法。 １４、液体を反応器断面に均一に供給するための分配器
   が起泡帯域上の密封型反応器外殻（１０）の上部帯域に
   備えられる特許請求の範囲第９項から第１３項までのい
   ずれか１項に記載の方法。 １５、分配器が水平分配板よりなり、該分配板が均一な
   間隔に該板に設置された多数の液体オリフィス及び上昇
   管（１３２）を備え、低部反応器帯域から出るガスを分
   離することができる特許請求の範囲第９項から第１４項
   までのいずれか１項に記載の方法。 １６、泡位置検出器が起泡帯域の予め設定された垂直に
   位置する地点の圧力差を測定して泡位置を検出する泡位
   置検出器である特許請求の範囲第９項から第１５項まで
   のいずれか１項に記載の方法１７、装入原料がロウ質油
   であり、触媒がＺＳＭ−５ゼオライトを含有する特許請
   求の範囲第９項から第１６項までのいずれか１項に記載
   の方法。