JPS6310231Y2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPS6310231Y2 JPS6310231Y2 JP1981147778U JP14777881U JPS6310231Y2 JP S6310231 Y2 JPS6310231 Y2 JP S6310231Y2 JP 1981147778 U JP1981147778 U JP 1981147778U JP 14777881 U JP14777881 U JP 14777881U JP S6310231 Y2 JPS6310231 Y2 JP S6310231Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electron beam
- welding
- workpiece
- dust collecting
- collecting electrode
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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- Welding Or Cutting Using Electron Beams (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
この考案は電子ビーム溶接用真空容器に関す
る。
る。
従来、電子ビーム溶接においては溶接時に発生
する溶接ヒユームが真空容器の内壁に蒸着または
付着するため、溶接作業を連続して行う場合、そ
のつど真空容器内を完全に清掃しないと高真空に
するための排気に長い時間を要する欠点があつ
た。特に、溶接部材が多い場合は、この清掃に要
する時間が溶接の総作業時間の大部分を占めてい
るのが実情である。
する溶接ヒユームが真空容器の内壁に蒸着または
付着するため、溶接作業を連続して行う場合、そ
のつど真空容器内を完全に清掃しないと高真空に
するための排気に長い時間を要する欠点があつ
た。特に、溶接部材が多い場合は、この清掃に要
する時間が溶接の総作業時間の大部分を占めてい
るのが実情である。
この考案は従来の電子ビーム溶接時における前
記の欠点を解消するためなされたもので、電子ビ
ーム溶接時に、真空容器の清掃作業を省略できる
とともに、繰り返えして溶接する際の真空容器の
排気時間を大幅に短縮することが可能な電子ビー
ム溶接用真空容器を提供することを目的とする。
記の欠点を解消するためなされたもので、電子ビ
ーム溶接時に、真空容器の清掃作業を省略できる
とともに、繰り返えして溶接する際の真空容器の
排気時間を大幅に短縮することが可能な電子ビー
ム溶接用真空容器を提供することを目的とする。
この考案の一実施例を第１図、第２図により説
明する。
明する。
電子ビーム溶接用真空容器は、上面開放の箱形
容器１、箱形容器１の上面に着脱自在気密に締着
される上蓋２を備えている。上蓋２の中心には、
図示しない電子ビーム投射機が発射する電子ビー
ム３が投入される電子ビーム投射口４を備えてい
る。箱形容器１の外壁下方には排気口５が備わ
り、排気口５は開閉弁６を介して図示しない吸気
装置に接続され、箱形容器１内を真空に保持する
ことができる。箱形容器１の内底上には、上面に
被溶接物７が載置される溶接台８が図示しない公
知手段で内底上移動自在に設置されている。集塵
電極９は金網からなる円筒にして、電子ビーム
３、溶接台８上に載置される被溶接物７の周囲を
覆い、その上端に備えた差込プラグ１０を介し
て、上蓋２の下面に電気絶縁固着されたクリツプ
１１に着脱自在にその中心軸線を垂直にして挿着
されている。４本の放電電極線１２は、それぞ
れ、集塵電極９から等距離の外側に円周方向等ピ
ツチに、その上端を、箱形容器１の側壁に固着さ
れたピン軸１３に電気絶縁して支承され、下端に
重錘１４を備えて垂直に垂れ下つている。集塵電
極９、放電電極線１２は、それぞれ導線１５，１
６を介して別置の図示しない高圧直流電源の陽
極、陰極に接続されている。
容器１、箱形容器１の上面に着脱自在気密に締着
される上蓋２を備えている。上蓋２の中心には、
図示しない電子ビーム投射機が発射する電子ビー
ム３が投入される電子ビーム投射口４を備えてい
る。箱形容器１の外壁下方には排気口５が備わ
り、排気口５は開閉弁６を介して図示しない吸気
装置に接続され、箱形容器１内を真空に保持する
ことができる。箱形容器１の内底上には、上面に
被溶接物７が載置される溶接台８が図示しない公
知手段で内底上移動自在に設置されている。集塵
電極９は金網からなる円筒にして、電子ビーム
３、溶接台８上に載置される被溶接物７の周囲を
覆い、その上端に備えた差込プラグ１０を介し
て、上蓋２の下面に電気絶縁固着されたクリツプ
１１に着脱自在にその中心軸線を垂直にして挿着
されている。４本の放電電極線１２は、それぞ
れ、集塵電極９から等距離の外側に円周方向等ピ
ツチに、その上端を、箱形容器１の側壁に固着さ
れたピン軸１３に電気絶縁して支承され、下端に
重錘１４を備えて垂直に垂れ下つている。集塵電
極９、放電電極線１２は、それぞれ導線１５，１
６を介して別置の図示しない高圧直流電源の陽
極、陰極に接続されている。
前記構成のこの考案による電子ビーム溶接用真
空容器の作用を次に説明する。
空容器の作用を次に説明する。
上蓋２を開き溶接台８上に被溶接物７を載せて
上蓋２を閉じ箱形容器１を密閉する。開閉弁６を
開き排気口５を経て図示しない吸気装置により箱
形容器１内を所要の真空度に保つ。電子ビーム投
射口４から図示しない電子ビーム投射機により電
子ビーム３を被溶接物７に投射し、必要に応じて
被溶接物７を溶接台８を介して箱形容器１の底内
壁に沿い図示しない公知手段で移動し電子ビーム
溶接を行う。
上蓋２を閉じ箱形容器１を密閉する。開閉弁６を
開き排気口５を経て図示しない吸気装置により箱
形容器１内を所要の真空度に保つ。電子ビーム投
射口４から図示しない電子ビーム投射機により電
子ビーム３を被溶接物７に投射し、必要に応じて
被溶接物７を溶接台８を介して箱形容器１の底内
壁に沿い図示しない公知手段で移動し電子ビーム
溶接を行う。
電子ビーム溶接によつて生ずる溶接ヒユーム
は、電子ビーム３被溶接物７の外側を覆う正に帯
電した集塵電極９に捕集されて、箱形容器１上蓋
２の内壁には付着しない。溶接完了後、上蓋２を
開き集塵電極９を新しいものに交換し次の溶接作
業に備える。
は、電子ビーム３被溶接物７の外側を覆う正に帯
電した集塵電極９に捕集されて、箱形容器１上蓋
２の内壁には付着しない。溶接完了後、上蓋２を
開き集塵電極９を新しいものに交換し次の溶接作
業に備える。
以上のようにして、集塵電極９は電子ビーム溶
接作業中常に溶接ヒユームを捕集し、この真空容
器内壁面には溶接ヒユームが付着しないので、真
空容器内壁面を清掃する手数を要せず、真空容器
の総排気時間を大幅に短縮できる。
接作業中常に溶接ヒユームを捕集し、この真空容
器内壁面には溶接ヒユームが付着しないので、真
空容器内壁面を清掃する手数を要せず、真空容器
の総排気時間を大幅に短縮できる。
この考案による電子ビーム溶接用真空容器は、
その実施例について前記に詳述したように、被溶
接物が入置される箱形容器に、被溶接物とそれに
投射される電子ビームとを囲む円筒形の着脱自在
の集塵電極と、下端に重錘を有し集塵電極の外側
位置に円周方向ほぼ等間隔に配設垂下された複数
本の放電電極線とを設けたことにより、電子ビー
ム溶接の際、溶接ヒユームは集塵電極により捕集
されて真空容器の内壁面に付着しないため、真空
容器の内壁を清掃する必要がなく、真空容器の排
気のための総時間を大幅に短縮できる効果があ
る。
その実施例について前記に詳述したように、被溶
接物が入置される箱形容器に、被溶接物とそれに
投射される電子ビームとを囲む円筒形の着脱自在
の集塵電極と、下端に重錘を有し集塵電極の外側
位置に円周方向ほぼ等間隔に配設垂下された複数
本の放電電極線とを設けたことにより、電子ビー
ム溶接の際、溶接ヒユームは集塵電極により捕集
されて真空容器の内壁面に付着しないため、真空
容器の内壁を清掃する必要がなく、真空容器の排
気のための総時間を大幅に短縮できる効果があ
る。
第１図はこの考案による電子ビーム溶接用真空
容器の縦断面図、第２図は第１図の集塵電極９、
放電電極線１２の斜視図である。 １……箱形容器、２……上蓋、３……電子ビー
ム、４……電子ビーム投射口、５……排気口、７
……被溶接物、８……溶接台、９……集塵電極、
１２……放電電極線、１０……重錘。
容器の縦断面図、第２図は第１図の集塵電極９、
放電電極線１２の斜視図である。 １……箱形容器、２……上蓋、３……電子ビー
ム、４……電子ビーム投射口、５……排気口、７
……被溶接物、８……溶接台、９……集塵電極、
１２……放電電極線、１０……重錘。
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 (1) 被溶接物が載置される溶接台を内底上に設置
され、電子ビーム投射口を上壁に排気口を下方
壁にそれぞれ備えた電子ビーム溶接用真空容器
において、前記電子ビーム投射口を経て前記被
溶接物に投射される電子ビームをほぼ中心とし
て被溶接物の外周を覆う円筒形の着脱自在な集
塵電極と、下端に重錘を有し前記集塵電極の外
側位置に円周方向ほぼ等間隔に配設垂下された
複数本の放電電極線とを備えたことを特徴とす
る電子ビーム溶接用真空容器。 (2) 集塵電極が金網からなることを特徴とする実
用新案登録請求の範囲第１項記載の電子ビーム
溶接用真空容器。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14777881U JPS5851876U (ja) | 1981-10-06 | 1981-10-06 | 電子ビ−ム溶接用真空容器 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14777881U JPS5851876U (ja) | 1981-10-06 | 1981-10-06 | 電子ビ−ム溶接用真空容器 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5851876U JPS5851876U (ja) | 1983-04-08 |
| JPS6310231Y2 true JPS6310231Y2 (ja) | 1988-03-25 |
Family
ID=29940624
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14777881U Granted JPS5851876U (ja) | 1981-10-06 | 1981-10-06 | 電子ビ−ム溶接用真空容器 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5851876U (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63103484U (ja) * | 1986-12-24 | 1988-07-05 | ||
| JP4686158B2 (ja) * | 2004-09-30 | 2011-05-18 | 株式会社オーディオテクニカ | コンデンサマイクロホン |
| JP5610727B2 (ja) * | 2009-08-17 | 2014-10-22 | 三菱重工業株式会社 | 電子ビーム溶接装置 |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB1512571A (en) * | 1974-04-25 | 1978-06-01 | Pasteur Institut | Process and apparatus for the determination of the spatial distribution of radioactivity in an object |
| JPS527785A (en) * | 1975-07-09 | 1977-01-21 | Rikagaku Kenkyusho | Counter tube for measuring low-speed electrons |
| JPS5445095U (ja) * | 1978-04-28 | 1979-03-28 |
-
1981
- 1981-10-06 JP JP14777881U patent/JPS5851876U/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5851876U (ja) | 1983-04-08 |
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